JPH0755289B2 - 液体及び／又はガスの接触変換法並びにそれを実施するための装置 - Google Patents
液体及び／又はガスの接触変換法並びにそれを実施するための装置Info
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- JPH0755289B2 JPH0755289B2 JP61138435A JP13843586A JPH0755289B2 JP H0755289 B2 JPH0755289 B2 JP H0755289B2 JP 61138435 A JP61138435 A JP 61138435A JP 13843586 A JP13843586 A JP 13843586A JP H0755289 B2 JPH0755289 B2 JP H0755289B2
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、液体及び／又はガスの接触変換法であつて、
容器の上端にガス及び変換されるべき液体あるいは液体
及び変換されるべきガスを導入し、これらの液体及びガ
スを容器内の触媒粒子の床を通過せしめ、接触変換によ
つて得られた流出物を容器の下端から除去する工程から
なる上記変換法に関する。
容器の上端にガス及び変換されるべき液体あるいは液体
及び変換されるべきガスを導入し、これらの液体及びガ
スを容器内の触媒粒子の床を通過せしめ、接触変換によ
つて得られた流出物を容器の下端から除去する工程から
なる上記変換法に関する。
かかる変換法の例は、水添処理、水添脱硫又は水添分解
である。更なる例は、水素及び一酸化炭素からなる合成
ガスの、中質留出物の沸とう範囲にある炭化水素への接
触変換である。
である。更なる例は、水素及び一酸化炭素からなる合成
ガスの、中質留出物の沸とう範囲にある炭化水素への接
触変換である。
かかる変換法は発熱的である。触媒床の温度を制御する
ために、変換に関与する流体を触媒床から流出させそし
て透過性壁を備えた複数の中空棒中に流入させ、これら
の中空棒中で該流体を冷却流体と混合せしめ、そして冷
却された流体を該中空棒の下流の触媒床に流入させるこ
とが知られている。
ために、変換に関与する流体を触媒床から流出させそし
て透過性壁を備えた複数の中空棒中に流入させ、これら
の中空棒中で該流体を冷却流体と混合せしめ、そして冷
却された流体を該中空棒の下流の触媒床に流入させるこ
とが知られている。
この公知の方法の欠点は、透過性壁が触媒粒子の破片に
より又は流体からのコークスの沈着物により容易に閉塞
され得、そのため流体が中空棒内の混合帯域に達成する
ことが困難になり得ることである。
より又は流体からのコークスの沈着物により容易に閉塞
され得、そのため流体が中空棒内の混合帯域に達成する
ことが困難になり得ることである。
この発明の目的は、この欠点を解決することである。
この目的のために、本発明による液体及び／又はガスの
接触変換法は、容器の上端にガス及び変換されるべき液
体あるいは液体及び変換されるべきガスを導入し、これ
らの液体及びガスを容器内の触媒粒子の床を通過せし
め、それらの液体及びガスを、触媒粒子の床中に配置さ
れた複数の案内要素の外面間で画定される複数の通路で
あつて流れの方向において先狭部（だんだん狭くなつて
いる部分）、狭部及び先広部（だんだん広くなつている
部分）を有する該複数の通路を通過せしめ、これらの通
路の先狭部にてあるいは狭部にて又は、狭部の近くにて
追加的流体を該通路に導入し、そして接触変換によつて
得られた流出物を容器の下端から除去する工程からな
る。
接触変換法は、容器の上端にガス及び変換されるべき液
体あるいは液体及び変換されるべきガスを導入し、これ
らの液体及びガスを容器内の触媒粒子の床を通過せし
め、それらの液体及びガスを、触媒粒子の床中に配置さ
れた複数の案内要素の外面間で画定される複数の通路で
あつて流れの方向において先狭部（だんだん狭くなつて
いる部分）、狭部及び先広部（だんだん広くなつている
部分）を有する該複数の通路を通過せしめ、これらの通
路の先狭部にてあるいは狭部にて又は、狭部の近くにて
追加的流体を該通路に導入し、そして接触変換によつて
得られた流出物を容器の下端から除去する工程からな
る。
本明細書は更に、液体又はガスの接触変換法を実施する
ための装置であつて、容器、流体及び触媒粒子を該容器
中に導入するために該容器の上端に配置された入口手
段、触媒粒子の床を該容器中に支持するための支持手
段、及び流出物及び触媒粒子を該容器から排出するため
に該容器の下端に配置された排出手段からなる上記装置
に関する。
ための装置であつて、容器、流体及び触媒粒子を該容器
中に導入するために該容器の上端に配置された入口手
段、触媒粒子の床を該容器中に支持するための支持手
段、及び流出物及び触媒粒子を該容器から排出するため
に該容器の下端に配置された排出手段からなる上記装置
に関する。
公知の装置では、流体透過性外壁を有する中空棒の格子
が設けられ、正常な操作中冷却流体を該中空棒中に導入
するための噴霧手段が該中空棒に配置されており、しか
して冷却流体は、触媒床から中空棒中に入る流体と混じ
り合う。
が設けられ、正常な操作中冷却流体を該中空棒中に導入
するための噴霧手段が該中空棒に配置されており、しか
して冷却流体は、触媒床から中空棒中に入る流体と混じ
り合う。
この発明の目的は、改善された装置を提供することであ
る。
る。
この目的のため、本発明による液体及び／又はガスの接
触変換法を実施するための装置は、容器、流体及び触媒
粒子を該容器中に導入するために該容器の上端に配置さ
れた入口手段、触媒粒子の床を該容器中に支持するため
の支持手段、流出物及び触媒粒子を該容器から排出する
ために該容器の下端に配置された排出手段、及び流体の
流れの方向に実質的に垂直に該容器中に配置された案内
要素の格子からなり、しかも、隣接した案内要素の外面
の互に対向した部分間に、流体の流れの方向において先
狭部、狭部及び先広部を有する通路が画定されており、
追加的流体を該通路に導入するための該導入手段が該案
内要素に設けられており、該導入手段は該通路の先狭部
に沿つてあるいは狭部に又は狭部の近くに配置されてい
る。
触変換法を実施するための装置は、容器、流体及び触媒
粒子を該容器中に導入するために該容器の上端に配置さ
れた入口手段、触媒粒子の床を該容器中に支持するため
の支持手段、流出物及び触媒粒子を該容器から排出する
ために該容器の下端に配置された排出手段、及び流体の
流れの方向に実質的に垂直に該容器中に配置された案内
要素の格子からなり、しかも、隣接した案内要素の外面
の互に対向した部分間に、流体の流れの方向において先
狭部、狭部及び先広部を有する通路が画定されており、
追加的流体を該通路に導入するための該導入手段が該案
内要素に設けられており、該導入手段は該通路の先狭部
に沿つてあるいは狭部に又は狭部の近くに配置されてい
る。
本発明を、図面を参照して一層詳細に例示して説明す
る。
る。
第１図、第２図及び第３図を参照すると、本発明による
装置は容器１、容器１の上端に配置された流体用入口部
２及び触媒用入口部３、容器１の下端に配置された流体
用出口部４及び触媒用出口部５からなる。更に、容器１
は、触媒粒子の床（図示されていない。）を容器１中で
支持するための支持円錐体８を備え、支持円錐体８は中
央開口部９を有し、中央開口部９は管10によつて触媒用
出口部５に連結されている。更に、触媒用出口部５に
は、容器１から触媒粒子を排出させたりあるいは触媒粒
子の排出を停止させたりするための弁手段（図示されて
いない。）が設けられている。
装置は容器１、容器１の上端に配置された流体用入口部
２及び触媒用入口部３、容器１の下端に配置された流体
用出口部４及び触媒用出口部５からなる。更に、容器１
は、触媒粒子の床（図示されていない。）を容器１中で
支持するための支持円錐体８を備え、支持円錐体８は中
央開口部９を有し、中央開口部９は管10によつて触媒用
出口部５に連結されている。更に、触媒用出口部５に
は、容器１から触媒粒子を排出させたりあるいは触媒粒
子の排出を停止させたりするための弁手段（図示されて
いない。）が設けられている。
更に、容器１には第１格子12及び第２格子13が設けられ
ており、これらの格子は、容器１を通過する流体の流れ
の方向に実質的に垂直に、容器１の異なるレベルに配置
されている。各格子は案内要素14からなり、それらの案
内要素14は環状支持部材18に連結されており、環状支持
部材18は容器１の側壁の内面に接合されている。第１格
子12の案内要素は好ましくは、第２格子13の案内要素に
対して少しずらして配列される。
ており、これらの格子は、容器１を通過する流体の流れ
の方向に実質的に垂直に、容器１の異なるレベルに配置
されている。各格子は案内要素14からなり、それらの案
内要素14は環状支持部材18に連結されており、環状支持
部材18は容器１の側壁の内面に接合されている。第１格
子12の案内要素は好ましくは、第２格子13の案内要素に
対して少しずらして配列される。
隣接した案内要素14の外側の対向した部分間に、並びに
環状支持部材18と隣接した案内要素の外面の対向した部
分間に、参照番号20で示される通路が画定される。各通
路20は、流体の流れの方向において先狭部21、狭部22及
び先広部23からなる。明瞭化のため、通路20のそれらの
部分に言及する参照番号は、第３図においてのみ示され
ている。
環状支持部材18と隣接した案内要素の外面の対向した部
分間に、参照番号20で示される通路が画定される。各通
路20は、流体の流れの方向において先狭部21、狭部22及
び先広部23からなる。明瞭化のため、通路20のそれらの
部分に言及する参照番号は、第３図においてのみ示され
ている。
各案内要素14は、側壁26及び底壁28を有する三角形状の
流体供給用笠部25（第３図参照）を有し、流体供給用笠
部25中には流体用導管29が設けられている。各環状支持
部材18は、側壁26及び底壁28を有する流体供給用笠部30
を有し、流体供給用笠部30中には流体供給用導管31が設
けられており、流体供給用導管31は、三角形状の流体供
給用笠部25中の流体用導管29及び追加的流体用入口部32
（第２図参照）と流体連絡されるようになつている。
流体供給用笠部25（第３図参照）を有し、流体供給用笠
部25中には流体用導管29が設けられている。各環状支持
部材18は、側壁26及び底壁28を有する流体供給用笠部30
を有し、流体供給用笠部30中には流体供給用導管31が設
けられており、流体供給用導管31は、三角形状の流体供
給用笠部25中の流体用導管29及び追加的流体用入口部32
（第２図参照）と流体連絡されるようになつている。
流体供給用笠部25及びび30の各々は、支持ビーム33によ
つて支持されている。流体用供給笠部は幅広く、底部28
が支持ビーム33の長さに沿つて支持ビーム33を越えて延
びている。支持ビーム33を越えて延びている底壁28の部
分には、追加的流体を出口開口35（第３図参照）の列の
形態で通路に導入するための手段が配置されており、出
口開口35は流体用導管29と流体連絡されるようになつて
いるか、あるいは環状支持部材18の出口開口35は流体供
給用導管31と流体連絡されるようになつている。
つて支持されている。流体用供給笠部は幅広く、底部28
が支持ビーム33の長さに沿つて支持ビーム33を越えて延
びている。支持ビーム33を越えて延びている底壁28の部
分には、追加的流体を出口開口35（第３図参照）の列の
形態で通路に導入するための手段が配置されており、出
口開口35は流体用導管29と流体連絡されるようになつて
いるか、あるいは環状支持部材18の出口開口35は流体供
給用導管31と流体連絡されるようになつている。
第２格子13の案内要素及び環状支持部材についての上記
の詳細は、第１格子12の案内要素及び環状支持部材につ
いて同様に当てはまる、ということが理解されよう。
の詳細は、第１格子12の案内要素及び環状支持部材につ
いて同様に当てはまる、ということが理解されよう。
水素を用いて硫黄含有炭化水素油を実質的に硫黄不含の
炭化水素油に接触変換する方法を記述する。支持円錐体
８より上の空間及び管10中の空間が触媒粒子の床（図示
されていない。）で満たされるまで、触媒粒子が触媒用
入口部３を通じて供給される。次いで、300℃ないし500
℃の範囲の温度及び3MPaないし25MPaの範囲の圧力の、
硫黄含有炭化水素油と水素の混合物が、流体用入口部２
を通じて容器１中に導入される。
炭化水素油に接触変換する方法を記述する。支持円錐体
８より上の空間及び管10中の空間が触媒粒子の床（図示
されていない。）で満たされるまで、触媒粒子が触媒用
入口部３を通じて供給される。次いで、300℃ないし500
℃の範囲の温度及び3MPaないし25MPaの範囲の圧力の、
硫黄含有炭化水素油と水素の混合物が、流体用入口部２
を通じて容器１中に導入される。
反応器中で発熱反応が起こり、水素と硫黄含有炭化水素
油中の硫黄とが反応して硫化水素及び実質的に脱硫され
た炭化水素油を生じる。炭化水素油と硫化水素の混合物
は下向きに流れそして管10の壁中に配置された上方に傾
斜した分離スリツト40を通過して支持円錐体８の下の流
出物捕集空間41に入り、そこから流体用出口部４を通じ
て該混合物は排出される。冷却後、生成した硫化水素は
適当な分離器（図示されていない。）中で、脱硫された
炭化水素油から分離される。触媒が例えば６〜12ケ月後
失活したとき、本方法は中断され、すべての触媒粒子は
容器１から排出され、容器１は次いで新鮮な触媒粒子で
満たされる。
油中の硫黄とが反応して硫化水素及び実質的に脱硫され
た炭化水素油を生じる。炭化水素油と硫化水素の混合物
は下向きに流れそして管10の壁中に配置された上方に傾
斜した分離スリツト40を通過して支持円錐体８の下の流
出物捕集空間41に入り、そこから流体用出口部４を通じ
て該混合物は排出される。冷却後、生成した硫化水素は
適当な分離器（図示されていない。）中で、脱硫された
炭化水素油から分離される。触媒が例えば６〜12ケ月後
失活したとき、本方法は中断され、すべての触媒粒子は
容器１から排出され、容器１は次いで新鮮な触媒粒子で
満たされる。
容器中の温度を制御するために、例えば冷却された脱硫
炭化水素油又は急冷ガスからなる冷却流体の形態の追加
的流体が、格子12及び13の少なくとも１つの格子の追加
的流体用入口部32に供給され、しかしてその冷却流体は
通路20の狭部22の近くの出口開口35を通じて通路20に入
る（第３図参照）。
炭化水素油又は急冷ガスからなる冷却流体の形態の追加
的流体が、格子12及び13の少なくとも１つの格子の追加
的流体用入口部32に供給され、しかしてその冷却流体は
通路20の狭部22の近くの出口開口35を通じて通路20に入
る（第３図参照）。
このようにして、通路が狭くされている領域従つて流体
速度及び乱れが増大される領域において、反応生成物が
冷却される。かくして、熱い反応生成物と追加的流体と
の間の改善された熱交換が得られる。
速度及び乱れが増大される領域において、反応生成物が
冷却される。かくして、熱い反応生成物と追加的流体と
の間の改善された熱交換が得られる。
格子前後間の温和な圧力降下及び充分な熱交換を得るた
めに、通路20の総断面積は、容器１の断面積の30％ない
し60％の範囲好ましくは45％ないし55％の範囲にあるべ
きである。
めに、通路20の総断面積は、容器１の断面積の30％ない
し60％の範囲好ましくは45％ないし55％の範囲にあるべ
きである。
流体供給用笠部25及び30の底壁28は、支持ビーム33を越
えて延びている。容器が触媒粒子（図示されていな
い。）で満たされる場合、これらの粒子は、支持ビーム
33を越えて延びている底壁28の側部の下に、支持ビーム
33の長さ方向に延在する触媒不含の分配空間（触媒が分
配されていない空間）42（第３図参照）が存在するよう
に、容器１中に分配される。支持ビーム33を越えて延び
ている底壁28の側部に流体用出口開口35が配置されてい
るので、冷却流体が触媒粒子の床に入る前に冷却流体が
分配空間42に均一に分配されるように、冷却流体は分配
空間42に導入される。これにより、通路20における触媒
床の不均一な温度分布変化が低減される。
えて延びている。容器が触媒粒子（図示されていな
い。）で満たされる場合、これらの粒子は、支持ビーム
33を越えて延びている底壁28の側部の下に、支持ビーム
33の長さ方向に延在する触媒不含の分配空間（触媒が分
配されていない空間）42（第３図参照）が存在するよう
に、容器１中に分配される。支持ビーム33を越えて延び
ている底壁28の側部に流体用出口開口35が配置されてい
るので、冷却流体が触媒粒子の床に入る前に冷却流体が
分配空間42に均一に分配されるように、冷却流体は分配
空間42に導入される。これにより、通路20における触媒
床の不均一な温度分布変化が低減される。
各通路20の先広部23を通過する液体の均一な分配を達成
するために、先広部23を画定する案内要素14又は環状支
持部材18の外面の部分と垂直面との間の鋭角43は、液体
の広がり角度と整合されるべきである。慣用の触媒粒子
の床を通過する液体の場合、鋭角43は３°ないし10°の
範囲にある。
するために、先広部23を画定する案内要素14又は環状支
持部材18の外面の部分と垂直面との間の鋭角43は、液体
の広がり角度と整合されるべきである。慣用の触媒粒子
の床を通過する液体の場合、鋭角43は３°ないし10°の
範囲にある。
各通路20の先広部23における液体の均一な分配は、反応
効率に有益な効果を奏し、何故なら、液体と触媒の不均
一な接触従つて触媒床の不均一な温度分布従つて触媒粒
子の不均一な汚染が避けられるからである。
効率に有益な効果を奏し、何故なら、液体と触媒の不均
一な接触従つて触媒床の不均一な温度分布従つて触媒粒
子の不均一な汚染が避けられるからである。
上述した方法において、失活した触媒は、実質的に長い
期間後のみリフレツシユ（再活性化）される。本発明の
別の具体例では、ある容量の触媒粒子が容器から排出さ
れ、そして触媒用入口部３を通じて容器に導入されるあ
る容量の新鮮な触媒粒子により置き換えられる。ある容
量の失活した触媒粒子がある容量の新鮮な触媒粒子によ
り置き換えられるように、バンカーフローで触媒床を短
い距離移動させることが、短い間隔例えば１日１回行わ
れ得る。
期間後のみリフレツシユ（再活性化）される。本発明の
別の具体例では、ある容量の触媒粒子が容器から排出さ
れ、そして触媒用入口部３を通じて容器に導入されるあ
る容量の新鮮な触媒粒子により置き換えられる。ある容
量の失活した触媒粒子がある容量の新鮮な触媒粒子によ
り置き換えられるように、バンカーフローで触媒床を短
い距離移動させることが、短い間隔例えば１日１回行わ
れ得る。
通路20の先狭部21における触媒粒子が下向きに移動する
とき、先狭部21を画定する面の近くの触媒粒子が先狭部
21の中央部における触媒粒子の速度とほぼ同じ速度で移
動するように触媒粒子が均一な具合で下向きに移動する
ことを確実にするためには、先狭部21を画定する案内要
素14又は環状支持部材18の外面の部分と垂直面との間の
鋭角44は、一団的な流れが生じるように選ばれるべきで
ある。慣用の触媒粒子の場合、鋭角44は10°ないし40°
の範囲にある。
とき、先狭部21を画定する面の近くの触媒粒子が先狭部
21の中央部における触媒粒子の速度とほぼ同じ速度で移
動するように触媒粒子が均一な具合で下向きに移動する
ことを確実にするためには、先狭部21を画定する案内要
素14又は環状支持部材18の外面の部分と垂直面との間の
鋭角44は、一団的な流れが生じるように選ばれるべきで
ある。慣用の触媒粒子の場合、鋭角44は10°ないし40°
の範囲にある。
別のプロセスでは、ガスが液体に変換され、しかしてこ
の目的のためガスと液体の混合物は流体用入口部２を通
じて容器中に導入される。
の目的のためガスと液体の混合物は流体用入口部２を通
じて容器中に導入される。
かかるプロセスの例は、水素及び一酸化炭素からなる合
成ガスの、中質留出物の沸とう範囲にある液体炭化水素
への変換である。
成ガスの、中質留出物の沸とう範囲にある液体炭化水素
への変換である。
この変換法においては、200℃ないし250℃の範囲の温度
及び2MPaないし4MPaの範囲の圧力の、合成ガスと再循環
液体炭化水素の混合物が、反応器中の触媒床に導入され
る。かかる変換法において、該液体の目的は、容器中の
触媒床の均一な温度分布を達成するように熱を移動させ
ることである。正常な操作中、冷却された再循環液体炭
化水素生成物が追加的流体用入口部32に供給され、そし
て出口開口35を通じて容器１に入り、生成物を冷却す
る。
及び2MPaないし4MPaの範囲の圧力の、合成ガスと再循環
液体炭化水素の混合物が、反応器中の触媒床に導入され
る。かかる変換法において、該液体の目的は、容器中の
触媒床の均一な温度分布を達成するように熱を移動させ
ることである。正常な操作中、冷却された再循環液体炭
化水素生成物が追加的流体用入口部32に供給され、そし
て出口開口35を通じて容器１に入り、生成物を冷却す
る。
第１図に言及して記述される装置は、案内要素の格子を
２個備えている。非常に小さい装置は案内要素の格子を
唯１個だけ設けられ得、比較的大きい装置は１個より多
い例えば３〜10個の格子を容器中の異なるレベルにて設
けられ得る。
２個備えている。非常に小さい装置は案内要素の格子を
唯１個だけ設けられ得、比較的大きい装置は１個より多
い例えば３〜10個の格子を容器中の異なるレベルにて設
けられ得る。
第３図に言及して記述される案内要素において、追加的
流体を通路中に導入される手段が、支持ビームを越えて
延びている底壁の側部に配置されて、正常な操作中追加
的流体は通路の狭部の近くで導入される。
流体を通路中に導入される手段が、支持ビームを越えて
延びている底壁の側部に配置されて、正常な操作中追加
的流体は通路の狭部の近くで導入される。
第４図を参照すると、第１図、第２図及び第３図に言及
して記述された格子12及び13の案内要素14の一部又はす
べてが置き換えられ得る案内要素45が示されている。案
内要素45は、支持ビーム47によつて支持された三角形状
の流体供給用笠部46からなる。三角形状の流体供給用笠
部46の各側壁は下部帯状体48及び上部帯状体49からな
り、下部帯状体48及び上部帯状体49は、案内要素45の長
さに沿つて延在しかつ、上部帯状体49の下部が下部帯状
体48の上部と重なり合うよう上下関係に配置されてい
る。追加的流体を出口開口50の列の形態で通路に導入す
るための手段は、上部帯状体49が下部帯状体48と重なり
合つている領域（この領域は、案内要素45に沿つて延在
する。）において、通路の先狭部に沿つて配置されてい
る。
して記述された格子12及び13の案内要素14の一部又はす
べてが置き換えられ得る案内要素45が示されている。案
内要素45は、支持ビーム47によつて支持された三角形状
の流体供給用笠部46からなる。三角形状の流体供給用笠
部46の各側壁は下部帯状体48及び上部帯状体49からな
り、下部帯状体48及び上部帯状体49は、案内要素45の長
さに沿つて延在しかつ、上部帯状体49の下部が下部帯状
体48の上部と重なり合うよう上下関係に配置されてい
る。追加的流体を出口開口50の列の形態で通路に導入す
るための手段は、上部帯状体49が下部帯状体48と重なり
合つている領域（この領域は、案内要素45に沿つて延在
する。）において、通路の先狭部に沿つて配置されてい
る。
更に、流体供給用笠部46の底壁53は幅広くて支持ビーム
47を越えて延びており、追加的流体を導入するための出
口開口54の列の形態の手段が、支持ビーム47を越えて延
びている底壁53の部分に配置されている。
47を越えて延びており、追加的流体を導入するための出
口開口54の列の形態の手段が、支持ビーム47を越えて延
びている底壁53の部分に配置されている。
出口開口50及び54は、三角形状の流体供給用笠部46内に
配置された流体用導管55と流体連絡されており、流体用
導管55は環状支持部材18の流体供給用導管31（第３図参
照）と流体連絡されている。
配置された流体用導管55と流体連絡されており、流体用
導管55は環状支持部材18の流体供給用導管31（第３図参
照）と流体連絡されている。
正常な操作中、帯状体49が帯状体48と重なり合つている
領域の下に並びに支持ビーム47を越えて延びている底壁
53の側部の下に触媒不含の分配空間56及び57が存在する
ように容器中に分配された触媒粒子の床（図示されてい
ない。）で、容器は満たされている。各格子の案内要素
45の流体用導管55に供給される追加的流体は、開口50及
び54を通じて各通路の先狭部中に及び狭部の近くに導入
されよう。
領域の下に並びに支持ビーム47を越えて延びている底壁
53の側部の下に触媒不含の分配空間56及び57が存在する
ように容器中に分配された触媒粒子の床（図示されてい
ない。）で、容器は満たされている。各格子の案内要素
45の流体用導管55に供給される追加的流体は、開口50及
び54を通じて各通路の先狭部中に及び狭部の近くに導入
されよう。
環状支持部材の流体供給用笠部も同様に、支持部材に沿
つて延在しかつ上部帯状体の下部が下部帯状体の上部と
重なり合うように配置された２つの帯状体からなる側壁
が設けられ得、しかして上部帯状体が下部帯状体と重な
り合う領域に、追加的流体を通路に導入する手段が配置
されている。
つて延在しかつ上部帯状体の下部が下部帯状体の上部と
重なり合うように配置された２つの帯状体からなる側壁
が設けられ得、しかして上部帯状体が下部帯状体と重な
り合う領域に、追加的流体を通路に導入する手段が配置
されている。
帯状体の外面と垂直面との間の鋭角は、10°ないし40°
の範囲にあるべきである。
の範囲にあるべきである。
三角形状の流体供給用笠部の側部は２つより多い例えば
３つないし５つの帯状体からなり得、しかしてこれらの
帯状部は案内要素に沿つて延在しかつ、上部帯状体の下
部が下部帯状体の上部と重なり合うように上下関係で配
置され、上部帯状体が下部帯状体と重なり合つている領
域に、追加的流体を導入する手段が配置されて通路の先
狭部中に又は狭部に追加的流体が導入されるようにされ
る。
３つないし５つの帯状体からなり得、しかしてこれらの
帯状部は案内要素に沿つて延在しかつ、上部帯状体の下
部が下部帯状体の上部と重なり合うように上下関係で配
置され、上部帯状体が下部帯状体と重なり合つている領
域に、追加的流体を導入する手段が配置されて通路の先
狭部中に又は狭部に追加的流体が導入されるようにされ
る。
出口開口35（第３図参照）、50及び54（第４図参照）の
各列は、相当する案内要素に沿つて延在しており、しか
して出口開口のかかる列は、案内要素の少なくとも一部
に沿つて延在するスリツトによつて少なくとも部分的に
置き換えられ得る。
各列は、相当する案内要素に沿つて延在しており、しか
して出口開口のかかる列は、案内要素の少なくとも一部
に沿つて延在するスリツトによつて少なくとも部分的に
置き換えられ得る。
正常な操作中、接触変更に所要される流体の形態の追加
的流体が供給され得る。かかる追加的流体の例は、上述
した硫黄含有炭化水素油の接触変換法において硫黄炭化
水素油及び水素の所要容量比を維持するために供給され
る水素ガスである。
的流体が供給され得る。かかる追加的流体の例は、上述
した硫黄含有炭化水素油の接触変換法において硫黄炭化
水素油及び水素の所要容量比を維持するために供給され
る水素ガスである。
液体及び／又はガスの接触変換法が吸熱的である場合、
追加的流体は、加熱流体例えば水蒸気又は接触変換に所
要される加熱された流体からなる。
追加的流体は、加熱流体例えば水蒸気又は接触変換に所
要される加熱された流体からなる。
別の具体例では、液体は、開口50を通じて流体供給用笠
部46（第４図参照）の上部に吸引され得、追加的流体と
混合されそして開口54を通じて通路に導入される。
部46（第４図参照）の上部に吸引され得、追加的流体と
混合されそして開口54を通じて通路に導入される。
第１図に言及して記述された装置において、容器１中に
触媒粒子の床を支持するための支持手段は、支持円錐体
８からなる。本発明の別の具体例では、触媒床は有孔板
又は金網によつて支持され得、しかしてそれらは触媒／
流体の分離を高めるという付加的利点を有する。触媒床
は、容器１の底壁によつて支持されてもよい。更に、ガ
ス及び液体は、分離した入口手段を通じて容器に供給さ
れ得る。
触媒粒子の床を支持するための支持手段は、支持円錐体
８からなる。本発明の別の具体例では、触媒床は有孔板
又は金網によつて支持され得、しかしてそれらは触媒／
流体の分離を高めるという付加的利点を有する。触媒床
は、容器１の底壁によつて支持されてもよい。更に、ガ
ス及び液体は、分離した入口手段を通じて容器に供給さ
れ得る。
本装置は容器中に軸方向に離隔された１つより多い触媒
粒子床を有し得、しかしてこれらの床の少なくとも１つ
に上述した案内要素が設けられる、と言うことが理解さ
れよう。
粒子床を有し得、しかしてこれらの床の少なくとも１つ
に上述した案内要素が設けられる、と言うことが理解さ
れよう。
第１図は本装置の縦断面を概略的に示し、第２図は第１
図に示された装置のII−II線に沿つた断面を示し、第３
図は第１図の尺度よりも大きい尺度で描かれている、第
１図に示された装置のIIIの詳細を示し、第４図は案内
要素の別の具体例の断面を示す。 １……容器、２……流体用入口部、３……触媒用入口
部、４……流体用出口部、５……触媒用出口部、８……
支持円錐体、９……中央開口部、10……管、12……第１
格子、13……第２格子、14……案内要素、18……環状支
持部材、20……通路、21……先狭部、22……狭部、23…
…先広部、25……流体供給用笠部、26……側壁、28……
底壁、29……流体用導管、30……流体供給用笠部、31流
体供給用導管、32……追加的流体用入口部、33……支持
ビーム、35……出口開口、40……分離スリツト、41……
流出物捕集空間、42……触媒不含の分配空間、43……鋭
角、44……鋭角、45……案内要素、46……流体供給用笠
部、47……支持ビーム、48……下部帯状体、49……上部
帯状体、50……出口開口、53……底壁、54……出口開
口、55……流体用導管、56,57……触媒不含の分配空
間。
図に示された装置のII−II線に沿つた断面を示し、第３
図は第１図の尺度よりも大きい尺度で描かれている、第
１図に示された装置のIIIの詳細を示し、第４図は案内
要素の別の具体例の断面を示す。 １……容器、２……流体用入口部、３……触媒用入口
部、４……流体用出口部、５……触媒用出口部、８……
支持円錐体、９……中央開口部、10……管、12……第１
格子、13……第２格子、14……案内要素、18……環状支
持部材、20……通路、21……先狭部、22……狭部、23…
…先広部、25……流体供給用笠部、26……側壁、28……
底壁、29……流体用導管、30……流体供給用笠部、31流
体供給用導管、32……追加的流体用入口部、33……支持
ビーム、35……出口開口、40……分離スリツト、41……
流出物捕集空間、42……触媒不含の分配空間、43……鋭
角、44……鋭角、45……案内要素、46……流体供給用笠
部、47……支持ビーム、48……下部帯状体、49……上部
帯状体、50……出口開口、53……底壁、54……出口開
口、55……流体用導管、56,57……触媒不含の分配空
間。
Claims (13)
- 【請求項１】液体及び／又はガスの接触変換法であつ
て、容器の上端にガス及び変換されるべき液体あるいは
液体及び変換されるべきガスを導入し、これらの液体及
びガスを容器内の触媒粒子の床を通過せしめ、それらの
液体及びガスを、触媒粒子の床中に配置された複数の案
内要素の外面間で画定される複数の通路であつて流れの
方向において先狭部（だんだん狭くなつている部分）、
狭部及び先広部（だんだん広くなつている部分）を有す
る該複数の通路を通過せしめ、これらの通路の先狭部に
てあるいは狭部にて又は狭部の近くにて追加的流体を該
通路に導入し、そして接触変換によつて得られた流出物
を容器の下端から除去する工程からなる上記変換法。 - 【請求項２】追加的流体が冷却流体からなる、特許請求
の範囲第１項に記載の変換法。 - 【請求項３】追加的流体が、接触変換に所要される流体
からなる、特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の変
換法。 - 【請求項４】ある容量の触媒粒子を容器の下端から排出
し、この排出される容量の触媒粒子と置き換えるべき容
量の触媒粒子を容器の上端に導入する、特許請求の範囲
第１〜３項のいずれか１つの項に記載の変換法。 - 【請求項５】液体及び／又はガスの接触変換法を実施す
るための装置であつて、容器、流体及び触媒粒子を該容
器中に導入するために該容器の上端に配置された入口手
段、触媒粒子の床を該容器中に支持するための支持手
段、流出物及び触媒粒子を該容器から排出するために該
容器の下端に配置された排出手段、及び流体の流れの方
向に実質的に垂直に該容器中に配置された案内要素の格
子からなり、しかも、隣接した案内要素の外面の互に対
向した部分間に、流体の流れの方向において先狭部、狭
部及び先広部を有する通路が画定されており、追加的流
体を該通路に導入するための導入手段が該案内要素に設
けられており、該導入手段は該通路の先狭部に沿つてあ
るいは狭部に又は狭部の近くに配置されている上記装
置。 - 【請求項６】案内要素が、２つの側壁及び１つの底壁を
有する三角形状の流体供給用笠部からなり、この流体供
給用笠部は支持ビームによつて支持されており、この支
持ビームの外面は逆三角形状の断面を有している、特許
請求の範囲第５項に記載の装置。 - 【請求項７】流体供給用笠部の側壁が少なくとも２つの
帯状体によつて形成されており、これらの帯状体は該案
内要素に沿つて延在しておりかつ上部帯状体の下部が下
部帯状体の上部と重なり合うように上下関係で配置され
ており、該上部帯状体が下部帯状体と重なり合つている
領域に流体通路が配置されている、特許請求の範囲第６
項に記載の装置。 - 【請求項８】流体供給用笠部の底壁が、この底壁が支持
ビームを越えて延在するように幅広であり、追加的流体
を導入するための導入手段が、支持ビームを越えて延び
ている底壁の部分に配置された開口からなる、特許請求
の範囲第６項又は第７項に記載の装置。 - 【請求項９】通路の総断面積が容器の断面積の30％ない
し60％の範囲にある、特許請求の範囲第５〜８項のいず
れか１つの項に記載の装置。 - 【請求項１０】通路の先狭部を画定する案内要素の外面
の部分と垂直面との間の鋭角が10°ないし40°の範囲に
ある、特許請求の範囲第５〜９項のいずれか１つの項に
記載の装置。 - 【請求項１１】通路の先広部を画定する案内要素の外面
の部分と垂直面との間の鋭角が３°ないし10°の範囲に
ある、特許請求の範囲第５〜10項のいずれか１つの項に
記載の装置。 - 【請求項１２】容器中に異なるレベルに配置された２個
又はそれ以上の、案内要素の格子を有する、特許請求の
範囲第５〜11項のいずれか１つの項に記載の装置。 - 【請求項１３】格子の案内要素が、隣接格子の案内要素
に対して少しずらして配列されている、特許請求の範囲
第12項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB858515398A GB8515398D0 (en) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | Catalytic conversion of liquid/gas |
| GB8515398 | 1985-06-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS627434A JPS627434A (ja) | 1987-01-14 |
| JPH0755289B2 true JPH0755289B2 (ja) | 1995-06-14 |
Family
ID=10580918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61138435A Expired - Lifetime JPH0755289B2 (ja) | 1985-06-18 | 1986-06-16 | 液体及び／又はガスの接触変換法並びにそれを実施するための装置 |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4693807A (ja) |
| EP (1) | EP0212689B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0755289B2 (ja) |
| KR (1) | KR940000861B1 (ja) |
| CN (1) | CN1005383B (ja) |
| AR (1) | AR242512A1 (ja) |
| AU (1) | AU579935B2 (ja) |
| CA (1) | CA1274852A (ja) |
| DE (1) | DE3665073D1 (ja) |
| ES (1) | ES8801698A1 (ja) |
| GB (1) | GB8515398D0 (ja) |
| MX (1) | MX170862B (ja) |
| NL (1) | NL8601575A (ja) |
| NZ (1) | NZ216540A (ja) |
| PH (1) | PH24726A (ja) |
| SG (1) | SG75190G (ja) |
| SU (1) | SU1523047A3 (ja) |
| ZA (1) | ZA864475B (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2177318B (en) * | 1985-07-02 | 1989-01-18 | Shell Int Research | Catalytic conversion of gas or liquid in a multitube reactor |
| GB8729555D0 (en) * | 1987-12-18 | 1988-02-03 | Shell Int Research | Alkylation process |
| US5601797A (en) * | 1992-08-10 | 1997-02-11 | Glitsch, Inc. | Liquid-phase catalyst-assembly for chemical process tower |
| US5525311A (en) * | 1994-05-02 | 1996-06-11 | Uop | Process and apparatus for controlling reaction temperatures |
| US5600052A (en) * | 1994-05-02 | 1997-02-04 | Uop | Process and apparatus for controlling reaction temperatures |
| US5540899A (en) * | 1994-12-22 | 1996-07-30 | Uop | BI-directional control of temperatures in reactant channels |
| US5538700A (en) * | 1994-12-22 | 1996-07-23 | Uop | Process and apparatus for controlling temperatures in reactant channels |
| US7473405B2 (en) * | 2004-10-13 | 2009-01-06 | Chevron U.S.A. Inc. | Fluid distribution apparatus for downflow multibed poly-phase catalytic reactor |
| CN112707844A (zh) * | 2019-10-24 | 2021-04-27 | 中国石油化工股份有限公司 | 芳烃氨氧化生产芳腈的方法 |
Citations (1)
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| JPS5350053A (en) * | 1976-10-18 | 1978-05-08 | Kouji Watanabe | Gas treatment apparatus |
Family Cites Families (10)
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| US3073875A (en) * | 1957-02-15 | 1963-01-15 | Belge Produits Chimiques Sa | Process for preparation of acetylene |
| DE1645864C3 (de) * | 1966-11-10 | 1978-04-13 | Daizo Kunii | Anlage zur Erzeugung von Olefinen durch thermische Spaltung von Kohlenwasserstoffen im Wirbelfließverfahren und Verfahren zur Erzeugung von Olefinen unter Verwendung dieser Anlage |
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| GB2101905B (en) * | 1981-07-22 | 1984-06-27 | Shell Int Research | Apparatus for contacting fluid with particulate solid material |
| GB8326856D0 (en) * | 1983-10-07 | 1983-11-09 | Shell Int Research | Moving catalyst bed reactor |
-
1985
- 1985-06-18 GB GB858515398A patent/GB8515398D0/en active Pending
-
1986
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1990
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Patent Citations (1)
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| PH24726A (en) | 1990-10-01 |
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| NZ216540A (en) | 1989-07-27 |
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