CN113412150B - 已减小高度的加氢处理反应器内构件 - Google Patents
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Abstract
与标准HRI设计相比，加氢处理反应器内构件(HRI)已减小高度。通过粗液分配盘更敞开的设计实现HRI高度的减小，使得该盘上方和下方蒸气流所需的空间减小。这些加氢处理反应器骤冷区内构件包括收集盘、粗液分配盘和气液分配盘。在该收集盘和该粗液分配盘两者上方发生流体混合。
Description
背景技术
多种工艺都使用并流反应器，在并流反应器中，一种或多种流体流过颗粒材料的固体床，以提供流体与固体颗粒之间的接触。在反应器中，固体可包含催化材料，流体在该催化材料上反应形成产物。流体可以是液体、蒸气或者液体与蒸气的混合物，并且流体反应形成液体、蒸气或者液体与蒸气的混合物。这些过程涵盖一系列工艺，包括烃类转化、加氢裂化和加氢处理。
具有固定床的并流反应器被构造成使得反应器允许流体流过催化剂床。当流体是液体、蒸气或者液体与蒸气混合物时，该流体通常被引导向下流过反应器。也经常使用多床反应器，其中反应器床在反应器外壳内彼此堆叠。通常，它们以在床之间留有一定空间的方式堆叠在一起。
通常形成床间空间以提供对工艺流体的中间处理，诸如冷却、加热、混合和重新分配。
在放热催化反应中，控制流体的温度和分配很重要。来自上部催化剂床和反应器外部的流体的温度和组成在分配到下部催化剂床之前应充分混合。随着工艺流体沿着反应器向下移动，催化剂床顶部的最初不佳温度和组成分配会持续或增长。热点可形成并导致催化剂快速失活，并且缩短反应器操作循环长度。催化剂床之间的空间用于注入骤冷气体或液体，以及用于流体混合和分配。在烃类处理中，骤冷气体通常是冷的氢/烃流。然而，在不控制混合和分配的情况下冷却流体会导致后续反应器床中的反应不均和温度分布不均。而且复杂的混合和分配系统在容纳多个催化剂床的反应室中占用宝贵的空间。
一直希望使反应器床之间的空间最小化，该空间用于引入骤冷流体以及将蒸气和液体与骤冷流体混合。具体地讲，对于现有的加氢处理反应器，通常希望减小催化剂床之间的空间以增加催化剂载量，使得可提高反应器生产量或增加操作循环时间或两者。即使对于新型反应器，通常也希望减小反应器的整体尺寸以减少资本支出和处理厂中反应器的外形。因此，希望在相对小的床间空间中提供流体在相邻催化剂床之间的良好混合以及分配。
克服这些限制的反应器的设计可大大节省反应器内的宝贵空间以使催化剂载量最大化。此外，通常希望改进现有的反应器，以利用催化剂床之间相同的或减小的骤冷区空间改善工艺。改善反应器外壳内空间利用率的新反应器内构件可大大节省成本并且允许改进现有的反应器以满足新的操作和规则要求。
附图说明
图1为本发明的加氢处理反应器内构件的一个实施方案的横截面。
图2为本发明的收集盘和环形分配器的一个实施方案的顶视图。
图3为本发明的蒸气通道的一个实施方案的顶视图。
图4为本发明的粗液分配盘的一个实施方案的顶视图。
图5为用于粗液分配盘的槽的支撑件的一个实施方案的侧视图。
图6A和图6B为本发明的粗液分配盘的另选实施方案。
图7为其上具有导流板的收集盘的一个实施方案的顶视图。
具体实施方式
在对现有反应器的改进中，使加氢处理反应器内构件(HRI)的高度最小化并且使催化剂载量最大化有助于提高生产率和/或增加操作循环长度，这提高了工艺的经济性。在该设计中，通过粗液分配盘的更敞开的设计来实现HRI高度减小，使得该盘上方和下方流体流的所需空间减小。
这些加氢处理反应器骤冷区内构件包括收集盘、粗液分配盘和气液分配盘。在一些实施方案中，流体混合发生在收集盘和粗液分配盘两者上方，无需专用混合室。
该收集盘具有用于流体向下流动的中心开口，并且在一些实施方案中，具有围绕中心开口的用于蒸气向下流动的一个或多个通道。收集盘上方的环形分配器将骤冷流体引入该收集盘。该收集盘与上部催化剂床的底部流体连通。
该粗液分配盘包括中心平盘和附接到该平盘的多个流体分配槽，所述多个流体分配槽径向向外延伸，它们的外端靠近反应器外壳。流体分配槽底部具有供液体流至下方的气液分配盘的孔。流体分配槽具有从中心平盘向外端倾斜的两个侧壁以及端壁，用于将液体保持在流体分配槽内以进行液体分配。蒸气从这些壁的顶部离开流体分配槽，并且通过流体分配槽之间以及流体分配槽和反应器外壳之间的开放空间向下流动至气液分配盘。
将骤冷气体从收集盘上方的环形分配器注入，并且与来自上部催化剂床的工艺蒸气和液体混合。将流体在收集盘上混合，并且进一步将流体在单个中心开口中混合。在一些实施方案中，存在附接到中心开口的降液管。降液管终止于粗液分配盘的中心平盘上方。
当存在蒸气通道时，将骤冷气体和工艺蒸气在收集盘上方和蒸气通道内混合。通过将混合的气体和蒸气从通道的底部注入到中心平盘中的液体中，使所有流体在中心平盘中进一步混合。然后蒸气和液体水平流动至附接到中心平盘的流体分配槽。通过这些槽底部的孔将液体向下分配至气液分配盘，同时蒸气流过这些槽之间的空间。
本发明的一个方面是用于在催化剂床之间混合和分配流体的设备。在一个实施方案中，该设备包括具有中心开口的收集盘，该收集盘与上部催化剂床的底部流体连通。存在粗液分配盘，该粗液分配盘包括与该收集盘的中心开口流体连通的中心平盘和与该中心平盘流体连通并且从该中心平盘向外延伸的多个流体分配槽，这些流体分配槽彼此间隔开，这些流体分配槽包括底部、侧壁和端壁，这些侧壁从中心平盘向下倾斜至端壁，这些流体分配槽的底部具有穿过其中的开口，该端壁与反应器壁间隔开。存在与该粗液分配盘以及与下部催化剂床的顶部流体连通的气液分配盘。
在一些实施方案中，相邻流体分配槽之间在中心平盘处存在空间，并且其中该空间由板封闭。
在一些实施方案中，流体分配槽在中心平盘处的宽度大于流体分配槽在端壁处的宽度。
在一些实施方案中，流体分配槽在中心平盘处的宽度小于流体分配槽在端壁处的宽度。
在一些实施方案中，流体分配槽的宽度小于24英寸。
在一些实施方案中，该设备还包括环形分配器，该环形分配器包括喷射器，该喷射器用于将骤冷流体注入到收集盘上方的空间中。
在一些实施方案中，该喷射器被定向成向内基本垂直于环形分配器，或者该喷射器被定向成与环形分配器相切。
在一些实施方案中，该设备还包括位于收集盘上方的混合室，该混合室具有内壁和外壁，该内壁围绕中心开口定位，该外壁位于喷射器内侧的位置处，并且该外壁具有溢流通道。
在一些实施方案中，该设备还包括用于蒸气流的蒸气通道，该蒸气通道定位在中心开口的径向外侧。
在一些实施方案中，蒸气通道在收集盘的表面上方和下方延伸，并且其中该蒸气通道具有在收集盘的正常操作液位之上的上部开口和在该蒸气通道的下部中的下部开口。
在一些实施方案中，蒸气通道具有侧面和封闭的底部，该下部开口位于该侧面中，邻近蒸气通道的底部。
在一些实施方案中，蒸气通道具有敞开的底部并且在邻近收集盘的下表面处终止。
在一些实施方案中，该蒸气通道的横截面为三角形。
在一些实施方案中，存在多个围绕中心开口周向排列的蒸气通道以在它们之间形成流体流动通路。
在一些实施方案中，蒸气通道具有邻近中心开口的内壁和与该中心开口间隔开的外壁，并且其中该内壁的高度小于该外壁的高度。
在一些实施方案中，蒸气通道定位在收集盘上方。
在一些实施方案中，蒸气通道具有邻近中心开口的内壁和与该中心开口间隔开的外壁，并且该内壁的宽度小于该外壁的宽度。
在一些实施方案中，该设备还包括附接到中心开口的降液管，并且其中该降液管的底部在中心平盘上方。
在一些实施方案中，根据权利要求1所述的设备，还包括以下项中的至少一者：传感器，该传感器定位在用以感测至少一个参数的位置处；发射器；计算设备，该计算设备用于接收数据、分析数据、传输数据或它们的组合。
本发明的另一方面是用于在催化剂床之间混合和分配流体的设备。在一个实施方案中，该设备包括具有中心开口的收集盘，该收集盘与上部催化剂床的底部流体连通。存在用于蒸气流的蒸气通道，该蒸气通道定位在中心开口的径向外侧；存在环形分配器，该环形分配器包括喷射器，该喷射器用于将骤冷流体注入到收集盘上方的空间中。存在粗液分配盘，该粗液分配盘包括与该收集盘的中心开口流体连通的中心平盘和与该中心平盘流体连通并且从该中心平盘向外延伸的多个流体分配槽，这些流体分配槽彼此间隔开，这些流体分配槽包括底部、侧壁和端壁，这些侧壁从中心平盘向下倾斜至端壁，这些流体分配槽的底部具有穿过其中的开口，该端壁与反应器壁间隔开。存在与该粗液分配盘以及与下部催化剂床的顶部流体连通的气液分配盘。
如图1所示，骤冷区HRI 100在上部催化剂床105的底部和下部催化剂床110的顶部之间。该骤冷区包括收集盘115、粗液分配盘120和气液分配盘125。粗液分配盘120包括中心平盘150和附接到中心平盘150的流体分配槽175。
环形分配器130用于将骤冷流体135注入收集盘115上方的空间，以与来自上部催化剂床105的向下流动的工艺蒸气和液体接触。如图2所示，喷射器137被定向成向内基本垂直于环形分配器130。在一些实施方案中，喷射器137被定向成与环形分配器130相切。
所有流体朝收集盘115的中心流动以进行混合。流体向下流过收集盘115中的中心开口140。如图7所示的一个或多个弯曲导流板250可安装在收集盘115上，介于环形分配器130和中心开口140之间，用于在中心开口140处引起旋转流体流以促进流体混合。导流板250可从收集盘115朝催化剂支撑网格255向上延伸。在一些实施方案中，蒸气和液体均向下流过中心开口140。在如图1所示的其他实施方案中，大多数蒸气流过围绕中心开口140的一个或多个蒸气通道145，并且大多数液体流过中心开口140。在存在蒸气通道145的情况下，这些蒸汽通道可在收集盘115上方延伸数英寸，使得液体优先流过中心开口140以进行混合，并且蒸气流过蒸气通道145。蒸气通道145可以这样的方式布置，使得在液体如图2所示进入中心开口140之前发生一些液体混合。
在一些实施方案中，主要通过靠近蒸气通道145的底部160的窄狭槽165的设计来形成一定的压降(例如，3.5kPa或0.5spi)，使得蒸气高速离开产生与粗液分配盘120的中心平盘150中的液体的湍流接触。当存在蒸气通道145时，中心开口140和蒸气通道145被设计成使得大多数液体流过中心开口140，并且大多数混合的气体和蒸气流过收集盘115上的蒸气通道145。
当存在降液管155时，该降液管在中心开口140处附接到收集盘115并且终止于粗液分配盘120的底部上方，以便将液体排放到粗液分配盘120上的中心平盘150的中心处。附接到收集盘115的蒸气通道145可向下延伸，低至靠近中心平盘150的顶表面(例如，低至上方0.5”处)，高至收集盘115的下表面处。在如图3所示的一些实施方案中，蒸气通道145的底部160是封闭的。在蒸气通道145的侧面170中靠近底部160处存在狭槽165，用于将混合的气体和蒸气注入中心平盘150中的液体中，使得可控制离开蒸气的速度和方向。当使用三角形蒸气通道145时，蒸气可在水平方向上离开三角形蒸气通道145，使得在中心平盘150内产生流体流的旋转以用于进一步的流体混合和热传递。
如图4所示，混合流体随后进入附接到中心平盘150的流体分配槽175中以用于分配。液体通过流体分配槽175的底板179中的孔177向下流动至气液分配盘125，并且蒸气(气体)在侧壁180和端壁185的顶部以及流体分配槽175之间的空间190上方流动。
如果在附接到中心平盘150的端部上相邻流体分配槽175之间存在任何间隙，则用板195将这些间隙封闭，使得离开中心平盘150的流体只能流入流体分配槽175中以便分配到下方的气液分配盘125中。
流体分配槽175可为任何合适的尺寸和形状。窄流体分配槽175(例如，小于24英寸)可被设计用于穿过反应器中的人孔，以在所需密封最小的情况下便于安装。窄流体分配槽175是刚性的并且可由多根杆200来支撑，这些杆附接到用于气液分配盘125的支撑梁207的平台和顶部凸缘205，如图5所示。流体分配槽175可在梁凸缘205的顶部上方间隔开短距离(例如，0.25英寸至0.5英寸)，使得流体分配槽175的底板179上的孔177不被阻挡，并且当液体落到梁凸缘205的顶部上时将产生很少的液体飞溅。多个窄流体分配槽175还通过流体分配槽175的侧壁180上方的空隙降低从流体分配槽175离开的蒸气的速度，使流体分配槽175的高度和粗液分配盘120的高度最小化以及使粗液分配盘120和下方的气液分配盘125之间的空间最小化。
流体分配槽175的数量、尺寸和形状可被设计以适应各种蒸气和液体流速。例如，在图6A中，流体分配槽175在端壁185处的宽度小于流体分配槽175在中心平盘150处的宽度。在图6B中，流体分配槽175在端壁185处的宽度大于流体分配槽175在中心平盘150处的宽度。
在图1和图3所示的实施方案中，蒸气通道145附接到收集盘115并且向下延伸至靠近中心平盘150的顶表面。通道底部160是封闭的，并且在侧面170上靠近底部160处具有狭槽165，用于将混合气体和蒸气水平地注入中心平盘150中的液体中并且在中心平盘150上方产生流体涡流以增强流体混合和热传递。
流体分配槽175被构造成具有底部穿孔板179、倾斜侧壁180和端壁185。附接到中心平盘150的端部是敞开的，使得流体混合物可进入流体分配槽。侧壁180从附接到中心平盘150的侧面的接近粗液分配盘120与收集盘115之间的间距的高度(例如，如果这些盘之间的间距为6英寸，则侧壁180将为5.75英寸)倾斜至靠近反应器外壳210的端壁185处的1至3英寸。通常，流体分配槽175的端壁185的高度与侧壁180的高度在它们交汇的地方是相同的。
参考所附图呈现了对现有技术和本发明的工艺和装置的描述。附图为现有技术以及本发明的多种实施方案的简化图，并且不旨在对本文所提供的描述和所附的权利要求书的一般广泛范围作出不当限制。已省略了某些硬件，诸如阀门、泵、压缩机、换热器、仪器和控件，因为该硬件对于清楚地理解本发明不是必需的。该硬件的使用和应用完全在本领域的技术范围内。
上述管线、导管、单元、设备、容器、周围环境、区或类似物中的任一者可配备一个或多个监测部件，包括传感器、测量设备、数据捕获设备或数据传输设备。信号、工艺或状态测量以及来自监测部件的数据可用于监测工艺设备中、周围和与其有关的条件。由监测部件生成或记录的信号、测量和/或数据可通过一个或多个网络或连接收集、处理和/或传输，该网络或连接可以是私有或公共的，通用的或专用的，直接的或间接的，有线的或无线的，加密的或未加密的，和/或它们的组合；本说明书并非旨在在这方面进行限制。
由监测部件生成或记录的信号、测量和/或数据可被传输到一个或多个计算设备或系统。计算设备或系统可包括至少一个处理器以及存储计算机可读指令的存储器，该计算机可读指令当由至少一个处理器执行时，使一个或多个计算设备执行可包括一个或多个步骤的工艺。例如，可配置一个或多个计算设备以从一个或多个监测部件接收与至少一件与该工艺相关联的设备相关的数据。一个或多个计算设备或系统可被配置为分析该数据。根据数据分析，一个或多个计算设备或系统可被配置为确定对本文所述的一个或多个工艺的一个或多个参数的一种或多种推荐调整。一个或多个计算设备或系统可被配置为传输加密或未加密的数据，其包括对本文所述的一个或多个工艺的一个或多个参数的一种或多种推荐调整。
本领域普通技术人员应当认识且应当理解，各种其它部件诸如阀、泵、过滤器、冷却器等未在附图中示出，因为据信，它们的具体内容完全在本领域普通技术人员的知识范围内并且它们的描述对于本发明的实施方案的实施或理解并不是必需的。
虽然在本发明的前述具体实施方式中已呈现了至少一个示例性实施方案，但是应当理解存在大量的变型形式。还应当理解，一个示例性实施方案或多个示例性实施方案仅是示例，并且不旨在以任何方式限制本发明的范围、适用性或构型。相反，前述具体实施方式将为本领域的技术人员提供便利的路线图以实施本发明的示例性实施方案，应当理解，在不脱离如所附权利要求书以及其法律等同形式所阐述的本发明的范围的情况下，可对示例性实施方案中所描述的元件的功能和布置进行各种改变。
具体的实施方案
虽然结合具体的实施方案描述了以下内容，但应当理解，该描述旨在说明而不是限制前述描述和所附权利要求书的范围。
本发明的第一实施方案是用于在催化剂床之间混合和分配流体的装置，该装置包括：包括中心开口的收集盘，该收集盘与上部催化剂床的底部流体连通；粗液分配盘，该粗液分配盘包括与该收集盘的中心开口流体连通的中心平盘和与该中心平盘流体连通并且从该中心平盘向外延伸的多个流体分配槽，这些流体分配槽彼此间隔开，这些流体分配槽包括底部、侧壁和端壁，这些侧壁从中心平盘向下倾斜至端壁，这些流体分配槽的底部具有穿过其中的开口，该端壁与反应器壁间隔开；和气液分配盘，该气液分配盘与粗液分配盘以及与下部催化剂床的顶部流体连通。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中相邻流体分配槽之间在中心平盘处存在空间，并且其中该空间由板封闭。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中流体分配槽在中心平盘处的宽度大于流体分配槽在端壁处的宽度。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中流体分配槽在中心平盘处的宽度小于流体分配槽在端壁处的宽度。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中流体分配槽的宽度小于24英寸。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，还包括环形分配器，该环形分配器包括喷射器，该喷射器用于将骤冷流体注入到收集盘上方的空间中。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中喷射器被定位成向内基本垂直于环形分配器，或者其中喷射器被定位成与环形分配器相切。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，还包括位于收集盘上方的混合室，该混合室具有内壁和外壁，该内壁围绕中心开口定位，该外壁位于喷射器内侧的位置处，并且该外壁具有溢流通道。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，还包括用于蒸气流的蒸气通道，该蒸气通道定位在中心开口的径向外侧。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中蒸气通道在收集盘的表面上方和下方延伸，并且其中该蒸气通道具有在收集盘的正常操作液位之上的上部开口和在该蒸气通道的下部中的下部开口。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中蒸气通道具有侧面和封闭的底部，下部开口位于该侧面，邻近蒸气通道的底部。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中蒸气通道具有敞开的底部，并且蒸气通道在邻近收集盘下表面处终止。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中蒸气通道的横截面为三角形。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中存在多个围绕中心开口周向排列的蒸气通道以在它们之间形成流体流动通路。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中蒸气通道具有邻近中心开口的内壁和与该中心开口间隔开的外壁，并且其中该内壁的高度小于该外壁的高度。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中蒸气通道定位在收集盘上方。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，其中蒸气通道具有邻近中心开口的内壁和与该中心开口间隔开的外壁，并且该内壁的宽度小于该外壁的宽度。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，还包括弯曲导流板，该弯曲导流板在收集盘上，介于环形分配器和中心开口之间。本发明的一个实施方案是本段的先前实施方案至本段的第一实施方案中的一个、任一个或所有实施方案，还包括以下项中的至少一者：传感器，该传感器定位在用以感测至少一个参数的位置处；发射器；计算设备，该计算设备用于接收数据、分析数据、传输数据或它们的组合。
本发明的第二实施方案是用于在催化剂床之间混合和分配流体的装置，该装置包括：包括中心开口的收集盘，该收集盘与上部催化剂床的底部流体连通；用于蒸气流的蒸气通道，该蒸气通道定位在中心开口的径向外侧；环形分配器，该环形分配器包括喷射器，该喷射器用于将骤冷流体注入到收集盘上方的空间中；粗液分配盘，该粗液分配盘包括与该收集盘的中心开口流体连通的中心平盘和与该中心平盘流体连通并且从该中心平盘向外延伸的多个流体分配槽，这些流体分配槽彼此间隔开，这些流体分配槽包括底部、侧壁和端壁，这些侧壁从中心平盘向下倾斜至端壁，这些流体分配槽的底部具有穿过其中的开口，该端壁与反应器壁间隔开；和气液分配盘，该气液分配盘与粗液分配盘以及与下部催化剂床的顶部流体连通。
尽管没有进一步的详细说明，但据信，本领域的技术人员通过使用前面的描述可最大程度利用本发明并且可容易地确定本发明的基本特征而不脱离本发明的实质和范围以作出本发明的各种变化和修改，并且使其适合各种使用和状况。因此，前述优选的具体的实施方案应理解为仅例示性的，而不以无论任何方式限制本公开的其余部分，并且旨在涵盖包括在所附权利要求书的范围内的各种修改和等效布置。
在前述内容中，所有温度均以摄氏度示出，并且所有份数和百分比均按重量计，除非另外指明。
Claims (8)
1.一种用于在催化剂床之间混合和分配流体的设备，包括：
收集盘（115），所述收集盘包括中心开口（140），所述收集盘（115）与上部催化剂床（105）的底部流体连通；多个蒸气通道（145），其围绕中心开口（140），附接到收集盘（115），其中所述蒸气通道（145）在靠近蒸气通道（145）的底部（160）处具有窄狭槽（165）；
粗液分配盘（120），所述粗液分配盘包括与所述收集盘（115）的所述中心开口（140）流体连通的中心平盘（150）和与所述中心平盘（150）流体连通并且从所述中心平盘向外延伸的多个流体分配槽（175），所述流体分配槽（175）彼此间隔开，所述流体分配槽（175）包括底部（179）、侧壁（180）和端壁（185），所述侧壁（180）从所述中心平盘（150）向下倾斜至所述端壁（185），所述流体分配槽（175）的所述底部（179）具有穿过其中的开口（177），所述端壁（185）与反应器壁间隔开；和
气液分配盘（125），所述气液分配盘与所述粗液分配盘（120）以及与下部催化剂床（110）的顶部流体连通；
其中相邻流体分配槽（175）之间在所述中心平盘（150）处存在空间，并且其中所述空间由板（195）封闭，使得离开中心平盘（150）的流体只能流入流体分配槽（175）中以便分配到下方的气液分配盘（125）中。
2.根据权利要求1所述的设备，其中所述流体分配槽（175）在所述中心平盘（150）处的宽度大于所述流体分配槽（175）在所述端壁（185）处的宽度。
3.根据权利要求1所述的设备，其中所述流体分配槽（175）在所述中心平盘（150）处的宽度小于所述流体分配槽（175）在所述端壁（185）处的宽度。
4.根据权利要求1所述的设备，其中所述流体分配槽的宽度（175）小于24英寸。
5.根据权利要求1所述的设备，还包括环形分配器（130），所述环形分配器包括喷射器（137），所述喷射器用于将骤冷流体注入到所述收集盘（115）上方的空间中。
6.根据权利要求5所述的设备，其中所述喷射器（137）被定向成向内基本垂直于所述环形分配器（130）。
7.根据权利要求5所述的设备，还包括位于所述收集盘（115）上方的混合室，所述混合室具有内壁和外壁，所述内壁围绕所述中心开口（140）定位，所述外壁位于所述喷射器（137）内侧的位置处，并且所述外壁具有溢流通道。
8.根据权利要求1所述的设备，还包括以下项中的至少一者：
传感器，所述传感器定位在用以感测至少一个参数的位置处；
发射器；或
计算设备，所述计算设备用于接收数据、分析数据、传输数据或它们的组合。
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