JPS6271960A - Photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Photosensitive lithographic printing plate

Info

Publication number
JPS6271960A
JPS6271960A JP21096185A JP21096185A JPS6271960A JP S6271960 A JPS6271960 A JP S6271960A JP 21096185 A JP21096185 A JP 21096185A JP 21096185 A JP21096185 A JP 21096185A JP S6271960 A JPS6271960 A JP S6271960A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing plate
photosensitive
lithographic printing
photosensitive lithographic
diazo resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21096185A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sei Goto
聖 後藤
Norihito Suzuki
鈴木 則人
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Yoshihiro Maeda
佳宏 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP21096185A priority Critical patent/JPS6271960A/en
Publication of JPS6271960A publication Critical patent/JPS6271960A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form a photosensitive lithographic printing plate which permits an easy printing operation by coating a specific photosensitive compsn. on an aluminum sheet obtd. by subjecting the surface to sand graining by liquid honing then to an anodic oxidation treatment in a phosphoric acid electrolyte. CONSTITUTION:This photosensitive lithographic printing plate is constituted by coating the photosensitive compsn. essentially consisting of a diazo resin and lipophilic high-polymer compd. having a hydroxyl group on the aluminum sheet obtd. by subjecting the surface to sand graining by liquid honing, then to the anodic oxidation treatment in the electrolyte essentially consisting of the phosphoric acid (salt). The diazo resin contains >=20mol%, more preferably 20-60mol% resin which is expressed by formula I and is>=5 n in formula. The lipophilic high-polymer compd. is adequately the lipophilic high-polymer compd. having the hydroxyl group in terms of adhesiveness and developability. The amt. of the coated film is preferably in a 10-40mg/dm<2>, more particularly preferably, 10-30mg/dm<2> range.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性平版印刷版に関するものであシ、更に
詳しくは特定の方法で砂目室てしたアルミニウム板と、
該アルミニウム板に良好なる適応性を有する感光性組成
物との好ましい組合せによる、・良好な印刷性能を有す
る感光性平版印刷版に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate, and more specifically, an aluminum plate grained by a specific method,
The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate having good printing performance due to a preferable combination with a photosensitive composition having good adaptability to the aluminum plate.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

平版印刷法は、平面上に親水性部と親油性部を設け、こ
れに同時に水とインキを供給し、親水性部に水を親油性
部にインキを受容させ友のち、紙にインキを転写して印
刷を行う方法である。このように親水性部と親油性部の
パターンを形成させる方法としては通常親水性表面を有
する支持体上に親油性の感光性組成物を設層して感光層
を形成し、これに透明フィルム原画を密着させて露光し
た後、露光部分あるいは非露光部分を溶解除去するいわ
ゆる写真製版法が一般的に行われている。かくして得ら
れた平版印刷版の印刷性能は、非画像部となる支持体表
面の性質及び画像部となる感光層皮膜の性質により大き
く左右され、これらの選択が適当でない場合には例えば
次のような不都合な現象を生ずる。すなわち、支持体表
面の親水性あるいは保水性が不十分な場合には印刷時の
湿し水のコントロールが難かしく、供給が少なくなると
非画像部にインキが着肉する地汚れ現象が起ったシ、多
くなるとインキ濃度が低下したシして、印刷作業がやυ
難いという欠点を生ずる。また、感光層皮膜の親油性が
不十分な場合は印刷インキの皮膜への着肉、したがって
印刷紙へのインキの転移が良好に行われず濃度の低い印
刷物が得られる。更に、支持体表面、感光層皮膜の化学
的あるいは物理的強度が不十分な場合及び支持体と感光
層との接着性が不十分な場合等においては、多部数の印
刷により表面が損傷し、支持体°表面が損傷する場合に
は地汚れ現象が生じ、他方感光層皮膜が損傷あるいはは
く離する場合には印刷インキの転移が行われなくなって
、事実上印刷版としての価値を失うことになp1耐刷力
の小さい印刷版となる。
In the lithographic printing method, a hydrophilic area and an oleophilic area are provided on a flat surface, water and ink are simultaneously supplied to these areas, the hydrophilic area receives water and the oleophilic area receives ink, and then the ink is transferred to paper. This is a method of printing. A method for forming a pattern of hydrophilic areas and lipophilic areas in this way is usually to form a photosensitive layer by depositing a lipophilic photosensitive composition on a support having a hydrophilic surface, and then to form a photosensitive layer with a transparent film. A so-called photolithography method is generally used in which an original image is exposed in close contact with the original image, and then the exposed or unexposed areas are dissolved and removed. The printing performance of the lithographic printing plate thus obtained is greatly influenced by the properties of the surface of the support, which will be the non-image area, and the properties of the photosensitive layer film, which will be the image area.If these selections are not appropriate, for example, the following This may cause some inconvenient phenomena. In other words, if the hydrophilicity or water retention of the support surface is insufficient, it is difficult to control dampening water during printing, and when the supply is low, a scumming phenomenon occurs in which ink adheres to non-image areas. If the amount increases, the ink density will decrease and the printing process will become slower.
The disadvantage is that it is difficult to Furthermore, if the lipophilicity of the photosensitive layer coating is insufficient, the printing ink will not adhere to the coating and, therefore, the ink will not transfer well to the printing paper, resulting in printed matter with low density. Furthermore, if the chemical or physical strength of the support surface or photosensitive layer coating is insufficient, or if the adhesion between the support and the photosensitive layer is insufficient, the surface may be damaged by printing a large number of copies. If the surface of the support is damaged, scumming will occur, while if the photosensitive layer film is damaged or peeled off, the transfer of printing ink will no longer occur and the plate will actually lose its value as a printing plate. p1 The printing plate has a low printing durability.

したがって前述のごとく、良好な印刷性能を有する感光
性平版印刷版を得るには、支持体及び感光性組成物の選
択に当って、両者の特性のみならず、両者の組合せにお
ける特性をも考慮する必要がある。
Therefore, as mentioned above, in order to obtain a photosensitive lithographic printing plate with good printing performance, when selecting the support and the photosensitive composition, consider not only the characteristics of both, but also the characteristics of the combination of the two. There is a need.

感光性平版印刷版の支持体として用いられるアルミニウ
ム板は、ボールグレイ/、ワイヤーグライン、ブラシグ
レインあるいはホーニンググレインなどの機械的粗面化
法、又は電解グレインなどと称されている電気化学的粗
面化法、あるいは化学的粗面化方法など多くの粗面化方
法から適宜選択され念力法により粗面化され、更に残水
性及び表面の機械的強度を向上させるため、硫酸、リン
酸等の水溶液中で陽極酸化処理され、感光性平版印刷版
の支持体として用いられている。
The aluminum plate used as a support for photosensitive lithographic printing plates can be roughened by mechanical roughening methods such as ball gray/wire grain, brush grain, or honing grain, or by electrochemical roughening methods such as electrolytic graining. The surface is roughened by a psychokinetic method, which is selected from among many surface roughening methods such as chemical or chemical roughening methods.In order to further improve water retention and mechanical strength of the surface, an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, etc. It is anodized and used as a support for photosensitive planographic printing plates.

感光性平版印刷版に用いられるアルミニウム板は、前記
の粗面化方法と陽極酸化処理方法の組合せにより、印刷
版に適した砂目を有するものが製造される。
Aluminum plates used in photosensitive lithographic printing plates having grains suitable for printing plates are manufactured by a combination of the above-mentioned surface roughening method and anodizing treatment method.

従来、コスト面、砂目の均一性、印刷性能面においで、
特に重大な欠点がないことから、ジアゾ樹脂と親油性高
分子化合物を主成分とすみ感光性組成物を塗設するアル
f=ウム支持体は、−mに(1)ブラシグレイン→硫醗
中で陽極酸化、(2)ブラシグレイン−リン酸中陽極酸
化、(3)!解グレイン→硫酸中陽極酸化により製造さ
れていた。しかし、(1)O方法は、粗面化が不均一で
あるばかシでなく、印刷版として汚れを生じ易く、耐刷
力も小さl/%、(2)の方法は、耐刷力は大であるが
、印刷時汚れが生じ易い、(3)の方法は、地汚れは生
じ難いが、耐刷力が小さい、という傾向がある。
Conventionally, in terms of cost, grain uniformity, and printing performance,
Since there are no particularly serious drawbacks, the aluminum support to which the light-sensitive composition mainly composed of diazo resin and lipophilic polymer compound is coated is prepared by adding (1) brush grain to -m in sulfur. (2) Brush grain - anodic oxidation in phosphoric acid, (3)! It was produced by anodic oxidation of dissolved grains in sulfuric acid. However, method (1) O has uneven surface roughening, is prone to staining as a printing plate, and has a low printing durability l/%, and method (2) has a large printing durability. However, method (3), which tends to cause stains during printing, tends to have low printing durability, although it does not easily cause background stains.

〔発明が解決しようとする問題点] 上記支持体の各々の欠点は、その上に設層する感光性組
成物の適当な選択により、かなシ改善され得るが、耐刷
力及び印刷時の汚れ難さの両者を十分満足する感光性平
版印刷版は得られていないのが現状である。
[Problems to be Solved by the Invention] Each of the drawbacks of the above-mentioned supports can be improved by appropriately selecting a photosensitive composition to be layered thereon, but printing durability and staining during printing can be improved. At present, a photosensitive lithographic printing plate that fully satisfies both of these difficulties has not been obtained.

本発明の目的は、印刷時に湿し水供給のコントロールの
容易な、したがって印刷作業し易い感光性平版印刷版を
提供することにある。
An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate that allows easy control of dampening water supply during printing, and therefore facilitates printing operations.

本発明の他の目的は印刷時に地汚れが生じ難く、かつ耐
刷力が極めて大なる感光性平版印刷版を提供することに
ある。
Another object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate that is less likely to cause scumming during printing and has extremely high printing durability.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明を概説すれば、本発明は感光性平版印刷版に関す
る発明であって、表面を液体ホーニングにより砂目立て
した後、リン酸(塩)又はリン酸(塩)を主成分とする
電解液中で陽極酸化処理して得られるアルミニウム板上
に、ジアゾ樹脂と水酸基を有する親油性高分子化合物と
を主成分とする感光性組成物を塗設したものであること
を特徴とする。
To summarize the present invention, the present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate, in which the surface is grained by liquid honing and then placed in phosphoric acid (salt) or an electrolytic solution containing phosphoric acid (salt) as a main component. It is characterized in that a photosensitive composition whose main components are a diazo resin and a lipophilic polymer compound having a hydroxyl group is coated on an aluminum plate obtained by anodizing the aluminum plate.

以下、本発明について詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

本発明に用いられるアルミニウム板の素材としては、純
アルミニウムのほかアルミニウム合金がろシ、後者は、
ケイ素、鉄、銅、亜鉛、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、ビスマス、カル7ウム、インジウム、ガリウム、ホ
ク索、ニッケルなどの微量を含むものでもよいがいずれ
にしでもアルミニウムの純度が95%以上であるものが
好ましい。
Materials for the aluminum plate used in the present invention include pure aluminum and aluminum alloys;
It may contain trace amounts of silicon, iron, copper, zinc, manganese, magnesium, chromium, bismuth, calcium, indium, gallium, copper, nickel, etc., but in any case, the purity of aluminum is 95% or more. is preferred.

このようなアルミニウム板は、平版印刷版として、印刷
機に装着され九場合に必要な強度、耐力、伸び等の関係
から、実用的にはα1〜(L5−であシ、適宜選択され
る。
Such an aluminum plate is practically selected from α1 to (L5-) depending on the strength, yield strength, elongation, etc. required when it is mounted on a printing machine as a lithographic printing plate.

本発明の上記アルミニウム板を粗面化する液体ホーニン
グ法は、微細な研摩剤を液体中に懸濁させ九スラリーを
アルミニウム板表面に激しく吹付けて、砂目立てする方
法である。ここに用いられる研摩剤としては、アルミナ
、カーボランダム等を採用することができる。
The liquid honing method of the present invention for roughening the aluminum plate is a method in which a fine abrasive is suspended in a liquid and a slurry is violently sprayed onto the aluminum plate surface to provide graining. As the abrasive used here, alumina, carborundum, etc. can be adopted.

液体ホーニング法の好ましい態様は、特開昭51−77
405号、特公昭54−42282号各公報に開示され
ているように、第1段階として比較的粒度の粗い研摩材
による液体ホーニングを行い、次いで比較的微細な粒度
の研摩材を用いて第2段階の液体ホーニングを行うもの
である。この場合、第1段階の液“体ホーニングに用い
る研摩材の粒度は150〜280メツシユとした場合前
記1次的砂目のサイズが達成されるので適当であり、第
2段階の液体ホーニングに用いる研摩材の粒度は100
0〜3000メツシユとするのが適当である。
A preferred embodiment of the liquid honing method is JP-A-51-77
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 405 and Japanese Patent Publication No. 54-42282, the first step is liquid honing using a relatively coarse abrasive, and then the second step is using a relatively fine abrasive. This is a step-by-step liquid honing process. In this case, the particle size of the abrasive used in the first stage of liquid honing is appropriate since the above-mentioned primary grain size is achieved when the particle size is 150 to 280 mesh. The particle size of the abrasive is 100
It is appropriate to set it to 0 to 3000 meshes.

液体ホーニング処理を行う際には、前もって、脱脂、洗
浄を行うことが望ましい。脱脂処理としては、石油系溶
剤又はトリクロロエチレン、パークロロエチレン等の塩
素化炭化水素を使用して汚れを除去する溶剤脱脂、非イ
オン界面活性剤とトリクロロエチレン、ケロシン等の溶
剤と水とを乳化させた溶液を用いるエマルジョン脱脂、
アルカリ性の薬品を含む処理液で煮沸するアルカリ脱脂
、及び電解脱脂等が挙げられる。
When performing liquid honing treatment, it is desirable to perform degreasing and cleaning in advance. Degreasing treatments include solvent degreasing, which uses petroleum-based solvents or chlorinated hydrocarbons such as trichlorethylene and perchloroethylene to remove dirt, and emulsification of nonionic surfactants, solvents such as trichlorethylene and kerosene, and water. Emulsion degreasing using solutions,
Examples include alkaline degreasing, which involves boiling in a treatment solution containing alkaline chemicals, and electrolytic degreasing.

粗面化された基板には、表面にスマットが生成している
ので、酸又はアルカリにより表面をエツチングして、ス
マット除去を行うことが望ましい。酸としては、例えば
硫酸、7ツ酸、リン酸、硝酸、塩酸などが用いられ、上
記のアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、ア
ルミン酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、炭酸ナト
リウムなどが用いられる。
Since smut is generated on the surface of a roughened substrate, it is desirable to remove the smut by etching the surface with acid or alkali. As the acid, for example, sulfuric acid, heptanoic acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, etc. are used, and as the alkali, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tribasic sodium phosphate, tribasic potassium phosphate, aluminic acid, etc. are used. Sodium, sodium metasilicate, sodium carbonate, etc. are used.

本発明で使用するアルミニウム板は、次いで、リン酸(
塩)又はリン酸(塩)を主取分とする電解液中で陽極酸
化処理される。例えば、アルミニウム板を10〜50重
II係、好1しくに、20〜40重ftqbのリンl!
!紮含む水溶液中、又は、かかるリン酸と全酸中25重
量係以下、好ましくi、10重f%以下の他の酸、例え
ば、硫酸、シュウ酸等との混酸を含む水溶液中、浴温1
0〜50℃、好ましくは、25〜45℃で、電流密度(
L 2〜10 A/ (1m” 、好ましくは、1〜7
 A/ム冨で、10秒〜10分、好ましくは、20秒〜
3分の範囲で、得られる陽極酸化層の陽極酸化皮膜量は
、5〜70 IQ/eLm”が適当であシ、好ましくは
10〜40■/am”である。
The aluminum plate used in the present invention is then prepared using phosphoric acid (
Anodized in an electrolyte containing mainly phosphoric acid (salt) or phosphoric acid (salt). For example, an aluminum plate is coated with 10 to 50 ftqb of phosphorus, preferably 20 to 40 ftqb of phosphorus.
! In an aqueous solution containing phosphoric acid and a mixed acid with other acids such as sulfuric acid and oxalic acid in an amount of 25% by weight or less, preferably 10% by weight or less of the total acid, for example, sulfuric acid, oxalic acid, etc., at a bath temperature of 1.
Current density (
L 2-10 A/ (1m", preferably 1-7
A/mu: 10 seconds to 10 minutes, preferably 20 seconds to
In the range of 3 minutes, the amount of the anodized layer obtained is suitably 5 to 70 IQ/eLm'', preferably 10 to 40 IQ/am''.

陽極酸化処理されたアルミニウム基板は、通常、更に水
又は弱酸若しくは弱アルカリ水溶液中、10〜100℃
、10〜600秒の範囲の条件で処理される。その後、
親水化処理が施される。
The anodized aluminum substrate is usually further heated at 10 to 100°C in water or a weak acid or weak alkali aqueous solution.
, 10 to 600 seconds. after that,
Hydrophilic treatment is applied.

親水化処理としては熱水封孔やケイ酸ソーダ処理が挙げ
られるが接着性やジアゾ残シ、現像性の点からは、ケイ
酸ソーダ処理が好ましい。
Examples of the hydrophilic treatment include hot water sealing and sodium silicate treatment, but sodium silicate treatment is preferable from the viewpoints of adhesion, diazo residue, and developability.

ケイ酸ソーダ処理の条件としては濃度α1〜5・優のメ
タケイ酸ソーダ溶液中に、温度50℃〜95℃で10秒
間〜5分間浸漬して行われる。
The sodium silicate treatment is carried out by immersion in a sodium metasilicate solution having a concentration of α1 to 5.0 at a temperature of 50° C. to 95° C. for 10 seconds to 5 minutes.

好ましくは、その後に60℃〜100℃の水に10秒間
〜5分間浸漬して処理される。
Preferably, it is then treated by immersion in water at 60° C. to 100° C. for 10 seconds to 5 minutes.

上記アルミニウム板上に塗設する本発明における感光性
組成物は、水酸基を有する親油性高分子化合物とジアゾ
樹脂とを主成分とするものである。
The photosensitive composition of the present invention to be coated on the aluminum plate has a hydroxyl group-containing lipophilic polymer compound and a diazo resin as main components.

ジアゾ樹脂としては、置換又は非置換op−ジアゾジフ
ェニルアミンとアルデヒド類との縮合物であって、アニ
オンがPF6又はPF4等のノ10ゲ/化ルイス酸であ
るものが好ましく、特に下記一般式■で示され、かつ該
式におけるnが5以上である樹脂を20モル係以上、好
ましくは、20〜60モル係含有するジアゾ樹脂が好ま
しい。
The diazo resin is preferably a condensate of a substituted or unsubstituted op-diazodiphenylamine and an aldehyde, and the anion is a Lewis acid such as PF6 or PF4. A diazo resin containing 20 or more moles, preferably 20 to 60 moles of a resin shown in the formula and where n is 5 or more is preferred.

(式中、11.R”及びR3は水素、アルキル基又はア
ルコキシ基を示し、Rは水素、アルキル基又はフェニル
基を示し、XはPIP、又1BIF4を示し、nは1〜
200の数を示す) その他、例えば特公昭47−1167号公報又は米国特
許第5.500509号明細曹に記載のアニオンが有機
酸であるものも使用することができる。
(In the formula, 11.R'' and R3 represent hydrogen, an alkyl group or an alkoxy group, R represents hydrogen, an alkyl group or a phenyl group, X represents PIP or 1BIF4, and n represents 1-
200) In addition, for example, those described in Japanese Patent Publication No. 47-1167 or US Pat. No. 5,500,509 in which the anion is an organic acid can also be used.

親油性高分子化合物は、接着性及び現像性の点から水酸
基を有する親油性高分子化合物が好適である。
The lipophilic polymer compound is preferably a lipophilic polymer compound having a hydroxyl group from the viewpoint of adhesiveness and developability.

塗膜量は、10〜40*/dm”が好ましく、10〜S
 Oq/l1m”の範囲が特に好適である。
The coating amount is preferably 10-40*/dm", 10-S
A range of Oq/l1m'' is particularly suitable.

本発明において使用する水酸基を有する親油性高分子化
合物としては、例えば、下記の様な水酸基を有するアク
リルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステ
ル類又はメタクリル酸エステル類等の単量体から誘導さ
れる構成単位を含有する通常500口〜20万0分子量
をもつ共重合体が挙げられる。
The lipophilic polymer compound having a hydroxyl group used in the present invention may be derived from monomers such as acrylamides, methacrylamides, acrylic esters, or methacrylic esters having a hydroxyl group as shown below. Examples include copolymers containing structural units and usually having a molecular weight of 500 to 200,000 units.

(1)  芳香族性水酸基を有するモノマー、例えばN
−(4−ヒドロキシフェニルンアクリルアミ)” 又’
h N −(’−ヒドロキシフェニル〕メタクリルアミ
ド、O−*  m−+  i’−ヒドロキシスチレン、
 o +、  m +、  p−ヒドロキシ7二二ルー
アクリレート又はメタクリレート(2)脂肪族水酸基を
有するモノマー、−例えば2−ヒドロキ7エテルアクリ
レート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート 共重合する他の七ツマ−としては、 (1)  アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等のαβ−不飽和カルボン酸 (2)  アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル
、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸−2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、グリンジルアクリレート、N−ジメチルアミノエ
テルアクリレート等の(置換)アルキルアクリレート (3)  メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、シクロヘキフルメタクリレート
、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、グリタジルメタクリレート、
N−ジメチルアミノエテルメタクリレート等の(置換〕
アルキルメタクリレート (41アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド
、N−エチルアクリルアミド、N−へキシルメタクリル
アミド、N−ンクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒド
ロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルア
ミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル
−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若し
くはメタクリルアミ ド類 (5) エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、フロビ
ルビニルエーテル、フチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエー
テル類(6)  ビニルアセテート、ビニルクロロアセ
テート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニル
エステル類 (7)  スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレン等のスチレン類 (8)  メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類 (9)  エチレン、フロピレン、インブチレン、フタ
ジエン、インプレン等のオレフィン類(至) N−ビニ
ルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピ
リジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等 が挙げられるが、その他、水酸基を含有するモノマーと
共重合しうるモノマーであれば良く、これに限定される
ものではない。また、これ以外にも必要に応じて、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、′天然樹脂等を
添加してもよい。
(1) A monomer having an aromatic hydroxyl group, such as N
-(4-Hydroxyphenylonacrylamide)"
h N-('-hydroxyphenyl]methacrylamide, O-* m-+ i'-hydroxystyrene,
o +, m +, p-hydroxy722acrylate or methacrylate (2) Monomers having aliphatic hydroxyl groups, such as 2-hydroxy7ether acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate Other monomers to be copolymerized include (1) αβ-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, acrylic acid (Substituted) alkyl acrylates such as octyl, 2-chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, grindyl acrylate, N-dimethylaminoether acrylate (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate,
amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, glitadyl methacrylate,
(Substitution) of N-dimethylaminoether methacrylate, etc.
Alkyl methacrylate (41 acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-chlorohexyl acrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, - Acrylamides or methacrylamides such as nitrophenyl acrylamide and N-ethyl-N-phenylacrylamide (5) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, flobyl vinyl ether, phthyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether (6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene (8) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone,
Vinyl ketones such as propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone (9) Olefins such as ethylene, fluoropylene, imbutylene, phthadiene, imprene, etc. N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacryl Examples include nitrile, but any other monomer that can be copolymerized with a hydroxyl group-containing monomer may be used, and the present invention is not limited thereto. In addition to these, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, epoxy resin, novolac resin, natural resin, etc. may be added as necessary.

本発明に用いられる水酸基を有する親油性の高分子化合
物は、感光性組成物の固形分中に通常40〜99xit
%、好ましくは50〜95重量慟含有させる。また、ジ
アゾ樹脂は通常1〜60重量係、好ましくは3〜30重
量俤含有させる。
The lipophilic polymer compound having a hydroxyl group used in the present invention usually contains 40 to 99 xit in the solid content of the photosensitive composition.
%, preferably 50 to 95% by weight. Further, the diazo resin is usually contained in an amount of 1 to 60% by weight, preferably 3 to 30% by weight.

本発明の感光性組成物には、更に性能を向上させるため
に以下に示し九種々の公知の添加剤を加えることができ
る。
In order to further improve the performance of the photosensitive composition of the present invention, the following nine various known additives can be added.

(1)画像を可視画化することを目的とした染料(2)
塗布性を改良するためのフッ素系界面活性剤やアルキル
エーテル類 (3)塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤 C4J  感脂化剤 (5)安定剤 これらの添加量は一般に全固形分に対しα01〜30重
量%である。
(1) Dye for the purpose of visualizing images (2)
Fluorine surfactants and alkyl ethers to improve coating properties (3) Plasticizer C4J to impart flexibility and abrasion resistance to the coating film Sensitizing agent (5) Stabilizer The amount of these additives is Generally, α01 to 30% by weight based on the total solid content.

本発明に係る感光性平版印刷版の現像処理に用いられる
現像液は公知のいずれのものであっても良いが、好まし
くは以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印
刷版を現像する現像液は、水、あるいは特定の有機溶媒
及び/又はアルカリ剤を含む水溶液が挙げられる。ここ
に特定の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき上述
の感光性組成物層の非露光部(非画像部)を溶解又は膨
潤することができ、しかも常温(20℃〕において水に
対する溶解度が10重t%以下の有機溶媒をいう。この
ような有機溶媒としては上記のような特性を有するもの
でありさえすればよく、以下のもののみに限定されるも
のではないが、これらを例示するならば、例、tば酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸
ベンジル、エチレングリコールモツプチルアセテート、
乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボ/酸エス
テル;エチルブチルケトン、メチルインプチルグトン、
7クロヘキサノンのようなケトン類;エチレングリコー
ルモツプチルエーテル、エチレングリコールベンジルエ
ーテル、エチレンクリコールモノフェニルエーテル、フ
ロピレンクリコールモノフェニルエーテル、ベンジルア
ルコール、メチルアミルアルコ−ル、n−7ミルアルコ
ール、メチルアミルアルコールのヨウナアルコール類;
キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレ
ンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロロペ
ンゼシのよりなノ・ロゲン化炭化水素などがある。これ
ら有機溶媒は一種以上用いてもよい。これら有機溶媒の
中でハ、エチレンクリコールモノフェニルエーテルとベ
ンジルアルコールが特に有効である。ま次、これら有機
溶媒の現像液中に訃ける含有fはおおむね1〜20重量
係であり、特に2〜10重量暢のときより好ましい結果
を得る。
The developer used in the development of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention may be any known developer, but the following are preferred. That is, the developer for developing the photosensitive printing plate according to the present invention may be water or an aqueous solution containing a specific organic solvent and/or alkaline agent. Here, the specific organic solvent is one that can dissolve or swell the non-exposed area (non-image area) of the above-mentioned photosensitive composition layer when contained in the developer, and that is soluble in water at room temperature (20°C). Refers to an organic solvent having a solubility of 10% by weight or less in 10% by weight or less.Such organic solvents only need to have the above-mentioned characteristics, and are not limited to the following, but include: Examples include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol motubutyl acetate,
Carbo/acid esters such as butyl lactate, butyl levulinate; ethyl butyl ketone, methyl imptyl ketone,
Ketones such as 7-chlorhexanone; ethylene glycol motuptyl ether, ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methyl amyl alcohol, n-7 methyl alcohol, Methyl amyl alcohol and other alcohols;
These include alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as xylene; and more chlorogenated hydrocarbons such as methylene dichloride, ethylene dichloride, and monochlorobenzene. One or more of these organic solvents may be used. Among these organic solvents, ethylene glycol monophenyl ether and benzyl alcohol are particularly effective. Secondly, the f content of these organic solvents in the developing solution is generally from 1 to 20% by weight, and more preferable results are obtained especially when it is from 2 to 10% by weight.

他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、 体) ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は第
三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機アル
カリ剤 (B)  モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又
はトリエチルアミン、モノ又はジイノプロビルアミン、
n−ブチルアミ/、モノ、ジ又はトリエタノールアミン
、モノ、ジ又はトリインプロパツールアミン、エチレン
イミン、エチレンジアミン等の有機アミン化合物等が挙
げられる。
On the other hand, the alkaline agents contained in the developer include sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium or ammonium salts of dibasic or tertiary phosphoric acid, and metasilicon. Inorganic alkaline agents (B) such as sodium acid, sodium carbonate, ammonia, mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine, mono- or diinoprobylamine,
Examples thereof include organic amine compounds such as n-butylamine/mono-, di-, or triethanolamine, mono-, di-, or tri-impropanolamine, ethyleneimine, and ethylenediamine.

これらアルカリ剤の現像液中における含有量は通常α0
5〜4重量悌で、好ましくはα5〜2重R俤である。
The content of these alkaline agents in the developer is usually α0
5 to 4 weights, preferably α5 to 2 weights.

また、保存安定′性、耐刷性等をよυ以上に高めるため
には、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好
ましい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸の
アルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜
硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜
硫酸マグネシウムなどがめる。これらの亜硫酸塩の現像
液組成物における含有Jlr1通常0,05〜4重量優
で、好ましくは111〜1重量%でおる。
Furthermore, in order to further improve storage stability, printing durability, etc., it is preferable to include a water-soluble sulfite in the developer. Such water-soluble sulfites are preferably alkali or alkaline earth metal salts of sulfite, such as sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, magnesium sulfite, and the like. The Jlr1 content of these sulfites in the developer composition is usually 0.05 to 4% by weight, preferably 111 to 1% by weight.

また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。このよう−な可
溶化剤としては、本発明の所期の効果を実現するため、
用いる有機溶媒よ)水易溶性で、低分子のアルコール、
ケトン類を用いるのがよい。また、アニオン活性剤、両
性活性剤等も用いることができる。このようなアルコー
ル、ケトン類としては、例えばメタノール、エタノール
、プロパツール、フタノール、アセトン、メチルエチル
ケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、メトキンブタノー
ル、エトキシブタノール、4−メトキク−4−メチルブ
タノール、N−メチルピロリドン等を用いることが好ま
しい。また、活性剤としてはfilえばインプロピルナ
フタレンスルホン酸ナトリウム、n−ブチルナフタレン
スルホン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシル
アミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウ
ム塩等が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の可
溶化剤の使用量については特に制限はないが、一般に現
像液全体に対し約50重i1以下とすることが好ましい
Certain solubilizers may also be included to aid in the dissolution of the organic solvents mentioned above in water. In order to achieve the desired effects of the present invention, such solubilizers include:
(organic solvent used) water-soluble, low-molecular alcohol,
It is better to use ketones. Furthermore, anionic activators, amphoteric activators, etc. can also be used. Examples of such alcohols and ketones include methanol, ethanol, propatool, phthanol, acetone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methquinbutanol, ethoxybutanol, and 4-methoxybutanol. , N-methylpyrrolidone, etc. are preferably used. Further, as the activator, sodium inpropylnaphthalenesulfonate, sodium n-butylnaphthalenesulfonate, sodium N-methyl-N-pentadecylaminoacetate, sodium lauryl sulfate, etc. are preferable. There is no particular restriction on the amount of solubilizers such as alcohols and ketones used, but it is generally preferable to use the amount of solubilizing agents such as alcohols and ketones at about 50 weight i1 or less based on the entire developer.

本発明に係る感光性平版印刷版は、像様露光した後、上
述の現像液に接触させたシ、あろいはこすったりすれば
、おおむね常温〜40℃にて10〜60秒後には、感光
性組成物層の露光部に悪影響を及ぼすことなく、非露光
部の感光性゛組成物が完全に除去されることになる。
After the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has been imagewise exposed, if it is brought into contact with the developer described above or rubbed, it becomes photosensitive after 10 to 60 seconds at room temperature to 40°C. The photosensitive composition in the non-exposed areas of the photosensitive composition layer is completely removed without adversely affecting the exposed areas of the photosensitive composition layer.

以下、本発明で使用する砂目、ジアゾ樹脂及びポリマー
O製造例を示す。
Examples of producing grain, diazo resin, and polymer O used in the present invention are shown below.

(砂目の製造) 研皐条件、陽極酸化処理条件の異なる6徨類のアルミニ
ウム板を製造し喪。それらの製造条件を表1に示した。
(Manufacture of sand grains) Manufactured six types of aluminum plates with different grinding and anodizing conditions. Table 1 shows their manufacturing conditions.

なお、すべてのアルミニウム板(厚さα3瓢)は、トリ
クロロエチレン洗浄を行って脱脂した後、研摩、陽極酸
化処理し、その後1%のメタケイ酸ソーダ溶液中に、8
5℃で3分間浸漬してケイ酸ソーダ処理を行い、引続き
90℃の熱水に2分間浸漬・し友。
All aluminum plates (thickness α3) were cleaned with trichlorethylene, degreased, polished, anodized, and then soaked in 1% sodium metasilicate solution.
Sodium silicate treatment was performed by immersing at 5°C for 3 minutes, followed by immersion in hot water at 90°C for 2 minutes.

(ポリマー1の合成) X−(a−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド1[
1口2、アクリロニトリル25?、エチルアクリレート
60f、メタクリル酸5を及びアゾビスイノブチロニト
リル1.642 fをアセトン−メタノール1:1混合
溶媒112dK溶解し、窒素置換した後60℃で8時間
加熱した。
(Synthesis of Polymer 1) X-(a-hydroxyphenyl)methacrylamide 1[
2 for 1 bite, 25 for acrylonitrile? , 60 f of ethyl acrylate, 5 f of methacrylic acid, and 1.642 f of azobisinobutyronitrile were dissolved in 112 dK of acetone-methanol 1:1 mixed solvent, and the mixture was purged with nitrogen and then heated at 60° C. for 8 hours.

反応終了後反応液を水5を中にかくぼん下注ぎ、生じた
白色沈殿をヂ取乾燥してポリマー1を909得た。
After the reaction was completed, the reaction solution was poured into a container containing water 5, and the resulting white precipitate was removed and dried to obtain 909 of Polymer 1.

このボリマーヲケルバーミエ−7ヨンクロマトグラフイ
ー(以下GPOと略記する〕により分子量の測定をした
ところ、重量平均分子量はa5万であった。
When the molecular weight of this polymer was measured by chromatography (hereinafter abbreviated as GPO), the weight average molecular weight was 50,000 a.

(ポリマー2の合成) 2−ヒドロキシエチルメタクリレ−) 45 f。(Synthesis of polymer 2) 2-Hydroxyethyl methacrylate) 45 f.

アクリロニトリル10t、エチルメタクリレ−) 45
 f、 jl’り’Jke、2 ?と1.2foilN
R化ベンゾイルの混合液を、100℃に加熱したエチレ
ングリコールモノメチルエーテル3002に2時間かけ
て滴下し几。滴下終了後エチレングリコールモノメチル
エーテル5ootと過酸化ベンゾイルα3?を加えてそ
のまま4時間反応させた。反応終了後メタノールで希釈
して水5を中にかくはん下注ぎ生じた白色沈殿をP取乾
燥してポリマー2を939得た。
Acrylonitrile 10t, ethyl methacrylate) 45
f, jl'ri'Jke, 2? and 1.2 foilN
The R-benzoyl mixture was added dropwise to ethylene glycol monomethyl ether 3002 heated to 100°C over 2 hours. After dropping, add 5000 ethylene glycol monomethyl ether and benzoyl peroxide α3? was added and allowed to react for 4 hours. After the reaction was completed, the mixture was diluted with methanol, water 5 was poured into the mixture with stirring, and the resulting white precipitate was removed and dried to obtain 939 of Polymer 2.

このポリマーをGPCにより分子量の測定をしたところ
、重量平均分子量は&5万であった。
When the molecular weight of this polymer was measured by GPC, the weight average molecular weight was &50,000.

(ポリマー3の合成) メタクリル酸メチル602、アクリロニトリルS Ot
、メタクリル酸102及びアゾビスインブチロニトリル
1.52をメチルセロソルブ200tに溶解し、窒素を
通じながら80℃において4時間重合させ次。この反応
混合物音5Lの水中に滴下し、生じた白色沈殿をヂ取乾
燥してポリマー3をyap得た。
(Synthesis of Polymer 3) Methyl methacrylate 602, acrylonitrile S Ot
, 102% of methacrylic acid and 1.52% of azobisinbutyronitrile were dissolved in 200t of methyl cellosolve and polymerized for 4 hours at 80°C while passing nitrogen through the solution. This reaction mixture was added dropwise into 5 L of water, and the resulting white precipitate was collected and dried to obtain Polymer 3.

このポリマーをGPCにより分子量の測定をした所、i
−a平均分子量は6万であった。
When the molecular weight of this polymer was measured by GPC, i
-a average molecular weight was 60,000.

(ポリマー4の合成] 2−ヒドロキシエチルメタクリレート45?、アクリロ
ニトリル20t1メチルメタクリレ−)30F、メタク
リル酸5tをポリマー3の合成例と同様な方法で重合さ
せポリマー4を得た。
(Synthesis of Polymer 4) Polymer 4 was obtained by polymerizing 2-hydroxyethyl methacrylate 45?, acrylonitrile 20t, methyl methacrylate) 30F, and methacrylic acid 5t in the same manner as in the synthesis example of polymer 3.

このポリマーをGPOによう分子量の測定をした所、重
量平均分子量は6.3万であった。
When the molecular weight of this polymer was measured using GPO, the weight average molecular weight was 63,000.

(ジアゾ樹脂−1の合成〕 p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5 r(5o
 ミ+)モル)を水冷下で4.0.9Fの濃硫酸に溶解
した。この反応液にt 2 t (40ミIJモル)の
パラホルムアルデヒドをゆっくり滴下した。この際、反
応温度が10℃を超えないように添加していった。その
後、2時間水冷下かくはんを続けた。
(Synthesis of diazo resin-1) p-diazodiphenylamine sulfate 14.5 r (5o
mol) was dissolved in 4.0.9F concentrated sulfuric acid under water cooling. To this reaction solution, t 2 t (40 mmol) of paraformaldehyde was slowly added dropwise. At this time, the addition was carried out so that the reaction temperature did not exceed 10°C. Thereafter, stirring was continued for 2 hours under water cooling.

この反応混合物を水冷下、500dのエタノールに滴下
し、生じた沈殿?濾過した。エタノールで洗浄後、この
沈殿物を100−の純水に溶解し、この液に6.8tの
塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿
を濾過した後エタノールで洗浄し、これを150W1t
の純水に溶解した。この液に82のへキサフルオロリン
酸アンモニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じ
た沈殿を戸数し水洗した後、50℃、1昼夜乾燥してジ
アゾ樹脂−1を得た。
This reaction mixture was dropped into 500 d of ethanol under water cooling, and a precipitate was formed. Filtered. After washing with ethanol, this precipitate was dissolved in 100-m pure water, and to this solution was added a cold concentrated aqueous solution in which 6.8 t of zinc chloride was dissolved. The resulting precipitate was filtered, washed with ethanol, and washed with 150W1t.
was dissolved in pure water. To this liquid was added a cold concentrated aqueous solution in which 82 ammonium hexafluorophosphate was dissolved. The resulting precipitate was washed with water and then dried at 50° C. for 1 day to obtain diazo resin-1.

このジアゾ樹脂−1をGPOにより分子量の測定をした
ところ、5量体以上が約35モル係官まれていた。
When the molecular weight of this diazo resin-1 was measured by GPO, it was found that about 35 moles of pentamer or more were involved.

(ジアゾ樹脂−2の合成) ジアゾ樹脂−1と同様にして合成し、最後のへキサフル
オロリン酸アンモニウムの代シに2−ヒドロキシ−4−
メトキシ−ベンゾフェノン−5−スルホン酸152を溶
解した水溶液で処理しジアゾ樹脂−2を得た。
(Synthesis of diazo resin-2) Synthesis was performed in the same manner as diazo resin-1, and 2-hydroxy-4-
Diazo resin-2 was obtained by treatment with an aqueous solution in which methoxy-benzophenone-5-sulfonic acid 152 was dissolved.

このジアゾ樹脂−2をGPCにより測定したところ、5
量体以上が約52モル11れていた。
When this diazo resin-2 was measured by GPC, it was found that 5
There were about 52 moles of 11 moles or more.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
The invention is not limited to these examples.

実施例1〜3、比較例1〜6 前記のようにして得たアルミニウム板に表2に示した組
成の感光液をホワラーを用いて塗布し、850%3分間
乾燥した。表3に示す感光性平版印刷版を得た。
Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 to 6 A photosensitive solution having the composition shown in Table 2 was applied to the aluminum plate obtained as described above using a whirler, and dried at 850% for 3 minutes. A photosensitive lithographic printing plate shown in Table 3 was obtained.

表2  感光液処方 表3 感光性平版印刷版 得られた感光性平版印刷版を5 KW の超高圧水銀灯
で60℃Mの距離から30秒間露光したのち、下記の現
像液を用いて、25℃、45秒現像して、平版印刷版を
得た。
Table 2 Photosensitive solution prescription table 3 Photosensitive planographic printing plate The obtained photosensitive planographic printing plate was exposed for 30 seconds from a distance of 60°C with a 5 KW ultra-high pressure mercury lamp, and then heated at 25°C using the following developer. , and was developed for 45 seconds to obtain a lithographic printing plate.

現像液 ベンジルアルコール      509トリエタノール
アミン      152亜硫酸ソーダ       
   5タツチルナフタレンスルホン酸ンーダ    
25 ?水                   1
000F得られた平版印刷版を枚葉オフセット印刷機で
上質紙に印刷し、耐刷力及び印刷汚れのテストを行った
。結果を表4に示す。
Developer Benzyl Alcohol 509 Triethanolamine 152 Sodium Sulfite
5 Tatsutilnaphthalene sulfonate
25? water 1
The obtained lithographic printing plate 000F was printed on high-quality paper using a sheet-fed offset printing machine, and tests for printing durability and printing stain were conducted. The results are shown in Table 4.

表4 耐刷カテスト及び汚れテスト 畳 印刷機 ハマダスターODX 900(浜田製作新
製〕 ■ 汚れテストに、22℃、相対湿度62%の印刷室に
て標準条件で印刷中の一定の時点で湿し水の供給を20
%カットして印刷を行い、汚れのない印刷紙が得らnる
枚数を示した。
Table 4 Printing durability test and stain test Tatami printing machine Hamada Star ODX 900 (newly manufactured by Hamada Seisaku) ■ For the stain test, dampening was carried out at a certain point during printing under standard conditions in a printing room at 22°C and 62% relative humidity. 20 water supply
% cut and printed, and the number of sheets of clean printed paper obtained is shown.

表4から本発明の印刷版が高耐刷性能を有し、かつ印刷
時地汚れの生じ難い印刷版であることがわかる。
Table 4 shows that the printing plate of the present invention has high printing durability and is less likely to cause background staining during printing.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、表面を液体ホーニングにより砂目立てした後、リン
酸(塩)又はリン酸(塩)を主成分とする電解液中で陽
極酸化処理して得られるアルミニウム板上に、ジアゾ樹
脂と水酸基を有する親油性高分子化合物とを主成分とす
る感光性組成物を塗設したものであることを特徴とする
感光性平版印刷版。 2、該高分子化合物が、水酸基を有するアクリルアミド
類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類及びメ
タクリル酸エステル類よりなる群から選択した単量体か
ら誘導される構成単位を含有する高分子化合物である特
許請求の範囲第1項記載の感光性平版印刷版。 3、該ジアゾ樹脂が、置換又は非置換のp−ジアゾジフ
ェニルアミンとアルデヒド類との縮合物であつて、アニ
オンがPF_6又はBF_4である特許請求の範囲第1
項記載の感光性平版印刷版。 4 該ジアゾ樹脂が、下記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 (式中、R^1、R^2及びR^3は水素、アルキル基
又はアルコキシ基を示し、Rは水素、アルキル基又はフ
ェニル基を示し、XはPF_6又はBF_4を示し、n
は1〜200数を示す)で表され、かつ該式におけるn
が5以上の樹脂を20モル%以上含有するものである特
許請求の範囲第1項記載の感光性平版印刷版。
[Claims] 1. On an aluminum plate obtained by graining the surface by liquid honing and then anodizing in phosphoric acid (salt) or an electrolytic solution containing phosphoric acid (salt) as the main component, 1. A photosensitive planographic printing plate coated with a photosensitive composition containing a diazo resin and a lipophilic polymer compound having a hydroxyl group as main components. 2. The polymer compound is a polymer compound containing a structural unit derived from a monomer selected from the group consisting of hydroxyl group-containing acrylamides, methacrylamides, acrylic esters, and methacrylic esters. A photosensitive lithographic printing plate according to claim 1. 3. Claim 1, wherein the diazo resin is a condensate of substituted or unsubstituted p-diazodiphenylamine and aldehydes, and the anion is PF_6 or BF_4.
The photosensitive lithographic printing plate described in Section 1. 4 The diazo resin has the following general formula I: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼... [I] (In the formula, R^1, R^2, and R^3 are hydrogen, an alkyl group, or an alkoxy group. , R represents hydrogen, an alkyl group, or a phenyl group, X represents PF_6 or BF_4, and n
represents a number from 1 to 200), and n in the formula
2. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, which contains 20 mol% or more of a resin having 5 or more.
JP21096185A 1985-09-26 1985-09-26 Photosensitive lithographic printing plate Pending JPS6271960A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21096185A JPS6271960A (en) 1985-09-26 1985-09-26 Photosensitive lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21096185A JPS6271960A (en) 1985-09-26 1985-09-26 Photosensitive lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6271960A true JPS6271960A (en) 1987-04-02

Family

ID=16597975

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21096185A Pending JPS6271960A (en) 1985-09-26 1985-09-26 Photosensitive lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6271960A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0313163A (en) * 1989-06-12 1991-01-22 Ricoh Co Ltd Facsimile equipment

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0313163A (en) * 1989-06-12 1991-01-22 Ricoh Co Ltd Facsimile equipment

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0782236B2 (en) Photosensitive composition
JP2652095B2 (en) Photosensitive composition
JPS6271961A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP2639732B2 (en) Photosensitive composition
JPH042943B2 (en)
JPS6271960A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP4138990B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH01223445A (en) Photosensitive composition
JPS6336491B2 (en)
JP3838599B2 (en) Photosensitive composition and method for producing lithographic printing plate using the same
JP2522694B2 (en) Photosensitive composition
JP2596005B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP2994788B2 (en) Alkali development type photosensitive composition
JPS60217356A (en) Photosensitive composition
JPS61284759A (en) Photosensitive composition for negative type lithographic plate
JPH0561191A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPS6259947A (en) Photosensitive composition
JP2571354B2 (en) Photosensitive composition
JPS63259657A (en) Photosensitive composition
JP2944734B2 (en) Photosensitive layer for lithographic printing plate
JPH0153450B2 (en)
JPH0773953B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPS6295533A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPS61117548A (en) Photosensitive lithographic plate
JPS62133451A (en) Photosensitive composition and photosensitive lithographic plate material