JPS62133451A - Photosensitive composition and photosensitive lithographic plate material - Google Patents
Photosensitive composition and photosensitive lithographic plate materialInfo
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- JPS62133451A JPS62133451A JP27289685A JP27289685A JPS62133451A JP S62133451 A JPS62133451 A JP S62133451A JP 27289685 A JP27289685 A JP 27289685A JP 27289685 A JP27289685 A JP 27289685A JP S62133451 A JPS62133451 A JP S62133451A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はジアゾ感光性組成物及びその印刷版材料に関し
、更に詳しくはオフセット版、凸版及びグラビア版など
の製造に用いる支持体に塗布するネガ型ジアゾ感光性組
成物及びその印刷版材料に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a diazo photosensitive composition and a printing plate material thereof, and more particularly, to a diazo photosensitive composition and a printing plate material thereof. The present invention relates to a type diazo photosensitive composition and its printing plate material.
従来、感光性物質を支持体上に薄膜塗布して得られた感
光板に透明画を通して露光し、露光部分と未露光部分と
に溶解性の差異を生じさせ、適当な溶剤で現像し、感光
板上にレリーフ像を形成させる技術は種々搗案されてい
る。従来、このような目的のため使用される感光性組成
物としては、ジアゾ化合物と高分子化合物との組合わせ
がネガ型平版印刷版の場合にはよく知られている。Conventionally, a photosensitive plate obtained by coating a thin film of a photosensitive substance on a support is exposed to light through a transparent image to create a difference in solubility between exposed and unexposed areas, and then developed with an appropriate solvent and exposed to light. Various techniques have been devised for forming relief images on plates. Conventionally, as a photosensitive composition used for such a purpose, a combination of a diazo compound and a polymer compound is well known in the case of a negative planographic printing plate.
更に、ジアゾ化合物と組合わせて用いられる高分子化合
物としては、その分子中に水酸基、アミノ基、シアノ基
、ウレタン基等の官能基を有する高分子化合物が有効で
あり、例えば、特公昭57−43890号公報に記載さ
れた高分子構造中にフェノール性水酸基、例えば、p−
ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド等を有する
高分子化合物、特公昭52−7364号公報、特公昭5
5−34929号公報に記載された2−オキジアルキル
(メタ)アクリレートモノマーを含む高分子化合物やジ
アゾ化合物と2−オキジアルキル(メタ)アクリレート
モノマー及びアクリロニトリルモノマーを含む高分子化
合物等のアルコール性水酸基を有する構造単位を有する
高分子化合物等が知られている。Furthermore, as a polymer compound used in combination with a diazo compound, a polymer compound having a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, a cyano group, or a urethane group in its molecule is effective. Phenolic hydroxyl group, for example, p-
Polymer compound containing hydroxyphenyl (meth)acrylamide, etc., Japanese Patent Publication No. 7364/1986, Japanese Patent Publication No. 52-7364, Japanese Patent Publication No. 52-7364
Alcoholic hydroxyl groups of polymer compounds containing 2-oxydialkyl (meth)acrylate monomers and diazo compounds and polymer compounds containing 2-oxydialkyl (meth)acrylate monomers and acrylonitrile monomers described in JP 5-34929. Polymer compounds having a structural unit having this structure are known.
しかしながら、ジアゾ化合物と組合わせて使用されてい
るこれらの高分子化合物を含む感光性組成物は、金属板
、例えばアルミニウム板に塗設され、平版印刷版材料と
して供される場合、水酸基としてフェノール性水酸基の
みを有する高分子化合物を使用すると、芳香族環特有の
レジストの強さ、すなわち耐刷力の向上、印刷インキの
親和力の強さ、種々の印刷処理薬品に対するレジストの
強さ等は達成されるものの、現像液に対する溶解性の悪
さのため、現像不良を引き越しやすいという欠点がある
。特に製版工程の省力化の1つである迅速現像処理にお
いて、その欠点が大きな弊害となっていた。However, when a photosensitive composition containing these polymer compounds used in combination with a diazo compound is coated on a metal plate, such as an aluminum plate, and used as a lithographic printing plate material, the photosensitive composition contains phenolic groups as hydroxyl groups. If a polymer compound containing only hydroxyl groups is used, the resist strength unique to aromatic rings, such as improved printing durability, strong affinity for printing inks, and resist strength against various printing processing chemicals, cannot be achieved. However, due to poor solubility in the developer, it has the disadvantage of easily carrying over development defects. In particular, this drawback has been a major problem in rapid development processing, which is one of the labor-saving measures in the plate-making process.
一方、アルコール性水酸基のみを有する高分子化合物を
使用した場合には現像性は良いものの、物理的強度不良
による傷の付き易さ、衝撃力に対する弱さのため特にオ
フ輸等の高速印刷における耐刷不良、さら−に印刷での
処理薬品に対するレジストの侵食、又インキへの親和力
の乏しさのため印刷スタート時における着肉の不良等が
問題になる。On the other hand, when a polymer compound having only alcoholic hydroxyl groups is used, although the developability is good, it is easily scratched due to poor physical strength and is weak against impact force, so it is particularly resistant to high-speed printing such as off-the-shelf export. Problems include poor printing, erosion of the resist by processing chemicals during printing, and poor inking at the start of printing due to poor affinity for ink.
そこで本発明の目的は、支持体上に塗設して感光性平版
印刷版材料として用いた場合、印刷インキの舎内がよく
、特に印刷の初期においてガム除去の悪さゆえにおこる
インキ着肉不良がなく、かつ、現像性が良好で迅速現像
等で汚れがな(、かつ耐刷力の良好な感光性平版印刷版
材料を提供することにある。Therefore, the object of the present invention is to prevent poor ink adhesion caused by poor gum removal especially in the early stages of printing when the printing ink is coated on a support and used as a photosensitive lithographic printing plate material. The object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate material which has good developability, rapid development, etc., is free from stains, and has good printing durability.
また、本発明の他の目的は支持体上に塗設して感光性平
版印刷版材料として用いた場合、種々の処理薬品に対し
て抵抗性の高い感光性平版印刷版材料を提供することに
ある。Another object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate material that is highly resistant to various processing chemicals when coated on a support and used as a photosensitive lithographic printing plate material. be.
更に本発明の他の目的は、露光可視画性(焼き出し画像
)の良好な感光性組成物を提供することにある。Still another object of the present invention is to provide a photosensitive composition with good exposure visible image properties (printed images).
本発明者等は上記諸口的を達成すべく鋭意研究を重ねた
結果、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基を特定
の範囲で含む場合に極めて良好な性能を発揮することを
見い出し、本発明に至ったものである。As a result of extensive research to achieve the above objectives, the present inventors discovered that extremely good performance is achieved when phenolic hydroxyl groups and alcoholic hydroxyl groups are contained within a specific range, leading to the present invention. It is something.
即ち本発明に係る感光性組成物はりアゾ化合物及び高分
子化合物を含有する感光性組成物において、該高分子化
合物が、その分子構造中にフェノール性水酸基を有する
モノマー単位を6〜40モル%、およびアルコール性水
酸基を有するモノマー単位を6〜60モル%、および側
鎖にシアノ基を有するモノマー単位を含有することを特
徴とする。That is, in the photosensitive composition according to the present invention, which contains an azo compound and a polymer compound, the polymer compound contains 6 to 40 mol% of monomer units having a phenolic hydroxyl group in its molecular structure. It is characterized by containing 6 to 60 mol% of monomer units having alcoholic hydroxyl groups and monomer units having cyano groups in side chains.
また本発蝉に係る感光性平版印刷版材料は支持体上に、
ジアゾ化合物及び高分子化合物を主成分とする感光層を
設けてなる感光性平版印刷版材料において、該高分子化
合物が、その分子構造中にフェノール性水酸基を有する
モノマー単位を6〜40モル%、およびアルコール性水
酸基を有するモノマー単位を6〜60モル%、および側
鎖にシアノ基を有するモノマー単位を含有することを特
徴とする。In addition, the photosensitive lithographic printing plate material related to this cicada is on a support,
In a photosensitive lithographic printing plate material provided with a photosensitive layer containing a diazo compound and a polymer compound as main components, the polymer compound contains 6 to 40 mol% of monomer units having a phenolic hydroxyl group in its molecular structure, It is characterized by containing 6 to 60 mol% of monomer units having alcoholic hydroxyl groups and monomer units having cyano groups in side chains.
以下、本発明について詳述する。The present invention will be explained in detail below.
本発明に用いられる高分子化合物を構成するフェノール
性水酸基を有するモノマーとしては、例えばN−(4−
ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリルアミド、N−
(2−ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリルアミド
、N−(4−ヒドロキシナフチル)−(メタ)アクリル
アミド等の(メタ)アクリルアミド類のモノマー:0−
1Ill−又はp−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリ
レートモノマー:0−lm−又はp−ヒドロキシスチレ
ンモノマー等が挙げられる。好ましくは、0−11−又
はp−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートモノマ
ー、N−(4−ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリ
ルアミドモノマーであり、さらに好ましくはN−(4−
ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリルアミドモノマ
ーである。Examples of the monomer having a phenolic hydroxyl group constituting the polymer compound used in the present invention include N-(4-
Hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide, N-
Monomers of (meth)acrylamides such as (2-hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide and N-(4-hydroxynaphthyl)-(meth)acrylamide: 0-
1Ill- or p-hydroxyphenyl (meth)acrylate monomers: 0-lm- or p-hydroxystyrene monomers and the like. Preferably they are 0-11- or p-hydroxyphenyl (meth)acrylate monomers, N-(4-hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide monomers, and more preferably N-(4-
Hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide monomer.
フェノール性水酸基を有するモノマーがその高分子化合
物の分子中に含有する割合は、従来公知の含量に比べ、
比較的少量が好ましく、その含量は6〜40モル%、好
ましくは6〜30モル%、さらに好ましくは6〜15モ
ル%である。The proportion of the monomer having a phenolic hydroxyl group in the molecule of the polymer compound is, compared to the conventionally known content,
A relatively small amount is preferred, the content being 6 to 40 mol%, preferably 6 to 30 mol%, more preferably 6 to 15 mol%.
アルコール性水酸基を有するモノマーの具体例としては
、特公昭52−7364号公報に記載されたような下記
一般式CI)に示した化合物のごとく(メタ)アクリル
酸エステル類や、アクリルアミド類が挙げられる。Specific examples of monomers having an alcoholic hydroxyl group include (meth)acrylic acid esters and acrylamides such as the compounds shown in the following general formula CI) as described in Japanese Patent Publication No. 52-7364. .
式中、R1は水素原子又はメチル基、R8は水素原子、
メチル基、エチル基又はクロロメチル基、そしてnは1
〜10の整数を示す。In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group, R8 is a hydrogen atom,
Methyl group, ethyl group or chloromethyl group, and n is 1
Indicates an integer between ~10.
(メタ)アクリル酸エステル類の例としては、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシペンチル
(メタ)アクリレート等が、また、アクリルアミド類の
例としてはN−メチロール(メタ)アクリルアミド、N
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等が挙げら
れる。好ましくは2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートである。Examples of (meth)acrylic acid esters include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxypentyl (meth)acrylate, and examples of acrylamides include N -Methylol (meth)acrylamide, N
-Hydroxyethyl (meth)acrylamide and the like. Preferably it is 2-hydroxyethyl (meth)acrylate.
該アルコール性水酸基を有するモノマーがその高分子化
合物の分子中に含有する割合は6〜60モル%で、より
好ましくは15〜60モル%であり、フェノール性水酸
基の含量に比較し、多口に含有することが好ましい。The proportion of the monomer having an alcoholic hydroxyl group in the molecule of the polymer compound is 6 to 60 mol%, more preferably 15 to 60 mol%. It is preferable to contain.
一方、本発明に用いられる高分子化合物を構成する側鎖
にシアノ基を有するモノマーとしては、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、2−ペンテンニトリル、2−
メチル−3−ブテンニトリル、2−シアノエチルアクリ
レート、O+、l−1p−シアノスチレン等が挙げられ
る。好ましくはアクリロニトリル、メタクリロニトリル
である。On the other hand, examples of monomers having a cyano group in the side chain constituting the polymer compound used in the present invention include acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-
Examples include methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, O+, l-1p-cyanostyrene, and the like. Preferred are acrylonitrile and methacrylonitrile.
該側鎖にシアノ基を有するモノマーのその高分子化合物
の分子中に含有する割合は1〜40モル%、好ましくは
10〜30モル%である。The proportion of the monomer having a cyano group in the side chain in the molecule of the polymer compound is 1 to 40 mol%, preferably 10 to 30 mol%.
これらフェノール性水酸基を有するモノマー及びアルコ
ール性水酸基を有するモノマー及び側鎖にシアノ基を有
するモノマーは他のモノマーと共重合させて用いること
ら有効である。共重合するモノマーとしては
(1)(メタ)アクリル酸、イタコン酸及びその無水物
、マレイン酸及びその無水物、りaトン酸等の側鎖にカ
ルボキシル基を有するモノマー、好ましくはメタアクリ
ル酸、アクリル酸である。These monomers having a phenolic hydroxyl group, monomers having an alcoholic hydroxyl group, and monomers having a cyano group in the side chain are effective when copolymerized with other monomers. Monomers to be copolymerized include (1) monomers having a carboxyl group in the side chain such as (meth)acrylic acid, itaconic acid and its anhydride, maleic acid and its anhydride, and phosphoric acid, preferably methacrylic acid; It is acrylic acid.
(2)メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)ア
クリレート、α−エチルアクリル酸メチル、α−エチル
アクリル酸エチル、n−プロピル(メタ)アクリレート
、l−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メ
タ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、
t−ブチル(メタ)アクリレート、8−ブチル(メタ)
アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、i
−ペンチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ
)アクリレート、t−ヘキシル(メタ)アクリレート、
ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アク
リレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ
)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ド
デシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。好ましく
はメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリ
レートである。更に好ましくはエチルアクリレートであ
る。(2) Methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, methyl α-ethyl acrylate, ethyl α-ethyl acrylate, n-propyl (meth)acrylate, l-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, ) acrylate, i-butyl (meth)acrylate,
t-Butyl (meth)acrylate, 8-butyl (meth)
Acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, i
-pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, t-hexyl (meth)acrylate,
Examples include heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, and dodecyl (meth)acrylate. Preferred are methyl (meth)acrylate and ethyl (meth)acrylate. More preferred is ethyl acrylate.
(3)(メタ)アクリルアミド、N−エチルアクリルア
ミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアク
リルアミド等の(メタ)アクリルアミド類
(4)プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル
、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等
のビニルエーテル類
(5)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類
(6)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン
、クロロメチルスチレン等のスチレン類(7)メチルビ
ニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケト
ン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類
(8)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェ
ン、イソプレン等のオレフィン類、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン等
が挙げられるが、その他としては、アルコール性および
フェノール性水酸基を有するモノマー及び側鎖にシアノ
基を有するモノマーと共重合し得るモノマーであればよ
い。(3) (Meth)acrylamides such as (meth)acrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-phenylacrylamide, etc. (4) Vinyl ethers such as propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, etc. (5) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate (6) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene (7) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, Vinyl ketones such as propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone (8) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, etc. may be any monomer that can be copolymerized with a monomer having alcoholic and phenolic hydroxyl groups and a monomer having a cyano group in the side chain.
本発明組成物中の高分子化合物を合成する方法としては
、一般に公知のラジカル重合法等によって、例えばアゾ
ビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド等の
開始剤(0,1〜4゜0モル%)を使用して溶液重合法
によって容易に合成される。As a method for synthesizing the polymer compound in the composition of the present invention, a generally known radical polymerization method or the like may be used, for example, using an initiator such as azobisisobutyronitrile or benzoyl peroxide (0.1 to 4.0 mol %). ) is easily synthesized by solution polymerization method.
該高分子化合物の分子量としては、一般に公知のゲルパ
ーミェーションクロマトグラフ法(GPC法)による標
準ポリスチレン比較分子量にして、重量平均分子量が5
.00X 103〜2.0OX 10’が好ましく、更
に好ましくは1.00X 10’〜8.00X 10’
、特に好ましくは1.50X 1G’〜5.90X 1
G’であり、比較的低分子量であることが好ましい。The molecular weight of the polymer compound is a weight average molecular weight of 5, based on a standard polystyrene comparison molecular weight determined by the generally known gel permeation chromatography method (GPC method).
.. 00X 103 to 2.0OX 10' is preferable, and more preferably 1.00X 10' to 8.00X 10'
, particularly preferably 1.50X 1G' to 5.90X 1
G' and preferably has a relatively low molecular weight.
他方、その分子量分散比(重量平均分子m M wを数
平均分子ffi M nで除去した値M w/ M n
を表す。On the other hand, its molecular weight dispersion ratio (the value obtained by removing the weight average molecule m M w by the number average molecule ffi M n
represents.
以下分散比と略す)は5.0以下が好ましく、更に好ま
しくは4.0以下である。The dispersion ratio (hereinafter abbreviated as dispersion ratio) is preferably 5.0 or less, more preferably 4.0 or less.
該高分子化合物の感光性組成物に対する含量は、全組成
物に対して30〜99重量%、好ましくは40〜97重
量%である。The content of the polymer compound in the photosensitive composition is 30 to 99% by weight, preferably 40 to 97% by weight, based on the total composition.
本発明に用いられる感光性ジアゾ化合物は、芳香族ジア
ゾニウム塩と例えば活性カルボニル含有化合物、殊にホ
ルムアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂が含
まれ、その中で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂が好ましい
。The photosensitive diazo compounds used in the present invention include diazo resins represented by condensates of aromatic diazonium salts and, for example, active carbonyl-containing compounds, especially formaldehyde, and among these, organic solvent-soluble diazo resins are preferred. .
ジアゾ樹脂としては、例えばp−ジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドの縮合物と
、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩と
の有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩、
また米国特許3.300゜309号明細書に記載されて
いるような、前記縮合物とスルホン酸類例えばパラトル
エンスルホン酸又はその塩、ホスフィン酸類例えばベン
ゼンホスフィン酸又はその塩、ヒドロキシル基含有化合
物例えば2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン
酸又はその塩等の反応生成物である有機溶媒可溶性ジア
ゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。Examples of the diazo resin include diazo resin inorganic salts which are organic solvent-soluble reaction products of a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde or acetaldehyde, and hexafluorophosphate or tetrafluoroborate;
Further, as described in U.S. Pat. Examples include organic solvent-soluble diazo resin organic acid salts which are reaction products such as 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, or salts thereof.
好ましい例としては、下記一般式■で表され、かつ鎖式
におけるnが5以上である樹脂を20モル%以上、好ま
しくは20〜60モル%を含有するものである。A preferred example is one containing 20 mol % or more, preferably 20 to 60 mol %, of a resin represented by the following general formula (1), where n in the chain formula is 5 or more.
式中、R3、R4及びR8は水素原子、アルキル基(例
えばメチル基、エチル基等)又はアルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基等)を示し、R’は水素原子、
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基若しくはプロ
ピル基等)、又はフェニル基を示し、Xは PF、
又は BF、 を示し、nは1〜200の数を示す。In the formula, R3, R4 and R8 represent a hydrogen atom, an alkyl group (e.g. methyl group, ethyl group, etc.) or an alkoxy group (e.g. methoxy group, ethoxy group, etc.), and R' is a hydrogen atom,
represents an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.) or a phenyl group, and X is PF,
or BF, and n represents a number from 1 to 200.
本発明に係る感光性組成物中のジアゾ樹脂の含有量は、
好′ましくは1〜70重量%、更に好ましくは3〜60
重量%である。The content of diazo resin in the photosensitive composition according to the present invention is
Preferably 1 to 70% by weight, more preferably 3 to 60% by weight
Weight%.
本発明の感光性組成物(こは、以上に説明した各素材の
ほか、必要に応じて更に染料、顔料、塗布性向上剤、可
塑剤などを添加することができる。In addition to the above-mentioned materials, dyes, pigments, coating properties improvers, plasticizers, etc. can be added to the photosensitive composition of the present invention, if necessary.
前記の染料としては、例えばビクトリアピュアーブルー
BOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#603(オ
リエント化学社製)、パテントピュアーブルー(住友三
国化学社製)、クリスタルバイオレット、ブリリアント
グリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、エリ
スロシンB、ペイシックフクシン、マラカイトグリーン
、オイルレッド、m−クレゾールパープル、ローダミン
B1オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ノナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニル
アセトアニリド、等に代表されるトリフェニルメタン系
、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンチン系、
イミノナフトキノン系、アゾメチン系又はアントラキノ
ン系の色素が挙げられる。Examples of the dyes include Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Oil Blue #603 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (manufactured by Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.), Crystal Violet, Brilliant Green, Ethyl Violet, Triphenylmethane represented by methyl green, erythrosin B, pesic fuchsin, malachite green, oil red, m-cresol purple, rhodamine B1 auramine, 4-p-diethylaminophenylimino naphthoquinone, cyano-p-diethylaminophenyl acetanilide, etc. type, diphenylmethane type, oxazine type, xanthine type,
Examples include iminonaphthoquinone-based, azomethine-based, and anthraquinone-based dyes.
染料は、感光性組成物中に通常約0.5〜約lO重量%
、好ましくは約1〜5重量%含有させる。The dye is usually present in the photosensitive composition in an amount of about 0.5% to about 10% by weight.
, preferably about 1 to 5% by weight.
塗布性向上剤としては、アルキルエーテル類(例えばエ
チルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界面活
性剤類や、ノニオン系界面活性剤〔例えば、プルロニッ
クL−64(旭電化社製)〕か挙げられ、塗膜の柔軟性
、耐摩耗性を賦与するための可塑剤としては、例えばブ
チルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル
酸のオリゴマーが挙げられ、画像部の感脂性を向上させ
るための感脂化剤としては例えば、特開昭55−527
号公報記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアル
コールによるハーフェステル化物等が挙げられ、安定剤
としては例えば、ポリアクリル酸、酒石酸、リン酸、亜
リン酸、有機酸(アクリル酸、メタクリル酸、クエン酸
、シュウ酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン
酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5
−スルホン酸等)等が挙げられる。これらの添加剤の添
加量はその使用対象目的によって異なるが、一般に全固
形分に対して、o、oi〜30重量%である。Examples of coating property improvers include alkyl ethers (e.g., ethyl cellulose, methyl cellulose), fluorine-based surfactants, and nonionic surfactants (e.g., Pluronic L-64 (manufactured by Asahi Denka)). Examples of plasticizers for imparting flexibility and wear resistance include butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, and tributyl phosphate. , trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, and oligomers of acrylic acid or methacrylic acid. Examples of the oil-sensitizing agent for improving the oil-sensitivity of the image area include JP-A-55-527.
Examples of stabilizers include polyacrylic acid, tartaric acid, phosphoric acid, phosphorous acid, organic acids (acrylic acid, methacrylic acid, Citric acid, oxalic acid, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone-5
-sulfonic acid, etc.). The amount of these additives added varies depending on the purpose for which they are used, but is generally between o and oi and 30% by weight based on the total solid content.
本発明の感光性組成物を、上記各成分を溶解する溶媒に
溶解させ、これを支持体表面に塗布乾燥させることによ
り例えば感光性平版印刷版材料、又はフォトレジスト(
例えば樹脂凸版材料、プリント配線基板等用)を形成す
ることができる。The photosensitive composition of the present invention is dissolved in a solvent that dissolves each of the above-mentioned components, and by coating and drying it on the surface of a support, for example, a photosensitive lithographic printing plate material or a photoresist (
For example, resin letterpress materials, printed wiring boards, etc.) can be formed.
本発明は感光性組成物自体にも特徴を有するが、同時に
その感光性組成物を用いて得られる平版印刷版材料にも
特徴を有する。The present invention is characterized not only by the photosensitive composition itself, but also by the lithographic printing plate material obtained using the photosensitive composition.
以下本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版材料を得
る場合について説明する。The case where a lithographic printing plate material is obtained using the photosensitive composition of the present invention will be described below.
使用し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブアセテート等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、シ
クロヘキサノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケ
トン等が挙げられる。これら溶媒は、単独であるいは2
種以上混合して使用する。Examples of solvents that can be used include cellosolves such as methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, and ethyl cellosolve acetate, dimethyl formamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, acetone, cyclohexanone, trichloroethylene, and methyl ethyl ketone. These solvents may be used alone or in combination.
Use by mixing more than one species.
塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である
。塗布量は用途により異なるが、感光性平版印刷版材料
については固形分として0.2〜109/m”が好まし
い。As the coating method, conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, and curtain coating can be used. The coating amount varies depending on the application, but for photosensitive lithographic printing plate materials, the solid content is preferably 0.2 to 109/m''.
本発明の感光性組成物を用いた感光性平版印刷版材料に
おいて、支持体は、アルミニウム、亜鉛、鋼、綱等の金
属板、及びクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム
及び鉄等がめっき又は蒸着された金属板、紙、プラスチ
ックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、アル
ミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理したプラ
スデックフィルム等が挙げられる。このうち好ましいの
はアルミニウム板である。感光性平版印刷版材料の支持
体としてアルミニウム板を使用する場合、砂目室て処理
、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処理
が施されていることが好ましい。In the photosensitive lithographic printing plate material using the photosensitive composition of the present invention, the support may be a metal plate such as aluminum, zinc, steel, or steel, or plated or plated with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, etc. Examples include vapor-deposited metal plates, paper, plastic films, glass plates, resin-coated paper, paper covered with metal foil such as aluminum, and hydrophilic-treated PlusDeck film. Among these, aluminum plates are preferred. When an aluminum plate is used as a support for a photosensitive lithographic printing plate material, it is preferably subjected to surface treatments such as grain treatment, anodization treatment, and if necessary, pore sealing treatment.
これらの処理に;よ公知の方法を適用することができる
。Well-known methods can be applied to these treatments.
砂目立て処理の方法としては、例えば機械的方法、電解
によりエツチングする方法が挙げられる。Examples of the graining treatment include a mechanical method and an electrolytic etching method.
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独あるいは組み合わせて用いることができる。Examples of mechanical methods include ball polishing, brush polishing, liquid honing, and puff polishing. The various methods described above can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum material.
電解エツチングは、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機
の酸を単独ないし2W以上混合した浴で行われる。Electrolytic etching is carried out in a bath containing inorganic acids such as phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, etc. alone or in a mixture of 2 W or more.
砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の
水溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗する
。After the graining process, desmutting is performed using an alkali or acid aqueous solution as necessary to neutralize the material, followed by washing with water.
陽極酸化処理は、電解液としては、硫酸、クロム酸、シ
ュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種または2種以上含む
溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して行わ
れる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50 m9/
da”が適当であり、好ましくは10〜40 ta9/
da”であり、特に好ましくは25〜40 m9/
da”である。陽極酸化皮膜量は、例えばアルミニウム
板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35m(2
,酸化クロム(Vl):20yを172の水に溶解して
作製)に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後
の重量変化測定等から求められる。The anodic oxidation treatment is carried out by using an electrolytic solution containing one or more of sulfuric acid, chromic acid, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid, etc., and using an aluminum plate as an anode. The amount of anodic oxide film formed is 1 to 50 m9/
da” is appropriate, preferably 10 to 40 ta9/
da”, particularly preferably 25 to 40 m9/
The amount of anodized film is, for example, an aluminum plate coated with a phosphoric acid chromic acid solution (phosphoric acid 85% solution: 35 m (2
, chromium oxide (Vl): 20y dissolved in 172 water) to dissolve the oxide film, and it is determined by measuring the change in weight of the plate before and after the film is dissolved.
封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処
理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられ
る。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高
分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液に
よる下引き処理を施すこともできる。Specific examples of the sealing treatment include boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, and dichromate aqueous solution treatment. In addition, the aluminum plate support may be subjected to subbing treatment using an aqueous solution of a water-soluble polymer compound or a metal salt such as fluorinated zirconate.
その他、一般に感光性平版印刷版材料にフィルム原稿を
密着焼付する際、焼枠を真空にして行うが、この真空密
着性を改良する方法も本発明の感光性組成物を用いた感
光性平版印刷版材料に適用することができる。真空密着
性を改良する方法としては、感光層表面に機械的に凹凸
を施す方法、感光層表面に固体粉末を散布させる方法、
特開昭50−125805号公報に記載されているよう
な感光層表面にマット層を設ける方法、及び特開昭55
−12974号公報に記載されているような感光層表面
に固体粉末を熱融着させる方法等が挙げられる。In addition, when contact-baking a film original onto a photosensitive lithographic printing plate material, the printing frame is generally vacuumed, but a method for improving this vacuum adhesion is also photosensitive lithographic printing using the photosensitive composition of the present invention. It can be applied to plate materials. Methods for improving vacuum adhesion include mechanically creating unevenness on the surface of the photosensitive layer, scattering solid powder on the surface of the photosensitive layer,
A method of providing a matte layer on the surface of a photosensitive layer as described in JP-A-50-125805, and JP-A-55
Examples include a method of heat-sealing a solid powder onto the surface of a photosensitive layer, as described in Japanese Patent No. 12974.
支持体上に塗布された感光性平版印刷版材料は、従来の
常法が適用される。すなわち、線画像、網点画像等を有
する透明原画を通して感光し、次いで、水性現像液で現
像することにより、原画に対してネガのレリーフ像が得
られる。露光に好適な光源としては、カーボンアーク灯
、水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ス
トロボ等が挙げられる。The photosensitive lithographic printing plate material coated on the support can be prepared by conventional methods. That is, by exposing a transparent original image having a line image, a halftone image, etc. to light, and then developing it with an aqueous developer, a negative relief image can be obtained with respect to the original image. Light sources suitable for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, strobes, and the like.
本発明の感光性平版印刷版材料の現像処理に用いられる
現像液は公知のいずれのものであっても良いが、好まし
くは以下のものがよい。すなわち本発明の感光性平版印
刷版材料を現像する現像液は、特定の有機溶媒と、アル
カリ剤と、水とを必須成分として含有する。ここに特定
の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感光
性組成物層の非露光部(非画像部)を溶解又は膨潤する
ことができ、しかも常温(20℃)において水に対する
溶解度が10重量%以下の有機溶媒をいう。このような
有機溶媒としては上記のような特性を有するものであり
さえすればよく、以下のもののみに限定されるものでは
ないが、これらを例示するならば、例えば酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル
、エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチ
ル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステル;エ
チルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類;エチレングリコールモノブ
チルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテル、
エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジルア
ルコール、メチルフェニルカルビノール、n−アミルア
ルコール、メチルアミルアルコールのようなアルコール
類;キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素:メ
チレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがある。こ
れら有機溶媒は一種以上用いてもよい。The developer used in the development of the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention may be any known developer, but the following are preferred. That is, the developer for developing the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention contains a specific organic solvent, an alkaline agent, and water as essential components. Here, the specific organic solvent is one that can dissolve or swell the non-exposed area (non-image area) of the above-mentioned photosensitive composition layer when contained in the developer, and that is resistant to water at room temperature (20°C). refers to an organic solvent with a solubility of 10% by weight or less. Such organic solvents only need to have the above-mentioned characteristics, and are not limited to the following, examples of which include ethyl acetate,
Carboxylic acid esters such as propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate, butyl levulinate; ketones such as ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; ethylene glycol monobutyl ether , ethylene glycol benzyl ether,
Alcohols such as ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol; alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as xylene; such as methylene dichloride, ethylene dichloride, monochlorobenzene Examples include halogenated hydrocarbons. One or more of these organic solvents may be used.
これら有機溶媒の中では、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテルとベンジルアルコールが特に有効である。Among these organic solvents, ethylene glycol monophenyl ether and benzyl alcohol are particularly effective.
また、これら有機溶媒の現像液中における含有量は、お
おむね1〜20i1ff1%であり、特に2〜10重量
%のときより好ましい結果を得る。Further, the content of these organic solvents in the developer is approximately 1 to 20ilff1%, and particularly preferable results are obtained when the content is 2 to 10% by weight.
他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、
(A) ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又
は第三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケ
イ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機
アルカリ剤
(B) モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又
はトリエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、
i−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン
、モノ、ジ又はトリイソプロパツールアミン、エチレン
イミン、エチレンジアミン等の有機化合物等が挙げられ
る。On the other hand, the alkaline agents contained in the developer include (A) sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium or ammonium salt of dibasic or tertiary phosphoric acid; Inorganic alkaline agents (B) such as sodium metasilicate, sodium carbonate, ammonia, etc. Mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine, mono- or diisopropylamine,
Examples include organic compounds such as i-butylamine, mono-, di-, or triethanolamine, mono-, di-, or triisopropanolamine, ethyleneimine, and ethylenediamine.
好ましいのは(A)のケイ酸カリウム、ケイ酸ナトリウ
ム、CB)の有機アミン化合物であり、特に好ましいの
(A)のケイ酸カリウム、(B)のり又はトリエタノー
ルアミンである。Preferred are (A) potassium silicate, sodium silicate, and CB) organic amine compounds, particularly preferred are (A) potassium silicate, (B) glue, or triethanolamine.
これらアルカリ剤の現象液中における含有量は通常0,
05〜8重量%で、好ましくは0.5〜6重量%である
。The content of these alkaline agents in the phenomenon liquid is usually 0,
05 to 8% by weight, preferably 0.5 to 6% by weight.
また、保存安定性、耐刷性等をより以上に高めるために
は、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させ
ることが好ましい。このような水溶性亜硫酸塩としては
、亜硫酸のアルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく
、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リ
チウム、亜硫酸マグネシウム等がある。これらの亜硫酸
塩の現像液組成物における含有量は通常0.05〜4重
量%で、好ましくは011〜1重辺%である。Furthermore, in order to further enhance storage stability, printing durability, etc., it is preferable to include a water-soluble sulfite in the developer as necessary. Such water-soluble sulfites are preferably alkali or alkaline earth metal salts of sulfite, such as sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, magnesium sulfite, and the like. The content of these sulfites in the developer composition is usually 0.05 to 4% by weight, preferably 0.11 to 1% by weight.
また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。Certain solubilizers may also be included to aid in the dissolution of the organic solvents mentioned above in water.
このような可溶化剤としては、本発明の所期の効果を実
現するため1、用いる有機溶媒より水易溶性で、低分子
のアルコール、ケトン類を用いるのがよい。また、アニ
オン活性剤、両性活性剤等も用いることができる。この
ようなアルコール、ケトン類としては例えばメタノール
、エタノール、プロパツール、ブタノール、アセトン、
メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メト
キシブタノール、エトキシブタノール、4−メトキシ−
メチルブタノール、N−メチルピロリドン等を用いるこ
とが好ましい。また、活性剤としては例えばイソプロピ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム、n−ブチルナフタ
レンスルホン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデ
シルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナト
リウム塩等が好ましい。これらアルコール、ケトン類等
の可溶化剤の使用量について特に制限はないが、一般に
現像液全体に対し約30重量%以下とすることが好まし
い。As such a solubilizing agent, in order to achieve the desired effects of the present invention, it is preferable to use alcohols and ketones of low molecular weight that are more easily soluble in water than the organic solvent used. Furthermore, anionic activators, amphoteric activators, etc. can also be used. Examples of such alcohols and ketones include methanol, ethanol, propatool, butanol, acetone,
Methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methoxybutanol, ethoxybutanol, 4-methoxy-
Preferably, methylbutanol, N-methylpyrrolidone, etc. are used. Preferred examples of the activator include sodium isopropylnaphthalene sulfonate, sodium n-butylnaphthalene sulfonate, sodium N-methyl-N-pentadecylaminoacetate, and sodium lauryl sulfate. There is no particular restriction on the amount of solubilizers such as alcohols and ketones used, but it is generally preferred that the amount is about 30% by weight or less based on the entire developer.
本発明の感光性平版印刷版材料は、像様露光した後、上
述の現像液に接触させたり、あるいはこすったりすれば
、約10℃〜40℃にて10〜60秒後には、感光層の
露光部に悪影響を及ぼすことなく、非露光部の感光性組
成物が完全に除去されることになる。After the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention is imagewise exposed, if it is brought into contact with the above-mentioned developer or rubbed, the photosensitive layer will be formed after 10 to 60 seconds at about 10 to 40 degrees Celsius. The photosensitive composition in the non-exposed areas is completely removed without adversely affecting the exposed areas.
上記及び後述の実施例から明らかなように、本発明によ
れば、強アルカリおよび弱アルカリ現像性、特に迅速及
び疲労現像性に優れ、かつインキ着肉性が良好で、かつ
耐剛力の優れた感光性平版印刷版材料を提供できる。As is clear from the above and later examples, the present invention has excellent strong and weak alkali developability, particularly rapid and fatigue developability, good ink receptivity, and excellent stiffness resistance. A photosensitive lithographic printing plate material can be provided.
以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
合成例!
N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド(H
ypMA)l 5.69.2−ヒドロキシエチルメタク
リレート(HEMA)40.19、アクリロニトリル(
AN)4.679、エチルアクリレート(EA)35.
29メタクリル酸(MAA)3.799、を蒸留アセト
ン84−1蒸留メタノ一ル84m4に溶解させ、アゾビ
スイソブチロニトリル(AIBN)2゜899を投入し
、窒素気流下加温し、還流状態にて8時間重合反応を行
った。Synthesis example! N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide (H
ypMA)l 5.69.2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA) 40.19, acrylonitrile (
AN) 4.679, ethyl acrylate (EA) 35.
29 methacrylic acid (MAA) 3.799% was dissolved in distilled acetone 84-1 distilled methanol 84m4, azobisisobutyronitrile (AIBN) 2°899% was added, heated under a nitrogen stream, and brought to reflux. The polymerization reaction was carried out for 8 hours.
上記の仕込み条件を以下に示す。The above preparation conditions are shown below.
11ypMA:HEMA:AN:EA:MAA= 10
:35:10:40:5[全モノマー濃度:CM)]
・・・・・・・・・・・・ 5.25モル/Q[開始
剤モル濃度:CI )] ・・・・・・・・・・・・
2モル%反応終了後、反応液を大量の水中に攪拌下投
入し、生じた白色沈澱を濾取乾燥し、共重合体1を94
9得た。次に示すGPC条件で測定し結果を表1に示し
た。11ypMA:HEMA:AN:EA:MAA=10
:35:10:40:5 [Total monomer concentration: CM)]
・・・・・・・・・・・・ 5.25 mol/Q [initiator molar concentration: CI)] ・・・・・・・・・・・・
After the completion of the 2 mol% reaction, the reaction solution was poured into a large amount of water with stirring, and the resulting white precipitate was filtered and dried.
I got 9. It was measured under the following GPC conditions and the results are shown in Table 1.
My : 5.61Xl、04
分散比(Mw/Mn)+ 1.89
GPC測定条件
GPC装置:日立社製635型GPC装置カラム:ショ
デクッス(S hodex)(昭和電工社製〕:A30
2XA803XA804
流 ffi:THF 1.5m12/分分子量換算:標
準ポリスチレン換算
東洋ソーダ社製ポリスチレンスタ
ンダード
合成例2〜7
合成例1のモノマー仕込み比、重量比、全モノマー濃度
CM)、開始剤モル濃度(1)、さらに収量、重量平均
分子ffl(Mw)、分子量分散を表1のように変化さ
せ、共重合体2〜7を合成した。My: 5.61Xl, 04 Dispersion ratio (Mw/Mn) + 1.89 GPC measurement conditions GPC device: Hitachi 635 type GPC device Column: Shodex (Showa Denko): A30
2 XA803 ), and copolymers 2 to 7 were synthesized by changing the yield, weight average molecular weight ffl (Mw), and molecular weight dispersion as shown in Table 1.
比較合成例1〜9
合成例1のモノマー仕込み比、重量比、全モノマー濃度
CM)、開始剤モル濃度(1)、さらに収量、重量平均
分子it(Mw)、分子量分散を表2のように変化させ
、比較共重合体1〜9を合成した。Comparative Synthesis Examples 1 to 9 The monomer charging ratio, weight ratio, total monomer concentration CM), initiator molar concentration (1), yield, weight average molecular it (Mw), and molecular weight dispersion of Synthesis Example 1 were as shown in Table 2. Comparative copolymers 1 to 9 were synthesized with various changes.
尚、比較共重合体6は特開昭59−78340号の実施
例1に記載の共重合体−1を、比較共重合体−7は特公
昭57−4:(890号の実施例1に記載の共重合体と
同様の方法で合成した。Comparative copolymer 6 was prepared using copolymer-1 described in Example 1 of JP-A No. 59-78340, and comparative copolymer-7 was prepared using Example 1 of JP-A No. 57-4: (890). It was synthesized in the same manner as the copolymer described above.
実施例!
厚さ0.24mmのアルミニウム板を3%水酸化ナトリ
ウム水溶液中に浸漬して脱脂し、水洗後1%塩酸及び1
%ホウ酸水溶液中25℃で3A/da”、5分間電解エ
ツチングし、水洗した。次に0.9%水酸化ナトリウム
水溶液に浸漬し、水洗後40%硫酸水溶液中30℃で1
.5A/da’、2分間陽極酸化し水洗した。更に、9
0℃でメタケイ酸ソーダ1%液にて30秒間処理し、そ
の後、水洗、乾燥を行い、砂目立てされたアルミニウム
板を作成した。Example! An aluminum plate with a thickness of 0.24 mm was degreased by immersing it in a 3% aqueous sodium hydroxide solution, and after washing with water, it was soaked in 1% hydrochloric acid and 1% sodium hydroxide.
% boric acid aqueous solution at 25°C for 5 minutes and washed with water.Next, it was immersed in a 0.9% sodium hydroxide aqueous solution, washed with water, and etched in a 40% sulfuric acid aqueous solution at 30°C for 5 minutes.
.. It was anodized at 5A/da' for 2 minutes and washed with water. Furthermore, 9
It was treated with a 1% sodium metasilicate solution at 0°C for 30 seconds, then washed with water and dried to produce a grained aluminum plate.
次に、該アルミニウム板に次のような組成を有する感光
液をホエラーを用いて塗布を行った。更に100℃で2
分間乾燥を行い感光性平版印刷版材料を得た。Next, a photosensitive liquid having the following composition was applied to the aluminum plate using a Whaler. Further at 100℃ 2
Drying was carried out for a minute to obtain a photosensitive lithographic printing plate material.
(感光性塗布液組成)
・共重合体1 6.09・p−
ジアゾジフェニルアミンとパラホル゛ムアルデヒド(モ
ル比1:o、9)との縮合樹脂のへキサ−711,フト
ffl ++ −)lhI4i(A−+−7k
+ ILJ−σ)−# ++ フリング体のGP
C分析により一般式(It)でれ≧5が31モル%のも
の)
Mw :2400
分散比: 1.5 0.489・ジェ
リマーAC−1OL
(日本純薬社製) 0.369・
ビクトリアピュアブルーBOH
(保土谷化学社製) 0.099・メ
チルセロソルブ LOOmQ、乾燥後
の塗布量はl’ 、 69/ m”であった。(Photosensitive coating liquid composition) Copolymer 1 6.09 p-
Hexa-711, ffl ++ -) lhI4i (A-+-7k
+ ILJ-σ)-# ++ Fring body GP
According to C analysis, 31 mol% of general formula (It) is ≧5) Mw: 2400 Dispersion ratio: 1.5 0.489・Jerimar AC-1OL (manufactured by Nippon Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.369・
Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.099 methyl cellosolve LOOmQ, the coating amount after drying was l', 69/m''.
次に、該感光性平版印刷版材料を以下に示す条件で露光
し露光可視画性を観察後、次いで現像液−1を用いラン
ニング現像を行った。Next, the photosensitive lithographic printing plate material was exposed to light under the conditions shown below, and after observing the exposed visible image properties, running development was performed using developer-1.
更に得られた平版印刷版をオフ輪印刷機“システム35
”に取付けて印刷し、スタート時のヤレ枚数、非画像部
の汚れ、綱部の“カラミ“を観察した。次に、画線部に
インキが着肉しにくくなるまで印刷を行い、その枚数を
比較検討した。結果を表3に示した。Furthermore, the obtained lithographic printing plate was printed on an off-wheel printing machine “System 35”.
”, and observed the number of sheets torn at the start, stains in non-image areas, and ``collapse'' on the wires.Next, print was carried out until the ink became difficult to adhere to the image areas, and the number of sheets was measured. The results are shown in Table 3.
く露光条件〉
露光機:メタルハライドランプ“アイドル2000“〔
告時電気社製〕
距 離:1m
時 間:30秒
フィルム原稿:コダックのステップタブレットNO12
を貼り込んだ150線の網点原稿
く現像条件−1〉
現像液−1
一フェニルセロソルブ 480g・ジェタ
ノールアミン(80%) 1599・パイオニン
A4413
(竹本油脂社製) 1809・水
11
自現機:サクラPS版自現機“PSP−860“(小西
六写真工業社製)
(ブラシの圧力+7ffII11)
ガ ム:S cw−2(小西六写真工業社製)現像温
度:25℃
現像時間:15秒〜45秒
ランニング条件:未露光のネガ28版“5WN−N“(
小西六写真工業社製)菊全
サイズにて現像処理を繰り返
した。Exposure conditions〉 Exposure machine: Metal halide lamp “Idol 2000”
Manufactured by Koji Denkisha] Distance: 1 m Time: 30 seconds Film original: Kodak Step Tablet No. 12
Developing conditions for a 150-line halftone original with 150-line dots pasted -1> Developer solution-1 -Phenyl cellosolve 480g・Jetanolamine (80%) 1599・Pionin A4413 (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) 1809・Water
11 Automatic processor: Sakura PS version automatic processor “PSP-860” (manufactured by Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.) (Brush pressure +7ffII11) Gum: Scw-2 (manufactured by Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.) Development temperature: 25°C Development time: 15 seconds to 45 seconds Running conditions: Unexposed negative 28 plate “5WN-N” (
The development process was repeated using Kikuzen size (manufactured by Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.).
く印刷条件〉
オフ輸印刷機:“システム35”(小会印刷機械社製)
紙 :頁紙
インキ :“FineニューズZ”(大日本インキ
社製)
ブラン :“金陽エアープラン”(金部社製)印刷
スピード:30000枚/時
次に下記現像条件−2にて同様に露光した感光性平版印
刷版材料を現像処理し、主として現像性の評価を行った
。Printing conditions〉 Off-line printing machine: “System 35” (manufactured by Kokai Printing Machinery Co., Ltd.)
Paper: Page paper Ink: “Fine News Z” (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) Blank: “Kinyo Air Plan” (manufactured by Kanebe Co., Ltd.) Printing speed: 30,000 sheets/hour Then, similarly under the following developing conditions -2 The exposed photosensitive lithographic printing plate material was developed and the developability was mainly evaluated.
く現像条件−2〉
現像液−2
メタケイ酸カリウム 4809水
12
12現像液:サクラPS版自現機“PSP−860”(
小西六写真工業社製)
ガム :S cw−1(小西六写真工業社製)現像温度
:25℃
現像時間:15秒〜45秒
実施例2〜7
実施例1で使用した感光液の中で共重合体lの代りに共
重合体2〜7(実施例2〜7に対応)を使用して同様に
実験を行った。結果を表3に示した。Development conditions-2> Developer solution-2 Potassium metasilicate 4809 water
12
12 Developer: Sakura PS plate automatic processor “PSP-860” (
Gum: Scw-1 (manufactured by Konishiroku Photo Industries, Ltd.) Development temperature: 25°C Development time: 15 seconds to 45 seconds Examples 2 to 7 In the photosensitive solution used in Example 1 Similar experiments were conducted using copolymers 2 to 7 (corresponding to Examples 2 to 7) instead of copolymer 1. The results are shown in Table 3.
比較例1〜7
実施例1で使用した感光液の中で共重合体1の代りに使
う比較共重合体1〜7(比較例i〜7に対応)を使用し
て同様に実験を行った。結果を表3に示した。Comparative Examples 1 to 7 Similar experiments were conducted using Comparative Copolymers 1 to 7 (corresponding to Comparative Examples i to 7) used in place of Copolymer 1 in the photosensitive solution used in Example 1. . The results are shown in Table 3.
比較例8
実施例1で使用した感光液の中でp−ジアジン′ フェ
ニルアミンとパラホルムアルデヒド(モル比1:0.9
)との縮合樹脂のヘキサフルオロリン酸塩の代りにp−
ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒド(モル
比1:0.9)との縮合樹脂の2−メトキシ−4−ヒド
ロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸を使用して
同様に実験を行った。結果を表3に示した。Comparative Example 8 In the photosensitive solution used in Example 1, p-diazine' phenylamine and paraformaldehyde (molar ratio 1:0.9
) in place of the hexafluorophosphate of the condensation resin with p-
A similar experiment was conducted using 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonic acid, which is a condensation resin of diazodiphenylamine and paraformaldehyde (molar ratio 1:0.9). The results are shown in Table 3.
比較例9
実施例1で使用した感光液の中でp−ジアゾフェニルア
ミンとパラホルムアルデヒド(モル比1:0.9)との
縮合樹脂のへキサフルオロリン酸塩の代りにp−ジアゾ
ジフェニルアミンとパラホルムアルデヒド(モル比1:
o、6)との縮合樹脂のヘキサフルオロリン酸塩(β−
ナフトールとのカップリング体のGPC分析により一般
式(n)でn≧5が15%のもの)を使用し、同様に実
験を行った。結果を表3に示した。Comparative Example 9 In the photosensitive solution used in Example 1, p-diazodiphenylamine was used instead of hexafluorophosphate of the condensation resin of p-diazophenylamine and paraformaldehyde (molar ratio 1:0.9). Paraformaldehyde (molar ratio 1:
Hexafluorophosphate (β-
A similar experiment was conducted using a compound of general formula (n) in which n≧5 was 15% based on GPC analysis of a coupled product with naphthol. The results are shown in Table 3.
比較例to、tt
実施例1で使用した感光液の中で共重合体1の代りに比
較共重合体8.9(比較例to、ttに対応)を使用し
て同様に実験を行った。結果を表3に示した。Comparative Examples to, tt A similar experiment was conducted using Comparative Copolymer 8.9 (corresponding to Comparative Examples to, tt) instead of Copolymer 1 in the photosensitive solution used in Example 1. The results are shown in Table 3.
表3の結果から明らかなように、本発明の特徴であるフ
ェノール性水酸基およびアルコール性水酸基をそれぞれ
特定の範囲で含有し、かつ側鎖にシアノ基を有するモノ
マー単位を含有することにより、強アルカリおよび弱ア
ルカリ現像性、特に迅速及び疲労現像性に優れ、かつイ
ンキ着肉性が良好で、かつ耐刷力の優れた感光性平版印
刷版材料の開発に成功したことが判る。As is clear from the results in Table 3, strong alkali It can be seen that we have succeeded in developing a photosensitive lithographic printing plate material that has excellent weak alkaline developability, particularly rapid and fatigue developability, good ink receptivity, and excellent printing durability.
Claims (2)
組成物において、該高分子化合物が、その分子構造中に
フェノール性水酸基を有するモノマー単位を6〜40モ
ル%、およびアルコール性水酸基を有するモノマー単位
を6〜60モル%、および側鎖にシアノ基を有するモノ
マー単位を含有することを特徴とする感光性組成物。(1) In a photosensitive composition containing a diazo compound and a polymer compound, the polymer compound contains 6 to 40 mol% of monomer units having a phenolic hydroxyl group in its molecular structure and a monomer having an alcoholic hydroxyl group. A photosensitive composition comprising 6 to 60 mol% of units and a monomer unit having a cyano group in a side chain.
成分とする感光層を設けてなる感光性平版印刷版材料に
おいて、該高分子化合物が、その分子構造中にフェノー
ル性水酸基を有するモノマー単位を6〜40モル%、お
よびアルコール性水酸基を有するモノマー単位を6〜6
0モル%、および側鎖にシアノ基を有するモノマー単位
を含有することを特徴とする感光性平版印刷版材料。(2) In a photosensitive lithographic printing plate material comprising a photosensitive layer containing a diazo compound and a polymer compound as main components on a support, the polymer compound is a monomer having a phenolic hydroxyl group in its molecular structure. 6 to 40 mol% of units, and 6 to 6 monomer units having alcoholic hydroxyl groups.
1. A photosensitive lithographic printing plate material containing 0 mol % and a monomer unit having a cyano group in a side chain.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60272896A JPH0823693B2 (en) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60272896A JPH0823693B2 (en) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62133451A true JPS62133451A (en) | 1987-06-16 |
JPH0823693B2 JPH0823693B2 (en) | 1996-03-06 |
Family
ID=17520266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60272896A Expired - Fee Related JPH0823693B2 (en) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0823693B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01233446A (en) * | 1988-03-14 | 1989-09-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52110103A (en) * | 1976-03-11 | 1977-09-16 | Toray Industries | Photoosensitive resin composition |
JPS6068997A (en) * | 1983-09-27 | 1985-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of aluminum base for planographic printing plate |
JPS60262154A (en) * | 1984-06-08 | 1985-12-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS6258242A (en) * | 1985-09-09 | 1987-03-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
-
1985
- 1985-12-04 JP JP60272896A patent/JPH0823693B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52110103A (en) * | 1976-03-11 | 1977-09-16 | Toray Industries | Photoosensitive resin composition |
JPS6068997A (en) * | 1983-09-27 | 1985-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of aluminum base for planographic printing plate |
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JPS6258242A (en) * | 1985-09-09 | 1987-03-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
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---|---|---|---|---|
JPH01233446A (en) * | 1988-03-14 | 1989-09-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0823693B2 (en) | 1996-03-06 |
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