JPH02294650A - Photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Photosensitive planographic printing plate

Info

Publication number
JPH02294650A
JPH02294650A JP11664489A JP11664489A JPH02294650A JP H02294650 A JPH02294650 A JP H02294650A JP 11664489 A JP11664489 A JP 11664489A JP 11664489 A JP11664489 A JP 11664489A JP H02294650 A JPH02294650 A JP H02294650A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing plate
acid
resin
denotes
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11664489A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Fumiya
文屋 信一
Eriko Katahashi
片橋 恵理子
Masabumi Uehara
正文 上原
Shinichi Matsubara
真一 松原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP11664489A priority Critical patent/JPH02294650A/en
Publication of JPH02294650A publication Critical patent/JPH02294650A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To provide the above printing plate which has excellent developability and high plate wear even under printing conditions under which alkaline damping water is used by using a high-polymer compd. contg, a specific structural unit as a high-polymer compd. CONSTITUTION:The high-polymer compd. of the lithographic printing plate formed by providing a photosensitive layer consisting of a diazonium resin and the high-polymer compd. on an aluminum sheet which is subjected to a sand dressing and anodic oxidation treatment contains the structural unit expressed by formula I. In the formula I, R1 denotes a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group; R2 and R3 respectively denote a hydrogen atom, alkyl group; R4 denotes an alkyl group, alkoxy group; m denotes 1 to 3 integer; n denotes 0 to 4 integer; Z denotes -O-, -NH-. The printing plate which has the high plate wear in the printing using the alkaline damping water and the excellent developability is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ネガ型感光性平版印刷版に関するものであり
、詳しくは、現像性、アルカリ性冫Wし水を用いる場合
の耐剛力に優れるネガ型感光性平版印刷版に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a negative photosensitive lithographic printing plate, and more specifically to a negative photosensitive lithographic printing plate that has excellent developability and stiffness resistance when using alkaline detergent water. This invention relates to a type photosensitive lithographic printing plate.

(従来の技術) 予め感光性を与えられた印刷材料の惑光性物質として使
用されているものの大多数は、ジアゾニウム化合物であ
り、その最も常用されているものは、P−ジアゾジフエ
ニルアミンのホルムアルデヒド縮金物に代表されるジア
ゾニウム樹脂がある。
(Prior Art) The majority of those used as photolactic substances in pre-sensitized printing materials are diazonium compounds, the most commonly used of which is P-diazodiphenylamine. There are diazonium resins represented by formaldehyde condensates.

このようなジアゾニウム樹脂を紙、プラスチックまたは
金属等の適当な支持体上に塗布し、それを透明陰画を通
して活性光線に露光した場合、露光された部分のジアヅ
ニウム樹脂は、分解を起こして不溶性に変化する。他方
、未露光部を水で溶解除去することにより親水化処理が
施された支持体表面が露呈する。従ってオフセット印刷
機上において、この未露光部は水を受付けてインキを反
発する.また、分解した部分のジアゾニウム樹脂は親油
性を呈し、水を反発してインキを受付る。このような印
刷材料は、いわゆるネガ型の印刷版を与える.この種の
感光性印刷材料の感光性層の組成物は、ジアゾニウム樹
脂単独のもの、あるいはジアゾニウム樹脂と高分子化合
物の混合されたものに分類することができ、通常一般的
には耐剛力に有利な後者の系が用いられている。
When such diazonium resin is coated on a suitable support such as paper, plastic or metal and exposed to actinic light through a transparent negative, the diazonium resin in the exposed areas decomposes and becomes insoluble. do. On the other hand, by dissolving and removing the unexposed areas with water, the surface of the support that has been subjected to the hydrophilic treatment is exposed. Therefore, on an offset printing press, this unexposed area accepts water and repels ink. In addition, the decomposed portion of the diazonium resin exhibits lipophilic properties, repelling water and accepting ink. Such printing materials give so-called negative printing plates. The composition of the photosensitive layer of this type of photosensitive printing material can be classified into diazonium resin alone or a mixture of diazonium resin and a polymer compound, and is generally advantageous in terms of stiffness resistance. The latter system is used.

かかる高分子化合物としては、例えば、特公昭55−3
4929号公報に記載されているような、アルコール性
水酸基を有する(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリロ
ニトリルとの共重合体、特開昭56−4144号公報に
記載されているような(メタ)アクリル酸アルキルと(
メタ)アクリロニ1−リルと不飽和カルボン酸との共重
合体、特公昭57−43890号公報に記載されている
ような芳香族性水酸基を脊する(メタ)アクリルアミド
類あるいは、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)ア
クリロニトリルと不飽和カルボン酸との共重合体などが
知られている。
Such polymer compounds include, for example, Japanese Patent Publication No. 55-3
A copolymer of (meth)acrylic acid and (meth)acrylonitrile having an alcoholic hydroxyl group as described in JP-A No. 4929, (meth) as described in JP-A-56-4144 Alkyl acrylate and (
Copolymers of meth)acrylonyl-1-lyl and unsaturated carboxylic acids, (meth)acrylamides containing aromatic hydroxyl groups as described in Japanese Patent Publication No. 57-43890, or (meth)acrylic acid Ester, copolymer of (meth)acrylonitrile and unsaturated carboxylic acid, etc. are known.

(発明が解決しようとする問題点) しかし、従来の感光性組成物では、中性から酸性の湿し
水を用いる通常の印刷に於ける耐剛力は比較的良好なも
のの、新聞印刷等におけるアルカリ性の湿し水を用いた
印刷条件下では必ずしも耐剛力が十分なものと言えず、
改善が望まれていた。
(Problems to be Solved by the Invention) However, although conventional photosensitive compositions have relatively good stiffness resistance in normal printing using neutral to acidic dampening water, they do not tolerate alkaline resistance in newspaper printing, etc. It cannot be said that the rigidity is necessarily sufficient under printing conditions using dampening water.
Improvement was desired.

また、このような条件下での耐刷力を改善するために耐
摩耗性の良い樹脂を更に添加し改善することが考えられ
るが、このような場合、一般に感光層全体の溶解性が低
下するといった問題が生じ、感光性平版印刷版の現像性
、即ち、未露光惑光層の溶解速度、現像液の溶解度等の
低下として現れ、製版実技上問題となる. そこで、本発明の主たる目的は、現像性に優れ、かつ、
アルカリ湿し水を用いた印刷条件下でも高い耐刷力を示
す新規な感光性平版印刷版を捷供することにある。
Additionally, in order to improve the printing durability under such conditions, it may be possible to further add a resin with good abrasion resistance, but in such a case, the solubility of the entire photosensitive layer generally decreases. This problem arises as a decrease in the developability of the photosensitive lithographic printing plate, that is, the dissolution rate of the unexposed light-absorbing layer, the solubility of the developer, etc., and becomes a problem in practical plate making. Therefore, the main object of the present invention is to provide excellent developability and
The object of the present invention is to provide a novel photosensitive lithographic printing plate that exhibits high printing durability even under printing conditions using alkaline dampening water.

(問題を解決するための手段) 本発明者らは、上記問題点に留意し、鋭意検討した結果
、高分子化合物として下記一般式(I)で示される構造
単位を含む高分子化合物を使用すれば、所期の目的が達
成される事を見いだし、本発明を完成するに至った. 即ち、本発明の要旨は、砂目立てし、陽極酸化処理した
アルミニウム板上にジアゾニウム樹脂、および高分子化
合物からなる感光層を設けた平版印刷版において、咳高
分子化合物が、下記一般式(I)で示される構造単位を
含むことを特徴とする. 一般式 (式中R.は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を表
わし、R2およびR.は、それぞれ、水素原子、アルキ
ル基を表わし、R4はアルキル基、アルコキシ基を表わ
し、mは、1〜3の整数を表わし、nは、0〜4の整数
を表わし、Zは一〇一− N H一を表わす。) 以下、本発明を詳細に説明する。
(Means for Solving the Problems) The present inventors have taken note of the above problems and, as a result of intensive studies, have determined that a polymer compound containing a structural unit represented by the following general formula (I) should be used as a polymer compound. In other words, we have found that the intended purpose can be achieved, and have completed the present invention. That is, the gist of the present invention is to provide a lithographic printing plate in which a photosensitive layer consisting of a diazonium resin and a polymer compound is provided on a grained and anodized aluminum plate, in which the cough polymer compound has the following general formula (I ) is characterized by containing the structural unit shown by. General formula (wherein R. represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, R2 and R. represent a hydrogen atom or an alkyl group, respectively, R4 represents an alkyl group or an alkoxy group, and m is 1 to 3, n represents an integer from 0 to 4, and Z represents 101-NH1.) Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明に用いられるジ”アブ樹脂は、従来公知のものが
通宜使用できるが、芳香族ジアゾニウム塩を活性力ルボ
ニルで縮合した、例えば、ホルム′アルデヒドで縮合し
たジアゾ樹脂が代表的に用いられる。また、芳香族ジア
ゾニウム塩と芳香族スルホン酸(塩)化合物等とホルム
アルデヒドとの共縮合ジアゾ樹脂も用いられる. ジアゾニウム樹脂としては、例えばp−ジアゾジフェニ
ルアミンとホルムアルデヒド又は、アセトアルデヒドの
縮金物、p−ジアゾジフェニルアミンおよびベンゼンス
ルホン酸(塩)とホルムアルデヒド又は、アセトアルデ
ヒドの共縮合物、とヘキサフルオ口燐酸塩、テトラフル
オ口ホウ酸塩との有機溶媒可溶性反応生成物であるジア
ゾニウム樹脂無機塩、又は、米国特許3,300.30
9号明細書に記載されているような前記縮合物とスルホ
ン酸類例えばp−トルエンスルホン酸またはその塩、ホ
スフイン酸頚、例えばベンゼンホスフィン酸又はその塩
、ヒドロキシル基含有化合物、例えば2,4−ジヒドロ
キシベンゾフエノン、2ーヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフエノン−5ースルホン酸又はその塩等の有機溶媒
可溶性ジアゾニウム樹脂有機酸塩等が挙げられる。
As the diab resin used in the present invention, conventionally known ones can be used, but diazo resins in which aromatic diazonium salts are condensed with active carbonyl, for example, with formaldehyde, are typically used. In addition, a diazo resin co-condensed with an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonic acid (salt) compound, etc., and formaldehyde is also used. As the diazonium resin, for example, a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde or acetaldehyde, p- A diazonium resin inorganic salt which is an organic solvent-soluble reaction product of a cocondensate of diazodiphenylamine and benzenesulfonic acid (salt) with formaldehyde or acetaldehyde, and hexafluorophosphate or tetrafluoroborate, or US Pat. ,300.30
9 and sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid or its salts, phosphinic acids such as benzenephosphinic acid or its salts, hydroxyl group-containing compounds such as 2,4-dihydroxy Examples include organic solvent-soluble diazonium resin organic acid salts such as benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, or salts thereof.

ジアゾニウム樹脂の具体例としては、4−ジアゾジフェ
ニルアミン・ヘキサフルオロ燐酸塩−ホルムアルデヒド
樹脂、4−ジアゾジフェニルアミン・ヘキサフルオ口燐
酸塩一ア七トアルデヒド樹脂、4−ジアゾー4′−メト
キシジフェニルアミン・テトラフルオ口ホウ酸塩一ホル
ムアルデヒド樹脂、4−ジアゾー4′一エトキシジフェ
ニルアミン・テトラフルオ口ホウ酸塩一ア七トアルデヒ
ド樹脂、ベンゼンスルホン酸−4−ジアゾジフエニルア
ミン・テトラフルオ口ホウ酸塩−ホルムアルデヒド樹脂
、ベンゼンスルホン酸(塩)〜4−ジアゾジフェニルア
ミン・テトラフルオ口ホウ酸塩一アセトアルデヒド樹脂
、4−ジアゾジフェニルアミン・2−ヒドロキンー4−
メトキシヘンゾフエノン−5−スルホン酸塩一ホルムア
ルデヒド樹脂等が挙げられる。
Specific examples of diazonium resins include 4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate-formaldehyde resin, 4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate monoa-heptaldehyde resin, and 4-diazo 4'-methoxydiphenylamine tetrafluoroboric acid. Salt-formaldehyde resin, 4-diazo-4'-ethoxydiphenylamine/tetrafluoroborate mono-7toaldehyde resin, benzenesulfonic acid-4-diazodiphenylamine/tetrafluoroborate-formaldehyde resin, benzenesulfonic acid ( salt) ~4-diazodiphenylamine tetrafluoroborate monoacetaldehyde resin, 4-diazodiphenylamine 2-hydroquine-4-
Examples include methoxyhenzophenone-5-sulfonate monoformaldehyde resin.

本発明のジアゾニウム樹脂は、各単量体のモル比および
縮合条件を種々変えることによりその分子量は任意の値
として得ることができるが、本発明の目的とする使途に
有効に共するためには分子量が400〜tooooOも
のが使用可能であるが、好ましくは、約800〜500
0のものが適当である。
The diazonium resin of the present invention can have any molecular weight by varying the molar ratio of each monomer and the condensation conditions, but in order to effectively meet the intended use of the present invention, Those with a molecular weight of 400 to toooO can be used, but preferably about 800 to 500
A value of 0 is appropriate.

本発明に用いられる感光性ジアゾニウム樹脂は通常1〜
60重量%、好ましくは、3〜30mWk%含有させる
The photosensitive diazonium resin used in the present invention is usually 1 to
The content is 60% by weight, preferably 3 to 30mWk%.

一方、本発明に使用される前記一般式(I)で示される
構造単位を含む高分子化合物は、下記一般式(■)で示
される化合物を重合して得られる。
On the other hand, the polymer compound containing the structural unit represented by the general formula (I) used in the present invention can be obtained by polymerizing a compound represented by the following general formula (■).

好ましくは、これと重合可能な付加重合性不飽和化合物
とを共重合して得られる。
Preferably, it is obtained by copolymerizing this with a polymerizable addition-polymerizable unsaturated compound.

一般式 (式中のR+ ,Rz,Rs,R4,Z,m,’nはそ
れぞれ前述と同様のものを表わす。)上記付加重合性不
飽和化合物としては、例えば、アクリルアミド類、メタ
アクリルアミド頻・α、β一不飽和カルボン酸、(置換
)アルキルアクリレート、(置換)アルキルメタクリレ
ート、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルケ
トン類、スチレン類、オレフィン類、などの付加重合性
不飽和結合を有する化合物から選ばれる。
General formula (in the formula, R+, Rz, Rs, R4, Z, m, 'n each represent the same as mentioned above). Examples of the above-mentioned addition polymerizable unsaturated compound include acrylamides, methacrylamide, etc. Selected from compounds with addition-polymerizable unsaturated bonds such as α, β monounsaturated carboxylic acids, (substituted) alkyl acrylates, (substituted) alkyl methacrylates, vinyl ethers, vinyl esters, vinyl ketones, styrenes, olefins, etc. It will be done.

具体的には例えば、下記(I)〜(I0)に示すものが
挙げられる. (I)  アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等のα,β一不飽和カルボン酸 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロビル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
2−クロロエチル、2ーヒドロキシエチルアクリレート
、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチル
アクリレート等の(置換)アルキルアクリレート(3)
  メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロビルメタクリレート、プチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、シクロへキシルメタクリレート、2−
ヒドロキシエチルメククリレート、4−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、グルシジルメタクリレート、N−ジ
メチルアミノエチルメタクリレート等の(五換)アルキ
ルメタクリレート (4)  アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルア
ミド、N一エチルアクリルアミド、N−へキジルメタク
リルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フエニルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシフエニルメタクリルアミド、
NエチルーN−フェニルアクリルアミド等のアクリルア
ミド若しくはメタクリルアミド類(5)エルチビニルエ
ーテル、2−クロロエルチビニルエーテル、ヒドロキシ
エチルビニルエーテル、プロビルビニルエーテル、プチ
ルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フエニル
ビニルエーテル等のビニルエーテル類 (6)  ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート
、ビニルプチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステ
ル類 (カ スチレン、α−メチノレスチレン、メチノレスチ
レン、クロロメチルスチレン等のスチレン類(8)  
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロビルビ
ニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類 (9)エチレン、ブロビレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソブレン等のオレフィン類 θ0)  N−ビニルピロリドン、N−ビニル力ルバゾ
ール、4−ビニルビリジン、アクリロニトリル、メタク
リ口ニトリル等 が挙げられるが、その他、上記一般式(II)で示され
るモノマーと共重合しうるモノマーであれば良く、これ
に限定されるものではない。また、これ以外の樹脂とし
て、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ボ
リアミド樹脂、エボキシ樹脂、ノボラック樹脂、ポリビ
ニルホルマール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、天然樹脂等も挙げられる。
Specific examples include those shown in (I) to (I0) below. (I) α, β monounsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, probyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, acrylic Octyl acid, acrylic acid-
(Substituted) alkyl acrylates such as 2-chloroethyl, 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate (3)
Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, proyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-
(Pentameric) alkyl methacrylates such as hydroxyethyl meccrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, glucidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate (4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, N monoethyl acrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-
Hydroxyethyl acrylamide, N-phenylacrylamide, N-hydroxyphenylmethacrylamide,
Acrylamides or methacrylamides such as N-ethyl-N-phenylacrylamide (5) Vinyl ethers such as eltivinyl ether, 2-chloroeltivinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, probyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, etc. (6) Vinyl Vinyl esters such as acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate (styrenes such as castyrene, α-methylestyrene, methylestyrene, and chloromethylstyrene (8)
Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, probyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, etc. (9) Olefins such as ethylene, brobylene, isobutylene, butadiene, isobrene, etc. Examples include -vinylpyridine, acrylonitrile, and methacrylic nitrile, but any other monomers may be used as long as they are copolymerizable with the monomer represented by the above general formula (II), and the present invention is not limited thereto. Other resins include polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, epoxy resin, novolak resin, polyvinyl formal resin, polyester resin, polycarbonate resin, and natural resin.

特に好ましい付加重合性不飽和化合物としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸等のα.β一不飽和カルボン酸類、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート等の(置換)アルキリア
クリレート、( I IA )アルキルメタクリレート
類およびアクリル二[・リル、メタクリルニトリルが挙
げられる。
Particularly preferred addition-polymerizable unsaturated compounds include acrylic acid, methacrylic acid, and the like. β-monounsaturated carboxylic acids,
(Substituted) alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, and ethyl methacrylate, (IIA) alkyl methacrylates, and acryl di[·lyl, methacryl nitrile].

本発明の共重合体は、通常の方法で得られるが、前記一
般式(+)で示される構造単位の含有量は、共重合体中
1〜50mo1%であり、より好ましくは、5〜30m
ol%である。また、分子量は1万から30万(ゲルバ
ーミエションク口マトグラフィー測定以下、GPCと略
記する)がよく、より好ましくは、2万から25万の範
囲である。
The copolymer of the present invention can be obtained by a conventional method, and the content of the structural unit represented by the general formula (+) in the copolymer is 1 to 50 mol%, more preferably 5 to 30 mol%.
It is ol%. In addition, the molecular weight is preferably in the range of 10,000 to 300,000 (hereinafter abbreviated as GPC as measured by gel vermiform chromatography), and more preferably in the range of 20,000 to 250,000.

本発明に用いられる高分子化合物は、感光性組成物中、
1〜99重量%であり、より好ましくは、5〜95重量
%である。
The polymer compound used in the present invention includes, in the photosensitive composition,
The content is 1 to 99% by weight, more preferably 5 to 95% by weight.

本発明の感光性組成物には、以上説明した各素材のほか
、必要に応じて更に染料、顔料 塗布向上剤、可塑材な
どを添加することができる。
In addition to the materials described above, dyes, pigment coating improvers, plasticizers, and the like may be added to the photosensitive composition of the present invention, if necessary.

前記の染料としては、例えばビクトリアピュアブルーB
OH (保土ケ谷化学社製)、オイルブルー#603(
オリエント化学社製)、パテントピュアブルー(住友三
国化学社製)、クリスタルバイオレット、ブリリアント
グリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、エリ
スロシンB、ペイシックフクシン、マラヵイトグリーン
、オイルレンド、m−クレゾールパープル、ローダミン
B1オーラミン、4−P−ジェチルアミノフエニルイミ
ノナフトキノン、シアノーP−ヂエチルアミノフエニル
アセトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン系、
ヂフエニルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イ
ミノナフトキノン系、アゾメチン系又はアントラキノン
系の色素が挙げられる。
Examples of the dye include Victoria Pure Blue B.
OH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Oil Blue #603 (
Orient Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.), Crystal Violet, Brilliant Green, Ethyl Violet, Methyl Green, Erythrosin B, Paysic Fuchsin, Malachite Green, Oil Lend, m-Cresol Purple, Rhodamine B1 Triphenylmethane-based typified by auramine, 4-P-diethylaminophenylimino-naphthoquinone, cyano-P-diethylaminophenyl acetanilide, etc.
Examples include diphenylmethane-based, oxazine-based, xanthene-based, iminonaphthoquinone-based, azomethine-based, and anthraquinone-based dyes.

染料は、感光性組成物中に通常約0. 5〜10重四%
、好ましくは、約1〜5重量%含有させる。
The dye is usually present in the photosensitive composition in an amount of about 0. 5-10 times 4%
, preferably about 1 to 5% by weight.

塗布向上剤としては、アルキルエーテル類(例えばエチ
ルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界面活性
剤類や、ノニオン界面活性剤〔例えば、プルロニックL
64(旭電化社製)〕が挙げられ、塗膜の柔軟性、耐y
t耗性を賦与ずるための可塑剤としては、例えばプチル
フタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチ
ル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジ
ヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸2エチルへキ
シル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒF口フルフリル、ア
クリル酸、又はメタアクリル酸のオリゴマーが挙げられ
、画像部の感脂性を向上させるための感脂剤としては例
えば、特開昭55−527号公報記載のスチレンー無水
マレイン酸共重合体のアルコールによるハーフエステル
化物が挙げられ、安定剤としては例えば、ポリアクリル
酸、酒石酸、燐酸、亜燐酸、有機酸(アクリル酸、メタ
クリル酸、クエン酸、蓚酸、ベンゼンスルホン酸、ナフ
タレンスルホン酸、4−メトギシ−2−ヒドロキジベン
ゾフェノン−5−スルホン等当)が挙げられる。これら
の添加剤の添加量はその使用対象目的によって異なるが
、一般に全固形分に対して、0.01〜30重景%が好
ましい。
Examples of coating improvers include alkyl ethers (e.g., ethyl cellulose, methyl cellulose), fluorine-based surfactants, and nonionic surfactants (e.g., Pluronic L).
64 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.)], and the flexibility of the coating film and the resistance to
Examples of the plasticizer for imparting wear resistance include butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, diethylhexyl phthalate, tricresyl phosphate, Examples include oligomers of tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrafurfuryl oleate, acrylic acid, and methacrylic acid. The half-esterified product of styrene-maleic anhydride copolymer with alcohol described in No. 527 can be mentioned, and examples of the stabilizer include polyacrylic acid, tartaric acid, phosphoric acid, phosphorous acid, and organic acids (acrylic acid, methacrylic acid, citric acid). , oxalic acid, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone-5-sulfone, etc.). The amount of these additives added varies depending on the purpose for which they are used, but is generally preferably 0.01 to 30% by weight based on the total solid content.

本発明において、上述の感光性組成物を適当な溶媒、例
えばメチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセル
ソルブアセテート、エチルセルソルブアセテート、等の
セルソルブ類、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ベン
ジルアルコール、ジアセトンアルコール、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン等に単独あ
るいは、2種以上混合して溶解し、感光液とする。
In the present invention, the above-mentioned photosensitive composition is used in a suitable solvent, for example, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, benzyl alcohol, diacetone alcohol, etc. , dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dioxane, acetone, cyclohexanone, trichloroethylene, etc., either alone or in combination of two or more, to prepare a photosensitive liquid.

これを支持体表面に塗布乾燥させることにより感光性平
版印刷版が得られる。
A photosensitive lithographic printing plate is obtained by applying this onto the surface of a support and drying it.

塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、デイップ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である
。塗布量は用途により異なるが、感光性平版印刷版材料
については固形分としてO. 1 5〜10g/m”か
の好ましい。
As the coating method, conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, and curtain coating can be used. The coating amount varies depending on the application, but for photosensitive planographic printing plate materials, the solid content is O. 15 to 10 g/m" is preferred.

本発明の感光性平版印刷版の支持体には、アルミニウム
板を用い、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じ
て封孔処理等の表面処理が施されていることが好ましい
。これらの処理には公知の方法を適用することができる
The support of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is preferably an aluminum plate, which has been subjected to surface treatments such as graining, anodizing, and, if necessary, sealing. Known methods can be applied to these treatments.

砂目立て処理の方法としては、例えば機械的方法、電解
によりエッチングする方法が挙げられる。
Examples of the graining treatment include a mechanical method and an electrolytic etching method.

機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独あるいは組み合わせて用いることができる。
Examples of mechanical methods include ball polishing, brush polishing, liquid honing, and puff polishing. The various methods described above can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum material.

電解エッチングは、塩酸又は硝酸等の無機の酸を含有す
る浴で行われる。
Electrolytic etching is performed in a bath containing an inorganic acid such as hydrochloric acid or nitric acid.

砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の
水溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗する
After the graining process, desmutting is performed using an alkali or acid aqueous solution as necessary to neutralize the material, followed by washing with water.

陽極酸化処理は、電解液としては、硫酸、クロム酸、シ
ュウ酸、リン酸、マロン酸等を1[rまたは2種以上含
む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して行
われる.形成された陽極酸化皮III 量は1〜50■
/dn+2が適当でり、好ましくは10〜40mg/d
a+”であり、特に好ましくは25〜40■/dta”
である。陽極酸化皮膜量は、例えばアルミニウム板をリ
ン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35ml、酸化ク
ロム(Vl):20gをII!.の水に溶解して作製)
に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重量
変化測定等から求められる。
The anodic oxidation treatment is carried out by using an electrolytic solution containing one or more of sulfuric acid, chromic acid, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid, etc., and using an aluminum plate as an anode. The amount of formed anodic oxide skin III is 1 to 50 ■
/dn+2 is suitable, preferably 10 to 40 mg/d
a+", particularly preferably 25 to 40 ■/dta"
It is. The amount of anodized film can be determined, for example, by dissolving an aluminum plate in phosphoric acid chromic acid solution (85% phosphoric acid solution: 35 ml, chromium oxide (Vl): 20 g in water of II!).
It is determined by dipping the plate in water to dissolve the oxide film and measuring the weight change before and after the film is dissolved.

封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処
理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられ
る。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高
分子化合物・や、フフ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液
による下引き処理を施すごともできる。
Specific examples of the sealing treatment include boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, and dichromate aqueous solution treatment. In addition, the aluminum plate support may be subjected to a subbing treatment using an aqueous solution of a water-soluble polymer compound or a metal salt such as fluorinated zirconate.

その他、一般に感光性平版印刷版材料にフィルム原稿を
密着焼付する際、焼枠を真空にして行うが、この真空密
着性を改良する方法も本発明の感光性組成物を用いた感
光性平版印刷版材料に通用することができる。真空密着
性を改良する方法としては、感光層表面に機械的に凹凸
を施す方法、感光層表面に固体粉末を散布させる方法、
特開昭50−125805号公報に記載されているよう
な感光層表面にマット層を設ける方法、及び特開昭55
−12974号公報に記載されているような感光層表面
に固体粉末を熱融着させる方法等が挙げられる。
In addition, when contact-baking a film original onto a photosensitive lithographic printing plate material, the printing frame is generally vacuumed, but a method for improving this vacuum adhesion is also photosensitive lithographic printing using the photosensitive composition of the present invention. Can be used for plate materials. Methods for improving vacuum adhesion include mechanically creating unevenness on the surface of the photosensitive layer, scattering solid powder on the surface of the photosensitive layer,
A method of providing a matte layer on the surface of a photosensitive layer as described in JP-A-50-125805, and JP-A-55
Examples include a method of heat-sealing a solid powder onto the surface of a photosensitive layer, as described in Japanese Patent No. 12974.

支持体上に塗布された感光性平版印刷版材料は、従来の
常法が通用される。すなわち、線画像、網点画像等を有
する透明原画を通して感光し、次いで、水性現像液で現
像することにより、原画に対してネガのレリーフ像が得
られる。露光に好通な光源としては、カーボンアーク灯
、水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ス
トロボ等が挙げられる。
The photosensitive lithographic printing plate material coated on the support can be prepared by conventional methods. That is, by exposing a transparent original image having a line image, a halftone image, etc. to light, and then developing it with an aqueous developer, a negative relief image can be obtained with respect to the original image. Light sources suitable for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, strobes, and the like.

本発明の惑光性平版印刷版材料の現像処理に用いられる
現像液は公知のいずれのものであっても良いが、好まし
くは以下のものがよい。すなわち本発明の感光性平版印
刷版材料を現像する現像液は、特定の有機溶媒と、アル
カリ剤と、水とを必須成分として含有する。ここに特定
の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感光
性組成物層の非露光部(非画像部)を溶解又は膨潤する
ことができ、しかも常温(20゜C)において水に対す
る熔解度が10重量%以下の有機溶媒をいう.このよう
な有機溶媒としては上記のような特性を有するものであ
りさえすればよく、以下のもののみに限定されるもので
はないが、これらを例示するならば、例えば酢酸エチル
、酢酸プロビル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジ
ル、エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブ
チル、レブリン酸ブチル等のカルボン酸エステル:エチ
ルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン類:エチレングリコールモノブチルエ
ーテル、エチレングリコールベンジルエーテル、エチレ
ングリコールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコー
ル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコー
ル、メチルアミルアルコール等のアルコール類:キシレ
ン等のアルキル置換芳香族炭化水素;メチレンジクロラ
イド、エチレンジクロライド、モノクロ口ベンゼン等の
ハロゲン化炭化水素などがある。これら有機溶媒は一種
以上用いてもよい。これら有機溶媒の中では、エチレン
グリコールモノフェニルエーテルとベンジルアルコール
が特に有効である。また、これら有機溶媒の現像液中に
おける含有量は、おおむね1〜20重量%であり、特に
2〜10重量%のとき好ましい結果を得る。
The developing solution used in the development of the photolucent lithographic printing plate material of the present invention may be any known developer, but the following are preferred. That is, the developer for developing the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention contains a specific organic solvent, an alkaline agent, and water as essential components. Here, the specific organic solvent is one that can dissolve or swell the non-exposed area (non-image area) of the above-mentioned photosensitive composition layer when contained in the developer, and that is capable of dissolving or swelling at room temperature (20°C). An organic solvent with a solubility in water of 10% by weight or less. Such organic solvents only need to have the above-mentioned characteristics, and are not limited to the following, examples of which include ethyl acetate, proyl acetate, and acetic acid. Carboxylic acid esters such as butyl, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate, butyl levulinate, etc. Ketones such as ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.: ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol benzyl ether, Alcohols such as ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol; alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as xylene; halogenation of methylene dichloride, ethylene dichloride, monochrome benzene, etc. Hydrocarbons, etc. One or more of these organic solvents may be used. Among these organic solvents, ethylene glycol monophenyl ether and benzyl alcohol are particularly effective. Further, the content of these organic solvents in the developing solution is approximately 1 to 20% by weight, and particularly preferable results are obtained when the content is 2 to 10% by weight.

他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、 (A)ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は第
三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機アル
カIJ剤 (B)モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又はト
リエチルアミン、モノ又はジイソブ口ビルアミン、n−
プチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、モ
ノ、ジ又はトリイソブロバノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン等の有機化合物が挙げられる。
On the other hand, the alkaline agent contained in the developer includes (A) sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium or ammonium salt of dibasic or tertiary phosphoric acid; Inorganic alkali IJ agents such as sodium metasilicate, sodium carbonate, ammonia, etc. (B) Mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine, mono- or diisobutylamine, n-
Examples include organic compounds such as butylamine, mono-, di- or triethanolamine, mono-, di- or triisobrobanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine.

好ましいのは(A)のケイ酸カリウム、ケイ酸ナトリウ
ム、CB)の有機アミン化合物であり、特に好ましいの
は(A)のケイ酸カリウム、(B)のジ又はトリエタノ
ールアミンである。
Preferred are (A) potassium silicate and sodium silicate, and CB) organic amine compounds, and particularly preferred are (A) potassium silicate and (B) di- or triethanolamine.

これらアルカリ剤の現像液中における含有量は通常0.
05〜8重量%で、好ましくは0. 5〜6重量%であ
る。
The content of these alkaline agents in the developer is usually 0.
0.05 to 8% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight. It is 5 to 6% by weight.

また、保存安定性、耐剛性等をより以上に高めるために
は、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させ
ることが好ましい。このような水熔性亜硫酸塩としては
、亜硫酸のアルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく
、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リ
チウム、亜硫酸マグネシウム等がある。これらの亜硫酸
塩の現像液組成物における含有量は通常0.05〜4重
量%で、好ましくは0.1〜1重量%である。
Further, in order to further improve storage stability, rigidity resistance, etc., it is preferable to include a water-soluble sulfite in the developer as necessary. Such water-soluble sulfites are preferably alkali or alkaline earth metal salts of sulfite, such as sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, magnesium sulfite, and the like. The content of these sulfites in the developer composition is usually 0.05 to 4% by weight, preferably 0.1 to 1% by weight.

また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。
Certain solubilizers may also be included to aid in the dissolution of the organic solvents mentioned above in water.

このような可熔化剤としては、本発明の所期の効果を実
現するため、用いる有機溶媒より水易熔性で、低分子の
アルコール、ケトン類を用いるのがよい。また、アニオ
ン活性剤、両性活性剤等も用いることができる。このよ
うなアルコール、ケトン類としては例えばメタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノール、アセトン、メ
チルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メトキ
シブタノール、エトキシブタノール、4−メトキシーメ
チルプタノール、N−メチルビロリドン等を用いること
が好ましい。また、活性剤としては例えばイソブロビル
ナフタレンスルホン酸ナトリウム、n−プチルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム、N−メチルーN−ペンタデシ
ルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリ
ウム塩等が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の
可溶化剤の使用量について特に制限はないが、一Cに現
像液全体に対し約30重量%以下とすることが好ましい
As such a solubilizing agent, in order to achieve the desired effects of the present invention, it is preferable to use alcohols and ketones that have a lower molecular weight and are more easily soluble in water than the organic solvent used. Furthermore, anionic activators, amphoteric activators, etc. can also be used. Examples of such alcohols and ketones include methanol,
It is preferable to use ethanol, propanol, butanol, acetone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methoxybutanol, ethoxybutanol, 4-methoxymethylbutanol, N-methylpyrrolidone, and the like. Preferred examples of the activator include sodium isobrobylnaphthalene sulfonate, sodium n-butylnaphthalene sulfonate, sodium N-methyl-N-pentadecylaminoacetate, and sodium lauryl sulfate. There is no particular restriction on the amount of solubilizing agents such as alcohols and ketones used, but it is preferably about 30% by weight or less based on the entire developer solution.

本発明の感光性平版印刷版材料は、像様露光した後、上
述の現像液に接触させたり、あるいはこすったりすれば
、約10’C〜40゜Cにて10〜60秒後には、感光
層の露光部に悪影響を及ばずことなく、非露光部の感光
性組成物が完全に除去され、平版印刷版が得られる。
After imagewise exposure, the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention becomes photosensitive after 10 to 60 seconds at about 10°C to 40°C if it is brought into contact with the above-mentioned developer or rubbed. The photosensitive composition in the unexposed areas of the layer is completely removed without adversely affecting the exposed areas of the layer, and a lithographic printing plate is obtained.

(実施例) 以下本発明を実施例により更に具体的に説明する。(Example) The present invention will be explained in more detail below using examples.

製造例1 (高分子化合物−1の合成) N−(4−メトキシフエニル)メタクリルアミド28.
7g,アクリロニトリル13.3g,エヂルアクリレー
ト55g,メタクリル酸4.3gおよびアゾビスイソブ
チロニトリル(AIBN)1.6gをアセトンーメタノ
ール1:1混合溶媒110mlに溶解し、窒素気流下、
60゜C8時間加熱反応した.反応終了後、反応液を水
51中に攪拌下注ぎいれ、生じた白色沈澱取乾燥して高
分子化合物−1を85%得た。
Production Example 1 (Synthesis of Polymer Compound-1) N-(4-methoxyphenyl) methacrylamide 28.
7g of acrylonitrile, 13.3g of acrylonitrile, 55g of edyl acrylate, 4.3g of methacrylic acid, and 1.6g of azobisisobutyronitrile (AIBN) were dissolved in 110ml of acetone-methanol 1:1 mixed solvent, and under a nitrogen stream,
The reaction was carried out by heating at 60°C for 8 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was poured into water 51 with stirring, and the resulting white precipitate was collected and dried to obtain 85% of polymer compound-1.

これをGPCにより分子量の測定を行ったところ、重量
平均分子量で8,5万であった。
When the molecular weight of this was measured by GPC, the weight average molecular weight was 8,50,000.

製造例−2 (高分子化合物−2の合成) N− (4−エチルフェニル)アクリルアミド53.3
g、アクリ口ニトリル1 0. 6 g、メチルアクリ
レー1− 3 4. 4 g、メタクリル酸866gを
高分子化合物一lの場合と同じようにして反応させて高
分子化合物−2を91g得た。
Production example-2 (Synthesis of polymer compound-2) N-(4-ethylphenyl)acrylamide 53.3
g, Acrylic nitrile 1 0. 6 g, methyl acrylate 1-3 4. 4 g of methacrylic acid and 866 g of methacrylic acid were reacted in the same manner as in the case of 1 liter of polymer compound to obtain 91 g of polymer compound-2.

これをGPCにより分子量の測定を行ったところ、重量
平均分子量で約8.5万であった。
When the molecular weight of this was measured by GPC, the weight average molecular weight was about 85,000.

製造例−3 (高分子化合物−3の合成) If−(3.5−ジメトキシフェニル)メタアクリルア
ミド22.Og,アクリロニトリル1 0. 6 g、
エチルアクリレー}15.5g,エチルアクリレート4
5g、メタクリル酸6gを高分子化合物−1の場合と同
じようにして反応させて高分子化合物一3を82g得た
. これをGPCにより分子量の測定を行ったところ、重量
平均分子量で約9万であった.製造例−4 (高分子化合物−4の合成) N一(4−メトキシフェニル)メタクリルアミド9.6
g..N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド8.9g、アクリロニトリル1 3. 3 g、エチ
ルメタクリレート63g,メタクリル酸8.6gにし、
AIBNを0.8gにし、高分子化合物一1の場合と同
じようにして反応させて高分子化合物−4を91g得た
Production Example-3 (Synthesis of Polymer Compound-3) If-(3,5-dimethoxyphenyl)methacrylamide 22. Og, acrylonitrile 1 0. 6 g,
Ethyl acrylate} 15.5g, ethyl acrylate 4
5 g of methacrylic acid and 6 g of methacrylic acid were reacted in the same manner as in the case of Polymer Compound-1 to obtain 82 g of Polymer Compound-3. When the molecular weight of this was measured by GPC, the weight average molecular weight was approximately 90,000. Production example-4 (Synthesis of polymer compound-4) N-(4-methoxyphenyl) methacrylamide 9.6
g. .. 8.9 g of N-(4-hydroxyphenyl) methacrylamide, 1 acrylonitrile 3. 3 g, ethyl methacrylate 63 g, methacrylic acid 8.6 g,
AIBN was adjusted to 0.8 g and reacted in the same manner as in the case of Polymer Compound 1, to obtain 91 g of Polymer Compound 4.

これをGPCにより分子量の測定を行ったところ、重量
平均分子量で約13万であった。
When the molecular weight of this was measured by GPC, the weight average molecular weight was about 130,000.

製造例−5 (高分子化合物−5の合成) メタクリル酸ベンジル17.6g,アクリロニトリル1
 2. 7 g、メチルメタクリレート1 2. 9 
gエチルアクリレート46g  メタクリルl14.3
gを高分子化合物−1の場合と同じようにして反応させ
て高分子化合物−5を75g得た。
Production example-5 (Synthesis of polymer compound-5) 17.6 g of benzyl methacrylate, 1 acrylonitrile
2. 7 g, methyl methacrylate 1 2. 9
g Ethyl acrylate 46g Methacrylic l 14.3
g was reacted in the same manner as in the case of polymer compound-1 to obtain 75 g of polymer compound-5.

これをGPCにより分子量の測定を行ったところ、重量
平均分子量で約9万であった。
When the molecular weight of this was measured by GPC, the weight average molecular weight was about 90,000.

製造例−6 (高分子化合物−6の合成) アクリル酸ベンジル1].3g、アクリロニ1・リル1
 4. 3 g、メチルメタクリレート1 2. 9 
g  エチルアクリレート46g メタクリルM4.3
gを高分子化合物−1の場合と同じようにして反応させ
て高分子化合物−6を71g得た。
Production example-6 (Synthesis of polymer compound-6) Benzyl acrylate 1]. 3g, 1 acryloni, 1 rill
4. 3 g, methyl methacrylate 1 2. 9
g Ethyl acrylate 46g Methacrylic M4.3
g was reacted in the same manner as in the case of polymer compound-1 to obtain 71 g of polymer compound-6.

これをGPCにより分子攬の測定を行ったところ、重量
平均分子里で約9万であった。
When the molecular weight of this was measured by GPC, the weight average molecular weight was about 90,000.

製造例−7 (ジアゾニウム樹脂−1の合成) p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g(50ミ
リモル)を水冷下で4 0. 9 gの濃硫酸に溶解し
た.この反応後にI.5g(50ミリモル)のバラホル
ムアルデヒドをゆっくり滴下した。この際、反応温度が
10゜Cを超えないように添加していった。その後、2
時間水冷下かくはんを続けた。
Production Example-7 (Synthesis of Diazonium Resin-1) 14.5 g (50 mmol) of p-diazodiphenylamine sulfate was mixed with 40.0 g of p-diazodiphenylamine sulfate under water cooling. Dissolved in 9 g of concentrated sulfuric acid. After this reaction I. 5 g (50 mmol) of rose formaldehyde was slowly added dropwise. At this time, the addition was carried out so that the reaction temperature did not exceed 10°C. After that, 2
Stirring was continued under water cooling for an hour.

この反応混合物を水冷下、500+++42のエタノー
ルに滴下し、生じた沈澱を濾過した。エタノールで洗浄
後、この沈澱物を100mfの純水に熔解し、この液に
6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。
This reaction mixture was added dropwise to 500++42 ethanol under water cooling, and the resulting precipitate was filtered. After washing with ethanol, this precipitate was dissolved in 100 mf of pure water, and to this solution was added a cold concentrated aqueous solution in which 6.8 g of zinc chloride was dissolved.

生じた沈澱を濾過した後エタノールで洗浄し、これを1
50mfの純水に溶解した。この液に8gのへキサフル
オ口リン酸アンモニウムを熔解した冷濃厚水溶液を加え
た。生じた沈澱をろ過し水洗した後、30゜C、1昼夜
乾燥してジアゾニウム樹脂−1を得た。
The resulting precipitate was filtered, washed with ethanol, and washed with 1
It was dissolved in 50 mf of pure water. To this liquid was added a cold concentrated aqueous solution in which 8 g of ammonium hexafluorophosphate was dissolved. The resulting precipitate was filtered, washed with water, and then dried at 30°C for one day and night to obtain diazonium resin-1.

この物の分子量をGPCにて測定したところ、重量平均
分子量で約2400であった。
When the molecular weight of this product was measured by GPC, it was found to be about 2,400 in terms of weight average molecular weight.

製造例−8 (ジアゾニウム樹脂−2の合成) バラホルムアルデヒドを1.2g(40ミリモル)に変
えた以外は、ジアゾニウム樹脂−1の場合と同様にして
合成し、ジアヅニウム樹脂−2を得た。
Production Example-8 (Synthesis of Diazonium Resin-2) Diazonium Resin-2 was synthesized in the same manner as in the case of Diazonium Resin-1, except that the amount of paraformaldehyde was changed to 1.2 g (40 mmol).

この物の分子量をGPCにて測定したところ、重量平均
分子量で約1700であった。
When the molecular weight of this product was measured by GPC, it was found to be about 1,700 in terms of weight average molecular weight.

製造例−9 (ジアゾニウム樹脂−3の合成) p−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩11g(37.5ミ
リモル)、ベンゼンスルホン酸ソーダ2,3g(I2.
5ミリモル)、バラホルムアルデヒト川3.5g(45
ミリモル)してジアゾニウム樹脂一1の場合と同様に合
成し、共縮合し、ジアヅニウム樹脂−3を得た。
Production Example-9 (Synthesis of Diazonium Resin-3) 11 g (37.5 mmol) of p-diazodiphenylamine sulfate, 2.3 g (I2.
5 mmol), rose formaldehyde 3.5 g (45
mmol) and synthesized in the same manner as in the case of Diazonium Resin-1 and co-condensed to obtain Diazonium Resin-3.

この物の分子量をGPCにて測定したところ、重量平均
分子量で約2200であった。
When the molecular weight of this product was measured by GPC, it was found to be about 2200 in terms of weight average molecular weight.

製造例−10 (ジアゾニウム樹脂−4の合成) ジアゾニウム樹脂−2のへキサフルオ口リン酸アンモニ
ウムを2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホン酸塩1. 5. 5 gに変えた以外は、
ジアゾニウム樹脂−2と同様にしてジアヅニウム樹脂−
4を得た. この物の分子量をGPCにて測定したところ、重量平均
分子量で約1700であった。
Production Example-10 (Synthesis of Diazonium Resin-4) Hexafluoroammonium phosphate of Diazonium Resin-2 was converted into 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-
5-Sulfonate 1. 5. Except for changing to 5 g.
Diazonium resin-2 in the same manner as diazonium resin-2
I got 4. When the molecular weight of this product was measured by GPC, it was found to be about 1,700 in terms of weight average molecular weight.

製造例−11 (砂目の製造) 厚さ0. 2 4 tmのアルミニウム板を3%水酸化
ナトリウム水溶液に浸漬して脱脂し水洗し、1%塩酸水
溶液中25“Cで3A/dmzの電流密度で5分間電解
エッチングし、水洗し、0.9%水酸化ナトリウム水溶
液に浸漬し、水洗し、40%硫酸水溶液中、30゜Cで
I.5A/dwr!の電流密度で2分間陽極酸化し、水
洗し、次に1%メタケイ酸ナトリウム水溶液85゜C、
30秒間封孔処理し、水洗、乾燥して、平版印刷用アル
ミニウム板を得た。
Production example-11 (Production of grain) Thickness 0. A 24 tm aluminum plate was immersed in a 3% aqueous sodium hydroxide solution to degrease it, washed with water, electrolytically etched in a 1% aqueous hydrochloric acid solution at 25"C for 5 minutes at a current density of 3A/dmz, and washed with water. % aqueous sodium hydroxide solution, washed with water, anodized in a 40% aqueous sulfuric acid solution at 30° C. for 2 minutes at a current density of I.5 A/dwr!, washed with water, and then anodized in a 1% aqueous sodium metasilicate solution 85% aqueous sodium metasilicate solution.゜C,
The pores were sealed for 30 seconds, washed with water, and dried to obtain an aluminum plate for planographic printing.

実施例1〜4、比較例1〜2 前記のようにして得られたアルミニウム板に下記に示す
組成の感光液をホワラーを用いて感光層ノ膜厚が1.6
 g/tmz〜1.7 gerIl” トナルヨウC’
:−’!布し85゜C3分間乾燥した。
Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 to 2 A photosensitive solution having the composition shown below was applied to the aluminum plate obtained as described above using a whirler to give a photosensitive layer thickness of 1.6.
g/tmz~1.7 gerIl" Tonaruyou C'
:-'! The cloth was dried at 85°C for 3 minutes.

(感光液組成) 高分子化合物1〜6        10gジアゾニウ
ム樹脂1〜4       1gポリアクリル酸(日本
純薬社製 ジュリマ−Ac−1OL     0.6gビクトリア
・ビュアーブル−BOH (保土ケ谷化学社製)      0. 2 g2−メ
トキシエタノール    1. 6 0 gなお、高分
子化合物、ジアゾ樹脂との組合せについては表−1に示
した。
(Photosensitive liquid composition) Polymer compounds 1 to 6 10g Diazonium resins 1 to 4 1g Polyacrylic acid (Jurimar-Ac-1OL manufactured by Nippon Pure Chemical Industries, Ltd. 0.6g Victoria View Blue-BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.2 g2-Methoxyethanol 1.60 g The combinations of polymer compounds and diazo resins are shown in Table 1.

得られた感光性平版印刷版を3kHの超高圧水銀灯でl
oocmの距離から、30秒間露光したのち、下記の現
像液を用いて、25゜C、45秒現像して、平版印刷版
を得た。
The obtained photosensitive planographic printing plate was heated with a 3 kHz ultra-high pressure mercury lamp.
After exposure for 30 seconds from a distance of oocm, development was performed at 25° C. for 45 seconds using the following developer to obtain a lithographic printing plate.

(現像液) ベンジルアルコール       50gトリエタノー
ルアミン       15g亜硫酸ソーダ     
      5g界面活性剤           5
0g水                  1000
gこれらの版の感度、及び現像性を調べた。
(Developer) Benzyl alcohol 50g Triethanolamine 15g Sodium sulfite
5g surfactant 5
0g water 1000
g The sensitivity and developability of these plates were investigated.

現像性については、上記現像液を現像液−1とし、それ
を、現像液−2、−3として、等倍量.2倍量の純水を
加え、希釈した希釈現像液を用いて、現像し、非画線部
の現像性を調べた。
Regarding the developability, the above-mentioned developer was designated as developer-1, and it was replaced with developer-2 and -3 in equal amounts. Two times the amount of pure water was added and a diluted developer was used for development, and the developability of the non-image area was examined.

更に、アルカリ性の湿し水(pH= 1 0 )を用い
て、耐刷力試験を枚葉印刷機にて実施し、画線部の着肉
不良又は画線部のカスレを生じた印刷枚数を耐剛力とし
た。
Furthermore, a printing durability test was conducted on a sheet-fed printing press using alkaline dampening water (pH = 10), and the number of printed sheets with poor inking or fading in the image area was calculated. Rigid strength.

これらの結果を表一lにまとめて示した。These results are summarized in Table I.

以下、実施例1〜4、比較例1〜2より、本発明の感光
性平版印刷版は、アルカリ湿し水を用いた場合の耐刷力
に優れ、かつ、現像性に優れることがわかる。
From Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 2 below, it can be seen that the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has excellent printing durability when using alkaline dampening water and excellent developability.

(発明の効果) 以下詳細に説明したように、本発明の特定の高分子化合
物を用いると、アルカリ湿し水を用いた印刷に於ける耐
刷力が高く、かつ現像性にも優れる平版印別版が得られ
るという顕著な効果が奏せられる。
(Effects of the Invention) As explained in detail below, when the specific polymer compound of the present invention is used, planographic printing that has high printing durability and excellent developability in printing using alkaline dampening water can be achieved. This has the remarkable effect of making it possible to obtain separate editions.

従って、本発明は、工業的に極めて有用なものである。Therefore, the present invention is extremely useful industrially.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 砂目立てし、陽極酸化処理したアルミニウム板上にジア
ゾニウム樹脂、および高分子化合物からなる感光層を設
けた平版印刷版において、該高分子化合物が、下記一般
式( I )で示される構造単位を含むことを特徴とする
感光性平版印刷版。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R_1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を
表わし、R_2およびR_3は、それぞれ、水素原子、
アルキル基を表わし、R_4はアルキル基、アルコキシ
基を表わし、mは、1〜3の整数を表わし、nは0〜4
の整数を表わし、Zは−O−、−NH−を表わす。)
[Scope of Claims] A lithographic printing plate in which a photosensitive layer consisting of a diazonium resin and a polymer compound is provided on a grained and anodized aluminum plate, wherein the polymer compound is represented by the following general formula (I). A photosensitive lithographic printing plate characterized by containing the structural unit shown below. General formula▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, R_1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and R_2 and R_3 are a hydrogen atom,
represents an alkyl group, R_4 represents an alkyl group or an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer of 0 to 4.
represents an integer, and Z represents -O- or -NH-. )
JP11664489A 1989-05-10 1989-05-10 Photosensitive planographic printing plate Pending JPH02294650A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11664489A JPH02294650A (en) 1989-05-10 1989-05-10 Photosensitive planographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11664489A JPH02294650A (en) 1989-05-10 1989-05-10 Photosensitive planographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02294650A true JPH02294650A (en) 1990-12-05

Family

ID=14692320

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11664489A Pending JPH02294650A (en) 1989-05-10 1989-05-10 Photosensitive planographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02294650A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2810998B2 (en) Photosensitive composition
JPH0642071B2 (en) Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate
JPH042943B2 (en)
JP2596005B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH02294646A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH02294650A (en) Photosensitive planographic printing plate
JP2622711B2 (en) Photosensitive composition
JPH02189545A (en) Production of planographic printing plate
JP2596004B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPS61284759A (en) Photosensitive composition for negative type lithographic plate
JPH02195356A (en) Production of planographic printing plate
JP2571354B2 (en) Photosensitive composition
JP2646579B2 (en) Photosensitive composition
JPH024251A (en) Negative photosensitive composition
JP2650323B2 (en) Photosensitive composition
JPS62133451A (en) Photosensitive composition and photosensitive lithographic plate material
JP2650322B2 (en) Photosensitive composition
JPH02220062A (en) Method for developing photosensitive material containing diazo resin
JPH05313364A (en) Photosensitive planographic printing plate
JP3276201B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPS6259947A (en) Photosensitive composition
JPH075686A (en) Photosensitive composition
JPH02111947A (en) Negative photosensitive composition
JPH024250A (en) Negative photosensitive printing plate
JPH03296755A (en) Image forming method