JPH02189545A - Production of planographic printing plate - Google Patents

Production of planographic printing plate

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Publication number
JPH02189545A
JPH02189545A JP1073989A JP1073989A JPH02189545A JP H02189545 A JPH02189545 A JP H02189545A JP 1073989 A JP1073989 A JP 1073989A JP 1073989 A JP1073989 A JP 1073989A JP H02189545 A JPH02189545 A JP H02189545A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
printing plate
diazo
photosensitive
compd
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1073989A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Fumiya
文屋 信一
Eriko Katahashi
片橋 恵理子
Masabumi Uehara
正文 上原
Shinichi Matsubara
真一 松原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP1073989A priority Critical patent/JPH02189545A/en
Publication of JPH02189545A publication Critical patent/JPH02189545A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve developability and plate wear without using a developer contg. an org. solvent by developing the photosensitive planographic printing plate having a photosensitive layer contg. a diazo compd., lipophilic high-polymer compd. and development accelerator on a base body by an aq. alkaline soln. having >=pH 12 after image exposing. CONSTITUTION:The photosensitive planographic printing plate having the photosensitive layer contg. the diazo compd., the lipophilic high-polymer compd. and the development accelerator on the base body is subjected to image exposing and is then developed by the aq. alkaline soln. which has >=pH 12 and contains substantially no org. solvents. While the conventional known compds. are usable as the diazo compd., a diazo resin as represented by the condensation product of an arom. diazonium salt and, for example, active carbonyl-contg. compd., more particularly, formaldenyde, is included and above all, the diazo resin soluble in org. solvents is more preferable. The planographic printing plate which is free from the toxicity, smells and the danger to fires and has the good developability is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、平版印刷版の製造方法に係り、特にネガ型感
光性平版印刷版に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for manufacturing a lithographic printing plate, and particularly to a negative photosensitive lithographic printing plate.

(従来の技術) 感光性印刷版は、一般にアルミニウム板等の支持体上に
感光性組成物を塗布し、陰画等を通して紫外線等の活性
光線を照射し、光が照射された部分を重合あるいは架橋
させ現像液に不溶化させ、光の非照射部分を現像液に溶
出させ、それぞれの部分を水を反発して油性インキを受
容する画像部、及び水を受容して油性インキを反発する
非画像部とすることにより得られる。
(Prior art) Photosensitive printing plates are generally produced by coating a photosensitive composition on a support such as an aluminum plate, irradiating active light such as ultraviolet rays through a negative image, and polymerizing or crosslinking the irradiated areas. The areas that are not irradiated with light are eluted into the developer, and each area is made into an image area that repels water and receives oil-based ink, and a non-image area that accepts water and repels oil-based ink. It can be obtained by

この場合における感光性組成物としてはp−ジアゾジフ
ェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物などのジア
ゾ樹脂が用いられ、又その現像液としては、有機溶剤と
アルカリ剤を含有するものが広く用いられてきた。
As the photosensitive composition in this case, a diazo resin such as a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde is used, and as the developer, one containing an organic solvent and an alkaline agent has been widely used.

(発明が解決しようとする問題点) しかし有機溶剤は一般に毒性及び臭気があり、また火災
に対する危険性を持っており、廃液においてもBOD規
制を受けるなど多くの不都合を有し、コストも高(なる
という問題がある。
(Problems to be Solved by the Invention) However, organic solvents are generally toxic, have an odor, and have a risk of fire, and also have many disadvantages such as being subject to BOD regulations for waste liquid, and are expensive ( There is a problem with becoming.

しかし、一方で単純に現像剤から有機溶剤を除くと現像
性が今一つ十分でない場合も生ずることが本発明者等に
よって見出された。
However, on the other hand, the present inventors have found that simply removing the organic solvent from the developer may result in insufficient developability.

(問題点を解決するための手段) 本発明者等は、かかる知見を基に上記の問題点を解決す
べく検討を重ねた結果、現像液としてpH12以上の実
質的に有機溶剤を含有しないアルヵリ水溶液で現像し、
かつ、その場合に印刷版の感光層中に現像促進剤を含有
せしめておくことが重要であることを見出して、本発明
に到達した。
(Means for Solving the Problems) As a result of repeated studies to solve the above problems based on this knowledge, the present inventors have developed an alkaline developer having a pH of 12 or more that does not substantially contain organic solvents. Developed with an aqueous solution,
In addition, in this case, the inventors discovered that it is important to include a development accelerator in the photosensitive layer of the printing plate, and arrived at the present invention.

即ち、本発明の要旨は、支持体上にジアゾ化合物、親油
性高分子化合物及び現像促進剤を含む感光層を有する感
光性平版印刷版を画像露光後、pl+12以上の実質的
に有機溶剤を含まないアルカリ水溶液で現像することを
特徴とする平版印刷版の製造方法に存する。
That is, the gist of the present invention is that after imagewise exposure of a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a diazo compound, a lipophilic polymer compound, and a development accelerator on a support, a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a diazo compound, a lipophilic polymer compound, and a development accelerator is prepared, after imagewise exposure. The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate, which is characterized by developing with an alkaline aqueous solution.

(発明の具体的構成) 本発明を説明すれば本発明は平版印刷版の製造方法に関
する発明であって、該平版印刷版の感光性組成物に含ま
れるジアゾ化合物としては従来公知のものが適宜使用で
きるが、芳香族ジアゾニウム塩と例えば活性カルボニル
含有化合物、特にホルムアルデヒドとの縮合物で代表さ
れるジアゾ樹脂が含まれ、その中で有機溶媒可溶性のジ
アゾ樹脂が好ましい。
(Specific Structure of the Invention) To explain the present invention, the present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate, and the diazo compound contained in the photosensitive composition of the lithographic printing plate may be any conventionally known diazo compound. Examples which can be used include diazo resins represented by condensates of aromatic diazonium salts and, for example, active carbonyl-containing compounds, especially formaldehyde, among which diazo resins soluble in organic solvents are preferred.

ジアゾ樹脂としては、例えばp−ジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドの縮合物と
、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩と
の有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩、
また米国特許3,300.309号明細書に記載されて
いるような、前記縮合物とスルホン酸類例えばパラトル
エンスルホン酸又はその塩、ホスフィン酸類例えばベン
ゼンホスフィン酸又はその塩、ヒドロキシル基含有化合
物例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン
酸又はその塩等の反応生成物である有機溶媒可溶性ジア
ゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。
Examples of the diazo resin include diazo resin inorganic salts which are organic solvent-soluble reaction products of a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde or acetaldehyde, and hexafluorophosphate or tetrafluoroborate;
Further, as described in U.S. Pat. , 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, or a salt thereof, and organic solvent-soluble diazo resin organic acid salts.

ジアゾ樹脂は久遠のものについても同様に感光層中に1
〜70重量%、特に3〜60重量%含有されるのが望ま
しい。
Similarly, diazo resin is 1 in the photosensitive layer for Kuon.
The content is desirably 70% by weight, particularly 3 to 60% by weight.

本発明において、好適に用いることができる他のジアゾ
樹脂は、少なくとも1つのカルボキシル基、ならびに少
なくとも1つのヒドロキシル基のうち少なくとも一方の
有機基を有する芳香族化合物と、ジアゾニウム化合物、
好ましくは芳香族ジアゾニウム化合物とを構造単位とし
て含む(共)縮合体である。
Other diazo resins that can be suitably used in the present invention include aromatic compounds having at least one organic group of at least one carboxyl group and at least one hydroxyl group; diazonium compounds;
Preferably, it is a (co)condensate containing an aromatic diazonium compound as a structural unit.

前記のカルボキシル基およびまたはヒドロキシル基を有
する芳香族化合物は、少なくとも1つのカルボキシル基
で置換された芳香族環およびまたは少なくとも1つのヒ
ドロキシル基で1換した芳香族環を分子中に含むもので
あって、この場合、上記カルボキシル基とヒドロキシル
基とが同一の芳香環に置換されていてもよい。
The above-mentioned aromatic compound having a carboxyl group and/or a hydroxyl group contains in the molecule an aromatic ring substituted with at least one carboxyl group and/or an aromatic ring monosubstituted with at least one hydroxyl group. In this case, the carboxyl group and the hydroxyl group may be substituted with the same aromatic ring.

そして上記の芳香族環としては、好ましくはアリール基
例えばフェニル基、ナフチル基を挙げることができる。
Preferable examples of the aromatic ring include aryl groups such as phenyl and naphthyl groups.

また前記のカルボキシル基あるいはヒドロキシル基は芳
香族環に直接結合してもよく、ジヨイントを介して結合
していてもよい。
Furthermore, the above carboxyl group or hydroxyl group may be bonded directly to the aromatic ring or may be bonded via a joint.

上記の場合において、1つの芳香族環に結合するカルボ
キシル基の数としては1または2が好ましく、また1つ
の芳香族環に結合するヒドロキシル基の数としてはl乃
至3が好ましい。さらにジヨイントとしては例えば炭素
数1乃至4のアルキレン基を挙げることができる。
In the above case, the number of carboxyl groups bonded to one aromatic ring is preferably 1 or 2, and the number of hydroxyl groups bonded to one aromatic ring is preferably 1 to 3. Furthermore, examples of joints include alkylene groups having 1 to 4 carbon atoms.

前述のカルボキシル基および/又はヒドロキシル基を含
有する芳香族化合物の具体例としては、安息香酸、0−
クロロ安息香酸、m−クロロ安息香酸、p−クロロ安息
香酸、フタル酸、テレフタル酸、ジフェニル酢酸、フェ
ノキシ酢酸、p−メトキシフェニル酢酸、p−メトキシ
安息香酸、2゜4−ジメトキシ安息香酸、2,4−ジメ
チル安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ
安息香酸、4−(m−メトキシアニリノ)安息香酸、4
−(p−メトキシベンゾイル)安息香酸、4−(p−メ
チルアニリノ)安息香酸、4−フェニルスルホニル安息
香酸、フェノール、(o、m、p)クレゾール、キシレ
ノール、レゾルシン、2−メチルレゾルシン、(o、m
、p)−メトキシフェノール、m−エトキシフェノール
、カテコール、フロログリシン、p−ヒドロキシエチル
フェノール、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン
、p−ヒドロキシベンジルアルコール、4−クロロレゾ
ルシン、ビフェニル4.4′−ジオール、工。
Specific examples of the above-mentioned aromatic compounds containing carboxyl groups and/or hydroxyl groups include benzoic acid, 0-
Chlorobenzoic acid, m-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, diphenylacetic acid, phenoxyacetic acid, p-methoxyphenylacetic acid, p-methoxybenzoic acid, 2゜4-dimethoxybenzoic acid, 2, 4-dimethylbenzoic acid, p-phenoxybenzoic acid, 4-anilinobenzoic acid, 4-(m-methoxyanilino)benzoic acid, 4
-(p-methoxybenzoyl)benzoic acid, 4-(p-methylanilino)benzoic acid, 4-phenylsulfonylbenzoic acid, phenol, (o, m, p) cresol, xylenol, resorcin, 2-methylresorcin, (o, m
, p)-methoxyphenol, m-ethoxyphenol, catechol, phloroglycin, p-hydroxyethylphenol, naphthol, pyrogallol, hydroquinone, p-hydroxybenzyl alcohol, 4-chlororesorcin, biphenyl 4,4'-diol, etc.

2.4−ベンゼントリオール、ビスフェノールA12,
4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,3゜4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン、p−ヒドロキシアセトフェノ
ン、4.4−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4.4
’ −ジヒドロキシジフェニルアミン、4.4’ −ジ
ヒドロキシジフェニルスルフィドクミルフェノール、(
01m、p)−クロロフェノール、(o、m、p)−ブ
ロモフェノール、サリチル酸、4−メチルサリチル酸、
6−メチルサリチル酸、4−エチルサリチル酸、6−プ
ロピルサリチル酸、6−ラウリルサリチル酸、6−スチ
アリルサリチル酸、4,6−シメチルサリチル酸、p−
ヒドロキシ安息香酸、2−メチル4−ヒドロキシ安息香
酸、6−メチル−4−ヒドロキシル安息香酸、2.6−
シメチルー4−ヒドロキシル安息香酸、2.4−ジヒド
ロキシ安息香酸、2.4−ジヒドロキシ−6−メチル安
息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−シヒ
ドロキシー4−安息香酸、4−クロロ−2,6ジヒドロ
キシ安息香酸、4−メトキシ−2,6−ジオキシ安息香
酸、没食子酸、フロログルシンカルボン酸、2,4.5
−)リヒドロキシ安息香M、、 m−カロイル没食子酸
、タンニン酸、m−ベンゾイル没食子酸、m−(p−)
ルイル)没食子酸、プロトカテクオイルー没食子酸、4
,6−シヒドロキシフタル酸、(2,4−ジヒドロキシ
フェニルl:酸、(2,6−シヒドロキシフエニル)酢
酸、(3,4,5−1−リヒドロキシフェニル)酢酸、
p−ヒドロキシメチル安息香酸、p−ヒドロキシエチル
安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニル)メチル安息
香酸、4−(o−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4
−(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−
(p−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸、4−(p−ヒ
ドロキシアニリノ)安息香酸、ビス(3−カルボキシ−
4−ヒドロキシフェニル)アミン、4− (p−ヒドロ
キシフェニルスルホニル)安息香# 4  (p−ヒド
ロキシフェニルチオ)安息香酸等があげられ、このうち
特に好ましいものは、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息
香酸、P−メチル安息香酸、メタクロロ安息香酸である
2.4-benzenetriol, bisphenol A12,
4-dihydroxybenzophenone, 2,3゜4-trihydroxybenzophenone, p-hydroxyacetophenone, 4.4-dihydroxydiphenyl ether, 4.4
'-dihydroxydiphenylamine, 4.4'-dihydroxydiphenylsulfidocumylphenol, (
01m,p)-chlorophenol, (o,m,p)-bromophenol, salicylic acid, 4-methylsalicylic acid,
6-methylsalicylic acid, 4-ethylsalicylic acid, 6-propylsalicylic acid, 6-laurylsalicylic acid, 6-stialylsalicylic acid, 4,6-dimethylsalicylic acid, p-
Hydroxybenzoic acid, 2-methyl-4-hydroxybenzoic acid, 6-methyl-4-hydroxybenzoic acid, 2.6-
Dimethyl-4-hydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxy-6-methylbenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,6-cyhydroxy-4-benzoic acid, 4-chloro-2 , 6 dihydroxybenzoic acid, 4-methoxy-2,6-dioxybenzoic acid, gallic acid, phloroglucincarboxylic acid, 2,4.5
-) Lihydroxybenzoic acid M, m-caroyl gallic acid, tannic acid, m-benzoyl gallic acid, m-(p-)
gallic acid, protocatechuoyl-gallic acid, 4
, 6-dihydroxyphthalic acid, (2,4-dihydroxyphenyl l: acid, (2,6-dihydroxyphenyl)acetic acid, (3,4,5-1-dihydroxyphenyl)acetic acid,
p-hydroxymethylbenzoic acid, p-hydroxyethylbenzoic acid, 4-(p-hydroxyphenyl)methylbenzoic acid, 4-(o-hydroxybenzoyl)benzoic acid, 4
-(2,4-dihydroxybenzoyl)benzoic acid, 4-
(p-hydroxyphenoxy)benzoic acid, 4-(p-hydroxyanilino)benzoic acid, bis(3-carboxy-
Examples include 4-hydroxyphenyl)amine, 4-(p-hydroxyphenylsulfonyl)benzoic #4 (p-hydroxyphenylthio)benzoic acid, and particularly preferred among these are salicylic acid, p-hydroxybenzoic acid, and P-hydroxybenzoic acid. Methylbenzoic acid and metachlorobenzoic acid.

前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす芳香族ジアゾ
ニウム化合物には、例えば特公昭49−48001に挙
げられているようなジアゾニウム塩を用いることができ
るが、特に、ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類
が好ましい。
As the aromatic diazonium compound constituting the structural unit of the above-mentioned co-condensed diazo resin, diazonium salts such as those listed in Japanese Patent Publication No. 49-48001 can be used, but diphenylamine-4-diazonium salts are particularly preferred. .

ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩類は、4−アミ
ノ−ジフェニル・アミン類から誘導されるが、このよう
な4−アミノ−ジフェニルアミン類としては、4−アミ
ノ−ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メトキシ−ジ
フェニルアミン、4−アミノ−2−メトキシ−ジフェニ
ルアミン、4′−アミノ−2−メトキシ−ジフェニルア
ミン、4′−アミノ−4−メトキシ−ジフェニルアミン
、4−アミノ−3−メチルジフェニルアミン、4−アミ
ノ−3−エトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−3
−β−ヒドロキシ−エトキシジフェニルアミン、4−ア
ミノ−ジフェニルアミン−2−スルホン酸、4−アミノ
−ジフェニルアミン−2カルボン酸、4−アミノ−ジフ
ェニルアミン−2′−カルボン酸等があげられ、特に好
ましくは、3−メトキシ−4−アミノ−ジフェニルアミ
ン、4−アミノ−ジフェニルアミンである。
Diphenylamine-4-diazonium salts are derived from 4-amino-diphenyl amines, including 4-amino-diphenylamine, 4-amino-3-methoxy-diphenylamine, 4-amino-2-methoxy-diphenylamine, 4'-amino-2-methoxy-diphenylamine, 4'-amino-4-methoxy-diphenylamine, 4-amino-3-methyldiphenylamine, 4-amino-3-ethoxy-diphenylamine , 4-amino-3
-β-hydroxy-ethoxydiphenylamine, 4-amino-diphenylamine-2-sulfonic acid, 4-amino-diphenylamine-2-carboxylic acid, 4-amino-diphenylamine-2'-carboxylic acid, etc., particularly preferably 3-amino-diphenylamine-2'-carboxylic acid, etc. -methoxy-4-amino-diphenylamine, 4-amino-diphenylamine.

上記共縮合ジアゾ樹脂は、公知の方法、例えば、フォト
グラフィック・サイエンス・アンド・エンジニアリング
(Photo、Sci、、Eng、)第17巻、第33
真(1973)、米国特許筒2゜063.631号、同
第2,679,498号各明細書に記載の方法に従い、
硫酸やリン酸あるいは塩酸中でジアゾニウム塩、カルボ
キシおよびまたはヒドロキシル基を有する芳香族化合物
およびアルデヒド類、例えばバラホルムアルデヒド、ア
セトアルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケトン類、
例えばアセトン、アセトフェノンとを重縮合させること
によって得られる。
The above-mentioned co-condensed diazo resin can be prepared by a known method, for example, Photographic Science and Engineering (Photo, Sci, Eng.) Vol. 17, No. 33.
According to the method described in Makoto (1973), U.S. Pat.
diazonium salts in sulfuric, phosphoric or hydrochloric acids, aromatic compounds and aldehydes having carboxyl and/or hydroxyl groups, such as paraformaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde or ketones;
For example, it can be obtained by polycondensing acetone and acetophenone.

また、これら分子中にカルボキシル基および/またはヒ
ドロキシル基を有する芳香族化合物、芳香族ジアゾ化合
物およびアルデヒド類またはケトン類は相互に組合せ自
由であり、さらに各々2種以上を混ぜて共縮合すること
も可能である。
Furthermore, these aromatic compounds, aromatic diazo compounds, and aldehydes or ketones having carboxyl groups and/or hydroxyl groups in their molecules can be freely combined with each other, and two or more of each can also be mixed and co-condensed. It is possible.

カルボキシル基およびヒドロキシル基のうち少なくとも
一方を有する芳香族化合物と芳香族ジアゾ化合物の仕込
みモル比は、1 : 0.1〜0.1:1;好ましくは
1:0.5〜0.2:1、より好ましくは1:1〜0.
2:1である。またこの場合カルボキシル基およびヒド
ロキシル基のうち少なくとも一方を有する芳香族化合物
および芳香族ジアゾ化合物の合計とアルデヒド類または
ケトン類とをモル比で通常i:o、e〜1.2、好まし
くは1:0.7〜1.5で仕込み、低温で短時間、例え
ば3時間程度反応させることにより共縮合ジアゾ樹脂が
得られる。
The molar ratio of the aromatic compound having at least one of a carboxyl group and a hydroxyl group to the aromatic diazo compound is 1:0.1 to 0.1:1; preferably 1:0.5 to 0.2:1. , more preferably 1:1 to 0.
The ratio is 2:1. In this case, the molar ratio of the total of aromatic compounds and aromatic diazo compounds having at least one of a carboxyl group and a hydroxyl group to aldehydes or ketones is usually i:o, e to 1.2, preferably 1: A co-condensed diazo resin can be obtained by charging 0.7 to 1.5 and reacting at a low temperature for a short time, for example, about 3 hours.

本発明において使用されるジアゾ樹脂の対アニオンは、
該ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を有機溶
媒に可溶となすアニオンを含む。
The counter anion of the diazo resin used in the present invention is
It contains an anion that stably forms a salt with the diazo resin and makes the resin soluble in an organic solvent.

これらは、デカン酸および安息香酸等の有機カルボン酸
、フェニルリン酸等の有機リン酸およびスルホン酸を含
み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロエ
タンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、お
よびアントラキノンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−
メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、ヒドロキシ
スルホン酸、4−アセチルベンゼンスルホン酸、ジメチ
ル−5−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳香族
スルホン酸、2.2’、4.4’−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノン、1,2.3−)リヒドロキシベンゾフエ
ノン、2.2’ 、4−)リヒドロキシベンゾフエノン
等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、
テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、C1,
Oa、 104等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、こ
れに限られるものではない。これらの中で、特に好まし
いものは、ヘキサフルオロリン酸、2−ヒドロキシ−4
−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸である。
These include organic carboxylic acids such as decanoic acid and benzoic acid, organic phosphoric acids such as phenylphosphoric acid, and sulfonic acids; typical examples include methanesulfonic acid, chloroethanesulfonic acid, dodecanesulfonic acid, benzenesulfonic acid. , toluenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, and anthraquinonesulfonic acid, 2-hydroxy-4-
Aliphatic and aromatic sulfonic acids such as methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, hydroxysulfonic acid, 4-acetylbenzenesulfonic acid, dimethyl-5-sulfoisophthalate, 2.2', 4.4'-tetrahydroxybenzophenone, 1,2.3-) hydroxybenzophenone, 2.2', 4-) hydroxyl group-containing aromatic compounds such as lyhydroxybenzophenone, hexafluorophosphoric acid,
Halogenated Lewis acids such as tetrafluoroboric acid, C1,
Examples include, but are not limited to, perhalogen acids such as Oa and 104. Among these, particularly preferred are hexafluorophosphoric acid, 2-hydroxy-4
-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid.

上記共縮合ジアゾ樹脂は、各単量体のモル比および縮合
条件を種々変えることにより、その分子量は任意の値と
して得ることができるが、本発明の目的とする使途に有
効に供するためには分子量が約400乃至io、ooo
のものが使用可能であるが、好ましくは、約800乃至
5,000のものが適当である。
The above-mentioned co-condensed diazo resin can have any molecular weight by varying the molar ratio of each monomer and the condensation conditions, but in order to effectively serve the purpose of the present invention, Molecular weight is about 400 to io, ooo
Although any number can be used, preferably about 800 to 5,000 is suitable.

また、本発明における親油性高分子化合物としては水不
溶でアルカリ可溶性(または膨潤性)重合体が好ましい
Moreover, as the lipophilic polymer compound in the present invention, a water-insoluble and alkali-soluble (or swellable) polymer is preferable.

このアルカリ可溶性重合体としては、下記(1)〜02
)に示すモノマーをその構造単位とする通常2〜20万
の分子量を持つ共重合体が挙げられる。
The alkali-soluble polymers include the following (1) to 02.
Examples include copolymers whose structural units are monomers shown in ) and which usually have a molecular weight of 20,000 to 200,000.

(1)芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル、およびメタクリル
酸エステル類、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)
アルキルアミド又はN−(4−ヒドロキシフェニル)メ
タクリルアミド、0m−1p−ヒドロキシスチレン、0
−1m−1P−ヒドロキシフェニル−アクリレート又は
メタクリレート、 (2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、お
よびメタクリル酸エステル類、例えば2ヒドロキシエチ
ルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、 (3)  アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等のα、β−不飽和カルボン酸、 (4)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメ
チルアミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルア
クリレート、(5)  メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタ
クリレート、アミルメタクリレート、シクロへキシルメ
タクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチル
メタクリレート等の(置換)アルキルメタクリレート、 (6)  アクリルアミド、メタクリルアミド、Nメチ
ロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−へキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリル
アミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチ
ル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若
しくはメタクリルアミド類、 (7)  エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビ
ニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエ
ーテル類、 (8)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類
、 (9)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン
、クロロメチルスチレン等のスチレン類、On)  メ
チルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニ
ルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、 (I+)  エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブ
タジェン、イソプレン等のオレフィン類、02)  N
−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビ
ニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリレートリル
等。
(1) Acrylamides, methacrylamides, acrylic esters, and methacrylic esters having an aromatic hydroxyl group, such as N-(4-hydroxyphenyl)
Alkylamide or N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide, 0m-1p-hydroxystyrene, 0
-1m-1P-hydroxyphenyl-acrylate or methacrylate, (2) Acrylic esters and methacrylic esters having aliphatic hydroxyl groups, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, (3) Acrylic acid, methacrylate acids, α, β-unsaturated carboxylic acids such as maleic anhydride, (4) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic acid.
(Substituted) alkyl acrylates such as 2-chloroethyl, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, (5) methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate,
(Substituted) alkyl methacrylates such as glycidyl methacrylate and N-dimethylaminoethyl methacrylate; (6) acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl Acrylamides or methacrylamides such as acrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide, (7) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether , vinyl ethers such as propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, (8) vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate, (9) styrene, α-methylstyrene, Styrenes such as methylstyrene and chloromethylstyrene, On) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone, (I+) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene, 02) N
-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylateril, etc.

更に、上記モノマーと共重合し得るモノマーを共重合さ
せてもよい。また、上記七ツマ−の共重合によって得ら
れる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレート、グ
リシジルアクリレート等によって修飾したものも含まれ
るがこれらに限られるものではない。
Furthermore, a monomer that can be copolymerized with the above monomer may be copolymerized. It also includes, but is not limited to, copolymers obtained by copolymerizing the above-mentioned heptamers and modified with glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, and the like.

さらに具体的には、上記(1)、 (2)に掲げた七ツ
マー等を含有する、水酸基を有する共重合体が好ましく
、さらには芳香族水酸基を有する共重合体が好ましい。
More specifically, a copolymer having a hydroxyl group containing the heptamers listed in (1) and (2) above is preferable, and a copolymer having an aromatic hydroxyl group is more preferable.

上記共重合体には(3)に掲げたα、β−不飽和カルボ
ン酸を含有することが特に好ましく、共重合体の好まし
い酸価の値は10〜100である。
It is particularly preferable that the copolymer contains an α,β-unsaturated carboxylic acid listed in (3), and the preferable acid value of the copolymer is 10 to 100.

上記共重合体の好ましい分子量は4〜15万である。The preferred molecular weight of the above copolymer is 40,000 to 150,000.

また上記共重合体には必要に応じて、ポリビニルブチラ
ール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂を添加してもよい。
Further, a polyvinyl butyral resin, a polyurethane resin, a polyamide resin, an epoxy resin, a novolac resin, or a natural resin may be added to the above copolymer as necessary.

この種のアルカリ可溶性重合体は、感光性組成物の固形
分中に通常40〜99重量%、好ましくは50〜95重
量%含有させる。
This type of alkali-soluble polymer is usually contained in the solid content of the photosensitive composition in an amount of 40 to 99% by weight, preferably 50 to 95% by weight.

またこのアルカリ可溶性重合体として特に好ましいのは
、メチルアクリレートを構造単位として有する重合体で
ある。この場合、さらに好ましいのは、次記の共重合体
である。
Particularly preferred as this alkali-soluble polymer is a polymer having methyl acrylate as a structural unit. In this case, more preferred are the following copolymers.

すなわち、分子構造中に、 (a)  アルコール性水酸基を有する構造単位及び/
又はフェノール性水酸基を有する構造単位を1〜50モ
ル%、 (b)  下記−数式■、 −CO,−C−・・・l N (式中、R1は水素原子又はアルキル基を表わす、)で
表わされる構造単位を5〜40モル%、(C)  メチ
ルアクリレートから形成される単位を5〜40モル%、 (d)  下記−数式■、 −CH2−C−・・・■ C0OR’ (式中、R2は水素原子、メチル基又はエチル基を表わ
し、R3は、炭素原子数2〜12のアルキル基又はアル
キル置換アリール基を表わす。)で表わされる構造単位
を25〜60モル%、及び(e)  カルボキシル基を
有する構造単位を2〜30モル%、 含有し、且つその重量平均分子量が5〜20万である共
重合体である。
That is, in the molecular structure, (a) a structural unit having an alcoholic hydroxyl group and/or
or 1 to 50 mol% of a structural unit having a phenolic hydroxyl group, (b) with the following formula (■), -CO, -C-...lN (wherein R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group); 5 to 40 mol% of the structural unit represented, (C) 5 to 40 mol% of units formed from methyl acrylate, (d) the following - formula ■, -CH2-C-...■ C0OR' (in the formula , R2 represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and R3 represents an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms or an alkyl-substituted aryl group. ) A copolymer containing 2 to 30 mol% of a structural unit having a carboxyl group and having a weight average molecular weight of 50,000 to 200,000.

前記アルコール性水酸基を有する構造単位を形成するモ
ノマーの具体例としては、特公昭52−7364号公報
に記載されたような下記一般弐■に示した化合物のごと
く (メタ)アクリル酸エステル類や、アクリルアミド
類が挙げられる。
Specific examples of the monomer forming the structural unit having an alcoholic hydroxyl group include (meth)acrylic acid esters such as the compounds shown in the following general 2) as described in Japanese Patent Publication No. 52-7364, Examples include acrylamides.

R5 式中、R4は水素原子又はメチル基、R5は水素原子、
メチル基、エチル基又はクロロメチル基、そしてnは1
〜10の整数を示す。
R5 In the formula, R4 is a hydrogen atom or a methyl group, R5 is a hydrogen atom,
Methyl group, ethyl group or chloromethyl group, and n is 1
Indicates an integer between ~10.

(メタ)アクリル酸エステル類の例としては、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシペンチル
(メタ)アクリレート等が、また、アクリルアミド類の
例としてはN−メチロール(メタ)アクリルアミド、N
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等が挙げら
れる。好ましくは2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートである。
Examples of (meth)acrylic acid esters include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxypentyl (meth)acrylate, and examples of acrylamides include N -Methylol (meth)acrylamide, N
-Hydroxyethyl (meth)acrylamide and the like. Preferably it is 2-hydroxyethyl (meth)acrylate.

また、フェノール性水酸基を有する構造単位を形成する
七ツマ−としては、例えばN−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−(メタ)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシ
フェニル)−(メタ)アクリルアミド、N−(4−ヒド
ロキシナフチル)−(メタ)アクリルアミド等の(メタ
)アクリルアミド類のモノマー:o−lm−又はp−ヒ
ドロキシフェニル(メタ)アクリレートモノマm:〇−
m −又ハル−ヒドロキシスチレンモノマー等があげら
れる。好ましくは、o−lm−又はp−ヒドロキシフェ
ニル(メタ)アクリレートモノマーN−(4−ヒドロキ
シフェニル)−(メタ)アクリルアミドモノマーであり
、さらに好ましくはN−(4−ヒドロキシフェニル)−
(メタ)アクリルアミドモノマーである。
In addition, examples of the seven polymers forming a structural unit having a phenolic hydroxyl group include N-(4-hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide, N-(2-hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide, N-( Monomer of (meth)acrylamides such as 4-hydroxynaphthyl)-(meth)acrylamide: o-lm- or p-hydroxyphenyl (meth)acrylate monomer m: 〇-
Examples include m-or ha-hydroxystyrene monomers. Preferably, o-lm- or p-hydroxyphenyl (meth)acrylate monomer N-(4-hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide monomer, more preferably N-(4-hydroxyphenyl)-
(meth)acrylamide monomer.

上記アルコール性水酸基を有する構造単位及び/又はフ
ェノール性水酸基を有する構造単位は、高分子化合物中
、1〜50モル%、好ましくは、5〜30モル%の範囲
から選ばれる。
The structural unit having an alcoholic hydroxyl group and/or the structural unit having a phenolic hydroxyl group is selected from the range of 1 to 50 mol%, preferably 5 to 30 mol%, in the polymer compound.

前記−数式Iで表わされる構造単位を形成する、側鎖に
シアノ基を有するモノマーとしては、アクリロニトリル
、メタクロロニトリル、2−ペンテンニトリル、2−メ
チル−3−ブテンニトリル、2−シアノエチルアクリレ
ート、0−1m−1p−シアノスチレン等が挙げられる
。好ましくはアクリロニトリル、メタクロロニトリルで
ある。該側鎖にシアノ基を有する構造単位の高分子化合
物の分子中に含有される割合は5〜40モル%、好まし
くは15〜35モル%の範囲から選ばれる。
Examples of monomers having a cyano group in the side chain that form the structural unit represented by formula I include acrylonitrile, methachloronitrile, 2-pentenenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, 0 -1m-1p-cyanostyrene and the like. Preferred are acrylonitrile and methachloronitrile. The proportion of the structural unit having a cyano group in the side chain contained in the molecule of the polymer compound is selected from the range of 5 to 40 mol%, preferably 15 to 35 mol%.

メチルアクリレートから形成される単位は、高分子化合
物中、5〜40モル%、好ましくは、10〜30モル%
の範囲から選ばれる。
The unit formed from methyl acrylate is 5 to 40 mol%, preferably 10 to 30 mol% in the polymer compound.
selected from the range.

前記−数式■で表わされる構造単位を形成する、側鎖に
カルボキシエステル基を有する七ツマ−としては、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアク
リレート、ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
アミルメタクリレート、ヘキシルアクリレート、オクチ
ルアクリレート、2−クロロエチルアクリレート、2−
とドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレー
ト、等が挙げられる。該モノマーから形成される単位は
、高分子化合物中、25〜60モル%、好ましくは、3
5〜60モル%の範囲から選ばれる。
Examples of the seven polymers having a carboxy ester group in the side chain that form the structural unit represented by formula (1) include ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate,
amyl methacrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-
and droxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, and the like. The unit formed from the monomer accounts for 25 to 60 mol%, preferably 3% by mole in the polymer compound.
It is selected from the range of 5 to 60 mol%.

また、カルボキシル基を有する構造単位を形成する七ツ
マ−としては、メタクリル酸、アクリル酸、無水マレイ
ン酸、マレイン酸、等が挙げられる。該七ツマ−は、高
分子化合物中、2〜30モル%、好ましくは、5〜15
モル%の範囲から選ばれる。
In addition, examples of the seven polymers forming a structural unit having a carboxyl group include methacrylic acid, acrylic acid, maleic anhydride, maleic acid, and the like. The amount of hexamer in the polymer compound is 2 to 30 mol%, preferably 5 to 15 mol%.
Selected from the range of mol%.

なお、以上の各構造単位を具体例として挙げたモノマー
から形成された単位に限定されるものではない。
Note that the above structural units are not limited to units formed from the monomers listed as specific examples.

感光性組成物中のバインダーとしてのアルカリ可溶性重
合体を合成する方法としては、−aに公知のラジカル重
合法等によって、例えばアゾビスイソブチロニトリル、
ベンゾイルパーオキシド等の開始剤(0,1〜4.0モ
ル%)を使用して溶液重合法によって容易に合成される
As a method for synthesizing the alkali-soluble polymer as a binder in the photosensitive composition, for example, azobisisobutyronitrile, azobisisobutyronitrile,
It is easily synthesized by a solution polymerization method using an initiator (0.1 to 4.0 mol %) such as benzoyl peroxide.

本発明において、ジアゾ化合物及び親油性高分子化合物
と共に平版印刷版の感光層中に含まれる現像促進剤とし
ては、酸無水物、長鎖アルコール類、フェノール性水酸
基含有物、セルロース類等が挙げられる。さらにこれら
の具体例としては無氷酢酸、無水プロピオン酸、無水酪
酸、無水グル、タル酸、無水ラウリン酸などの飽和脂肪
酸の酸無水物;無水安息香酸、無水フタル酸、無水ビロ
メット酸などの芳香族カルボン酸の酸無水物;無水イタ
コン酸などの不飽和脂肪酸の酸無水物;オイゲノール、
ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノー
ル、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノ
ールなどの長鎖アルコール頚;没食子酸エチル、安息香
酸エチル、オイゲノール、グアイアコール、イソオイゲ
ノール、PA樹脂などのフェノール性−011含有物;
ヒドロキシプロピルセルローステレフタレート、ヒドロ
キシプロピルセルロースベンゾアートなどのセルロース
類などを挙げることができ、これらは1種でもよいが、
複数種を併用してもよい。特に好ましいものは無水酢酸
、無水グルタル酸、無水ラウリン酸などの飽和脂肪酸の
酸無水物で炭素数が3〜20個のもの、ドデカノール、
テトラデカノールなどの炭素数が10−14個の長鎖ア
ルキルアルコール、ヒドロキシプロピルセルローステレ
フタレートなどのセルロースエステル等である。これら
現像促進剤は、感光性組成物中に0.1〜20重量%、
特に1〜10重量%混入させるのが好ましい。
In the present invention, the development accelerator contained in the photosensitive layer of the lithographic printing plate together with the diazo compound and the lipophilic polymer compound includes acid anhydrides, long-chain alcohols, substances containing phenolic hydroxyl groups, celluloses, etc. . Furthermore, specific examples of these include acid anhydrides of saturated fatty acids such as glacial acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, glu anhydride, talic acid, and lauric anhydride; aromatic anhydrides such as benzoic anhydride, phthalic anhydride, birometic anhydride, etc. Acid anhydrides of group carboxylic acids; acid anhydrides of unsaturated fatty acids such as itaconic anhydride; eugenol,
Long-chain alcohol necks such as nonanol, decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, tetradecanol, and pentadecanol; phenolic-011-containing substances such as ethyl gallate, ethyl benzoate, eugenol, guaiacol, isoeugenol, and PA resin;
Examples include celluloses such as hydroxypropyl cellulose terephthalate and hydroxypropyl cellulose benzoate, and only one type of these may be used.
You may use multiple types together. Particularly preferred are acid anhydrides of saturated fatty acids having 3 to 20 carbon atoms such as acetic anhydride, glutaric anhydride, and lauric anhydride, dodecanol,
These include long-chain alkyl alcohols having 10 to 14 carbon atoms such as tetradecanol, cellulose esters such as hydroxypropylcellulose terephthalate, and the like. These development accelerators are contained in the photosensitive composition in an amount of 0.1 to 20% by weight.
In particular, it is preferable to mix 1 to 10% by weight.

本発明における感光性平版印刷版の感光層には、さらに
色素を用いることができる。該色素は露光による可視画
像(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目
的として使用される。
A dye can further be used in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate in the present invention. The dye is used for the purpose of obtaining a visible image by exposure (exposed visible image) and a visible image after development.

該色素としては、フリーラジカルまたは酸と反応して色
調を変化するものが好ましく使用できる。
As the dye, one that changes color tone by reacting with free radicals or acids can be preferably used.

ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調へのい
ずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成して色
調を変化するものである。
Here, "the color tone changes" includes both a change from colorless to a colored tone, and a change from a color to colorless or a different colored tone. Preferred dyes are those that change color tone by forming salts with acids.

例えば、ビクトリアピュアブルーBOHC保土谷化学社
製〕、オイルブルー#603(オリエント化学工業社製
〕、パテントピュアブルー〔住友三国化学社製〕、クリ
スタルバイオレット、ブリリアントグリーン、エチルバ
イオレット、メチルバイオレット、メチルグリーン、エ
リスロシンB1ベイシンクツクシン、マラカイトグリー
ン、オイルレッド、m−クレゾールパープル、ローダミ
ンB1オーラミン、4−P−ジエチルアミノフェニルイ
ミノナフトキノン、シアノ−p〜ジエチルアミノフェニ
ルアセトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン系
、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンチン系、
イミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアントラキ
ノン系の色素が有色から無色あるいは異なる有色の色調
へ変化する変色剤の例として挙げられる。
For example, Victoria Pure Blue BOHC manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue #603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Patent Pure Blue [manufactured by Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.], Crystal Violet, Brilliant Green, Ethyl Violet, Methyl Violet, Methyl Green , erythrosin B1 basinin, malachite green, oil red, m-cresol purple, rhodamine B1 auramine, 4-P-diethylaminophenyl imino naphthoquinone, triphenylmethane type represented by cyano-p~diethylaminophenyl acetanilide, etc., diphenylmethane. type, oxazine type, xanthine type,
Iminonaphthoquinone-based, azomethine-based, or anthraquinone-based dyes are examples of color-changing agents that change color from colored to colorless or to a different colored tone.

一方、無色から有色に変化する変色剤としては、ロイコ
色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジフェニルアミ
ン、0−クロロアニリン、l、2゜3−トリフェニルグ
アニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェニルメタン
、ρ 、r −ビス−ジメチルアミノジフェニルアミン
、1.2−ジアニリノエチレン、p、p’、p″−トリ
ス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、p、p’ −
ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミン、p、p
’p#−トリアミノ−0−メチルトリフェニルメタン、
p、p’ −ビス−ジメチルアミノジフェニル−4−ア
ニリノナフチルメタン、p、p’ 、p″L−トリアミ
ノトリフェニルメタンに代表される第1級または第2級
アリールアミン系色素が挙げられる。
On the other hand, examples of color changing agents that change from colorless to colored include leuco dyes and, for example, triphenylamine, diphenylamine, 0-chloroaniline, l,2゜3-triphenylguanidine, naphthylamine, diaminodiphenylmethane, ρ, r-bis- Dimethylaminodiphenylamine, 1,2-dianilinoethylene, p, p', p''-tris-dimethylaminotriphenylmethane, p, p' -
Bis-dimethylaminodiphenylmethylimine, p, p
'p#-triamino-0-methyltriphenylmethane,
Examples include primary or secondary arylamine dyes represented by p,p'-bis-dimethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethane, p,p',p″L-triaminotriphenylmethane. .

特に好ましくはトリフェニルメタン系、ジフェニルメタ
ン系色素が有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェ
ニルメタン系色素であり、特にビクトリアピュアブルー
BOHである。
Particularly preferably triphenylmethane and diphenylmethane dyes are effectively used, more preferably triphenylmethane dyes, especially Victoria Pure Blue BOH.

上記色素は、感光性組成物中に通常約0.5〜約10重
量%が好ましく、より好ましくは約1〜5重量%である
The amount of the above dye in the photosensitive composition is generally preferably about 0.5 to about 10% by weight, more preferably about 1 to 5% by weight.

本発明における感光性平版印刷版の感光層には更に種々
の添加物を加えることができる。例えば塗布性向上剤と
して、アルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類や、ノニオ
ン系界面活性剤〔例えば、プルロニックL−64(旭電
化社製)〕等が、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を賦与するた
めの可塑剤としてブチルフタリル、ポリエチレングリコ
−ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル
酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル
、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリ
オクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリ
ル酸又はメタクリル酸のオリゴマー又はポリマー等が挙
げられ、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤と
しては例えば、特開昭55−527号公報記載のスチレ
ン−無水マレイン酸共重合体のアルコールによるハーフ
エステル化物等が挙げられ、安定剤としては例えば、ポ
リアクリル酸、酒石酸、リン酸、亜リン酸、有機酸(ア
クリル酸、メタクリル酸、クエン酸、シュウ酸、ベンゼ
ンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、4−メトキシ−
2−ヒドロキシベンゾフェノン−5−スルホン酸等)等
が挙げられる。これらの添加剤の添加量はその使用対象
目的によって異なるが、一般に全固形分に対して、0゜
01〜30重量%である。
Various additives can be further added to the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention. For example, alkyl ethers (e.g. ethyl cellulose,
Methylcellulose), fluorine-based surfactants, nonionic surfactants (e.g., Pluronic L-64 (manufactured by Asahi Denka)), etc. are used as plasticizers to impart flexibility and abrasion resistance to the coating film. Butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid Examples of the oil-sensitizing agent for improving the oil-sensitivity of the image area include alcohol-based half esters of styrene-maleic anhydride copolymers described in JP-A No. 55-527. Examples of stabilizers include polyacrylic acid, tartaric acid, phosphoric acid, phosphorous acid, organic acids (acrylic acid, methacrylic acid, citric acid, oxalic acid, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 4- Methoxy
2-hydroxybenzophenone-5-sulfonic acid, etc.). The amount of these additives added varies depending on the purpose for which they are used, but is generally 0.01 to 30% by weight based on the total solid content.

上述の感光性組成物を支持体表面に塗布乾燥させること
により感光性平版印刷版が得られる。
A photosensitive lithographic printing plate is obtained by applying the above photosensitive composition onto the surface of a support and drying it.

塗布溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロソル
ブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブア
セテート等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘ
キサノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケトン等
が挙げられる。
Examples of the coating solvent include cellosolves such as methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, and ethyl cellosolve acetate, dimethyl formamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, acetone, cyclohexanone, trichloroethylene, and methyl ethyl ketone.

これら溶媒は、単独であるいは2種以上混合して使用す
る。
These solvents may be used alone or in combination of two or more.

塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、デイツプ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である
。塗布量は固形分して0.2〜10g/ボが好ましい。
As the coating method, conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, curtain coating, etc. can be used. The coating amount is preferably 0.2 to 10 g/bo in terms of solid content.

本発明の感光性平版印刷版の支持体にはアルミニウム板
を用いることが好ましい。硝酸又は硝酸を主成分とする
電解溶液中、もしくは塩酸又は塩酸を主成分とする電解
溶液中で電解粗面化することにより砂目立て処理し、好
ましくは、更に陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理
等の表面処理したものを使用する。
It is preferable to use an aluminum plate as the support for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention. The surface is grained by electrolytic roughening in nitric acid or an electrolytic solution containing nitric acid as a main component, or in hydrochloric acid or an electrolytic solution containing hydrochloric acid as a main component, preferably further anodized and sealed if necessary. Use one that has undergone surface treatment such as hole treatment.

電解粗面化は、0.1〜0.5mol / 1、好まし
くは0.2〜0.4moQ/lの硝酸もしくは塩酸を含
有する浴中にアルミニウム板を浸漬し、20〜50゛C
1好ましくは25〜40’Cの温度、電流密度20〜2
00 A/dm2で10秒〜3分程度電解エツチングす
ることが好ましい。この砂目立て処理の後、必要に応じ
てアルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット処理
を行なって中和し、水洗する。
Electrolytic surface roughening is carried out by immersing an aluminum plate in a bath containing 0.1 to 0.5 mol/1, preferably 0.2 to 0.4 moQ/l of nitric acid or hydrochloric acid, and heating at 20 to 50°C.
1 Preferably a temperature of 25-40'C, a current density of 20-2
It is preferable to perform electrolytic etching at 0.00 A/dm2 for about 10 seconds to 3 minutes. After this graining treatment, if necessary, a desmut treatment is performed with an aqueous alkali or acid solution to neutralize the material, and the material is washed with water.

陽極酸化処理は、電解液として硫酸、クロム酸、シュウ
酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種以上含む溶液を
用い、アルミニウム板を陽極にして電解することにより
行なう。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50■/dm
2が適当であり、好ましくはlO〜40■/dII+2
である。ここで陽極酸化皮膜量は、例えばアルミニウム
液をリン酸クロム酸溶液(85%リン酸水溶液35m1
.と、酸化クロム(VI)20gとを12の水に溶解し
て生成)に浸漬して酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前
後の重量変化を測定することにより求めることができる
The anodizing treatment is performed by electrolyzing using an aluminum plate as an anode using a solution containing one or more of sulfuric acid, chromic acid, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid, etc. as an electrolyte. The amount of anodic oxide film formed is 1 to 50 μ/dm
2 is suitable, preferably lO~40■/dII+2
It is. Here, the amount of anodized film is determined by replacing the aluminum solution with a phosphoric acid chromic acid solution (35 ml of 85% phosphoric acid aqueous solution).
.. and 20 g of chromium (VI oxide) dissolved in water) to dissolve the oxide film, and measure the weight change of the plate before and after the film is dissolved.

封孔処理としては、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソ
ーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等がある。この他に
アルミニウム支持体に対して、水溶性高分子化合物や、
フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液により下引処理を
施すこともできる。
Pore sealing treatments include boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, and the like. In addition, water-soluble polymer compounds,
Subbing treatment can also be performed using an aqueous solution of a metal salt such as fluorinated zirconate.

このようにして得られた感光性平版印刷版は公知の方法
により使用することができる。典型的には、感光性印刷
版にネガ型フィルムを密着させ、超高圧水銀灯、メタル
ハライドランプ等で露光し、公知の様々な現像液を用い
て現像し、印刷版とする。このようにして作製された平
版印刷版は枚葉、オフ輪用印刷機において使用すること
ができる。
The photosensitive lithographic printing plate thus obtained can be used by a known method. Typically, a negative film is brought into close contact with a photosensitive printing plate, exposed to light using an ultra-high pressure mercury lamp, metal halide lamp, etc., and developed using various known developers to obtain a printing plate. The lithographic printing plate produced in this way can be used in sheet-fed and off-wheel printing presses.

すなわち、線画像、網点画像等を有する透明原画を通し
て感光し、次いで、水性現像液で現像することにより、
原画に対してネガのレリーフ像が得られる。露光に好適
な光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ、ストロボ等が挙げられ
る。
That is, by exposing to light through a transparent original having line images, halftone images, etc., and then developing with an aqueous developer,
A negative relief image is obtained for the original image. Light sources suitable for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, strobes, and the like.

本発明における感光性平版印刷版の現像処理に用いられ
る現像液は、実質的に有機溶媒を含まないアルカリ性の
水性溶液である。
The developer used in the development of the photosensitive lithographic printing plate in the present invention is an alkaline aqueous solution containing substantially no organic solvent.

有機溶剤を「実質的に含有しない」とは、前記の衛生上
、安全性上等における効果を損うほどは含有しない、の
意であり、−船釣に現像液組成物中1重量%以下であれ
ば、問題はない。
"Substantially no organic solvent" means that the organic solvent is not contained in such an amount as to impair the above-mentioned sanitary and safety effects, and - 1% by weight or less in the developer composition for boat fishing. If so, there is no problem.

本発明において好ましい有機溶剤含有量は0.5重量%
以下、より好ましくは全く含有しない態様である。本発
明に係わる現像液に用いるアルカリ剤として好ましくは
ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、
第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リ
ン酸カリウム、第ニリン酸カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等が挙げられる。これらの中でもケイ酸カ
リウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム等のケイ酸
アルカリを含有する現像液は現像階調性が良好なため最
も好ましく、ケイ酸アルカリの組成がモル比で(340
□)/(M)〜0.5〜1.5(ここに(SiOz)、
(M)はそれぞれSingのモル濃度と総アルカリ金属
のモル濃度を示す。)であり、かつSiO□を0.8〜
8重量%含有する現像液が好ましく用いられる。このケ
イ酸アルカリ組成のうち、特にモル比で(Si(h )
 / CM ) = 0.5〜0゜75であり、かつS
iO□が0.8〜4重量%の現像液は、低濃度のため現
像廃液の中和が容易なことから好ましく用いられ、一方
0.75を超え1.3までのモル比であり、かつSiO
2が1〜8重量%の現像液は緩衝力が高(、処理能力が
高いことから好適に用いられる。本発明に係わる現像液
のpH(25℃)は12以上であり、好ましくは12.
5〜14である。また、該現像液中には、例えば亜硫酸
ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸
マグネシウムなどの水溶性亜硫酸塩を添加することがで
きる。亜硫酸塩の現像液組成物中における好ましい含有
量は、0.05〜4重量%で、より好ましくは0.1〜
1重量%である。
In the present invention, the preferred organic solvent content is 0.5% by weight.
The following is a more preferable embodiment in which it is not contained at all. The alkaline agent used in the developer according to the present invention is preferably potassium silicate, lithium silicate, sodium silicate,
Sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide,
Sodium triphosphate, sodium diphosphate, potassium triphosphate, potassium diphosphate, sodium carbonate,
Examples include potassium carbonate. Among these, a developer containing an alkali silicate such as potassium silicate, lithium silicate, or sodium silicate is most preferable because it has good development gradation.
□) / (M) ~ 0.5 ~ 1.5 (here (SiOz),
(M) indicates the molar concentration of Sing and the molar concentration of total alkali metals, respectively. ), and SiO□ is 0.8~
A developer containing 8% by weight is preferably used. Of this alkali silicate composition, especially in terms of molar ratio (Si(h)
/CM) = 0.5 to 0°75, and S
A developer solution with an iO□ of 0.8 to 4% by weight is preferably used because it is easy to neutralize the developer waste solution due to its low concentration, while a developer solution with a molar ratio of more than 0.75 and up to 1.3, and SiO
A developer containing 1 to 8% by weight of 2 is suitably used because of its high buffering power (and high processing ability).The pH (at 25° C.) of the developer according to the present invention is 12 or higher, preferably 12.
5 to 14. Furthermore, water-soluble sulfites such as sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, and magnesium sulfite can be added to the developer. The preferred content of sulfite in the developer composition is 0.05 to 4% by weight, more preferably 0.1 to 4% by weight.
It is 1% by weight.

また、該現像液中に、特開昭50−51324号公報に
記載されているような、アニオン性界面活性剤、および
両性界面活性剤、特開昭59−75255号公報、同6
0−111246号公報に記載されているような非イオ
ン性界面活性剤のうち少なくとも一つ含有させることに
より、または特開昭55−95946号公報、同56−
142528号公報に記されるように高分子電解質を含
有させることにより、感光性組成物への濡れ性を高めた
り、階調性をさらに高めることができ、好ましく用いら
れる。かかる界面活性剤の添加量は特に制限はないが、
O,OO3〜3重量%が好ましく、特にO,OO6〜1
重量%の濃度が好ましい。
In addition, an anionic surfactant and an amphoteric surfactant as described in JP-A-50-51324, and an amphoteric surfactant as described in JP-A-59-75255 and JP-A-59-75255,
By containing at least one of the nonionic surfactants as described in JP-A-55-95946 and JP-A-55-95946,
As described in Japanese Patent No. 142528, the inclusion of a polymer electrolyte can improve the wettability of the photosensitive composition and further improve the gradation, and is therefore preferably used. There is no particular limit to the amount of surfactant added, but
3 to 3% by weight of O,OO is preferred, particularly 6 to 1% of O,OO
Concentrations in weight percent are preferred.

さらに該ケイ酸アルカリのアルカリ金属として全アルカ
リ金属中、カリウムを20モル%以上含むことが、現像
液中での不溶物発生が少ないため好ましく、より好まし
くはカリウムを90モル%以上含むことであり、最も好
ましくはカリウムが100モル%の場合である。
Further, it is preferable that the alkali silicate contains at least 20 mol% of potassium as the alkali metal in all the alkali metals, since the generation of insoluble matter in the developer is small, and more preferably 90 mol% or more of potassium. , most preferably when the potassium content is 100 mol %.

さらに、本発明に使用される現像液には消泡剤を含有さ
せることができる。好適な消泡剤には有機シラン化合物
が挙げられる。
Furthermore, the developer used in the present invention can contain an antifoaming agent. Suitable antifoaming agents include organosilane compounds.

上記のような現像液で画像露光された本発明に係わる感
光性平版印刷版を現像する方法としては従来公知の種々
の方法が可能である。具体的には画像露光された本発明
に係わる感光性平版印刷版を現像液中に浸漬する方法、
当該本発明に係わる感光性平版印刷版の感光層に対して
多数のノズルから現像液を噴出する方法、現像液が湿潤
されたスポンジで当該本発明に係わる感光性平版印刷版
の感光層を拭う方法、当該PS版の感光層の表面に現像
液をローラー塗布する方法などが挙げられる。またこの
ようにしてPS版の感光層に現像液を施した後、感光層
の表面をブラシなどで軽く擦ることもできる。現像条件
については、前記現像方法に応じて適宜選ぶことができ
る。−例を示すと、例えば浸漬による現像方法では約l
O〜40°Cの現像液に約10〜80秒間浸漬させる方
法が選ばれる。
Various conventionally known methods can be used to develop the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention which has been imagewise exposed with the developer as described above. Specifically, a method of immersing an image-exposed photosensitive lithographic printing plate according to the present invention in a developer;
A method of ejecting a developer from a number of nozzles onto the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention, and wiping the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention with a sponge moistened with the developer. method, and a method of applying a developer to the surface of the photosensitive layer of the PS plate using a roller. Further, after applying the developer to the photosensitive layer of the PS plate in this manner, the surface of the photosensitive layer can be lightly rubbed with a brush or the like. The developing conditions can be appropriately selected depending on the developing method. - To give an example, for example, in the development method by immersion, about 1
A method of immersing the film in a developer solution at 0 to 40°C for about 10 to 80 seconds is selected.

〔実施例〕〔Example〕

以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

アルミニウム板−1の製造 厚さ0.24 axのアルミニウム板を17 g、#の
塩酸浴中で浴温度25°Cにて50A/dm”で25秒
間電解研摩処理を行い、最大粗さ4μmの砂目板を得た
。該砂目板を40重量%のリン酸浴中で、浴温度35゛
Cにて3.2 A/d+*” テ20秒間陽極酸化処理
を行った。次に該陽極酸化処理されたアルミニウム板を
、メタケイ酸ナトリウム1重景%液にて90°Cで30
秒間浸漬し封孔処理を行った。
Production of Aluminum Plate-1 17 g of an aluminum plate with a thickness of 0.24 ax was subjected to electrolytic polishing treatment for 25 seconds at 50 A/dm'' in a ## hydrochloric acid bath at a bath temperature of 25 °C, and the maximum roughness was 4 μm. A grained board was obtained. The grained board was anodized in a 40% by weight phosphoric acid bath at a bath temperature of 35° C. for 20 seconds at 3.2 A/d+*. Next, the anodized aluminum plate was heated at 90°C for 30 minutes in a 1% sodium metasilicate solution.
It was immersed for a second to seal the holes.

その後、水洗、乾燥を行い、アルミニウム板−1とした
Thereafter, it was washed with water and dried to obtain an aluminum plate-1.

ジアゾ化合物−1の合成 p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5 g(50
ミリモル)を水冷下で40.9 gの濃硫酸に溶解した
。この反応液に1.5g(50ミリモル)のバラホルム
アルデヒドをゆっくり滴下した。この際、反応温度が1
0°Cを超えないように添加していった。その後、2時
間水冷下かくはんを続けた。
Synthesis of diazo compound-1 p-diazodiphenylamine sulfate 14.5 g (50
mmol) was dissolved in 40.9 g of concentrated sulfuric acid under water cooling. To this reaction solution, 1.5 g (50 mmol) of rose formaldehyde was slowly added dropwise. At this time, the reaction temperature is 1
It was added so that the temperature did not exceed 0°C. Thereafter, stirring was continued for 2 hours under water cooling.

この反応混合物を水冷下、500 mlのエタノールに
滴下し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄後、
この沈殿物を100mfの純水に溶解し、この液に6.
8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じ
た沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これを15O
n/!の純水に溶解した。この液に8gのへキサフルオ
ロリン酸アンモニウムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた
。生じた沈殿を濾取し水洗した後、30℃、1昼夜乾燥
してジアゾ化合物−1を得た。
This reaction mixture was added dropwise to 500 ml of ethanol under water cooling, and the resulting precipitate was filtered. After washing with ethanol,
Dissolve this precipitate in 100 mf of pure water and add 6.
A cold concentrated aqueous solution of 8 g of zinc chloride was added. The resulting precipitate was filtered, washed with ethanol, and then dissolved in 150
n/! was dissolved in pure water. To this liquid was added a cold concentrated aqueous solution in which 8 g of ammonium hexafluorophosphate was dissolved. The resulting precipitate was collected by filtration, washed with water, and then dried at 30°C for one day and night to obtain diazo compound-1.

このジアゾ化合物−1をGPCにより分子量を測定した
ところ、5量体以上が約50モル%含まれていた。
When the molecular weight of this diazo compound-1 was measured by GPC, it was found that it contained about 50 mol% of pentamers or more.

ジアゾ化合物−2の合成 p−ヒドロキシ安息香酸3.5g(0,025モル)お
よび4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩22.0g(0
,025モル)を水冷下で90gの濃硫酸に溶解した。
Synthesis of diazo compound-2 3.5 g (0,025 mol) of p-hydroxybenzoic acid and 22.0 g (0,025 mol) of 4-diazodiphenylamine sulfate
, 025 mol) was dissolved in 90 g of concentrated sulfuric acid under water cooling.

この反応後に2.7gのパラホルムアルデヒド(0,0
9モル)をゆっくり添加した。この際、反応温度がio
’cを超えないように添加していった。その後、2時間
水冷下かくはんを続けた。
After this reaction, 2.7 g of paraformaldehyde (0,0
9 mol) was added slowly. At this time, the reaction temperature is io
It was added so as not to exceed 'c. Thereafter, stirring was continued for 2 hours under water cooling.

この反応混合物に水冷下、1!のエタノールに注入L7
、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄後、この沈
殿物を200nlの純水に溶解し、この液に10.5 
gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた
沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これを300m
j2の純水に溶解した。
This reaction mixture was cooled with water for 1. Inject into ethanol L7
, the resulting precipitate was filtered. After washing with ethanol, this precipitate was dissolved in 200 nl of pure water, and 10.5
A cold concentrated aqueous solution of 1 g of zinc chloride was added. The resulting precipitate was filtered, washed with ethanol, and washed with 300 m
It was dissolved in pure water of j2.

この液に13.7 gのへキサフルオロリン酸アンモニ
ウムを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾
別し水洗した後、30°C51昼夜乾燥してジアゾ化合
物−2を得た。
A cold concentrated aqueous solution containing 13.7 g of ammonium hexafluorophosphate was added to this solution. The resulting precipitate was filtered, washed with water, and then dried at 30°C for 51 days to obtain diazo compound-2.

このジアゾ化合物−2をGPCにより分子量を測定した
ところ、重量平均分子量で約2000であった。
When the molecular weight of this diazo compound-2 was measured by GPC, it was found to be about 2000 in weight average molecular weight.

親油性高分子化合物−1の合成 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド10
.0g、アクリロニトリル25g、エチルアクリレート
60g、メタクリル酸5g及びアゾビスイソブチロニト
リル2.0gをアセトン−メタノール1:1混合溶液1
20mj!に溶解し、窒素置換した後60°Cで8時間
加熱した。
Synthesis of lipophilic polymer compound-1 N-(4-hydroxyphenyl) methacrylamide 10
.. 0g, acrylonitrile 25g, ethyl acrylate 60g, methacrylic acid 5g and azobisisobutyronitrile 2.0g in acetone-methanol 1:1 mixed solution 1
20mj! After dissolving the mixture in the solution and purging it with nitrogen, it was heated at 60°C for 8 hours.

反応終了後、反応液を水5乏にか(はん下注ぎ、生じた
白色沈殿を4取乾燥して高分子化合物−1を90g得た
After the reaction was completed, the reaction solution was poured into 5 drops of water, and the resulting white precipitate was dried to obtain 90 g of polymer compound-1.

この親油性高分子化合物〜1をGPCにより分子量の測
定をしたところ、重量平均分子量は6.3万であった。
When the molecular weight of this lipophilic polymer compound ~1 was measured by GPC, the weight average molecular weight was 63,000.

実施例1〜4.比較例1〜2 前記のようにして得たアルミニウム板−1に次の様な組
成から成る感光液をホワラーを用いて塗布した後、85
°Cで3分間乾燥し、感光性平版印刷版を得た。
Examples 1-4. Comparative Examples 1 to 2 After applying a photosensitive liquid having the following composition to the aluminum plate-1 obtained as described above using a whirler,
It was dried at °C for 3 minutes to obtain a photosensitive planographic printing plate.

(感光液組成) 親油性高分子化合物−15,0g ジアゾ化合物        表−1に記載ジュリマー
AC−1OL       0.3g(日本純薬■製) ビクトリアピュアーブルーBOH0,2g(保土谷化学
■製) 現像促進剤         表−1に記載PP−31
21”          0.05gメチルセロソル
ブ        10ml*PP−31 得られた感光性平版印刷版を3kHの超高圧水銀灯で1
00cmの距離から30秒間露光した後、下記に示す現
像液−1を所定の倍率に水で希釈し25°C545秒の
条件で現像を行なった。
(Photosensitive liquid composition) Lipophilic polymer compound - 15.0g Diazo compound Listed in Table 1 Jurimer AC-1OL 0.3g (manufactured by Nippon Pure Chemical) Victoria Pure Blue BOH 0.2g (manufactured by Hodogaya Chemical) Development acceleration Agent PP-31 listed in Table-1
21” 0.05g methyl cellosolve 10ml*PP-31 The obtained photosensitive planographic printing plate was heated with a 3kHz ultra-high pressure mercury lamp.
After exposure for 30 seconds from a distance of 0.00 cm, developer-1 shown below was diluted with water to a predetermined magnification and development was performed at 25° C. for 545 seconds.

また、このうち希釈率4倍で現像したものについてハイ
デルベルグ社製GTO印刷機で上質紙に一1インキ(東
洋ウルトラキング紅)を用いて耐刷テストを行なった。
In addition, for those developed at a dilution rate of 4 times, a printing durability test was conducted using No. 11 ink (Toyo Ultra King Beni) on high-quality paper using a GTO printing machine manufactured by Heidelberg.

以上の結果を表−2に示した。The above results are shown in Table-2.

(現像液−1) JISけい酸ソーダ3号      2210 g(旭
電化工業■製) 水酸化ナトリウム(工業用)     1150g亜硫
酸ナトリウム           67g水    
                  2500+++
 1表 *現像性基準 以上の実施例−1〜4.比較例−1〜2より、本発明に
よる感光性平版印刷版は、本発明による現像液を用いて
現像した場合、優れた現像性を示し、さらに耐剛力の優
れた平版印刷版が得られることがわかる。
(Developer-1) JIS Sodium Silicate No. 3 2210 g (manufactured by Asahi Denka Kogyo ■) Sodium hydroxide (industrial use) 1150 g Sodium sulfite 67 g Water
2500+++
Table 1 *Examples that exceeded the developability standard - 1 to 4. Comparative Examples 1 and 2 show that the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention exhibits excellent developability when developed using the developer according to the present invention, and a lithographic printing plate with excellent stiffness resistance can be obtained. I understand.

(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明の平版印刷版の製造
方法は、有機溶剤を含む現像液を使用せずに現像性及び
耐剛力に優れた平版印刷版を与えるという、効果を奏す
るものである。
(Effects of the Invention) As explained in detail above, the method for producing a lithographic printing plate of the present invention provides a lithographic printing plate with excellent developability and stiffness resistance without using a developer containing an organic solvent. It is effective.

出願人三菱化成株式会社はか1名 代理人 弁理士 長谷用  −ほか1名手 続 補 正
 書 (自発) 平r1.1年8°月2ざ日 平成1年特許顧第10739号 発明の名称 平版印刷版の製造方法 補正をする者 東京都千代田区丸の内二丁目5番2号 5 !fi正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 6 M正の内容
Applicant: Mitsubishi Kasei Co., Ltd., 1 agent, Patent attorney Hase, and 1 other person Procedural amendment (spontaneous) Date of August 2, 1999 No. 10739 Name of the invention Person who corrects the manufacturing method of printing plates 2-5-2-5 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo! Column 6 of “Detailed Description of the Invention” of the specification subject to fi-correct Contents of M-correct

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 支持体上にジアゾ化合物、親油性高分子化合物及び現像
促進剤を含有する感光層を有する感光性平版印刷版を、
画像露光後pH12以上の実質的に有機溶剤を含まない
アルカリ水溶液で現像して平版印刷版を製造することを
特徴とする平版印刷版の製造方法。
A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a diazo compound, a lipophilic polymer compound, and a development accelerator on a support,
1. A method for producing a lithographic printing plate, which comprises developing the lithographic printing plate with an alkaline aqueous solution having a pH of 12 or higher and substantially free of organic solvents after image exposure.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04212965A (en) * 1990-12-06 1992-08-04 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of planographic printing plate
JPH05165208A (en) * 1991-12-17 1993-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPH0651527A (en) * 1990-12-13 1994-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd Production of planographic printing plate
EP1209527A1 (en) * 2000-11-28 2002-05-29 Shipley Company LLC Photoresist composition

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04212965A (en) * 1990-12-06 1992-08-04 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of planographic printing plate
JPH0651527A (en) * 1990-12-13 1994-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd Production of planographic printing plate
JPH05165208A (en) * 1991-12-17 1993-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
EP1209527A1 (en) * 2000-11-28 2002-05-29 Shipley Company LLC Photoresist composition

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