JPS6271224A - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置Info
- Publication number
- JPS6271224A JPS6271224A JP60210123A JP21012385A JPS6271224A JP S6271224 A JPS6271224 A JP S6271224A JP 60210123 A JP60210123 A JP 60210123A JP 21012385 A JP21012385 A JP 21012385A JP S6271224 A JPS6271224 A JP S6271224A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- electron beam
- matrix
- astigmatism
- chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、マルチ電子ビーム露光装置に関する。
集積回路はますます高密度化が進み、このため微細パタ
ーンを形成することが比較的容易な電子ビーム描画がパ
ターン形成に用いられるようになってきている。しかし
電子ビーム描画は単位時間当りに処理できるウェー７１
枚数はまだ少く、集積回路製造に広く用いられるには至
ってないのが現状である。
ーンを形成することが比較的容易な電子ビーム描画がパ
ターン形成に用いられるようになってきている。しかし
電子ビーム描画は単位時間当りに処理できるウェー７１
枚数はまだ少く、集積回路製造に広く用いられるには至
ってないのが現状である。
従来、描画時間の短縮を図るため複数個の電子ビームを
用いたいわゆるマルチビーム方式の描画装置が提案され
ている、この装置は、対物レンズがマトリクス状に並べ
た多数のレンズからなっている。この種のマルチビーム
描画装置において、小レンズの数が多い程多くのチップ
を同時描画でき、それだけ描画速度を高めることができ
るが。
用いたいわゆるマルチビーム方式の描画装置が提案され
ている、この装置は、対物レンズがマトリクス状に並べ
た多数のレンズからなっている。この種のマルチビーム
描画装置において、小レンズの数が多い程多くのチップ
を同時描画でき、それだけ描画速度を高めることができ
るが。
各レンズの像画湾曲のためマトリクス状に配設された小
レンズ群の中央の小レンズを通過する電子ビームをウェ
ーハ上に集束させた場合、周辺の小レンズを通過する電
子ビームはウェーハの手前で集束するようになり、ウェ
ーハでは像のボケが生ずる。この像面湾曲によるボケは
対物？パーチャ軸からの距離が遠ざかるに従って大きく
なるので、小レンズの数すなわち同時に描画できるチッ
プ数を制限していた。
レンズ群の中央の小レンズを通過する電子ビームをウェ
ーハ上に集束させた場合、周辺の小レンズを通過する電
子ビームはウェーハの手前で集束するようになり、ウェ
ーハでは像のボケが生ずる。この像面湾曲によるボケは
対物？パーチャ軸からの距離が遠ざかるに従って大きく
なるので、小レンズの数すなわち同時に描画できるチッ
プ数を制限していた。
この発明の目的は上述した従来装置の欠点を改良したも
ので！レイレンズの周辺部のビームの非点収差を低減で
きるマルチビーム盟の電子ビーム露光装置を提供するこ
とを目的とする。
ので！レイレンズの周辺部のビームの非点収差を低減で
きるマルチビーム盟の電子ビーム露光装置を提供するこ
とを目的とする。
第２図に示すような通常の靜電戯フインツエルレンズ５
１，５２．５３に角度ｔで斜め入射する開口αのビーム
６１は非点収差として、 ＫＡｔα をもつ。
１，５２．５３に角度ｔで斜め入射する開口αのビーム
６１は非点収差として、 ＫＡｔα をもつ。
さらにフインツエルレンズの第２のアパーチャ５２をＳ
をパラメータとして偏平させるとそのためのビームの非
点収差は、 ｘ、 ｓ２工 となる。但しＳは偏平度として（長径−短径）／（長径
＋短径）とする。ここでＳを、 となるよ５に選ぶと、総合した非点収差は打ち消し合っ
て零となり、！レイレンズ全体にわたって収差の小さい
均一な光学系を実現することが出来る。本発明はこのよ
うな原理を用いたものである。
をパラメータとして偏平させるとそのためのビームの非
点収差は、 ｘ、 ｓ２工 となる。但しＳは偏平度として（長径−短径）／（長径
＋短径）とする。ここでＳを、 となるよ５に選ぶと、総合した非点収差は打ち消し合っ
て零となり、！レイレンズ全体にわたって収差の小さい
均一な光学系を実現することが出来る。本発明はこのよ
うな原理を用いたものである。
この発明によって周辺部で非点によるビームのボケの少
ないマルチビーム凰電子ビーム露光装置を得ることが出
来る。
ないマルチビーム凰電子ビーム露光装置を得ることが出
来る。
第１図は本発明の一実施例のマルチビーム描画装置の構
成図である。図中Ｇυはカソード、Ｇ４はグリッド、（
至）はアノード、（財）はレンズでカソードＧυから放
射された電子ビームはこの部分で集束され対物ｒ バー
ｙ−ヤ（至）を一様に照明する。（至）はブランキング
板で描画パターン情報により電子ビームの流れを止めた
り、流したりする１対物！パーチヤ（至）とスクリーン
レンズ板（４Ｇの間はドリフト空間で。
成図である。図中Ｇυはカソード、Ｇ４はグリッド、（
至）はアノード、（財）はレンズでカソードＧυから放
射された電子ビームはこの部分で集束され対物ｒ バー
ｙ−ヤ（至）を一様に照明する。（至）はブランキング
板で描画パターン情報により電子ビームの流れを止めた
り、流したりする１対物！パーチヤ（至）とスクリーン
レンズ板（４Ｇの間はドリフト空間で。
対物１パーチヤ弼を通過した電子ビームはこの間で発散
し、その両側に多数の一対となったビーム制限アパーチ
ャ（至）およびレンズアパーチャ（４υを有するスクリ
ーンレンズ板（ト）全体を照明する。ドリフト空間には
２個の静電偏向器Ｃ３７）、（至）が配設され。
し、その両側に多数の一対となったビーム制限アパーチ
ャ（至）およびレンズアパーチャ（４υを有するスクリ
ーンレンズ板（ト）全体を照明する。ドリフト空間には
２個の静電偏向器Ｃ３７）、（至）が配設され。
スクリーンレンズ板（４１）上の照射位置を変えないよ
うにしながら、対物アパーチャ（至）の見かけ上の位置
が動くよ５に電子ビームを偏向する。
うにしながら、対物アパーチャ（至）の見かけ上の位置
が動くよ５に電子ビームを偏向する。
スクリーンレンズは１つのチップに１つのレンズが割当
てられるよ５にマトリクス状に配設された多数の小レン
ズ群からできてｇ ４Ｊ 、レンズアパーチャ（４υを
通過した電子ビームは、スクリーンレンズ板（４Ｇとク
エーハ（４３の間の加速電界によって形成される含浸レ
ンズによって集束されて、各々の小レンズ下にあるクエ
ーハ（至）上に対物アパーチャ（至）の縮小像を結ぶ。
てられるよ５にマトリクス状に配設された多数の小レン
ズ群からできてｇ ４Ｊ 、レンズアパーチャ（４υを
通過した電子ビームは、スクリーンレンズ板（４Ｇとク
エーハ（４３の間の加速電界によって形成される含浸レ
ンズによって集束されて、各々の小レンズ下にあるクエ
ーハ（至）上に対物アパーチャ（至）の縮小像を結ぶ。
偏向器（ロ）、（至）を動作させると。
これらの縮小像は各々の小レンズ下で同じ量だけ移動す
る。偏向に同期させ移動台（４４を動かす事によりｌチ
ップの描画ができる。小レンズでできる電子ビームがそ
れぞれ同時に１チツプを描画して ・いるので、ｌチッ
プの描画が終れば、小レンズの数だけのチップの描画が
終ることになり描画速度を高めることができる。。
る。偏向に同期させ移動台（４４を動かす事によりｌチ
ップの描画ができる。小レンズでできる電子ビームがそ
れぞれ同時に１チツプを描画して ・いるので、ｌチッ
プの描画が終れば、小レンズの数だけのチップの描画が
終ることになり描画速度を高めることができる。。
第３図は第１図に示した！レイレンズを利用したマルチ
ビーム型電子ビーム描画装置の要部を示している。羽は
電子銃の７ノード、３８ ａ 、 ３８ｂは静電偏向板
、４３はクエハ試料であり、８１ａ〜８１ｂは７レイレ
ンズを示している。第４図は！レイレンズを拡大したも
ので、７５，７６．７７はそれぞれ円型の穴のあいた電
極である。第５図に本発明の特徴である第３図の７レイ
レンズ８１ａ〜８１ｃの実際の電極構造を９１〜９３と
して示す。この７レイレンズを使った光学系の収差を測
定した結果を第６図に示す横軸はレンズが鏡筒の中心付
近からどのくらい周辺部にあるかを示したて軸はビーム
の収差を示す。１０１は従来の光学系による特性、１０
２が本発明による特性である。従来の光学系に比べて周
辺部のレンズを使用してもビームのボケが増大しないこ
とが理解できる。
ビーム型電子ビーム描画装置の要部を示している。羽は
電子銃の７ノード、３８ ａ 、 ３８ｂは静電偏向板
、４３はクエハ試料であり、８１ａ〜８１ｂは７レイレ
ンズを示している。第４図は！レイレンズを拡大したも
ので、７５，７６．７７はそれぞれ円型の穴のあいた電
極である。第５図に本発明の特徴である第３図の７レイ
レンズ８１ａ〜８１ｃの実際の電極構造を９１〜９３と
して示す。この７レイレンズを使った光学系の収差を測
定した結果を第６図に示す横軸はレンズが鏡筒の中心付
近からどのくらい周辺部にあるかを示したて軸はビーム
の収差を示す。１０１は従来の光学系による特性、１０
２が本発明による特性である。従来の光学系に比べて周
辺部のレンズを使用してもビームのボケが増大しないこ
とが理解できる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は従来
方式を説明するための図、第３図は第１図の装置の要部
を示す概略配置因、第４図は第３図の各マトリクスレン
ズをＦＭ成する電極の配置を示す構成図、第５図は本発
明の特徴であるマトリクスレンズ電極の形状を示す構成
図、第６図は本発明と従来の効果の差を示す特性図であ
る１第 １ 図 第 ２ 図
方式を説明するための図、第３図は第１図の装置の要部
を示す概略配置因、第４図は第３図の各マトリクスレン
ズをＦＭ成する電極の配置を示す構成図、第５図は本発
明の特徴であるマトリクスレンズ電極の形状を示す構成
図、第６図は本発明と従来の効果の差を示す特性図であ
る１第 １ 図 第 ２ 図
Claims (1)
- マルチビームの電子ビーム光学系を備えた電子ビーム露
光装置において、対物レンズがマトリクス状に並べたマ
トリクスレンズから構成され、各レンズの開口部の形状
をレンズの配置場所に応じた偏平度を有する楕円にした
ことを特徴とする電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60210123A JPS6271224A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60210123A JPS6271224A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | 電子ビ−ム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6271224A true JPS6271224A (ja) | 1987-04-01 |
Family
ID=16584176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60210123A Pending JPS6271224A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6271224A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09245708A (ja) * | 1996-03-04 | 1997-09-19 | Canon Inc | 電子ビーム露光装置とその露光方法 |
-
1985
- 1985-09-25 JP JP60210123A patent/JPS6271224A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09245708A (ja) * | 1996-03-04 | 1997-09-19 | Canon Inc | 電子ビーム露光装置とその露光方法 |
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