JPS6269694A - Semiconductor laser - Google Patents

Semiconductor laser

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JPS6269694A
JPS6269694A JP21068085A JP21068085A JPS6269694A JP S6269694 A JPS6269694 A JP S6269694A JP 21068085 A JP21068085 A JP 21068085A JP 21068085 A JP21068085 A JP 21068085A JP S6269694 A JPS6269694 A JP S6269694A
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JP
Japan
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laser diode
diode
semiconductor substrate
laser
protecting
Prior art date
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JP21068085A
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Japanese (ja)
Inventor
Haruo Tanaka
田中 治夫
Atsushi Ichihara
淳 市原
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Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6269694A publication Critical patent/JPS6269694A/en
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Abstract

PURPOSE:To protect a laser diode from dielectric breakdown even if static charge is applied by a method wherein a protecting diode is formed by introducing the second conductivity type impurity into the first conductivity type semiconductor substrate and the protecting diode is connected to a laser diode in parallel. CONSTITUTION:A photodiode 24 is composed of an impurity region 22 and a semiconductor substrate 21 and a protecting diode 25 is composed of an impurity region 23 and the semiconductor substrate 21. Even if static charge on an operator is applied to one of the electrodes of a laser diode 31 through an external lead, when the direction of the charge application is the forward direction of the protecting diode 25, the static charge reaches the other electrode of the laser diode 31 through the protecting diode 25 and hence a high voltage is not applied between the two electrodes of the laser diode 31. On the other hand, when the static charge is applied to the direction opposite to the direction of the above case, a Zener diode, which has a breakdown voltage a little higher than the forward voltage of the laser diode 31, can be employed as the protecting diode 25. With this constitution, the laser diode 31 can be protected from dielectric breakdown.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は半導体レーザー装置に係わり、詳しくは、レ
ーザーダイオードと該レーザーダイオードと並列に接続
されレーザーダイオードを不所望な高電圧から保護する
保護ダイオードとを組み合わせた半導体レーザー装置に
関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a semiconductor laser device, and specifically relates to a laser diode and a protection diode connected in parallel with the laser diode to protect the laser diode from undesired high voltage. The present invention relates to a semiconductor laser device that combines the above.

〈従来の技術〉 第2図は従来の半導体レーザー装置を示す斜視図であり
、まず、構成を説明すると、1は鋼製の基台であり、こ
の基台1には銅製のヒートシンク2が固定されている。
<Prior Art> Fig. 2 is a perspective view showing a conventional semiconductor laser device. First, to explain the configuration, 1 is a steel base, and a copper heat sink 2 is fixed to this base 1. has been done.

このヒートシンク2にはシリコンで形成されたサブマウ
ント3が貼着されており、このサブマウント3にはレー
ザーダイオード4がロウ付けされている。サブマウント
3はシリコンで形成されているので、主として、ガリウ
ム砒素系の化合物半導体で形成されているレーザーダイ
オード4と膨張係数値が似ており、レーザーダイオード
4の発光時に自ら発生する熱でレーザーダイオード4が
膨張しても、レーザーダイオード4に発生する熱歪を抑
制するためのものである。このレーザーダイオード4は
シリコンのサブマウント3を一方の電極としており、レ
ーザーダイオード4の他方の電極はボンディングワイヤ
を介して外部リード5に接続されている。前述の基台1
にはモニター用のホトダイオード6がサブマラン1へ3
から離隔して固定されており、ホトダイオードの一方の
電極はボンディングワイヤを介して外部リード7に接続
されている。レーザーダイオード4の他方の電極とホト
ダイオード6の他方の電極は外部リード8に接続されて
おり、これら外部リード5,7.8は図示していないプ
リントボードの配線に接続されている。基台1は、レー
ザーダイオード4とホトダイオード6とが内部空間に封
止されるごとくキャップ9に嵌合しており、キャップ9
の頂面には透明なガラス部1oが設けられている。した
がって、レーザーダイオード4から放出されるコヒーレ
ント光はガラス部lOを通り外部に放光されると共に、
ガラス部1oを通過するコヒーレント光とは対称の方向
にも放光され、その光路上に位置するホトダイオード6
に光起電力を生じさせる。
A submount 3 made of silicon is attached to the heat sink 2, and a laser diode 4 is soldered to the submount 3. Since the submount 3 is made of silicon, its expansion coefficient is similar to that of the laser diode 4 which is made of a gallium arsenide compound semiconductor, and the heat generated by the laser diode 4 when emitting light causes the laser diode to expand. This is to suppress thermal strain occurring in the laser diode 4 even if the laser diode 4 expands. This laser diode 4 has a silicon submount 3 as one electrode, and the other electrode of the laser diode 4 is connected to an external lead 5 via a bonding wire. The aforementioned base 1
The monitor photodiode 6 is connected to the submarine 1 and 3
One electrode of the photodiode is connected to an external lead 7 via a bonding wire. The other electrode of the laser diode 4 and the other electrode of the photodiode 6 are connected to an external lead 8, and these external leads 5, 7.8 are connected to wiring on a printed board (not shown). The base 1 is fitted with a cap 9 such that the laser diode 4 and the photodiode 6 are sealed in the internal space.
A transparent glass portion 1o is provided on the top surface. Therefore, the coherent light emitted from the laser diode 4 passes through the glass part IO and is emitted to the outside.
Coherent light passing through the glass portion 1o is also emitted in a symmetrical direction, and a photodiode 6 located on the optical path
generates a photovoltaic force.

」1記従来例にあっては、レーザーダイオード装置を一
連の半導体製造プロセスにより製造した後、他の回路素
子と共に所定の装置、例えばレーザーディスク装置のピ
ックアップに組み込まれる。その間、レーザーダイオー
ド装置は作業者に触れることがしばしば有り、作業者が
身体を動かすとき、衣服が擦れ、衣服の摩擦により、静
電気が発生し、これが衣服に帯電していると、レーザー
ダイオード装置4に触れた際、レーザーダイオード4に
高電圧が印加され、レーザーダイオード4が破壊される
ことがあった。それで、レーザーダイオード4を高電圧
による破壊から保護するために組み立て作業場を静電防
止床とし、作業者も帯電防止堰を着用し、あるいは、帯
電防11−ベルトをして作業することが必要であった。
In the prior art example 1, after a laser diode device is manufactured through a series of semiconductor manufacturing processes, it is assembled together with other circuit elements into a predetermined device, such as a pickup of a laser disk device. During this time, the laser diode device often comes into contact with the worker, and when the worker moves, the clothes rub against each other, and static electricity is generated due to the friction of the clothes.If the clothes are charged, the laser diode device 4 When touched, a high voltage was applied to the laser diode 4 and the laser diode 4 was sometimes destroyed. Therefore, in order to protect the laser diode 4 from being destroyed by high voltage, it is necessary to install an anti-static floor in the assembly workshop and to wear an anti-static weir or wear an anti-static belt when working. there were.

〈発明の解決しようとする問題点〉 しかしながら、作業場の床を静電防止床とすることは、
作業場の建設費が上昇し、これが製品に反映され、レー
ザーディスク装置等の価格が」1昇するという問題点が
あった。さらに、帯電防止堰を着用して組立作業を行な
うことは作業性が悪く、帯電防止堰の着脱も煩雑である
という問題点もあった・ 〈問題点を解決するための手段〉 この発明は上記従来例の問題点に鑑み、第1導電型の半
導体基板と該半導体基板に形成された第2導電型の不純
物領域とを含んで構成される保護ダイオードと、前記第
1導電型の半導体基板を一方の電極とするレーザーダイ
オードと有し、レーザーダイオードに不所望の高電圧、
例えば静電気が印加されたとき、保護ダイオードが該電
荷を通過させ、レーザーダイオードに高電圧が印加され
ないようにしたことを要旨とする。
<Problems to be solved by the invention> However, making the floor of the workplace an antistatic floor
There was a problem in that the construction cost of the workshop increased, and this was reflected in the products, causing the price of laser disc equipment etc. to rise by 1. Furthermore, there are also problems in that performing assembly work while wearing an antistatic weir has poor work efficiency, and that attachment and detachment of the antistatic weir is complicated. In view of the problems of the conventional example, a protection diode including a semiconductor substrate of a first conductivity type and an impurity region of a second conductivity type formed in the semiconductor substrate, and a semiconductor substrate of the first conductivity type are provided. One electrode is the laser diode and has an undesired high voltage on the laser diode,
For example, when static electricity is applied, the protection diode allows the charge to pass through, thereby preventing high voltage from being applied to the laser diode.

〈実施例〉 第1図は本発明の一実施例の平面図であり、21はn型
の半導体基板を示している。この半導体基板2]にはp
型の不純物が拡散されてp型の不純物領域22.23が
形成されている。不純物領域22は半導体基板21と共
にホトダイオード24を形成しており、不純物領域23
は半導体基板21と共に保護ダイオード25を形成して
いる。
<Embodiment> FIG. 1 is a plan view of an embodiment of the present invention, and 21 indicates an n-type semiconductor substrate. This semiconductor substrate 2] has p
type impurities are diffused to form p-type impurity regions 22 and 23. The impurity region 22 forms a photodiode 24 together with the semiconductor substrate 21, and the impurity region 23
forms a protection diode 25 together with the semiconductor substrate 21.

半導体基板21の表面は正確にパターン形成された二酸
化シリコン膜26で被われており、不純物領域22.2
3は二酸化シリコン膜26に穿設されたコンタクトホー
ル27,28を介して二酸化シリコン膜26上にパター
ン形成された電極29゜30に接続されている。二酸化
シリコン膜26に被われていない半導体基板21の表面
にはレーザーダイオード31がロウ付けされている。レ
ーザーダイオード31と電極3oとはボンディングワイ
ヤ32で接続されており、電極29.30は、ボンディ
ングワイヤ33a、33bにより図示していない外部リ
ードに接続されている。
The surface of the semiconductor substrate 21 is covered with a precisely patterned silicon dioxide film 26, which forms an impurity region 22.2.
3 are connected to electrodes 29 and 30 patterned on the silicon dioxide film 26 through contact holes 27 and 28 formed in the silicon dioxide film 26. A laser diode 31 is soldered to the surface of the semiconductor substrate 21 that is not covered with the silicon dioxide film 26. The laser diode 31 and the electrode 3o are connected by a bonding wire 32, and the electrodes 29, 30 are connected to external leads (not shown) by bonding wires 33a, 33b.

次に、半導体レーザー装置の製造工程を説明すれば以下
の通りである。まず、n型の半導体基板21の表面を熱
酸化して二酸化シリコン膜41を成長させ(第3図(a
))、この二酸化シリコン膜41をリソグラフィー技術
でパターン形成し、p型の不純物を拡散し不純物領域2
3を形成する(第3図(b))。次に、再び二酸化シリ
コン膜41をリソグラフィー技術でパターン形成し、p
型の不純物を拡散し不純物領域22を形成する(第3図
(C))。半導体基板21の表面の二酸化シリコン膜4
1は一度除去され、再び半導体基板21の表面を二酸化
シリコン膜41で被った後、コンタク1〜ホールを穿設
しく第3図(d))、アルミニウムを被着した後これを
パターン形成して電極29.30を形成する。次に、リ
ソグラフィー技術により二酸化シリコン膜41をパター
ン形成してレーザーダイオード31の取付位置を決定し
く第3図(e))、ロウ付は用金属を蒸着してこれをパ
ターン形成した後、レーザーダイオード31を半導体基
板21にロウ付けする(第3図(f))。
Next, the manufacturing process of the semiconductor laser device will be explained as follows. First, the surface of the n-type semiconductor substrate 21 is thermally oxidized to grow a silicon dioxide film 41 (Fig. 3(a)
)), this silicon dioxide film 41 is patterned using lithography technology, p-type impurities are diffused, and impurity regions 2 are formed.
3 (Fig. 3(b)). Next, the silicon dioxide film 41 is patterned again using lithography technology, and p
The impurity of the mold is diffused to form an impurity region 22 (FIG. 3(C)). Silicon dioxide film 4 on the surface of semiconductor substrate 21
1 is removed once, and the surface of the semiconductor substrate 21 is again covered with a silicon dioxide film 41, and then holes 1 to 1 are formed (FIG. 3(d)). After aluminum is deposited, this is patterned. Form electrodes 29,30. Next, the silicon dioxide film 41 is patterned using lithography technology to determine the mounting position of the laser diode 31 (FIG. 3(e)). After vapor-depositing a metal for brazing and patterning this, the laser diode 31 is soldered to the semiconductor substrate 21 (FIG. 3(f)).

上記実施例に係る半導体レーザー装置は、所定の装置、
例えばレーザーディスク装置に組み込まれるとき、作業
員に帯電している静電気が外部リードを介してレーザー
ダイオード31の一方の電極に印加されたとしても、こ
れが保護ダイオード25の順方向である場合は、静電気
は保護ダイオード25を通り、レーザーダイオード31
の他方の電極に達するので、レーザーダイオード31の
両電極間に大電圧が加わることがない。一方、これとは
逆の方向に静電気が印加される場合は、レーザーダイオ
ード31の順方向電圧より僅かに高いブレークダウン電
圧を有するツェナーダイオードを保護ダイオード25と
して用いればよく、従って、レーザーダイオード31を
破壊から保護することができる。
The semiconductor laser device according to the above embodiment includes a predetermined device,
For example, when installed in a laser disk device, even if static electricity charged on a worker is applied to one electrode of the laser diode 31 through the external lead, if this is in the forward direction of the protection diode 25, the static electricity passes through the protection diode 25 and the laser diode 31
Since the voltage reaches the other electrode of the laser diode 31, a large voltage is not applied between the two electrodes of the laser diode 31. On the other hand, if static electricity is applied in the opposite direction, a Zener diode with a breakdown voltage slightly higher than the forward voltage of the laser diode 31 may be used as the protection diode 25; Can be protected from destruction.

また、上記実施例ではレーザーダイオード3]−と共に
ホトダイオード24も単一の半導体基板21に形成され
ているので、レーザーダイオード31が発生させるコヒ
ーレント光の強度を正確に検知することができ、該検知
結果に基ずきレーザーダイオード31に印加される電圧
を容易に制御できる。
Further, in the above embodiment, since the photodiode 24 is also formed on the single semiconductor substrate 21 together with the laser diode 3, the intensity of the coherent light generated by the laser diode 31 can be accurately detected, and the detection result Based on this, the voltage applied to the laser diode 31 can be easily controlled.

〈効果〉 以上説明してきたように、この発明によれば、保護ダイ
オードを第1導電型の半導体基板に第2導電型の不純物
を導入して形成し、保護ダイオ−ドをレーザーダイオー
ドと並列に接続したので、半導体レーザー装置に静電気
が印加されても、該静電気は保護ダイオードを通って流
れ、レーザーダイオードに大電圧が印加されることがな
く、レーザーダイオードが破壊されることがないという
効果が得られる。
<Effects> As explained above, according to the present invention, the protection diode is formed by introducing impurities of the second conductivity type into the semiconductor substrate of the first conductivity type, and the protection diode is placed in parallel with the laser diode. Because of this connection, even if static electricity is applied to the semiconductor laser device, the static electricity will flow through the protection diode, and a large voltage will not be applied to the laser diode, resulting in the effect that the laser diode will not be destroyed. can get.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例の平面図、第2図は従来例の
斜視図、第3図(a)乃至(f)は一実施例の製造工程
を示す第1図の■−■矢視断面図  。 である。 21・・・・・・・半導体基板、 22・・・・・・・不純物領域 25・・・・・・・保護ダイオード、 31・・・・・・・レーザーダイオード。 特許出願人      ローム株式会社代理人   弁
理士  桑 井 清 −第2図 (el) (b) 第3図 (C) (d) 第3図 第3図
Fig. 1 is a plan view of an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a perspective view of a conventional example, and Figs. 3(a) to (f) show the manufacturing process of the embodiment. Arrow sectional view. It is. 21... Semiconductor substrate, 22... Impurity region 25... Protective diode, 31... Laser diode. Patent Applicant: ROHM Co., Ltd. Representative, Patent Attorney Kiyoshi Kuwai - Figure 2 (el) (b) Figure 3 (C) (d) Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 第1導電型の半導体基板と該半導体基板に形成された第
2導電型の不純物領域とを含んで構成される保護ダイオ
ードと、前記第1導電型の半導体基板を一方の電極とす
るレーザーダイオードとを有し、前記保護ダイオードは
前記レーザーダイオードの両電極に印加される不所望の
高電圧により導通し、該不所望の高電圧を低下させる半
導体レーザー装置。
a protection diode including a semiconductor substrate of a first conductivity type and an impurity region of a second conductivity type formed in the semiconductor substrate; and a laser diode having the semiconductor substrate of the first conductivity type as one electrode. A semiconductor laser device, wherein the protection diode is rendered conductive by an undesired high voltage applied to both electrodes of the laser diode, thereby reducing the undesired high voltage.
JP21068085A 1985-09-24 1985-09-24 Semiconductor laser Pending JPS6269694A (en)

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