JPS6267054A - N−メチルベンジルアミノアセタ−ル誘導体の製造方法 - Google Patents

N−メチルベンジルアミノアセタ−ル誘導体の製造方法

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JPS6267054A
JPS6267054A JP60206795A JP20679585A JPS6267054A JP S6267054 A JPS6267054 A JP S6267054A JP 60206795 A JP60206795 A JP 60206795A JP 20679585 A JP20679585 A JP 20679585A JP S6267054 A JPS6267054 A JP S6267054A
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JP
Japan
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derivative
formula
methylbenzylaminoacetal
methylbenzylamine
alkali
Prior art date
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Pending
Application number
JP60206795A
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English (en)
Inventor
Yoshimi Morita
良美 森田
Sunao Imaki
今木 直
Yuuki Takuma
詫摩 勇樹
Tadashi Shirasaka
白坂 正
Tetsuo Niifuku
新福 哲郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical America Inc
Original Assignee
Mitsubishi Chemical America Inc
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Publication date
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Priority to EP86401866A priority patent/EP0214051A3/en
Priority to EP19900402393 priority patent/EP0404694A3/en
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Priority to KR1019860007130A priority patent/KR900000967B1/ko
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  • Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はN−メチルベンジルアミノアセタール誘導体の
製造方法に関し、さらに詳しくは、医薬等の製造中間体
として有用なN−メチルベンジルアミノアセタール誘導
体の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
1級アミンから3級アミンを合成する際に。
目的とする3級アミンよりも塩基性の高い3級アミンの
存在下でハロゲン化アルキルと反応3せる1岱は良く知
られている。
−1、N−メチルベンジルアミン誘導体とハロアセター
ルとから、N−メチルベンジルアミノアセタール誘導体
?合成する例が報告されている( Tetrahedr
on、 24. !2A!;、 / 970年)。
ここに記a!されている例は、下記反応式(1)で示さ
れる反応であり、基JMまたは生成物自身が脱ハロゲン
化水素剤となって反応が進行する例である。この文献の
記載によると、粗収率が57%、取得収率が61%であ
る。
〔発明か解決しようとする問題点〕
しかしながら、脱ハロゲン化水素剤として基質または生
成物χ用いる文献の方圧および、塩基性の高い3級アミ
ン、例えばトリエチルアミンを用いる方圧(・こりいて
は、収率が充分に高くないことと共に、3PLアミンの
ハロゲン化水素塩と目的物との分離という厄介な問題が
存在する。
〔問題点を解決するた・めの手段〕
そこで、本発明者らは、上記実情に鑑み鋭意検討した落
果、生成物の単離が容易で、しかも収率の高い方法を見
い出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明の要旨は、下記一般式(I):〔式中
1、R1、R4は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基または隣り合う2つの基が一緒にな
ってメチレンジオキシ基−OCH,O−を表わす。〕で
示されるN−メチルベンジルアミン誘導体と下記一般式
(U): 〔式中、R5は、低級アルキル基を表わし、Xはハロゲ
ン原子を表わす。〕で示されるハロアセタールとを反応
させて下記一般式(■)二〔式中 fil〜RSは、上
記一般式(I〕およびC■)で定義したとおりである。
〕で示されるN−メチルベンジルアミノアセタール誘導
体?製造するに際して、該反応χアルカリおよび水の存
在下で行うことを特徴とするN−メチルベンジルアミノ
アセタール誘・庫体の製造方法に存する。
の低級アルキル基は、C!〜c5、更に好ましくは01
〜C,のものが好ましい。
本発明方法の原料であるN−メチルベンジルアミン誘導
体CI)は、下記反応式に従って合成できる。
(I) C式中、R1−R4は一般式CI)で定義したとおりで
ある。ノ N−メチルベンジルアミン誘導体(I)の具体例を以下
に示す。
N−メチルーコーメトキシー3.4t−メチレンジオ中
ジベンジルアミン N−メチル−J、44−メチレンジオキシベンジルアミ
ン N−Ifルーよ3−ジメトキシベンジルアミン N−メチ/I/−J、41−ジメトキシベンジルアミン N−メチル−J、乞j−)ジメトキシベンジルアミン N−メチルー−93−メチレンジオキシ−!−メトキシ
ベンジルアミン N−メチル−3−メトキシベンジルアミン−万、ハロア
セター/I/(■)は、次式に従って、酢酸ビニル、ハ
ロゲンおよびアルコールから合成できる。
(IrJ (式中、XおよびRsは一般式C■)で定義したとおり
である。ノ ハロアセタールC■)の具体例としては、クロロアセト
アルデヒドジメチルアセタール、クロロアセトアルデヒ
ドジエチルアセタール、ブロモアセトアルデヒドジメチ
ルアセタール、ブロモアセトアルデヒドジエチルアセタ
ール、ヨードアセトアルデヒドジメチルアセタール、ヨ
ードアセトアルデヒドジエチルアセタール等が挙ケラれ
、N−メチルベンジルアミン誘導体(IJに対してO,
S〜10倍モル、好ましくはQ、t〜λ倍モA/便用さ
れる。
本発明方法は、N−メチルベンジルアミン誘導体(I)
とハロアセター/L/cT1)との反応を行う際、アル
カリおよび水の存在下で行うこと′%:特徴とする。
使用されるアルカリとじ℃は、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属、アル
カリ土類金属の水酸化物、;炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸カルシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類
金践の炭酸塩;およびナトリウムメトキシド、カリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエト争゛
シト、ナトリウムプロポキシド、カリウムプロポキシド
、ナトリウムブトキシド、カリウムブトキシド等のアル
カリ金属の01〜C4アルコキシド等が挙げられ、特に
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。
アルカリの使用量は、ハロアセタール(II)に対して
o、 r〜20倍モル、好ましくはo、 t −r倍モ
ルである。
また、アルカリを溶解させるために、水の存在を必須と
するが、水の量は、N−メチルベンジルアミン誘導体(
1) / gに対して0./〜/θθθd5好ましくは
i17.j〜100−である。
反応は、溶媒中でも無溶媒でも進行し、溶媒を用いる場
合、溶媒は反応に不活性なものであれば任意に使用でき
る。反応温度は、o−it。
℃、好ましくは50〜izo℃である。
反応終了後は、常法に従って分g、または抽出、溶媒留
去することにより目的とするN−メチルベンジルアミノ
アセタール誘導体(IffJ’Y得にとができるが、単
一することなく溶液のまま次工程に1f!用することも
できる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により史に具体的に説明するが、
不発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定さ
れない。
参考例1 一一メトキシーJ、9−メチレンジオキシベンズアルデ
ヒドs、o9y30mlのメタノールに懸濁させ、次い
で弘O%のメチルアミン水溶液弘、3/9C−当一ノを
加える。得られた反応液に!%P(1/Cryダ(0,
7モルチノン加え、常温常圧にて水素化反応を行うと、
約一時間で水素吸収が終了し、N−メチルベンジルアミ
ン誘導体が定量的に得られる。触媒を濾過後、過剰のメ
チルアミン、生成した水および溶媒のメタノールを留去
すると、油状のN−メチルベンジルアミン誘導体が得ら
れた(収率100%]。
得られたl(−メチルベンジルアミン84体θ、tgg
、ブロモアセトアルデヒドジメチルアセターA10.9
39 (/、/当量〕および塩基としてのトリエチルア
ミン0.71.fi(/、r当’!k)Y:トルエン7
.3虹に混合し、亭時間加熱還流する。
反応液を室温まで冷却した後、析出する塩yt濾過して
トルエン層ン分析したところ、目的とするN−メチルベ
ンジルアミノアセタール誘4体の収量は1.30コIで
、収率は9−優であった。
なお、このトルエン層には過剰のトリエチルアミン0.
239が含まれており、常圧蒸留で過剰のトリエチルア
ミンを留去することにより、目的とするN−メチルベン
ジルアミノアセタール誘導体のトルエン溶液が得られた
実施例/ コーメト千ジーJ、 lI−メチレンジオキシ−N−メ
チルベンジルアミン3λ、3g、水酸化ナトリウム/2
.1!:g、水Jt、agおよびプロモアセトアルデヒ
ドジメチルアセタールコ9.7−y(16/当世ノヲト
ルエン63Nに一括して仕込み、油浴100℃にて3時
間710熱債拌した。反応液χ室温まで冷却後、トルエ
ン層を分離し、水洗後、このトルエン溶grt分析した
ところ、目的とする11−メチルベンジルアミノアセタ
ール誘導体の収量はり7.−g(収率IQθ%〕で、そ
の他の有機物は含まれていなかった。
実施例−〜5 実施例1において表1に示す条件l変更した以外は実施
例/と全く同様にして反応を行なった。結果を表1に示
す。
賢  / (I)                      
                    (■)比e
例 実施例/において、アルカリ(NaOHJY添り口しな
いで反応を行ったところ、目的物の収率は30%であっ
た。
〔発明の効果〕
本発明方法によれば、医薬等の製造中間体として有用な
N−メチルベンジルアミノアセタール誘導体ン高収率で
容易に製造することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1〜R^4は同一でも異なつていてもよく
    、水素原子、低級アルキル基または隣り合う2つの基が
    一緒になつてメチレンジオキシ基−OCH_2O−を表
    わす。〕で示されるN−メチルベンジルアミン誘導体と
    下記一般式(II):▲数式、化学式、表等があります▼
    (II) 〔式中、R^5は低級アルキル基を表わし、Xはハロゲ
    ン原子を表わす。〕で示されるハロアセタールとを反応
    させて下記一般式(III):▲数式、化学式、表等があ
    ります▼(III) 〔式中、R^1〜R^5は、上記一般式( I )および
    (II)で定義したとおりである。〕で示されるN−メチ
    ルベンジルアミノアセタール誘導体を製造するに際して
    、該反応をアルカリおよび水の存在下で行うことを特徴
    とするN−メチルベンジルアミノアセタール誘導体の製
    造方法。
JP60206795A 1985-08-26 1985-09-19 N−メチルベンジルアミノアセタ−ル誘導体の製造方法 Pending JPS6267054A (ja)

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