JPS6265948A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS6265948A JPS6265948A JP20409085A JP20409085A JPS6265948A JP S6265948 A JPS6265948 A JP S6265948A JP 20409085 A JP20409085 A JP 20409085A JP 20409085 A JP20409085 A JP 20409085A JP S6265948 A JPS6265948 A JP S6265948A
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- Japan
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- glass layer
- optical fiber
- porous glass
- furnace
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/24—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with nitrogen, e.g. silicon oxy-nitride glasses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｒ産業上の利用分野１
本発明は適用分野が広く、長期信頼性の高い光ファイバ
が得られる母材の製造方法に関する。
が得られる母材の製造方法に関する。
ｒ従来の技術１
周知の通り、光ファイバは公衆通信にとどまることなく
各種の分野で幅広く使用されており、現状ではさらにそ
の分野が広がりつつある。
各種の分野で幅広く使用されており、現状ではさらにそ
の分野が広がりつつある。
ここで指摘されているのは、光ファイバの長期信頼性で
あり、例えば２０〜３０℃付近の温度条件下では２０〜
３０年に及ぶ使用に十分耐える光ファイバであっても、
５ｏ−ｉｏｏ℃の温度条件下では短ｕＡＭＩの使用で水
素ロス増が顕著となり、適用分野が制限されてしまう。
あり、例えば２０〜３０℃付近の温度条件下では２０〜
３０年に及ぶ使用に十分耐える光ファイバであっても、
５ｏ−ｉｏｏ℃の温度条件下では短ｕＡＭＩの使用で水
素ロス増が顕著となり、適用分野が制限されてしまう。
そのため、１００℃以上の高温下で使用される光ファイ
バについては、水素ロス増を惹き起こさないものが要求
されており、これに答えるＢＴＲＬ（Ｂｒｉｔｉｓｈ
Ｔａ１ｅｃｏ＊ Ｒｅ５ａｒｃｈ Ｌａｂｏｒａｔｏｒ
ｉｅｓ）の報告では、Ｈ２拡散防止用のバリヤ層として
、光ファイバの外周に、２００Ａの程度の厚さのシリコ
ンオキシナイトライド層を設けることが有効であるとし
ている。
バについては、水素ロス増を惹き起こさないものが要求
されており、これに答えるＢＴＲＬ（Ｂｒｉｔｉｓｈ
Ｔａ１ｅｃｏ＊ Ｒｅ５ａｒｃｈ Ｌａｂｏｒａｔｏｒ
ｉｅｓ）の報告では、Ｈ２拡散防止用のバリヤ層として
、光ファイバの外周に、２００Ａの程度の厚さのシリコ
ンオキシナイトライド層を設けることが有効であるとし
ている。
「発明が解決しようとする問題点１
上記シリコンオキシナイトライド層は、水素の拡散を防
ぐガラスとしてきわめて有効であるが。
ぐガラスとしてきわめて有効であるが。
そのガラス層を光ファイバの外周に形成するための適切
な手段が提供されていない。
な手段が提供されていない。
例えば、紡糸直後の光ファイバ外周に、スパッタリング
等の手段でシリコンオキシナイトライド層を形成する場
合、スパッタリング設備が高価であるばかりか、均一か
つ均質な厚さのシリコンオキシナイトライド層が得がた
く、シかも所定の模写を得るのに時間のかかるスバツタ
工程を紡糸工程と同期させるため、光ファイバの紡糸速
度が低速傾向となる生産性の低下をともない、これらが
光ファイバのコストアップ要因となる。
等の手段でシリコンオキシナイトライド層を形成する場
合、スパッタリング設備が高価であるばかりか、均一か
つ均質な厚さのシリコンオキシナイトライド層が得がた
く、シかも所定の模写を得るのに時間のかかるスバツタ
工程を紡糸工程と同期させるため、光ファイバの紡糸速
度が低速傾向となる生産性の低下をともない、これらが
光ファイバのコストアップ要因となる。
本発明は上記の問題点に鑑み、水素拡散防止用のシリコ
ンオキシナイトライド層が、光ファイバ母材の段階にお
いて適切かつ経済的に形成することのできる光ファイバ
母材の製造方法を提供しようとするものである。
ンオキシナイトライド層が、光ファイバ母材の段階にお
いて適切かつ経済的に形成することのできる光ファイバ
母材の製造方法を提供しようとするものである。
ｒ問題点を解決するための手段１
本発明に係る光ファイバ母材の製造方法は１石英系プリ
７オームロツドの外周に酸化ケイ素微粒子を堆積させて
多孔質ガラス層を形成する工程と、その多孔質ガラス層
を透明ガラス化する工程とを備え、該透明ガラス化工程
により多孔質ガラス層を透明ガラス化するとき、酸化可
能な炉心管を有し、その炉心管内が還元性雰囲気に保持
される加熱炉を用意し、該加熱炉の炉心管内をチッ素ガ
ス含有雰囲気とした後、その炉心管内に上記多孔質ガラ
ス層付のプリフォームロッドを挿入して熱処理して上記
多孔質ガラス層をシリコンオキシナイトライド層にする
ことを特徴としている。
７オームロツドの外周に酸化ケイ素微粒子を堆積させて
多孔質ガラス層を形成する工程と、その多孔質ガラス層
を透明ガラス化する工程とを備え、該透明ガラス化工程
により多孔質ガラス層を透明ガラス化するとき、酸化可
能な炉心管を有し、その炉心管内が還元性雰囲気に保持
される加熱炉を用意し、該加熱炉の炉心管内をチッ素ガ
ス含有雰囲気とした後、その炉心管内に上記多孔質ガラ
ス層付のプリフォームロッドを挿入して熱処理して上記
多孔質ガラス層をシリコンオキシナイトライド層にする
ことを特徴としている。
「作用】
本発明方法の場合、プリ７オームロツドの外周に堆積形
成された多孔質ガラス層を、前述した加熱炉の炉心管内
において熱処理し、透明ガラス化することにより、当該
多孔質ガラス層をシリコンオキシナイトライド層にする
。
成された多孔質ガラス層を、前述した加熱炉の炉心管内
において熱処理し、透明ガラス化することにより、当該
多孔質ガラス層をシリコンオキシナイトライド層にする
。
かかる母材処理により、多孔質ガラス層がシリコンオキ
シナイトライド層となる理由は、つどの通りである。
シナイトライド層となる理由は、つどの通りである。
すなわち、前述した炉心管は酸化可能であり、より嗜ま
しくはカーボンなどの酸化されやすい材質からなるので
、その炉心管内はきわめて還元性の強い雰囲気を示す。
しくはカーボンなどの酸化されやすい材質からなるので
、その炉心管内はきわめて還元性の強い雰囲気を示す。
例えばｔａａｏ℃としたカーボン炉心管内に、ＶＡＤ法
により得られた５ｉ０２−Ｇｅ０２系の多孔質ガラス母
材を挿入してこれを透明ガラス化すると、ＧｅＯ２がほ
とんど蒸発してしまう。
により得られた５ｉ０２−Ｇｅ０２系の多孔質ガラス母
材を挿入してこれを透明ガラス化すると、ＧｅＯ２がほ
とんど蒸発してしまう。
これは以下の反応によると推定される。
ＧｅＯ２→ＧｅＯ＋１／２０ｚ＋Ｇｅ＋０２・・＝（１
）Ｇ ４１／２０２→ＣＯ・・・・・・・・・・（２）
ＣＯ◆１／２０２→ＣＯ２・・・・・・・・（３）この
ようにカーボンが酸化されることで、カーボン炉心管内
は強い還元性雰囲気となり、ＧｅＯ２は上記（１）式に
したがって還元される。
）Ｇ ４１／２０２→ＣＯ・・・・・・・・・・（２）
ＣＯ◆１／２０２→ＣＯ２・・・・・・・・（３）この
ようにカーボンが酸化されることで、カーボン炉心管内
は強い還元性雰囲気となり、ＧｅＯ２は上記（１）式に
したがって還元される。
還元後のＧｅｍ、Ｇｅ等は、同一温度条件でのＧｅＯ２
と比べ、はるかに高い蒸気圧を示すので、これらが蒸発
することにより、ガラス化後の母材中からはＧｅＯ２が
見い出せなくなる。
と比べ、はるかに高い蒸気圧を示すので、これらが蒸発
することにより、ガラス化後の母材中からはＧｅＯ２が
見い出せなくなる。
一方、酸化ケイ素微粒子（ＳｉＯｚ）を堆積させて形成
した多孔質ガラス層中に、Ｎをドープしてシリコンオキ
シナイトライドガラスを得るには、強い還元性雰囲気が
必要である。
した多孔質ガラス層中に、Ｎをドープしてシリコンオキ
シナイトライドガラスを得るには、強い還元性雰囲気が
必要である。
３／２Ｇ＋３／２０２→３／２ＣＯ２・・・・・・（５
）上述した二つの知見に基づく本発明では、加熱炉の炉
心管を酸化可ス砒なものとしてその炉心管内が還元性雰
囲気に保持できるようにし、かつ、当該炉心管内をチッ
素ガス含有雰囲気として、その内部に挿入したプリフォ
ームロッド外周の多孔質ガラス層を熱処理するから、当
該多孔質ガラス層の透明ガラス化とともに、そのガラス
をシリコンオキシナイトライドにすることができる。
）上述した二つの知見に基づく本発明では、加熱炉の炉
心管を酸化可ス砒なものとしてその炉心管内が還元性雰
囲気に保持できるようにし、かつ、当該炉心管内をチッ
素ガス含有雰囲気として、その内部に挿入したプリフォ
ームロッド外周の多孔質ガラス層を熱処理するから、当
該多孔質ガラス層の透明ガラス化とともに、そのガラス
をシリコンオキシナイトライドにすることができる。
１実 施 例１
以下本発明方法の実施例につき、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は石英系プリフォームロフト１の外周に酸化ケイ
素微粒子を堆積させて多孔質ガラス層２を形成する工程
を示したものである。
素微粒子を堆積させて多孔質ガラス層２を形成する工程
を示したものである。
上述したプリフォームロッド１は、コア用ガラスとクラ
ッド用ガラス、あるいはこれら両ガラスとジャケット用
ガラスとからなる。
ッド用ガラス、あるいはこれら両ガラスとジャケット用
ガラスとからなる。
当該プリフォームロッド１は、ＶＡＤ法、ＭＣＶＤ法、
ＯＶＤ法など、任意の手段で作製され、またはこれらの
手段で作製されたカラスロッド、ガラスバイブをロッド
インし、溶融一体化することにより作製される。
ＯＶＤ法など、任意の手段で作製され、またはこれらの
手段で作製されたカラスロッド、ガラスバイブをロッド
インし、溶融一体化することにより作製される。
プリフォームロッド１は、−例として直径２０露層φ、
長さ２００ｍｍであり、これは５ｉ０２−Ｇｅ０２系コ
アロツドに天然石英管をジャケットしたＧＩｆｉのもの
で、そのコア、クラッドの外径比は５０：１２５である
。
長さ２００ｍｍであり、これは５ｉ０２−Ｇｅ０２系コ
アロツドに天然石英管をジャケットしたＧＩｆｉのもの
で、そのコア、クラッドの外径比は５０：１２５である
。
第１図においてプリフォームロッドｌの外周に多孔質ガ
ラス層２を形成する手段は外付は手段であり、これには
既知の多重管構造、例えば四重管構造のバーナ３が用い
られる。
ラス層２を形成する手段は外付は手段であり、これには
既知の多重管構造、例えば四重管構造のバーナ３が用い
られる。
この際、バーナ３の最外側流路には１０文／ｗｉｎの酸
素が、その内側の流路には２ｉＬ／ｍｉｌのアルゴンが
、さらにその内側の流路には１０１／ｗｉｎの水素がそ
れぞれ供給されるとともに、中心流路には０．５ＩＬ／
ｗｉｎのアルゴンでバブリングされた四塩化ケイ素（４
０℃）が供給され、これら各ガスが混合燃焼されて火炎
加水分解反応による酸化ケイ素（Ｓｉ０２）微粒子が生
成される。
素が、その内側の流路には２ｉＬ／ｍｉｌのアルゴンが
、さらにその内側の流路には１０１／ｗｉｎの水素がそ
れぞれ供給されるとともに、中心流路には０．５ＩＬ／
ｗｉｎのアルゴンでバブリングされた四塩化ケイ素（４
０℃）が供給され、これら各ガスが混合燃焼されて火炎
加水分解反応による酸化ケイ素（Ｓｉ０２）微粒子が生
成される。
かかる酸化ケイ素微粒子は、バーナ先端からプリフォー
ムロッド１の外周に向けて噴射かつ堆積されるが、この
際、プリフォームロッドｌは１５ｒ・ｐ−ｍにて回転し
、Ｂｏｗｓ／ｗｉｎで往復動する。
ムロッド１の外周に向けて噴射かつ堆積されるが、この
際、プリフォームロッドｌは１５ｒ・ｐ−ｍにて回転し
、Ｂｏｗｓ／ｗｉｎで往復動する。
そしてプリフォームロッド１が二往復する間、該ロッド
ｌの外周には、約１層温の堆積厚からなる多孔質ガラス
層２が形成される。
ｌの外周には、約１層温の堆積厚からなる多孔質ガラス
層２が形成される。
第２図は上記多孔質ガラス層２を透明ガラス化する工程
を示したものである。
を示したものである。
第２図において、電気炉からなる加熱炉４は酸化されや
すい例えばカーボン製の炉心管５と、その炉心管５の外
周に備えられたヒータ６とからなり、炉心管５にはガス
人口？、ガス出口８が設けられている。
すい例えばカーボン製の炉心管５と、その炉心管５の外
周に備えられたヒータ６とからなり、炉心管５にはガス
人口？、ガス出口８が設けられている。
プリフォームロッド１の外周に形成された多孔質ガラス
層２を上記加熱炉４により透明ガラス化するとき、ヒー
タＢにより炉心管５内の最高温度を１４００℃とし、該
炉心管５内には、そのガス入ロアからＮ２を１５ＪＬ／
ｗｉｎ、 Ｈｅを１５Ｌ／ｓｉｎ供給し、かかる炉心管
５内に多孔質ガラス層２付のプリフォームロッド１を１
２０ｓ＋ｗ／ｈｒの降下速度で回転させながら挿入する
。
層２を上記加熱炉４により透明ガラス化するとき、ヒー
タＢにより炉心管５内の最高温度を１４００℃とし、該
炉心管５内には、そのガス入ロアからＮ２を１５ＪＬ／
ｗｉｎ、 Ｈｅを１５Ｌ／ｓｉｎ供給し、かかる炉心管
５内に多孔質ガラス層２付のプリフォームロッド１を１
２０ｓ＋ｗ／ｈｒの降下速度で回転させながら挿入する
。
かくて多孔質ガラス層２はシリコンオキシナイトライド
層となる。
層となる。
上記透明ガラス化後のガラス層をＸ線マイクロアナライ
ザにより分析したところ、同層には８ｗｔ＄のＮがドー
プされており、これによりシリコンオキシナイトライド
ガラスが生成されたことが確認された。
ザにより分析したところ、同層には８ｗｔ＄のＮがドー
プされており、これによりシリコンオキシナイトライド
ガラスが生成されたことが確認された。
なお、上記シリコンオキシナイトライド層の厚さは０．
２ｍ膳であり、これは直径２０鳳膳φとしたプリフォー
ムロッド１の１ｚに該当するが、この程度の寸法は紡糸
後におけるコア／クラッドの外径比＝５０／１２５にほ
とんど影響せず、しかも当該ガラス層はＧＩ型光ファイ
バにおけるクラッドの最外周部に位置するので、光の伝
送特性に悪影響を与えることがなかった。
２ｍ膳であり、これは直径２０鳳膳φとしたプリフォー
ムロッド１の１ｚに該当するが、この程度の寸法は紡糸
後におけるコア／クラッドの外径比＝５０／１２５にほ
とんど影響せず、しかも当該ガラス層はＧＩ型光ファイ
バにおけるクラッドの最外周部に位置するので、光の伝
送特性に悪影響を与えることがなかった。
上記透明ガラス化後の母材を紡糸して所定のＧＩ型光フ
ァイバを作製し、これを２００℃の水素雰囲気中で４時
間処理したところ、シリコンオキシナイトライド層のな
い通常の光ファイバでは、ＯＨ基によるロス増が約２０
ｄＢ／ｋｍであったのに対し、本発明に係る光ファイバ
の場合は、このようなロス増がほとんど認められなかっ
た。
ァイバを作製し、これを２００℃の水素雰囲気中で４時
間処理したところ、シリコンオキシナイトライド層のな
い通常の光ファイバでは、ＯＨ基によるロス増が約２０
ｄＢ／ｋｍであったのに対し、本発明に係る光ファイバ
の場合は、このようなロス増がほとんど認められなかっ
た。
その理由として、シリコンオキシナイトライド層は、こ
れにドープされたＮが石英ガラスの網目構造の隙間をう
めることにより、水素がほとんど拡散（通過）できなく
なると推定される。
れにドープされたＮが石英ガラスの網目構造の隙間をう
めることにより、水素がほとんど拡散（通過）できなく
なると推定される。
なお、前述した例では炉心管５としてカーボン製のもの
を用いたが、これの材質としては酸化されやすく、その
炉心管５内を還元性に保持できるものであれば、カーボ
ン以外も有効であり、これの他側としてＢＮ、 Ｍｏ、
Ｓｉをあげることができる。
を用いたが、これの材質としては酸化されやすく、その
炉心管５内を還元性に保持できるものであれば、カーボ
ン以外も有効であり、これの他側としてＢＮ、 Ｍｏ、
Ｓｉをあげることができる。
Ｓ ｉｃ２の場合、かなり酸化されにくいが、これも炉
心管５の材質としてあげることができる。
心管５の材質としてあげることができる。
プリ７オームロツドｌの外周に多孔質ガラス層２を形成
する際の酸化ケイ素微粒子は、Ｇｅ、 Ｐ、Ｆ、Ｂな
どのドーパントを含有させてもよい。
する際の酸化ケイ素微粒子は、Ｇｅ、 Ｐ、Ｆ、Ｂな
どのドーパントを含有させてもよい。
その他、室温より高い温度での化学反応によりチッ素を
発生する化合物、例えばＮＨ３，ＮＨａＧＩなどを用い
て炉心管５内をチッ素ガス含有雰囲気としてもよい。
発生する化合物、例えばＮＨ３，ＮＨａＧＩなどを用い
て炉心管５内をチッ素ガス含有雰囲気としてもよい。
ｒ発明の効果」
以上説明した通り１本発明方法によるときは。
プリフォームロッドの外周に水素拡散防止用のシリコン
オキシナイトライド層を形成するから、耐水素性の高い
光ファイバを得ることのできる母材が製造でき、しかも
そのシリコンオキシナイトライド層は、プリフォームロ
ッドの外周に多孔質ガラス層を堆精する手段、該多孔質
ガラス層を所定雰囲気の炉心管内で透明ガラス化する手
段など、熟成した技術により形成できるから、高価な設
備を必要とせず、安定かつ安価にして当該シリコンオキ
シナイトライド層をもつ光ファイバ母材が得られる。
オキシナイトライド層を形成するから、耐水素性の高い
光ファイバを得ることのできる母材が製造でき、しかも
そのシリコンオキシナイトライド層は、プリフォームロ
ッドの外周に多孔質ガラス層を堆精する手段、該多孔質
ガラス層を所定雰囲気の炉心管内で透明ガラス化する手
段など、熟成した技術により形成できるから、高価な設
備を必要とせず、安定かつ安価にして当該シリコンオキ
シナイトライド層をもつ光ファイバ母材が得られる。
図面は本発明方法の一実施例を示したのもで、第１図は
多孔質ガラスを形成する工程の略示説明図、第２図はそ
の多孔質ガラスを透明ガラス化する工程の略示説明図で
ある。 ｌ・・−プリフォームロッド ２１１＠・多孔質ガラス層 ３・・・バーナ ４拳・・加熱炉 ５・・・炉心管 ６１１・φヒータ ７・・・炉心管のガス入口 ８・・・炉心管のガス出口 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 第１図 第２ｒ！！Ｊ
多孔質ガラスを形成する工程の略示説明図、第２図はそ
の多孔質ガラスを透明ガラス化する工程の略示説明図で
ある。 ｌ・・−プリフォームロッド ２１１＠・多孔質ガラス層 ３・・・バーナ ４拳・・加熱炉 ５・・・炉心管 ６１１・φヒータ ７・・・炉心管のガス入口 ８・・・炉心管のガス出口 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 第１図 第２ｒ！！Ｊ
Claims (4)
- （１）石英系プリフォームロッドの外周に酸化ケイ素微
粒子を堆積させて多孔質ガラス層を形成する工程と、そ
の多孔質ガラス層を透明ガラス化する工程とを備え、該
透明ガラス化工程により多孔質ガラス層を透明ガラス化
するとき、酸化可能な炉心管を有し、その炉心管内が還
元性雰囲気に保持される加熱炉を用意し、該加熱炉の炉
心管内をチッ素ガス含有雰囲気とした後、その炉心管内
に上記多孔質ガラス層付のプリフォームロッドを挿入し
て熱処理して上記多孔質ガラス層をシリコンオキシナイ
トライド層にすることを特徴とする光ファイバ母材の製
造方法。 - （２）酸化ケイ素微粒子がドーパントを含有している特
許請求の範囲第１項記載の光ファイバ母材の製造方法。 - （３）炉心管がＣ、ＢＮ、Ｍｏ、Ｓｉのいずれかからな
る特許請求の範囲第１項記載のの光ファイバ母材の製造
方法。 - （４）室温より高い温度での化学反応によりチッ素を発
生する化合物を用いて炉心管内をチッ素ガス含有雰囲気
とする特許請求の範囲第１項記載の光ファイバ母材の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20409085A JPS6265948A (ja) | 1985-09-14 | 1985-09-14 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20409085A JPS6265948A (ja) | 1985-09-14 | 1985-09-14 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6265948A true JPS6265948A (ja) | 1987-03-25 |
Family
ID=16484618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20409085A Pending JPS6265948A (ja) | 1985-09-14 | 1985-09-14 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6265948A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0348935A2 (en) * | 1988-06-28 | 1990-01-03 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing glass preform for optical fiber |
| US6988380B2 (en) | 2002-08-15 | 2006-01-24 | Ceramoptec Industries, Inc. | Method of silica optical fiber preform production |
-
1985
- 1985-09-14 JP JP20409085A patent/JPS6265948A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0348935A2 (en) * | 1988-06-28 | 1990-01-03 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing glass preform for optical fiber |
| US6988380B2 (en) | 2002-08-15 | 2006-01-24 | Ceramoptec Industries, Inc. | Method of silica optical fiber preform production |
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