JPS6264351A - 磁界の過渡的な非均質性を少なくする方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 この発明は核磁気共鳴（ＮＭＲ）による作像及び核磁気
共鳴による化学シフト分光作像、更に具体的に云えば、
作像用の磁界の過渡的な非均質性、特に作像過程自体に
用いられるパルス形磁界勾配によって誘起される様な過
渡的な非均質性を解決する新規な方法に関する。

核磁気共鳴による作像が、生体内の検査、特に人間の患
者に対し、陽子（１Ｈ）密度等を作像する為に利用する
ことが出来ることは現在ではよく知られている。サンプ
ル内の１個所又はある順序の複数個の場所の配列の内の
各々の場所で、化学シフト分光法等により、異質サンプ
ル内の他の原子核種口を検査することも知られている。

こういう検査の内、核磁気共鳴による化学シフト分光法
は、核磁気共鳴作像装置に対する要求が一層厳しい。該
磁気共鳴による化学シフト分光法の作像を実施する為の
かなめの条件は、使う磁界が十分に一様であって、各々
の感応容積又は像容積素子からの化学シフト・スペクト
ルを分解することが出来る様になっていなければならな
いことである。

陽子（Ｈ）、燐ｃ　３１　ｐ　＞、炭素（”’Ｃ）等の
様な原子核種口を生体内の核磁気共鳴分光法によって検
査する場合、容積素子にわたって約１　ｐｐａ＋よりも
よい磁界の均質性が必要である。係属中の米国特許出願
通し番号節５６１，３８１号に記載されている選択照射
化学シフト作像方式の様な方式では、この均質性の条件
が作像容積全体に及ぶことがある。この例の様な方式で
は、作像容積全体にわたって１　ｐｐｍよりもよい磁界
の均質性が要求される。

実際には、多くのＮＭＲ作像方式、特に分光性作像方式
は、パルス形磁界勾配を用いる。この様な方式の例は米
国特許第４．５０６．２２３号及び同第４，４８０．２
２８号に記載されている。

こういう磁界勾配パルスは、磁気共鳴装置の主磁界を形
成する構造からある距離以内にあるあらゆる導体に、渦
電流を誘起する場合が多い。超導電磁石を用いた強い磁
界の装置では、磁気低温槽又はその他の構造の金属がパ
ルス形勾配磁界の中にあり、こういう金属部品に渦電流
が誘起される場合が多い。誘起された各々の渦電流はそ
れ自身の個別の速度で減衰する。各々の速度は、この渦
電流を発生したパルスの減衰速度よりも実質的に遅いこ
とがある。各々の渦電流自体が過渡的な磁界勾配を誘起
し、これはもとの入力の磁界勾配パルスが略ゼロの大き
さに沈静した後も持続することがあるから、化学シフト
情報を収集する期間まで持続する様な過渡的な磁界勾配
が発生されることがある。この様な持続的な過渡的な磁
界勾配は、適正な応答情報を収集する装置の能力を破壊
することがある。例えば、前掲米国特許第４．５０６゜
２２３号に記載されている様な３次元（３−Ｄ）又は４
次元（４−Ｄ）変換（ＦＴ）分光作像では、磁界勾配が
存在しない状態で応答データを収集しなければならない
。前に引用した係属中の米国特許出願節５６１，３８１
号に記載されている様な選択照射作像方法では、選ばれ
た化学種目からの核磁気共鳴による応答信号は、この様
な磁界勾配が存在しない状態で励振しなければならない
。従って化学シフト分光法又は化学シフト分光作像を行
なう為には、誘起された過渡的な磁界勾配を、完全に防
止することが出来なくても、出来る限り改善することが
重要である。これよりも幾分寛容な普通のＮＭＲ実験で
も、固ａの磁界の均質性が一層高くなれば、データ収集
の帯域幅を減少することが出来、こうして信号対雑音比
が改善されると共に、普通は空間的に非選択性である無
線周波（ＲＦ）パルス信号が、過渡的な磁界勾配が存在
する時に空間的に選択性になることを防止することが出
来るので、誘起された勾配磁界を最小限に低減すること
がやはり望ましい。

発明の要約 この発明では、少なくとも１形式の相殺用勾配磁界パル
スを印加することによって、ＮＭＲ作像並びにＮＭＲ化
学シフト分光作像に於ける過渡的な磁界の非均質性を減
少する方法が、（ａ１）各々の非選択性無線周波（ＲＦ
）パルス、即ち、全ての作像用勾配磁界が略ゼロの大き
さを持つ時に通常発生される任意のＲＦパルスが存在す
る１■ｊ。

第１形式の相殺パルスを作像容積に加え、（ａ２）第１
形式のｔ０殺用勾配磁界パルスを使う場合、その各々の
パルスを、作像容積にわたって出来る限り一様な励振Ｒ
Ｆ磁界が発生される様な振幅に調節すること、（ｂ１）
作像容積内に振幅がゼロでない作像用勾配磁界が存在す
る任意の応答ｆ；号読出明間に１ａぐ続いて、第２形式
のｔ１殺用勾配磁界パルスを作像容積に加え、（ｂ２）
この第２形式の相殺用勾配磁界パルスを使う場合、その
振幅及び持続時間の内の少なくとも一方を調節して、作
像パルス順序全体をこの後で適用することを開始する前
に、作像用読出磁界勾配の影響を相殺すること、（ｃ１
）任意の空間的に選択性のＲＦパルス、即ち、任意の応
答信号読出期間が終了する前に、最初のスライスの選択
に関係していない任意の勾配磁界が使われている任意の
期間中に発生する任意のＲＦパルスに直ぐ続いて、第３
形式の相殺用勾配磁界パルスを作像容積に加え、（ｃ２
）第３形式の相殺用勾配磁界パルスを使う場合、その各
々のパルスの振幅及び持続時間の内の少なくとも一方を
調節して、データの収集に干渉する読出期間の勾配の影
響を相殺すること、及び（ｄ１）完全に直交する勾配磁
界を必要とする任意の時に、第４形式の相殺用勾配磁界
パルスを作像容積に加え、（ｄ２）各々の第４形式の相
殺パルスの振幅、減衰時定数、波形及び開始時刻の内の
少なくとも１つを調節して、この結果得られる少なくと
もＸ方向及びＹ方向の勾配磁界をその間の漏話がら補償
すること、と云う少なくとも１対の工程を含む。

この発明の現在好ましいと考えられる幾つかの実施例で
は、第１形式、第２形式及び第３形式の各々のパルスは
、それを印加する時に一定の振幅であって、この補正パ
ルスによって補償しようとする作像用勾配パルスの極性
に対して反対の極性である。第４形式のパルスは、他の
軸の勾配磁界が所望の軸の方向に対して正確に直交して
いないことによって誘起される漏話に対し、その磁界勾
配を補償する為に、各々の勾配方向に対して相異なる時
刻に発生することが好ましい。

従って、この発明の１つの目的は、過渡的な磁界勾配に
よって誘起される渦電流の磁界に対抗して、それを実質
的に相殺する新規な方法を提供することである。

この発明の上記並びにその他の目的は、以下図面につい
てこの発明の詳細な説明する所から明らかになろう。

発明の詳細な説明 最初に第１図について説明すると、サンプル１０が静磁
界Ｂｏの中に入っている。磁界Ｂｏは、３次元デカルト
座標系で円柱形サンプルのＺ軸に沿った方向である。適
正なラーモア周波数の無線周波（ＲＦ）励振パルスと共
に、Ｘ、Ｙ及び／又はＺ方向の勾配を利用して、サンプ
ルのスライス部分又は薄板部分１１内にある所望の原子
核からのＮＭＲ応答信号を誘発することが出来る。サン
プルのスライス１１はＺ方向に厚さΔ２を持っている。

スライス１１は夫々幅ΔＹを持つ逐次的な相次ぐ条片１
１ａで構成されているものと見なすことが出来る。各々
の条片が長さΔＸを持つ多数の容積素子１１ｂを持って
いる。サンプルのスライス、条片及び容積素子が、磁界
勾配Ｇ２．ＧＹ。

Ｇ×を適当に印加することによって選択される。

ニーで Ｇｚ　−；ｆ）Ｂｏ／ａＺ ＧＹ−ＧＩＢＯ／δＹ Ｇｘ＝（３ＢＯ／ａＸ 各々の勾配と適当な軸に沿った距離の変化とによる合計
磁界Ｂの実効的な変化は、Ｂ−Ｂｏ　＋ＢＸ＋ＢＹ＋Ｂ
Ｚで表わされる。ニーでＢ×〜Ｇ×・Ｘ、ＢＹ−ＣＹ−
Ｙ、Ｂａｙ　−Ｇｚ−Ｚである。

主となる静磁界Ｂ０、磁界勾配Ｇ　ｚ　、Ｇ　Ｙ　ＩＧ
×及び必要なＲＦ磁界励振パルス信号が何れも磁界形成
手段１２の一部分（図面に示してない）によって発生さ
れる。この磁界発生手段は全体的に円柱形サンプル容積
１０の周りに位置ぎめされる。手段１２は、静磁界Ｂｏ
を発生する超導電（又は抵抗性又は永久）磁石手段（主
磁界Ｂｏの非直線性を少なくする為の超導電並びに／又
は抵抗性シム・コイル及び／又は受動磁気シムを−緒に
使うことも使わないこともある）、磁界勾配形成コイル
手段、無線周波アンテナ等を含んでいるが、これは周知
である。更に周知の様に、それ自体は手段１２に流れる
所望の電流ＩＡの結果ということが出来る磁界部分ＢＡ
が、手段１２内に見られる様な導体の隣接部分に渦電流
又は２次電流の寄与１Ｂを誘起することがある。渦電流
１Ｂは、もとの磁界部分ＢＡが略ゼロの大きさに減衰し
た後の時刻でも、ゼロでない大きさで存在することがあ
る。存在すると、渦電流ＩＢ自体が容積１０内に磁界部
分又は勾配Ｂ８を発生し、その時点は、サンプルのスラ
イス１１の励振された核スピンからのＮＭＲ信号の励振
又は所望のＮＭＲ作像応答信号自体と干渉を招く様な時
点になる惧れがある。

この発明では、誘起された渦電流による磁界Ｂ８に対抗
して、それを実質的に相殺する為の追加のパルス形磁界
勾配を発生する。補償用勾配パルスは、非選択性ＲＦパ
ルス信号の間、最初の磁界勾配を印加した直後、データ
収集期間の間、又は勾配どうしの間の漏話を補償する為
に、磁界勾配自体が存在する間に印加された補正磁界勾
配パルスの内の少なくとも１つを含む。

非選択性ＲＦパルスの間に印加される磁界勾配補正信号 第２図について説明すると、デカルト座標系の３つの軸
の内の１つに沿って印加される各々の磁界勾配信号順序
の一部分として、第１形式の補正信号が発生されて、作
像しようとするスライス１１内の核スピンを非選択的に
反転する為に印加された無線周波（ＲＦ）磁界の非一様
性によって誘起された渦電流の磁界に対抗し、且つそれ
を実質的に相殺する。一般的に、一様でないＲＦ励振磁
界の影響は、非選択性ＲＦ信号パルスの間に存在する少
なくとも１つの略一定振幅の補正信号によって克服する
ことが出来る。

こういう補正信号がスピンエコー２ＤＦＴ順序の一部分
として示されている。この順序は、第２図の夫々の部分
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の開始時刻ｔｏの前
の略ゼロの大きさの部分（即ち、Ｚ軸勾配Ｇｚ信号部分
２０ａ、Ｘ軸勾配Ｇ×部分２１ａ及びＹ軸勾配ＧＹ部分
２２ａによって示されている）を持つ各々の勾配信号と
、略ゼロの大きさの無線周波信号部分２３ａとで開始さ
れる。作像受信機のデータ収集ゲート（第２図の部分（
ｃ））は、信号部分２４ａで示す様に、「閉じている」
。

作像順序が時刻ｔ０に開始される。この時、部分２０ｂ
に示す様に、Ｚ軸勾配磁界が、サンプル作像装置内に限
定された座標系の中心ゼロから所望の距離にあるスライ
スのＺ軸方向の中点を決定する様に選ばれた大きさまで
上昇する。その少し後の時刻１＋　　（勾配Ｇｚの値が
安定になった時）に、略９０″選択性ＲＦパルス２３ｂ
（又は特定の順序に必要な位相によって要求されること
であるが、その反転、例えばパルス２３ｂ′）が印加さ
れて、選ばれたスライス内のスピンを９０″章動させる
。パルス２３ｂ又は２３ｂ′が時刻ｔ２にピーク振幅に
達し、時刻ｔ３に実質的に終わるが、これはＺ軸勾配磁
界のスライス選択部分２０ｂが終わる時刻ｔ４より前で
ある。公知の様に選択性ＲＦパルス２３ｂ又は２３ｂ′
は、スライスの厚さΔＺ及び加重又は縁の「鮮明度」を
決定する為に、５ｉｎｃ変調形、ガウス変調形等の変調
された形の包絡線をｔｊｊつことが出来る。周知の様に
、時刻ｔ４と時刻ｔ５の間の期間内に、位相戻し部分２
０ｃとして、部分２０ｂの極性と反対の極性のＺ軸磁界
勾配ＣＺを供給することが出来、その振幅は、 ｔａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　ｔｓ８ｆ　
Ｇｚ　　（ｔ）ｄｔ　−ｆ　　Ｇｚ　　（ｔ）ｄｔｔ＋
　　　　　　　　　　　　　　　　　　ｔ４が実質的に
成立する様になっている。同じ期間の間、Ｙ軸勾配ＧＹ
磁界を加えることが出来、そのピーク振幅は、特定の順
序に対して選ばれたローブ部分２２ｂ（又は部分２２ｂ
−１，２２ｂ−２゜２２ｂ−３・・・・・・の内の１つ
）のＹ軸の値を用いて、容積要素の条片１１ａを空間的
に符号化する様に選ばれる。Ｘ軸勾配Ｃ×の磁界がロー
ブ部分２１ｂとして発生され、そのピーク振幅は、米国
特許第４，４７１．３０６号に記載されている様に、Ｒ
Ｆパルス２３ｄ及び勾配部分２１ｄと共に、データ収集
期間２４ｂの間に、ＮＭＲ信号を発生ずるのに十分であ
る様に選ばれている。時刻ｔ５に、パルス形勾配磁界Ｇ
ｚ、Ｇｘ及びＧＹ倍信号何れも実質的に終了する。公知
のスピンエコー作像順序では、この後これらの信号は部
分２０ｄ、２１Ｃ及び２２ｃで略ゼロの大きさで発生さ
れ、サンプルに対して非選択性１８０＠ＲＦパルス２３
ｄが印加される時刻ｔ６までに、勾配の大きさが略ゼロ
の大きさまではっきりと減衰する様になっている。然し
、時刻ｔ４及びｔ５の間の期間内に、勾配信号部分２０
ｃ、２１ｂ、２２ｂの内の少なくとも１つが渦電流を誘
起すると、この渦電流自体が望ましくない擾乱磁界勾配
を時刻ｔ５乃至時刻ｔ８の期間内、特に非選択性ＲＦパ
ルス２３ｄか存在する時刻ｔ６から時刻ｔ７までの期間
内に発生することがある。パルス信号部分２３ｄの間に
ゼロでない勾配磁界が存在することは、作像容積の少な
くとも一部分にわたって一様でない励振ＲＦ磁界が存在
することになり、従って、勾配磁界がゼロでないようｔ
　１つの軸に関連する方向の作像情報に−ｑ害な制約が
生ずる。

この発明の一面では、非選択性ＲＦパルスの間に存在す
る渦電流によって誘起された勾配磁界に、少なくとも１
つの勾配補償１１０正パルスによって対抗し、実質的に
相殺する。時刻ｔ５及びｔ８の期間の間、Ｚ軸勾配ＣＺ
磁界信号に第１の補正勾配磁界信号パルス２０ｄ′を加
えることが出来る。

Ｚ軸補正パルス２０ｄ′には、振幅ＺＣＯＲと、関連し
た非選択性ＲＦ信号パルス２３ｄに応答して、Ｚ方向に
出来るだけ一様な励振ＲＦ磁界を発生する様に選ばれた
極性を持たせる。同様に、Ｘ軸勾配Ｇ×磁界補正信号パ
ルス２１ｃ′には、振幅ＸＣＯＲを持たせることが出来
、Ｙ軸勾配ＧＹ磁界補正信号パルス２２ｃ′には大きさ
ＹＣＯＲを持たせることが出来る。大きさＺＣＯＲ，Ｘ
ＣＯＲ及び／又はＹＣＯＲは、夫々、その勾配磁界補正
パルスの内、時刻ｔ６及びｔ７の間に略安定な値を持つ
振幅レベル（＝１９びに極性）が、関連した座標軸に沿
って渦電流によって誘起された勾配磁界成分と対抗して
、実質的にそれを相殺するのに必要な振幅（並びに極性
）であるように調節される。部分２０ｄ’、２１ｃ’又
は２２Ｃ′の補正信号の振幅ＸＣＯＲ，ＹＣＯＲ又はＺ
ＣＯＲは、Ｘ軸読出勾配Ｇ×磁界部分２１ｄが存在し且
つ部分２４ｂに示す様に、データ収集ゲートが開いてい
る時刻ｔ９乃至時刻ｔａの期間の間に現れるスピンエコ
一応答信号の最大の大きさが得られる様に調節すること
により、夫々１８０’非選択性ＲＦパルス２３ｄの励振
の一様性を最適にする様に調節することが出来る。時刻
ｔ６及び時刻ｔ７の間の非選択性ＲＦ信号パルスの期間
の間、特定の軸に沿って渦電流によって誘起された勾配
が存在しない場合、対応するパルスは必要ではない（言
換えれば、その大きさは略ゼロである）。補正パルス信
号２０ｄ’、２１Ｃ’及び２２ｃ′が、非選択性ＲＦパ
ルスの終り（時刻ｔｙ）より後且つデータ収集期間の開
始（時刻ｔＳ）より前の時刻ｔ８に、大きさが略ゼロに
下がる。Ｘ軸読出勾配が時刻ｔｂに（部分２１ａ′で示
す様に）略ゼロの最明の値に減少すること、残留横力向
ＮＭＲ磁化があれば、それを不規則にする為に使われる
スポイラ一部分２２ｅ（又は部分２２ｅ−１，２２ｅ−
２，２２ｅ−３，・・・・・・の内の１つ）が存在して
も又はしなくても、勾配ＧＹの磁界が（部分２２ａ′で
）略ゼロの大きさに復帰すること、部分２３ａ′でＲＦ
倍信号振幅が略ゼロであること、並びに部分２４ａ′に
示す様にデータ収集ゲートが閉じることを含めた、この
順序の残りの部分は、周知である。

渦電流によって誘起された勾配磁界の誤差の影響を補正
するこの発明の現在好ましいと考えられる第１の実施例
の方法では、非選択性ＲＦパルスが発生する度に存在す
る少なくとも１つの補正信号（典型的には、使う為に選
ばれた座標系の３つの座標軸の各々に沿った補正信号）
の振幅、極性及び持続時間は、渦電流によって誘起され
た磁界勾配に対抗して、それを実質的に相殺する様に選
ばれる。

最初の勾配を印加した直後に印加される第３図について
説明すると、非選択性ＲＦパルスによって誘起された渦
電流に応答するａ害な磁界に対抗し、実質的にそれを相
殺する為に、デカルト座標系の３つの軸の内の少なくと
も１つに沿って印加される各々の磁界勾配信号順序の一
部分として、第２形式の補正信号が発生される。即ち、
渦電流を相殺する補正信号は、補正信号が作像順序のデ
ータ収集部分と干渉しない時にだけに印加することが出
来る。

この第２形式の補正信号がＮＭＲ化学化学シフト分作法
作像順序部分として示されている。この場合、所望の化
学シフト・スペクトル応答信号から、その共鳴を抑圧す
る為に、特定の化学シフトの共鳴を選択的に照射する為
に、同等磁界勾配が存在しない状態で、帯域幅の狭いＲ
Ｆ磁界をサンプルに印加しなければならない。この順序
は、少なくともその最初の部分は、第２図のスピンエコ
ー２ＤＦＴ順序と同様であることが判る。即ち、第３図
の夫々の部分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）で、順
序の始めに、各々の勾配信号が開始時刻ｔｏより前は略
ゼロの大きさの部分（例えばゼロの大きさのＺ軸勾配Ｃ
Ｚ信号部分３０ａ、Ｘ軸勾配Ｇ×部分３ｉａ及びＹ軸勾
配Ｇｙ部分３２ａ）を持つと共に、ＲＦ信号部分３３ａ
の大きさも略ゼロである。装置の受信機が「閉」のデー
タ収集ゲー　ト信号部分３４ａ（第２図の部分（ｃ））
を持ち、従って最初は同等応答信号を受信することが出
来ない。

時刻ｔｏから始まる作像順序が、少なくとも時刻ｔ５ま
では第２図と同じ様に順序を進める。実際、時刻ｔｂま
での順序は、第２図について説明した補正しない順序と
略同様に作用する。然し、このもとの順序は、読出勾配
部分３１ｄの終りにＸ軸勾配Ｇ×信号の略ゼロの大きさ
の部分３１ｅを持っているが、化学選択性ＲＦパルス部
分３３ｆを含んでいる。化学選択性パルス信号３３４は
帯域幅の狭いＲＦパルスであり、これは磁界勾配が存在
しない状態で印加して、少なくとも１つの不所望の化学
シフト共鳴を選択的に照射して、データ収集順序をこの
次に用い不時の最初の部分の間に得られる化学シフト・
スペクトルから、この選択された共鳴（１つ又は複数）
を抑圧することが出来る様にしなければならない。この
様な渦電流によって誘起された磁界勾配（１つ又は！Ｊ
２数）は、時刻１ｄ乃至時刻ｔｅの期間の間に印加され
るＸＣＯＲ，ＹＣＯＲ及びＺＣＯＲ補正信号（第２図に
ついて説明した）を用いて補償し、渦電流によって誘起
された各々の勾配磁界の値を、夫々の軸に沿ってλ′［
容し得る最大誘起勾配の値より小さくなる様に制限する
ことが出来る。然し、典型的な帯域幅の狭い化学選択性
照射パルスは持続時間が比較的長く、例えば少なくとも
１００ミリ秒であり、その為、非選択性パルスによって
励振された渦電流はこの比較的長いパルス期間の間に減
衰し、この為、時刻ｔ、より前又は時刻ｔｄに適正に調
節した補正パルスを加えると、ずっと後の時刻ｔｅに於
けるパルス３３ｆの終りまでに補償が不正確になる惧れ
がある。その為、この発明では、化学選択性ＲＦパルス
が始まる時刻ｔ、より前に補償信号を使うことが好まし
い。

この発明の第２の面では、非選択性ＲＦパルスの間に誘
起される渦電流に応答する望ましくない勾配磁界に、関
連する勾配磁界を最初に印加した直後に少なくとも１つ
の勾配補償用補正パルスを印加することによって、対抗
し、実質的に相殺する。第３図に示した信号順序は、１
つの勾配磁界、例えばＸ軸勾配Ｇ×磁界に対してだけ、
補償が必要であると仮定している。他の２つの勾配磁界
、例えば、Ｙ軸勾配ＣＩＹ磁界及び／又はＺ軸勾配ＣＺ
磁界に対する同様な補正は、データ収集部分３４ｂより
前にこういう種類の補正が存在すると、時刻ｔ９及び時
刻ｔａの期間内に得られる所望のＮＭＲ信号にを害な干
渉があるので、第３図の順序では、時刻ｔａより前に行
なうことが出来ない。

従って、この場合に補償すべき渦電流は、時刻ｔａより
後に持続する渦電流であり、どんな補正動作も、データ
収集期間より後に行なわなければならない。時刻ｔ８に
始まって時刻１ｂに終わる持続時間Ｔｓを持つ期間の間
、Ｇ×作像勾配部分３１ｄはある振幅ＸＡで存在する。

この部分によって誘起される渦電流は、この発明の別の
一面に従って、関連する各々の勾配（今の場合はＸ軸勾
配だけ）にこの後の勾配補償用の補正パルス３１ｅ′を
用いることにより、対抗し、実質的に相殺することが出
来る。補正パルス３１ｅ′の振幅Ｘ八′は、この補償パ
ルスの略直前に印加された勾配磁界パルス３１ｂの振幅
ＸＡと実質的に等しくする。勾配補正パルス３１ｅ′の
極性は、その前に誘起された渦電流の汚染効果を「吸取
る」ことがパルス３１ｅ′によって出来る様にするのに
必要な極性にし、典型的には読出パルス３１ｄの極性と
反対である。この為、補正パスル３１ｅ′は、補償する
パルス３１ｄの持続時間Ｔｓより典型的には短いか又は
それと等しい持続時間Ｔｓ’（時刻ｔｂに始まり時刻ｔ
ｃに終わる）を持っており、パルス３１ｄの影響を相殺
して、化学選択性パルス３３ｆを印加する間、一様の磁
界が得られる様に調節される。然し、パルス３１８′は
、時刻ｔｄから始まる化学選択性ＲＦパルス３３ｆを印
加する前に終了しなけばならない。

渦電流によって誘起された磁界勾配の誤差の影響を補正
する現在好ましいと考えられる本願発明のこの２番口の
実施例の方法では、関連する磁界勾配を最初に印加した
略直後に発生される少なくとも１つの補正（又は「吸取
」）信号の振幅、極性及び持続時間が、関連する誤差を
誘起する渦電流に応答して、関連する磁界勾配の自゛害
な影響に対抗し、実質的にそれを相殺する様に選ばれる
ことが理解されよう。

第４図には、１８０°選択性ＲＦパルスの間に存在する
勾配磁界の時間的な非対称性が原因で発生される渦電流
によって、勾配磁界に誘起される誤差に対抗し、実質的
にそれを相殺する為に、デカルト座標系の３つの軸の内
の少なくとも１つに沿って印加される各々の磁界勾配信
号順序の一部分としての第３形式の補正信号が示されて
いる。

普通、スライス選択性１８０°　（又はπラジアン）Ｒ
Ｆパルスの間に印加される勾配磁界は、この選択性パル
スの時間的な中心に対して時間的に対称的であることが
望ましい。然し、勾配磁界を発生する手段の実際の物理
的な性質の為、勾配磁界の立上り時間が勾配磁界の立下
り時間と異なる様になったり、或いは他の同様な時間的
な非対称性が起こる可能性がある。一般的に云うと、勾
配磁界がその休止時の値から最大値まで増加するのに要
する期間は、勾配磁界が最大値から同じ休止値に減少す
るのに要する期間と等しくはない。スライス選択性勾配
磁界の極性と反対の極性を持つ補償用勾配磁界パルスを
印加すると共に、非対称性を補償して、そうしない場合
にはこの後のサンプル励振期間又は応答信号データ収集
期間まで持続する様な渦電流の勾配を更に減少する様に
選ばれた期間と振幅の組合せを用いることにより、時間
−振幅の非対称性を補償することが望ましい。

こういう補正信号が、局在化した化学シフト作像順序の
一部分として示されている。実際の順序が開始される前
、第４図の部分（ａ）乃至（ｃ）の夫々の部分４０ａ、
４１ａ、４２ａ、４３ａ及び４４ａに示す様に、３つの
勾配信号、ＲＦ倍信号びＮＭＲ応答信号は全て略ゼロの
レベルにある。

作像順序が時刻ｔｏに始まると、時刻ｔｏから時刻ｔ４
までのＺ軸勾配期間Ｔｚの始めの部分４０ｂで、Ｚ軸勾
配Ｇｚ磁界がスライス選択用の大きさまで上昇する。こ
の期間の間、９０’ＲＦパルス４３ｂが発生し、Ｚ軸の
中点の位置、及び化学シフト像を発生しようとするスラ
イスの広がりΔＺを決定する。ＲＦ励振信号のゼロでな
い部分（第４図の部分（ｄ））が「透過ゲート形」関数
として示されているが、こういうゲート・オン期間の間
、矩形でない包絡線関数（例えば第３図の３３ｂに示す
様な５ｉｎｃ関数）による変調を使う方が一層普通であ
る。時刻ｔ４及び時刻ｔ５の間、Ｚ軸勾配ＣＺ磁界に位
相戻し部分４０ｃが発生される。応答信号部分４４ｂが
位相戻し部分４０ｃに応答して発生することがあるが、
無視する。

少し後の時刻ｔ６に、期間ＴＶの間、即ち時刻ｔ９まで
、Ｙ軸勾配ＧＹ部分４１ｂが発生される。

この期間の間、１８０″選択性ＲＦパルス４３ｄを発生
して、そこからデータを収集しようとするＹＪｊ向の縞
１１ａを選択する。通常、時刻１．から始まって時刻ｔ
９に終わる期間Ｔｘの間、Ｘ輪勾配Ｇ×磁界部分４２ｂ
を発生する。この時、２番目の１８０’選択性ＲＦパル
ス４３ｆを発生して、勾配部分４１ｂによって選択され
たＹ方向の縞１１ａに沿った容積素子１１ｂのＸ軸上の
位置を選択する。作像順序のこの繰返しに応答して、応
答スピンエコー信号４４ｆとして局在化化学シフト像デ
ータが発生されるのは、この容積素子からである。然し
、何れかの勾配磁界部分４１ｂ又は４２ｂが、特に関連
した１０００選択性ＲＦパルス４３ｄ又は４３ｆが夫々
存在する夫々の期間（即ち夫々ｔ７からｔ８まで又はｔ
ｄからｔｅまで）の間に時間的に非対称である場合、関
連する勾配磁界を最初に印加した直後に補償パルスによ
って渦電流の補償が行なわれるのと同時に、この時間的
な非対称性の補償をすることが出来る。

この発明の別の一面では、選択性１８０°パルスのＲＦ
磁界の間に存在する各々の勾配磁界に続いて、界磁装置
の同じ軸に沿って反対の極性の補償勾配パルスが発生さ
れる。補償勾配パルスの振幅及び持続時間は、選択性の
期間の間に印加された勾配信号の非対称性があれば、そ
れに対抗し、実質的それを相殺する様に選ばれる。従っ
て、実施例では、Ｙ軸勾配ＧＹ磁界部分４１ｂに非対称
性があれば、それは、期間ＴＹ、’（時刻ｔ９から時刻
ｔａまで）に、勾配磁界パルス４１ｂの極性と反対の極
性（例えば負の極性）でＹ勾配磁界の非対称性の影響に
対抗し、それを実質的に相殺する様に選ばれた振幅ＹＢ
を持つ勾配信号部分４１０′をその略直後に印加するこ
とによって、補償される。非対称性補正パルス４１Ｃ′
は任意の勾配磁界の軸に対して次のパルス（又は−組の
パルス）が印加される時刻より前に、例えば、Ｘ軸勾配
Ｇ×磁界部分４２ｂが始まる時刻１ｄより前に終了する
。実際には、補償パルスの振幅及び持続時間は、夫々の
１８０ｅ選択性ＲＦパルス信号によって再集束される対
応するエコー信号を最大にする様に調節される。例えば
、振幅ＹＢ及び持続時間ＴＹ′はエコー信号４４ｄを最
大にする様に調節される。関連した１８０”選択性ＲＦ
パルス４３ｆと共にこのＸ軸パルス４２ｂの非対称性の
影響が、補償パルス４２０′によって補償されることが
理解されよう。この補償パルス４２０′は、補償すべき
パルス（例えばパルス４２ｂ）が終了する時刻ｔ９に始
まり、期間Ｔ×′の間（例えば時刻ｔ９から時刻ｔｈ　
まで）持続する。パルス４Ｚ　Ｃ７の振幅ＸＢ及び極性
は、関連する軸（例えばＸ軸）に沿った勾配の非一様性
に対抗し、それを実質的に相殺する様に選ばれる。補償
パルス４１Ｃ’、４２Ｃ’、・・・・・・の内の１つ又
は任意の組合せが、この後のサンプル励振期間又は応答
信号データ収集期間まで持続する惧れのある渦電流によ
る勾配を減少すると云う別の機能をも果す。こういう補
償パルス、例えば補償パルス４２０′は、ＮＭＲ応答信
号が放出される間、そしてデータ収集より前（例えば時
刻ｔｆから時刻ｔ１までの期間）に発生するから、応答
信号に過度の擾乱が生じたり、或いはその後の応答デー
タが失われるのを防止する為に、補償パルスのパラメー
タの設定には極めて注意を払わなければならない。

誘起された磁界勾配の誤差の影響を補正する現在好まし
いと考えられる本願発明のこの第３の実施例の方法では
、関連した磁界勾配を最初に印加した略直後に発生され
る少なくとも１つの補正信号の振幅、極性及び持続時間
は、この磁界勾配を印加した時の関連する時間的な非対
称性に少なくとも応答して、関連する磁界勾配の有害な
影響に対抗し、実質的にそれを相殺する様に選ばれるこ
とが理解されよう。

データ収集の間に印加される勾配磁界補正信号第５図に
ついて説明すると、データ収集期間の間に存在する時間
的に変化する渦電流による勾配に対抗し、実質的にそれ
を相殺する為に、デカルト座標系の３つの軸の各々に沿
って印加される各々の磁界勾配信号順序の一部分として
、更に別の形式の補正信号が発生される。この特定の形
式の渦電流を相殺する補正信号は、作像順序の応答デー
タ収集部分の間だけ印加される。

この形式の補正信号が化学選択性平面状２ＤＦＴ作像順
序の一部分として示されており（第３図の信号順序と同
じく）、同等磁界勾配が存在しない状態で、帯域幅の狭
いＲＦ磁界がサンプルに印加されて、特定の化学シフト
共鳴を選択的に照射して、この共鳴を応答信号から抑圧
し、こうして選ばれた化学シフト種目の像を発生する。

この順序は、開始時刻ｔｏから時刻ｔ５までの部分では
、前に説明した２ＤＦＴ順序と同様であることが判る。

更に、時刻ｔ５及び時刻ｔ７の間の期間の間、外の場合
には実質的にゼロ・レベルの３つの勾配ｃｚ、ａｘ及び
０７部分５０　ｄ、　　５１　ｃ、　　５２　ｃの各々
のレベルが、夫々振幅ＺＣＯＲ，ＸＣＯＲ及びＹＣＯＲ
を持つ夫々の勾配補正パルス部分５０ｄ’、５１ｃ’及
び５２Ｃ′に置換えられていることが判る。この為、補
正パルスは勾配を最初に印加する（これ自体は時刻ｔ５
より前の期間で行なわれる）直後の期間の間に印加され
る。データ収集ゲートが「閉じている」　（第５図の部
分（ｃ）の部分５４ｂに示す様に、時刻ｔ８及び時刻ｔ
９の間）データ収集期間に、正しいデータを収集するに
は、化学シフト・スペクトル情報が失われない様に、均
質な磁界が存在することが必要である。従って、ＮＭＲ
応答信号に含まれている位相情報が変化するのを防止す
る為に、データ収集期間の間は渦電流補正用の磁界パル
スを印加しないのが普通である。この様に位相情報が変
化すると、使う勾配パルス順序の作像性に悪影響がある
。

この発明の更に別の一面として、少なくともデータ収集
期間の間、少なくとも１つの作像用磁界勾配に勾配補償
用の補正パルス信号を加えることにより、少なくともデ
ータ収集期間の間、データ収集期間より前に誘起された
渦電流に応答して応答信号データ収集中に存在する望ま
しくない勾配磁界に対抗し、実質的にそれを相殺する。

各々の補正パルスは、補償しようとする関連する勾配の
誤差の極性と反対の極性を持つと共に、データ収集期間
の間、時間的に減衰する渦電流によって誘起された勾配
の影響を実質的に相殺する様に設定された時間的に変化
する振幅を持っている。即ち、第５図で、図示の信号順
序が、選ばれた平面内の全ての容積要素に対する応答デ
ータを、ゼロでな１、）Ｘ軸勾配磁界Ｇ×の空間符号化
部分５１ｄによってＸ方向に空間的に分解して収集する
。夫々Ｘ軸及びＹ軸勾配Ｇｚ及びＧＹ磁界は、夫々の部
分５０ｅ及び５２ｄで示す様に、振幅が略ゼロである。

この為、データ収集期間の始めである時刻ｔ８より前に
、それまでに存在していた各々の渦電流（時刻ｔ７より
前に発生した勾配磁界の変化によって起こる）が指数関
数式に減衰し、一般的に座標系の相異なる夫々１つの軸
と平行な磁界成分に対して異なる時定数を持つ（これは
検査されるサンプル、検査装置等に於けるその軸方向の
避けることの出来ない非均質性による）。データ収集期
間（即ち、ゼロでない収集ゲート信号５４が存在する時
）に勾配を実質的に補正する為、この発明では、現在、
データ収集期間を開始するより前め時刻ｔ７に補償用の
勾配磁界補正信号を開始し、データ収集ゲート信号が時
刻ｔ９に終了した後の時刻ｔａまで補償信号を続けるこ
とが好ましいと考えられる。この為、Ｚ軸勾配ＧＺ磁界
は、少なくともゲート信号５４ｂの期間の間は、時間的
に変化する渦電流によって誘起された磁界に対抗して、
実質的にそれを相殺する（そして所望の、即ち略ゼロの
振幅が得られる）様に選ばれた最初の振幅２０１時定数
Ｔｚ及び極性（例えば正の極性）を持つ第１の勾配補正
信号部分５０ｅ′を有する。同様に、実際のＹ軸勾配磁
界が、部分５２ｄに対して想定する略ゼロの振幅を持つ
様に何れも選ばれた、極性（例えば負の極性）、最初の
振幅Ｙｏ及び時定数ＴＶを持つ補償信号パルス部分５２
ｄ′を利用することにより、Ｙ軸勾配ＧＹ磁界部分５２
ｄの所望の振幅（例えば略ゼロ）が得られる。Ｘ軸勾配
Ｇ×磁界がゼロではなく、略一定の値ＧＸｋ（正の極性
の勾配磁界部分５１ｄの振幅によって表わす）を持つか
ら、データ収集期間の間、サンプル内の実際のＸ軸勾配
磁界が略一定の実際の大きさを持つ様にする様に何れも
選ばれた、最初の極性（例えば正の極性）、最初の振幅
Ｘ０及び時定数Ｔ×を持つ追加の時間的に減衰する部分
５１ｄ′によって、任意の減衰する、渦電流によって誘
起された勾配磁界誤差部分を補償しなければならない。

各々の補正信号が印加される時刻（例えば時刻ｔ７）か
ら各々の補正信号を取去る時刻（例えば時刻ｔａ）まで
の期間の間、各々の補正勾配磁界Ｇｘ’　、ＧＹ’及び
Ｇ７’　は次の形である。

これらの補正項がゼロでない一定の振幅の勾配磁界に加
えられて、この期間の間、正味の印加磁界勾配ａｘ、Ｇ
Ｙ及びＧｚを発生する様にする。この為、図示の順序で
は、Ｘ軸磁界Ｇ×はこれに対して、同じ期間の間ＧＹ−
ＧＹ’、Ｇ７−０７’である。

異なるサンプルでは、又は同じサンプルでも勾配磁界の
中に異なる形で配置した場合には、３つの磁界勾配補正
信号の内の少なくとも１つの最初の振幅、極性及び／又
は時定数は、望ましくない渦電流によって誘起された誤
差勾配を所要の程度に補償する為に、変更する必要があ
ることを承知されたい。例えば時刻ｔａに時間的に変化
する補償勾配信号パルスが終了した時、各々の作像順序
の追加の部分を用いることが出来ることが理解されよう
。こういう追加の部分は、使われる縞の位相符号化勾配
の関連するローブ形部分５２ｂ、５２ｂ−１，５２ｂ−
２，５２ｂ−３，・・・・・・の振幅によって定められ
た振幅を持つ「スポイラ」部分５２ｅ、５２ｅ−１，５
２ｅ−２，５２ｅ−３゜・・・・・・と、それより後で
あるが、その後の選択性信号よりも前の、渦電流を補償
する「吸取」パルス、例えばパルス５２ｆ′と、抑圧パ
ルス５３ｄの様な化学選択性照射パルス等を含むことが
出来る。

誘起された勾配磁界の誤差の影響を補正するこの発明の
現在好ましいと考えられるこの第４の実施例の方法では
、少なくともサンプル応答信号を受取り、それをゲート
してＮＭＲ装置の作用を受けることが出来る様にする期
間全体並びに関連する磁界勾配を印加した後の期間の間
に存在する少なくとも１つの補正信号の極性、振幅及び
時定数は、この関連した磁界勾配の有害な影響に対抗し
、実質的にそれを相殺する様に選ばれることが理解され
よう。

勾配どうしの間の漏話を補償する為の磁界勾配補正信号 第６図には、関係する１対の軸に沿った勾配磁界を形成
する為に使われる手段の間の漏話によって、勾配磁界に
誘起された誤差に対抗し、実質的にそれを相殺する為に
、デカルト座標系の少なくとも１対の軸に沿って加えら
れる各々の磁界勾配信号順序の一部分としての第５形式
の補正信号が示されている。６対の軸に沿った勾配磁界
は、互いに直交するものとして定める。然し、１対の勾
配磁界を形成する実際の物理的な手段（例えば対のコイ
ル等）は、直交しない１対の勾配磁界を発生することが
ある。非直交性により、発生手段（コイル）の１つの部
分における勾配磁界を誘起する電流により、所望の軸に
沿った勾配だけでなく、直交軸に沿った望ましくない勾
配部分も誘起され、こうしてこの直交軸に沿った勾配の
値が変わり、得られる空間的な作像情報を劣化させ、歪
め又は混同させる。勾配磁界系の各々の軸に沿った各々
の磁界を発生する手段の間の「漏話」は、前に述べた問
題の内、関係する勾配磁界を形成する手段の物理的な再
構成によって完全に軽減することの出来るおそらく唯一
のものであることが理解されよう。然し、時間並びに／
又は費用の点で、非１α交件の問題に対して永久的な物
理的解決策を提供することは禁止的である場合が多く、
この為、補正勾配信号による解決策が望ましい。

この発明の別の一面として、磁界装置の別の勾配磁界か
らの漏話による寄与を持つ勾配磁界が、漏話によって誘
起された磁界部分に対抗し、それを実質的に除去する様
に選ばれた振幅、波形及び極性を’ｆ’ｉ−〕ｈＭ正パ
ルス信号を印加することによって、個別に補償される。

補正勾配信号は、漏話源の勾配磁界の信号特性、例えば
振幅、信号の形、極性等が変化した時、漏話源として作
用する勾配磁界に比例して変えることが出来る。

漏話ｈ（ｉｌＥ信号が、Ｘ軸及びＹ軸に沿った補償用勾
配磁界パルスを除いては、第２図の作像順序と同様な２
ＤＦＴ作像順序の一部分として示されている。時刻ｔ４
から時刻ｔ５までの位相符号化期間の間、Ｙ軸勾配ＧＶ
磁界のローブ部分６２ｂからＸ軸勾配Ｇ×磁界の所望の
ローブ部分６１ｂに対する漏話がある。図示の漏話効果
は減算現象である（但し、加算効果も同じ様に起り得る
ことを承知されたい）。この為、実際のＸ軸勾配形成信
号は、予想よりも大きな振幅にしなければならないので
、振幅が増加した部分６１ｂ′を用いる。

勾配磁界を形成する為に典型的に用いられる手段（例え
ば勾配コイル等）は時定数を持ち、この時定数は一般的
に物理的に一層大きな磁石構造内に誘起される渦電流に
よる磁界の時定数よりも短いから、漏話時定数自体が比
較的短く（一般的に１ミリ秒程度）であり、この為一定
の大きさの補正信号を使うことが出来ない。この為、所
望の信号部分６１ｂと実際に使う部分６１ｂ′の間の斜
線を施した部分は、−諸現象のこの特定の部分を補償す
る為に、最大振幅ＸＣを持つ時間的に変化する漏話補正
信号パルスが必要であることを示している。非直交性が
相反性の関係であるのは典型的であり、その為に、Ｘ軸
勾配磁界を形成する信号部分６１ｂ′の追加の補正信号
が典型的にはＹ軸勾配ＧＹの磁界の大きさに影響を与え
るから、漏話効果の補正は、図面からも判る様に、１つ
の方向で進行する訳ではないことを承知されたい。然し
、２つの軸方向の間の漏話の複素数の大きさがファント
ム配列等の作像によって最初に設定されていれば、各々
の軸の信号が別の軸に沿った磁界に対して及ぼす影響を
評価し、利用することが出来る。こうして、データ収集
の間（少なくとも時刻ｔ９及びｔａの間）に存在するＸ
軸勾配磁界Ｇ×部分６１ｄの様に、座標系の１つの軸に
沿って信号が存在することは、Ｙ軸勾配磁界ＧＹ部分６
２ｃに対して影響を持つことがあり、この影響は同じ期
間の間、大きさがゼロであるのが理想的であり、この影
響は、実際には、時定数の短い漏話補償パルス信号部分
６２ｃ′によって補償することが出来る。この為、この
漏話補償パルスの振幅、極性及び時定数は、各々の軸に
沿った勾配磁界信号の漏話効果並びに残りの各々の異な
る１つの軸に沿った磁界勾配による漏話効果に対抗し、
実質的にそれを相殺する様に、経験的に設定することが
出来る。

（１）核磁気共鳴装置で検査されるサンプルに対し、所
望の磁界を印加する間、又はその後、少なくとも１つの
補正パルス信号を発生し、（２）この補正パルス信号の
振幅、特性、時定数、持続時間等の特性の内の少なくと
も１つを調節して、全体的な磁界勾配の誤差を発生する
部分に対抗し、実質的にそれを相殺する現在好ましいと
考えられる幾つかの方法をこの発明の例として幾分詳し
く説明した。当業者には、いろいろな変更が考えられよ
う。従って、この発明はニーに例として説明した現在好
ましいと考えられる特定の実施例に制約されものではな
く、特許請求の範囲によって限定されることを承知され
たい。

【図面の簡単な説明】

第１図はＮＭＲ作像装置の一部分及びその中にあるサン
プルの簡略断面図であり、一般的なＮＭＲ実験の幾つか
の面の説明に役立つ。第２図乃至第６図は磁界の過渡的
な非均質性の幾つかの相異なる原因の各々を解決するこ
の発明の現在好ましいと考えられる夫々光なる方法に使
われる種々の相殺信号を示すグラフである。 ｔ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）サンプルを検査する為の核磁気共鳴（ＮＭＲ）装置
   に使われる少なくとも１つの勾配磁界の過渡的な非均質
   性を少なくする方法に於て、（ａ）互いに直交する複数
   個の軸の各々に沿って勾配成分を持つ勾配磁界装置を設
   け、 （ｂ）補償しようとする選ばれた磁界をサンプルに印加
   することを開始する時以前から始まって、補償しようと
   する選ばれた磁界の終了以後に終了する選ばれた期間に
   、少なくとも１つの補正パルス信号を発生し、 （ｃ）前記勾配磁界装置の軸線の関連した１つの軸線に
   沿った磁界勾配の誤差を発生する部分と対抗して、実質
   的にそれを相殺する様に、前記補正パルス信号の少なく
   とも１つの特性を調節する工程を含む方法。 ２）特許請求の範囲１）に記載した方法に於て、補償し
   ようとする磁界が、無線周波磁界及び勾配磁界の内の１
   つである方法。 ３）特許請求の範囲２）に記載した方法に於て、前記工
   程（ｂ）及び（ｃ）が、前記装置の複数個の軸線の各々
   に沿った勾配に対して独立に用いられる方法。 ４）特許請求の範囲３）に記載した方法に於て、各々の
   工程（ｂ）が、全ての正常な勾配磁界が略ゼロの大きさ
   を持つべき時、前記装置に加えられる非選択性無線周波
   （ＲＦ）パルス信号が存在する間、第１形式の補正パル
   ス信号を関連した磁界勾配に加えることを含み、各々の
   工程（ｃ）が、各々の第１形式の補正パルス信号の振幅
   を調節して、前記サンプルにわたって出来るだけ一様な
   励振ＲＦ磁界を発生することを含む方法。 ５）特許請求の範囲４）に記載した方法に於て、更に各
   々の工程（ｂ）が、前記第１形式のパルス信号に略一定
   の振幅を持たせる工程を含む方法。 ６）特許請求の範囲３）に記載した方法に於て、各々の
   工程（ｂ）が、振幅がゼロでない磁界勾配が存在する応
   答信号収集期間に直ぐ続いて、第２形式の補正パルス信
   号を関連した磁界勾配に加える工程を含み、各々の工程
   （ｃ）が、各々の第２形式の補正パルス信号の振幅及び
   持続時間の内の少なくとも一つを調節して、補正パルス
   信号が開始する前に発生された関連する磁界勾配の影響
   を実質的に相殺する工程を含む方法。 ７）特許請求の範囲６）に記載した方法に於て、工程（
   ｂ）が、更に、前記第２形式のパルス信号に略一定の振
   幅を持たせる工程を含む方法。 ８）特許請求の範囲３）に記載した方法に於て、工程（
   ｂ）が、空間的に選択性の無線周波（ＲＦ）パルス信号
   に直ぐ続いて、第３形式の補正パルス信号を関連した磁
   界勾配に加える工程を含み、各々の工程（ｃ）が、各々
   の第３形式の補正パルス信号の振幅及び持続時間の内の
   少なくとも一つを調節して、前記空間的に選択性のＲＦ
   パルスを印加する際に印加される磁界勾配の時間的な非
   対称性が、サンプルのスライスの選択に関連する磁界勾
   配に対して持つ影響を実質的に相殺する工程を含む方法
   。 ９）特許請求の範囲８）に記載した方法に於て、更に工
   程（ｂ）が、前記第３形式のパルス信号に略一定の振幅
   を持たせる工程を含む方法。 １０）特許請求の範囲３）に記載した方法に於て、各々
   の工程（ｂ）が、サンプルから応答データを受取る各々
   の期間の間、第４形式の補正パルス信号を関連する磁界
   勾配に加える工程を含み、各々の工程（ｃ）が、各々の
   第４形式の補正パルス信号の振幅及びタイミングの内の
   少なくとも一つを調節して、関連する応答データ読出期
   間の間に磁界勾配の誤差が存在しても、その誤差の影響
   を実質的に相殺する工程を含む方法。 １１）特許請求の範囲１０）に記載した方法に於て、工
   程（ｃ）が、更に、補正パルス信号の開始時刻が、応答
   信号収集期間の開始よりも遅くない選ばれた時刻に起こ
   る様に調節し、補正パルス信号の振幅を、該パルス信号
   の開始時間の後に、時間の指数関数的に減衰する関数と
   なり且つ選ばれた時定数を持つ様に調節する工程を含む
   方法。 １２）特許請求の範囲３）に記載した方法に於て、各々
   の工程（ｂ）が、完全に直交する磁界勾配を必要とする
   任意の時に、第５形式の補正パルス信号を関連する磁界
   勾配に加える工程を含み、各々の工程（ｃ）が、各々の
   第５形式の補正パルス信号の振幅波形及び開始時刻の内
   の少なくとも一つを調節して、装置の１つの軸に沿った
   磁界勾配を、装置の別の１つの軸に沿った磁界勾配成分
   によってその中に入り込んだ漏話信号から補償する工程
   を含む方法。 １３）特許請求の範囲１２）に記載した方法に於て、各
   々のパルス信号の波形が指数関数形に減衰する波形であ
   り、各々の工程（ｃ）が、パルス信号の時定数を調節し
   て軸の間の漏話を最小限に抑える工程を含む方法。 １４）特許請求の範囲２）に記載した方法に於て、工程
   （ｂ）が、正常の磁界勾配が略ゼロの大きさを持つべき
   時に、装置に加えられる非選択性無線周波（ＲＦ）パル
   ス信号が存在する間、第１形式の補正パルス信号を磁界
   勾配に加える工程を含み、工程（ｃ）が、第１形式の補
   正パルス信号の振幅を調節して、サンプルにわたって出
   来るだけ一様な励振ＲＦ磁界を発生する工程を含む方法
   。 １５）特許請求の範囲１１）に記載した方法に於て、更
   に工程（ｂ）が、前記第１形式のパルス信号に略一定の
   振幅を持たせる工程を含む方法。 １６）特許請求の範囲２）に記載した方法に於て、工程
   （ｂ）が、ゼロでない振幅を持つ磁界勾配が存在する任
   意の応答信号収集期間に直ぐ続いて、第２形式の補正パ
   ルス信号を磁界勾配に加える工程を含み、工程（ｃ）が
   補正勾配磁界パルス信号の振幅及び持続時間の内の少な
   くとも一つを調節して、補正パルス信号が開始する前に
   発生された磁界勾配の影響を実質的に相殺する工程を含
   む方法。 １７）特許請求の範囲１６）に記載した方法に於て、更
   に工程（ｂ）が、前記第２形式のパルス信号に略一定の
   振幅を持たせる工程を含む方法。 １８）特許請求の範囲２）に記載した方法に於て、工程
   （ｂ）が、空間的に選択性の無線周波（ＲＦ）パルス信
   号があれば、それに直ぐ続いて、第３形式の補正パルス
   信号を磁界勾配に加える工程を含み、工程（ｃ）が、該
   補正パルス信号の振幅及び持続時間の内の少なくとも一
   つを調節して、空間的に選択性のＲＦパルスが印加され
   る間に印加される磁界勾配の時間的な非対称性が、サン
   プルのスライスの選択に関連する磁界勾配に対して持つ
   影響を実質的に相殺する工程を含む方法。 １９）特許請求の範囲１８）に記載した方法に於て、更
   に工程（ｂ）が、前記第３形式のパルス信号に略一定の
   振幅を持たせる工程を含む方法。 ２０）特許請求の範囲２）に記載した方法に於て、工程
   （ｂ）が、サンプルから応答データを受取る各々の期間
   の間、第４形式の補正パルス信号を磁界勾配に加える工
   程を含み、工程（ｃ）が、該補正パルス信号の振幅及び
   タイミングの内の少なくとも一つを調節して、関連する
   応答データ読出期間の間に磁界勾配の誤差が存在すれば
   、その誤差の影響を実質的に相殺する工程を含む方法。 ２１）特許請求の範囲２０）に記載した方法に於て、工
   程（ｃ）が、補正パルス信号の開始時刻を、応答信号収
   集期間の開始以前の選ばれた時刻に起こる様に調節し、
   補正パルス信号の振幅を、該パルス信号の開始時刻の後
   は指数関数的に減衰する時間の関数になり且つ選ばれた
   時定数を持つ様に調節する工程を含む方法。 ２２）特許請求の範囲２）に記載した方法に於て、各々
   の工程（ｂ）が、完全に直交する磁界勾配を必要とする
   任意の時に、第５形式の補正パルス信号を関連する磁界
   勾配に加える工程を含み、各々の工程（ｃ）が、各々の
   第５形式の補正パルス信号の振幅波形及び開始時刻の内
   の少なくとも一つを調節して、装置の異なる１つの軸に
   沿った磁界勾配成分によって入り込む漏話信号から、装
   置の１つの軸に沿った磁界勾配を補償する工程を含む方
   法。 ２３）特許請求の範囲２２）に記載した方法に於て、各
   々のパルス信号の波形が指数関数的に減衰する波形であ
   り、各々の工程（ｃ）が、パルス信号の時定数を調節し
   て軸の間の漏話を最小限に抑える工程を含む方法。 ２４）特許請求の範囲１）に記載した方法に於て、下記
   の工程（ｂ１−ｂ５）及び工程（ｃ１−ｃ５）の組、即
   ち （ｂ１）各々非選択性無線周波（ＲＦ）パルス信号が存
   在する間、第１形式の補正パルス信号を関連する磁界勾
   配に加え、（ｃ１）各々の第１形式の補正パルス信号を
   使う場合に、該補正パルス信号が、サンプルにわたって
   略一様なＲＦ磁界が発生される様に選ばれた振幅を持つ
   様に調節し、（ｂ２）振幅がゼロでない磁界勾配が存在
   する任意の応答信号収集期間に直ぐ続いて、第２形式の
   補正パルス信号を関連する磁界勾配に加え、（ｃ２）各
   々の第２形式の補正パルス信号を使う場合、その振幅及
   び持続時間の内の少なくとも一つを調節して、応答信号
   の収集中に存在するゼロでない振幅の磁界勾配の影響を
   実質的に相殺し、（ｂ３）任意の空間的に選択性のＲＦ
   パルスに直ぐ続いて、第３形式の補正パルス信号を磁界
   勾配に加え、（ｃ３）各々の第３形式の補正パルス信号
   を使う場合、その振幅及び持続時間の内の少なくとも一
   つを調節して、空間的に選択性のＲＦパルスを印加する
   間に印加される磁界勾配の時間的な非対称性の影響を実
   質的に相殺し、 （ｂ４）サンプルから応答データを受取る各々の期間の
   間、第４形式の補正パルス信号を関連する磁界勾配に加
   え、（ｃ４）各々の第４形式の補正パルス信号の初期振
   幅、波形、時定数及び開始タイミングの内の少なくとも
   １つを調節して、関連する応答信号収集期間中に磁界勾
   配の誤差が存在しても、その影響を実質的に相殺し、 （ｂ５）完全に直交する磁界勾配を必要とする任意の時
   に、第５形式の補正パルス信号を関連する磁界勾配に加
   え、（ｃ５）各々の第５形式の補正パルス信号の振幅、
   波形、時定数及び開始タイミングの内の少なくとも１つ
   を調節して、関連する少なくとも１対の磁界勾配をその
   間の漏話から補償する、 と云う工程の組から、統制をとった相異なる複数個の対
   の工程（ｂ）及び（ｃ）が選ばれる方法。