JPS6261959B2 - - Google Patents
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- JPS6261959B2 JPS6261959B2 JP60238523A JP23852385A JPS6261959B2 JP S6261959 B2 JPS6261959 B2 JP S6261959B2 JP 60238523 A JP60238523 A JP 60238523A JP 23852385 A JP23852385 A JP 23852385A JP S6261959 B2 JPS6261959 B2 JP S6261959B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、体積型位相ホログラム及びその製法
に係わる。
に係わる。
一般に、ホログラムの干渉縞記録形態から考え
ると記録媒体の光路長が記録すべき光波の干渉縞
に従つて空間的に変調を受ける所謂位相ホログラ
ムは、他の吸収形ホログラムに比較して回折効率
が高いこと、また２次元的平面型よりも体積型位
相ホログラムの方がブラツグ効果により著しく回
折効率が高くなることが良く知られている。この
ような体積型位相ホログラムは画像再生に際して
明るい像が得られ、又ブラツグ回折特有の鋭い角
度選択性を利用してホログラム小片に画像の多重
記録及び再生が可能となり実用的に有用である。
ると記録媒体の光路長が記録すべき光波の干渉縞
に従つて空間的に変調を受ける所謂位相ホログラ
ムは、他の吸収形ホログラムに比較して回折効率
が高いこと、また２次元的平面型よりも体積型位
相ホログラムの方がブラツグ効果により著しく回
折効率が高くなることが良く知られている。この
ような体積型位相ホログラムは画像再生に際して
明るい像が得られ、又ブラツグ回折特有の鋭い角
度選択性を利用してホログラム小片に画像の多重
記録及び再生が可能となり実用的に有用である。
従来、屈折率の空間的変化として位相ホログラ
ムを形成する材料としては、例えば(a)漂白法を用
いる銀塩材料、(b)重クロム酸アンモニウム
（ADC）を添加したゼラチン、(c)光損傷効果を利
用した強誘電体結晶例えば鉄（Fe）などの遷移
金属を添加したニオブ酸リチウム（LiNbO3）など
が知られている。然し乍ら、上記(a)及び(b)の材料
の場合には、そのホログラム作成のために、干渉
光を照射した後に湿式プロセスを必要としその管
理に十分な注意が払われなければならないこと、
又銀塩粒子やゼラチン膜中のボイドやクラツクな
どによる光散乱が著しくホログラム再生時のＳ／
Ｎが低下すること、さらにゼラチン膜が吸湿性を
有するために十分な防湿処理が必要であること等
の欠点があつた。又、上記(c)の材料の場合には光
学的に均質な単結晶が必要であり例えば大量、大
面積のホログラム材料を安価に供給することが困
難であつた。
ムを形成する材料としては、例えば(a)漂白法を用
いる銀塩材料、(b)重クロム酸アンモニウム
（ADC）を添加したゼラチン、(c)光損傷効果を利
用した強誘電体結晶例えば鉄（Fe）などの遷移
金属を添加したニオブ酸リチウム（LiNbO3）など
が知られている。然し乍ら、上記(a)及び(b)の材料
の場合には、そのホログラム作成のために、干渉
光を照射した後に湿式プロセスを必要としその管
理に十分な注意が払われなければならないこと、
又銀塩粒子やゼラチン膜中のボイドやクラツクな
どによる光散乱が著しくホログラム再生時のＳ／
Ｎが低下すること、さらにゼラチン膜が吸湿性を
有するために十分な防湿処理が必要であること等
の欠点があつた。又、上記(c)の材料の場合には光
学的に均質な単結晶が必要であり例えば大量、大
面積のホログラム材料を安価に供給することが困
難であつた。
本発明は、上述の点に鑑み光学的に均質で光散
乱が少なく、耐湿性にすぐれ経時変化が少なく、
しかも大量、大面積のものを容易且つ安価に生産
できるようにした新規な体積型位相ホログラム及
びその製法を提供するものである。
乱が少なく、耐湿性にすぐれ経時変化が少なく、
しかも大量、大面積のものを容易且つ安価に生産
できるようにした新規な体積型位相ホログラム及
びその製法を提供するものである。
本発明は、重クロム酸塩、例えば重クロム酸ア
ンモニウム（NH4）2Cr2O7（以下ADCと略称す
る）を含む低ケン化度のポリビニールアルコール
樹脂（以下PVA樹脂と略称する）中に光の干渉
縞を屈折率の空間的変化として記録し高回折効率
の体積型位相ホログラムを構成するものである。
即ちこの場合の位相ホログラム材料、例えば
PVA−ADC系材料は光架橋反応による屈折率変
化を利用して成るものである。
ンモニウム（NH4）2Cr2O7（以下ADCと略称す
る）を含む低ケン化度のポリビニールアルコール
樹脂（以下PVA樹脂と略称する）中に光の干渉
縞を屈折率の空間的変化として記録し高回折効率
の体積型位相ホログラムを構成するものである。
即ちこの場合の位相ホログラム材料、例えば
PVA−ADC系材料は光架橋反応による屈折率変
化を利用して成るものである。
PVA−ADC系材料は、レリーフパターン形成
用のホトレジスタとして広く用いられ、高ケン化
PVA樹脂（ケン化度90％）にADCを添加して成
る塗膜にマスクを介して光照射を行うと、未露光
領域が現象液である水によつて溶出除去され所定
パターンが形成される。然るに、本発明者等は、
このPVA−ADC系材料の塗膜に干渉光を照射す
るのみで、上記のような現象プロセスを行わなく
ても情報を記録し、又再生させることができるこ
とを見出した。この場合の情報記録は、光の干渉
縞を塗膜中の光架橋密度の空間的変化によつて得
られる空間的な屈折率分布の形で記録する位相ホ
ログラムである。
用のホトレジスタとして広く用いられ、高ケン化
PVA樹脂（ケン化度90％）にADCを添加して成
る塗膜にマスクを介して光照射を行うと、未露光
領域が現象液である水によつて溶出除去され所定
パターンが形成される。然るに、本発明者等は、
このPVA−ADC系材料の塗膜に干渉光を照射す
るのみで、上記のような現象プロセスを行わなく
ても情報を記録し、又再生させることができるこ
とを見出した。この場合の情報記録は、光の干渉
縞を塗膜中の光架橋密度の空間的変化によつて得
られる空間的な屈折率分布の形で記録する位相ホ
ログラムである。
本発明の位相ホログラムに用いるPVA材料と
しては、ポリ酢酸ビニル（PVAc）のアセチル基
COOCH3を水酸基OHで置換するケン化反応によ
つて得られる部分ケン化PVAcが有効である。こ
れは、逆にPVAをアセチル化反応によつて作る
ことができる。この場合、PVAはいわゆるケン
化度によつて分類することができる。ケン化度は
その構造式 により ケン化度≡ｎ／−ｎ＋ｍ×100（％） で与えられる。このケン化度によつてPVAの物
理的化学的性質は異なり低ケン化程親油性（疎水
性）を帯び例えばケン化度約70％以下のPVAは
水に対して不溶である。従つて低ケン化PVAか
ら成る位相ホログラムは耐水性において良好であ
る。この低ケン化PVA樹脂を第１図に示すよう
にガラス基板１上に塗布し、自然乾燥によつて厚
さ約50μｍの試料膜２を形成する。このPVA−
ADC樹脂膜２に図示の如き光学系、即ちアルゴ
ンレーザ装置３よりビームスプリツター４にて分
割され夫々ミラー５及び６で反射せしめた例えば
波長0.488μｍの２本のアルゴンレーザビーム７
ａ及び７ｂ（ビーム照射強度は約１ワツト／cm2）
を数秒以上照射する。これと同時に試料膜２中の
アルゴンレーザビーム７ａ及び７ｂの照射領域
に、他のHe−Neレーザ装置９よりの１本のHe−
Neレーザビーム８（例えば波長0.6328μｍ）を
ガラス基板１の裏面より所定のブラツグ入射角
O4（１０は法線を示す）で入射させておくと、
その領域から１次のブラツグ回折光１１が次第に
その強度を増しながら発生して来ることが認めら
れ、ほぼ100％の回折効率ηが得られる。
しては、ポリ酢酸ビニル（PVAc）のアセチル基
COOCH3を水酸基OHで置換するケン化反応によ
つて得られる部分ケン化PVAcが有効である。こ
れは、逆にPVAをアセチル化反応によつて作る
ことができる。この場合、PVAはいわゆるケン
化度によつて分類することができる。ケン化度は
その構造式 により ケン化度≡ｎ／−ｎ＋ｍ×100（％） で与えられる。このケン化度によつてPVAの物
理的化学的性質は異なり低ケン化程親油性（疎水
性）を帯び例えばケン化度約70％以下のPVAは
水に対して不溶である。従つて低ケン化PVAか
ら成る位相ホログラムは耐水性において良好であ
る。この低ケン化PVA樹脂を第１図に示すよう
にガラス基板１上に塗布し、自然乾燥によつて厚
さ約50μｍの試料膜２を形成する。このPVA−
ADC樹脂膜２に図示の如き光学系、即ちアルゴ
ンレーザ装置３よりビームスプリツター４にて分
割され夫々ミラー５及び６で反射せしめた例えば
波長0.488μｍの２本のアルゴンレーザビーム７
ａ及び７ｂ（ビーム照射強度は約１ワツト／cm2）
を数秒以上照射する。これと同時に試料膜２中の
アルゴンレーザビーム７ａ及び７ｂの照射領域
に、他のHe−Neレーザ装置９よりの１本のHe−
Neレーザビーム８（例えば波長0.6328μｍ）を
ガラス基板１の裏面より所定のブラツグ入射角
O4（１０は法線を示す）で入射させておくと、
その領域から１次のブラツグ回折光１１が次第に
その強度を増しながら発生して来ることが認めら
れ、ほぼ100％の回折効率ηが得られる。
η≡Ｐ１／−Ｐ０＋Ｐ１
但し、P0は０次の回折光１２の強度、P1は１次の
回折光１１の強度である。図中１３は１次回折光
の強度を検出する光検出器である。試料膜２中に
膜面に垂直な平行平面の格子群即ち屈折率の高低
の分布からなるホログラムが記録される。
回折光１１の強度である。図中１３は１次回折光
の強度を検出する光検出器である。試料膜２中に
膜面に垂直な平行平面の格子群即ち屈折率の高低
の分布からなるホログラムが記録される。
次に、重クロム酸塩を含むPVA樹脂を用いて
成る本発明の位相ホログラムの製法の実施例を示
す。
成る本発明の位相ホログラムの製法の実施例を示
す。
例えばケン化度が70％以下の低ケン化PVAは
疎水性であるために適当な有機溶媒を用いる必要
がある。この有機溶媒としては、例えばジメチル
スルフオキシド（DMSO）等の如き強極性で且つ
水と相溶する有機溶剤、メチルアルコール／水、
アセトン等の水と相溶する溶媒が適当である。重
合度としては200〜3000の任意の重合度のPVAを
用いることができる。
疎水性であるために適当な有機溶媒を用いる必要
がある。この有機溶媒としては、例えばジメチル
スルフオキシド（DMSO）等の如き強極性で且つ
水と相溶する有機溶剤、メチルアルコール／水、
アセトン等の水と相溶する溶媒が適当である。重
合度としては200〜3000の任意の重合度のPVAを
用いることができる。
実施例
ポリビニールアルコール（ケン化度36％）
100重量部 ジメチルスルフオキシド 900重量部 重クロム酸アンモニウム（10％水溶液）
30重量部 上記の組成の感光液を光学的に透明なガラス基
板上に所定量注入し、これが熱的暗反応がほとん
ど起きない範囲内で、例えば60℃以下で３〜８時
間の真空乾燥すると、最終的に膜厚50μｍ程度の
ホログラム素材が得られる。このようにして得ら
れるホログラム素材は乾燥度が90〜95％で光学的
には均質である。このホログラム素材に対して前
述の如きホログラム記録を行うと容易に95％以上
の回折効率が得られる。この場合、急激な乾燥は
発泡、ゆず肌などの光学的欠陥を発生させるので
不適当である。その意味では低沸点系のメチルア
ルコール／水、又はアセトンは、これを用いると
乾燥速度が早く、上記の如き光学的欠陥をもつ光
学的に不均質な膜になり波面記録を行うホログラ
ム素材としては不適当である。ジメチルスルフオ
キシドは沸点が156℃と比較的高く、本発明では
良好なホログラム膜を形成するために極めて有効
である。第２図は実施例即ちジメチルスルフオキ
シドを用いた真空乾燥時（真空度10mmHg）の乾
燥度（％）及び乾燥時間（時間）の関係を示す。
曲線（）は60℃で乾燥した場合、曲線（）は
45℃で乾燥した場合である。ジメチルスルフオキ
シドとADCの相互作用はPH条件によつて異な
り、例えば感光液として用いられるPH３〜６でほ
とんど認められず感光液として１週間以上保存で
きる。しかし、PH＜１では両者の相互作用が認め
られジメチルスルフオキシドがADCによつて酸
化を受け保存性も劣化する。
100重量部 ジメチルスルフオキシド 900重量部 重クロム酸アンモニウム（10％水溶液）
30重量部 上記の組成の感光液を光学的に透明なガラス基
板上に所定量注入し、これが熱的暗反応がほとん
ど起きない範囲内で、例えば60℃以下で３〜８時
間の真空乾燥すると、最終的に膜厚50μｍ程度の
ホログラム素材が得られる。このようにして得ら
れるホログラム素材は乾燥度が90〜95％で光学的
には均質である。このホログラム素材に対して前
述の如きホログラム記録を行うと容易に95％以上
の回折効率が得られる。この場合、急激な乾燥は
発泡、ゆず肌などの光学的欠陥を発生させるので
不適当である。その意味では低沸点系のメチルア
ルコール／水、又はアセトンは、これを用いると
乾燥速度が早く、上記の如き光学的欠陥をもつ光
学的に不均質な膜になり波面記録を行うホログラ
ム素材としては不適当である。ジメチルスルフオ
キシドは沸点が156℃と比較的高く、本発明では
良好なホログラム膜を形成するために極めて有効
である。第２図は実施例即ちジメチルスルフオキ
シドを用いた真空乾燥時（真空度10mmHg）の乾
燥度（％）及び乾燥時間（時間）の関係を示す。
曲線（）は60℃で乾燥した場合、曲線（）は
45℃で乾燥した場合である。ジメチルスルフオキ
シドとADCの相互作用はPH条件によつて異な
り、例えば感光液として用いられるPH３〜６でほ
とんど認められず感光液として１週間以上保存で
きる。しかし、PH＜１では両者の相互作用が認め
られジメチルスルフオキシドがADCによつて酸
化を受け保存性も劣化する。
次に、PVA−ADC系材料を用いた位相ホログ
ラム素材の特性について述べる。屈折率変化を得
るべく、PVA樹脂を光架橋させるためには、重
クロム酸塩例えばADCを添加すればよい。第３
図の曲線はケン化度36％、重合度1700の部分ケ
ン化PVAに重量比１％のADCを添加して前述の
方法によつて作成した乾燥度95％程度で厚さ55μ
ｍの感光膜の分光吸収率である。この分光吸収率
がら分るように、ホログラムを形成するための有
効な光源としては、例えばアルゴンレーザ（波長
0.4579μｍ，0.488μｍ，0.5145μｍ等）、クリプ
トンレーザ（波長0.4762μｍ，0.530μｍ等）、ヘ
リウムガドミウムレーザ（波長0.4416μｍ）等が
ある。波長0.488μｍのアルゴンレーザビームを
用いて第１図の光学系でホログラム記録を行い、
波長0.6328μｍのHe−Neレーザビームで再生し
たところ、ブラツグ回折の効率はADC添加量に
対して第４図の曲線（）に示すような結果を得
た。従つて、この例では３重量％以上のADCを
添加すれば、100％の回折効率が得られることが
分る。又、この材料の分解能は、高い。
ラム素材の特性について述べる。屈折率変化を得
るべく、PVA樹脂を光架橋させるためには、重
クロム酸塩例えばADCを添加すればよい。第３
図の曲線はケン化度36％、重合度1700の部分ケ
ン化PVAに重量比１％のADCを添加して前述の
方法によつて作成した乾燥度95％程度で厚さ55μ
ｍの感光膜の分光吸収率である。この分光吸収率
がら分るように、ホログラムを形成するための有
効な光源としては、例えばアルゴンレーザ（波長
0.4579μｍ，0.488μｍ，0.5145μｍ等）、クリプ
トンレーザ（波長0.4762μｍ，0.530μｍ等）、ヘ
リウムガドミウムレーザ（波長0.4416μｍ）等が
ある。波長0.488μｍのアルゴンレーザビームを
用いて第１図の光学系でホログラム記録を行い、
波長0.6328μｍのHe−Neレーザビームで再生し
たところ、ブラツグ回折の効率はADC添加量に
対して第４図の曲線（）に示すような結果を得
た。従つて、この例では３重量％以上のADCを
添加すれば、100％の回折効率が得られることが
分る。又、この材料の分解能は、高い。
一方、第３図に示したように、PVA−ADC系
の感光膜は可視域短波長から紫外域にわたつて有
効な分光感度をもつ。又、記録後のホログラム膜
中、光の干渉縞の暗領域に相当する部分には、未
反応の光活性なADC（即ちHCrO4 -イオン）が残
留している。従つて、記録後のホログラムを上記
の分光感度波長域を含む光にさらすと、ホログラ
ム記録時の暗領域の光架橋が進行し、従つてホロ
グラムとして有用な位相コントラストが低下し回
折効率の劣化をもたらす恐れがある。従つてホロ
グラム記録の後にホログラムの機能を維持したま
ま適当な方法によつて感光性を除去する必要があ
る。本発明者等は重クロム酸塩例えばADCを含
むPVA樹脂を用いた上述の位相ホログラムの定
着法として加熱処理による乾式定着法及び所定の
液例えば水、又は還元剤を含む水、又は水と有機
溶媒の混合液、又は還元剤を含む水と有機溶媒の
混合液等に浸漬する湿式定着法が有効であるを見
出した。
の感光膜は可視域短波長から紫外域にわたつて有
効な分光感度をもつ。又、記録後のホログラム膜
中、光の干渉縞の暗領域に相当する部分には、未
反応の光活性なADC（即ちHCrO4 -イオン）が残
留している。従つて、記録後のホログラムを上記
の分光感度波長域を含む光にさらすと、ホログラ
ム記録時の暗領域の光架橋が進行し、従つてホロ
グラムとして有用な位相コントラストが低下し回
折効率の劣化をもたらす恐れがある。従つてホロ
グラム記録の後にホログラムの機能を維持したま
ま適当な方法によつて感光性を除去する必要があ
る。本発明者等は重クロム酸塩例えばADCを含
むPVA樹脂を用いた上述の位相ホログラムの定
着法として加熱処理による乾式定着法及び所定の
液例えば水、又は還元剤を含む水、又は水と有機
溶媒の混合液、又は還元剤を含む水と有機溶媒の
混合液等に浸漬する湿式定着法が有効であるを見
出した。
先ず、加熱処理による乾式定着法について述べ
る。ホログラム記録を終了したPVA−ADC膜を
例えば80℃〜120℃の温度範囲内で５〜15分間保
持すると容易に未反応の残留ADC（HCrO4 -イオ
ン）を光に対して不活性な状態にすることができ
る。例えば重合度1700の低ケン化PVA（ケン化
度36％）の樹脂に２〜３重量％のADCを添加し
前述の方法で作成した膜に第１図の光学系で波長
0.488μｍ、照射強度600ミリワツト／cm2のアルゴ
ンレーザビーム７ａ及び７ｂによりホログラム記
録を行う。次に未処理のまま、これらのホログラ
ム膜を第１図の光学系で記録用アルゴンレーザビ
ームの中の１本のみを使つて上記照射強度で一様
に照射すると（所謂後露光）、第５図の曲線Ａに
示すようにブラツグ回折されるHe−Neレーザ
（波長0.6328μｍ）ビーム強度が時間と共に低下
しホログラムの劣化が生じることが分る。他方、
上記試料と同一条件で作成したホログラムを120
℃で15分間保持したものは、上記と同様の後露光
を行つても第５図の曲線Ｂのように回折強度に変
化が認められず、定着が行われたことを示してい
る。この熱処理による定着のメカニズムとしては
ADCとPVAの間の熱酸化反応によつて光活性な
ADC（HCrO4 -イオン）が失われるものであると
考えられる。
る。ホログラム記録を終了したPVA−ADC膜を
例えば80℃〜120℃の温度範囲内で５〜15分間保
持すると容易に未反応の残留ADC（HCrO4 -イオ
ン）を光に対して不活性な状態にすることができ
る。例えば重合度1700の低ケン化PVA（ケン化
度36％）の樹脂に２〜３重量％のADCを添加し
前述の方法で作成した膜に第１図の光学系で波長
0.488μｍ、照射強度600ミリワツト／cm2のアルゴ
ンレーザビーム７ａ及び７ｂによりホログラム記
録を行う。次に未処理のまま、これらのホログラ
ム膜を第１図の光学系で記録用アルゴンレーザビ
ームの中の１本のみを使つて上記照射強度で一様
に照射すると（所謂後露光）、第５図の曲線Ａに
示すようにブラツグ回折されるHe−Neレーザ
（波長0.6328μｍ）ビーム強度が時間と共に低下
しホログラムの劣化が生じることが分る。他方、
上記試料と同一条件で作成したホログラムを120
℃で15分間保持したものは、上記と同様の後露光
を行つても第５図の曲線Ｂのように回折強度に変
化が認められず、定着が行われたことを示してい
る。この熱処理による定着のメカニズムとしては
ADCとPVAの間の熱酸化反応によつて光活性な
ADC（HCrO4 -イオン）が失われるものであると
考えられる。
次に、湿式定着法について述べる。ホログラム
記録後のPVA−ADC膜を水等の液体中に浸し、
干渉縞の暗領域中の光活性なHCrO4 -イオンを抽
出除去することができる。又、水にNa2S2O3（ハ
イポ）などの還元剤を添加して膜中にこれを拡散
せしめ、ADCを還元して光活性を消失させても
よい。低ケン化PVAに対しては、例えば３％ Na2S2O3水溶液に室温で120分浸漬することによ
り定着可能であり、さらに膨潤しない範囲で短時
間の定着を行うためには水をアセトン、ジメチル
スルフオキシド等で置換してもよい。このように
して処理されたホログラムは上記の乾式定着法に
おいて説明したと同様の後露光を行つても第５図
の曲線Ｂと同様に回折効率の劣化が認められなか
つた。
記録後のPVA−ADC膜を水等の液体中に浸し、
干渉縞の暗領域中の光活性なHCrO4 -イオンを抽
出除去することができる。又、水にNa2S2O3（ハ
イポ）などの還元剤を添加して膜中にこれを拡散
せしめ、ADCを還元して光活性を消失させても
よい。低ケン化PVAに対しては、例えば３％ Na2S2O3水溶液に室温で120分浸漬することによ
り定着可能であり、さらに膨潤しない範囲で短時
間の定着を行うためには水をアセトン、ジメチル
スルフオキシド等で置換してもよい。このように
して処理されたホログラムは上記の乾式定着法に
おいて説明したと同様の後露光を行つても第５図
の曲線Ｂと同様に回折効率の劣化が認められなか
つた。
上述せる本発明によれば、PVA材料が工業的
に安価に生産されるのでこの種の体積型位相ホロ
グラムが安価に提供できる。又適当な溶媒を用い
てホログラム膜を塗布することにより大量、大面
積の位相ホログラムが容易に形成できる。又ホロ
グラム膜が光学的に均質で光散乱が小さいのでホ
ログラム再生時のＳ／Ｎの劣化がない。さらに、
耐湿性に優れ経時変化が小さい。例えば９ヶ月以
上の保存期間でも回折効率に変化が認められなか
つた。
に安価に生産されるのでこの種の体積型位相ホロ
グラムが安価に提供できる。又適当な溶媒を用い
てホログラム膜を塗布することにより大量、大面
積の位相ホログラムが容易に形成できる。又ホロ
グラム膜が光学的に均質で光散乱が小さいのでホ
ログラム再生時のＳ／Ｎの劣化がない。さらに、
耐湿性に優れ経時変化が小さい。例えば９ヶ月以
上の保存期間でも回折効率に変化が認められなか
つた。
特に、先に本出願人においては光学的信号記録
再生装置（所謂ビデオデイスク）において、その
光学系の構成の簡単化並びに光学系の機能の増大
を図るべく例えばレーザ光を微小なスポツトとし
て収束し得る対物レンズ等にホログラムを利用す
ることを提案したが、本発明はこのようなビデオ
デイスク用のホログラムに適用して好適ならしめ
るものである。
再生装置（所謂ビデオデイスク）において、その
光学系の構成の簡単化並びに光学系の機能の増大
を図るべく例えばレーザ光を微小なスポツトとし
て収束し得る対物レンズ等にホログラムを利用す
ることを提案したが、本発明はこのようなビデオ
デイスク用のホログラムに適用して好適ならしめ
るものである。
第１図はホログラム記録及びホログラム再生の
光学系を示す略図、第２図は本発明の実施例で示
す乾燥法を用いてホログラム素材を作成する場合
の乾燥度と乾燥時間の関係を示す特性曲線図、第
３図は本発明の説明に供するホログラム素材の分
光吸収率を示す曲線図、第４図は本発明によるホ
ログラム素材のADCの添加量に対する回折効率
の関係を示す特性曲線図、第５図は本発明による
定着法を用いた場合と、定着処理しない場合の後
露光におけるブラツグ回折されるレーザビーム強
度の関係を示す特性曲線図である。 １はガラス基板、２はホログラム素材、３はア
ルゴンレーザ装置、７ａ，７ｂはアルゴンレーザ
ビーム、８はHe−Neレーザビーム、１１は１次
回折光、１２は０次回折光、１３は光検出器であ
る。
光学系を示す略図、第２図は本発明の実施例で示
す乾燥法を用いてホログラム素材を作成する場合
の乾燥度と乾燥時間の関係を示す特性曲線図、第
３図は本発明の説明に供するホログラム素材の分
光吸収率を示す曲線図、第４図は本発明によるホ
ログラム素材のADCの添加量に対する回折効率
の関係を示す特性曲線図、第５図は本発明による
定着法を用いた場合と、定着処理しない場合の後
露光におけるブラツグ回折されるレーザビーム強
度の関係を示す特性曲線図である。 １はガラス基板、２はホログラム素材、３はア
ルゴンレーザ装置、７ａ，７ｂはアルゴンレーザ
ビーム、８はHe−Neレーザビーム、１１は１次
回折光、１２は０次回折光、１３は光検出器であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 重クロム酸塩を含む、ケン化度が約70％以下
の低ケン化型ポリビニールアルコール樹脂を強極
性で且つ水と相溶する有機溶剤に溶解せしめた後
乾燥された膜に干渉光を照射し、干渉縞を前記膜
中の光架橋密度の空間的変化によつて得られる空
間的な屈折率分布の形で記録して定着させた体積
型位相ホログラム。 ２ 有機溶剤としてジメチルスルフオキシドを用
いる特許請求の範囲第１項記載の体積型位相ホロ
グラム。 ３ 重クロム酸塩を含むケン化度が約70％以下の
低ケン化型ポリビニールアルコール樹脂を強極性
で且つ水と相溶する有機溶剤に溶解せしめた後乾
燥させて膜を形成する工程と、該膜に干渉光を照
射して干渉縞を前記膜中の光架橋密度の空間的変
化によつて得られる空間的な屈折率分布の形で記
録する工程と、不要な上記重クロム酸塩を光不活
性化又は除去する定着工程とから成る体積型位相
ホログラムの製法。 ４ 定着工程として加熱処理を用いる特許請求の
範囲第３項記載の体積型位相ホログラムの製法。 ５ 定着工程として水又は水と有機溶媒の混合液
に浸漬する処理を用いる特許請求の範囲第３項記
載の体積型位相ホログラムの製法。 ６ 定着工程として還元剤を含む水又は還元剤を
含む水と有機溶媒の混合液に浸漬する処理を用い
る特許請求の範囲第３項記載の体積型位相ホログ
ラムの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23852385A JPS61165783A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 体積型位相ホログラム及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23852385A JPS61165783A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 体積型位相ホログラム及びその製法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3873977A Division JPS53123948A (en) | 1977-04-05 | 1977-04-05 | Volume type phase hologram and production of the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61165783A JPS61165783A (ja) | 1986-07-26 |
| JPS6261959B2 true JPS6261959B2 (ja) | 1987-12-24 |
Family
ID=17031518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23852385A Granted JPS61165783A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 体積型位相ホログラム及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61165783A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6439456U (ja) * | 1987-08-31 | 1989-03-09 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2007533A1 (en) * | 1989-01-13 | 1990-07-13 | Bruce Lee Booth | Optical waveguide devices, elements for making the devices and methods for making the device and elements |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50125722A (ja) * | 1974-03-20 | 1975-10-03 |
-
1985
- 1985-10-24 JP JP23852385A patent/JPS61165783A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50125722A (ja) * | 1974-03-20 | 1975-10-03 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6439456U (ja) * | 1987-08-31 | 1989-03-09 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61165783A (ja) | 1986-07-26 |
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