JPS625637U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS625637U JPS625637U JP9698685U JP9698685U JPS625637U JP S625637 U JPS625637 U JP S625637U JP 9698685 U JP9698685 U JP 9698685U JP 9698685 U JP9698685 U JP 9698685U JP S625637 U JPS625637 U JP S625637U
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- JP
- Japan
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- tank
- liquid
- liquid processing
- stored
- variable means
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Weting (AREA)
Description
第１図乃至第４図は本考案の一実施例の液処理
装置を示す各動作状態での縦断面図、第５図乃至
第７図は本考案の他の実施例の液処理装置を示す
各動作状態での縦断面図である。第８図乃至第１
１図と第１２図乃至第１４図は従来の液処理装置
の二例を説明するための各動作状態での縦断面図
である。 １……被液処理物（半導体ウエーハ）、４……
液、７……槽、９……槽容積可変手段、１３……
槽、１４……槽容積可変手段。
装置を示す各動作状態での縦断面図、第５図乃至
第７図は本考案の他の実施例の液処理装置を示す
各動作状態での縦断面図である。第８図乃至第１
１図と第１２図乃至第１４図は従来の液処理装置
の二例を説明するための各動作状態での縦断面図
である。 １……被液処理物（半導体ウエーハ）、４……
液、７……槽、９……槽容積可変手段、１３……
槽、１４……槽容積可変手段。
Claims (1)
- 上端開口の槽に収容された液に被液処理物を浸
漬して液処理する装置であつて、前記槽の下部に
当該槽に収容できる液量を増減させる槽容積可変
手段を付設したことを特徴とする液処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9698685U JPS625637U (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9698685U JPS625637U (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS625637U true JPS625637U (ja) | 1987-01-14 |
Family
ID=30963413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9698685U Pending JPS625637U (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS625637U (ja) |
-
1985
- 1985-06-25 JP JP9698685U patent/JPS625637U/ja active Pending