JPS6255562U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6255562U JPS6255562U JP14617385U JP14617385U JPS6255562U JP S6255562 U JPS6255562 U JP S6255562U JP 14617385 U JP14617385 U JP 14617385U JP 14617385 U JP14617385 U JP 14617385U JP S6255562 U JPS6255562 U JP S6255562U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotating shaft
- disk
- electrodes
- disc
- pair
- Prior art date
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- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
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- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示す断面図、第２
図および第３図ａ，ｂ，ｃ，ｄは夫々処理時の結
線図、第４図は従来技術を示す縦断面図である。 Ａ……基板、１０……真空槽、１１……槽本体
、１３……軸受部、１５……原料ガス導管、２０
……上部電極、３０……下部電極、４０……円板
、５０……回転軸、５１……水冷（加熱）機構、
６０……駆動装置、６１……モータ。
図および第３図ａ，ｂ，ｃ，ｄは夫々処理時の結
線図、第４図は従来技術を示す縦断面図である。 Ａ……基板、１０……真空槽、１１……槽本体
、１３……軸受部、１５……原料ガス導管、２０
……上部電極、３０……下部電極、４０……円板
、５０……回転軸、５１……水冷（加熱）機構、
６０……駆動装置、６１……モータ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 間隔をあけ、対向配置された一対の平行平板電
極と、 前記一対の電極が対向する領域内に配置され、
これら電極と平行であり、被加工基板が取付けら
れる円板と、 前記円板に基端部が固定され、上部電極を絶縁
状態で挿通して末端部に接続端子を備え、軸線ま
わりに回転可能に支持された回転軸と、 前記回転軸において、前記円板の反対側に配置
された回転軸駆動装置とを含み、 前記上下両電極および円板は互いに絶縁され、
これら下部電極と円板または上部電極間に高周波
または可聴周波数電源を接続可能なようにしたこ
とを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985146173U JPS641959Y2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985146173U JPS641959Y2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6255562U true JPS6255562U (ja) | 1987-04-06 |
| JPS641959Y2 JPS641959Y2 (ja) | 1989-01-18 |
Family
ID=31058398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985146173U Expired JPS641959Y2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS641959Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014135464A (ja) * | 2012-06-15 | 2014-07-24 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置、基板処理装置及び成膜方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS583635A (ja) * | 1981-06-29 | 1983-01-10 | Fujitsu Ltd | プラズマ中化学気相成長装置 |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP1985146173U patent/JPS641959Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS583635A (ja) * | 1981-06-29 | 1983-01-10 | Fujitsu Ltd | プラズマ中化学気相成長装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014135464A (ja) * | 2012-06-15 | 2014-07-24 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置、基板処理装置及び成膜方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS641959Y2 (ja) | 1989-01-18 |