JPS6243046A

JPS6243046A - Ｘ線イメ−ジ管の入力面

Info

Publication number: JPS6243046A
Application number: JP18049885A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Minami; 博南
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1985-08-19
Filing date: 1985-08-19
Publication date: 1987-02-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（発明の技術分野］この発明は、Ｘ線イメージ管の入力面に関する。

（発明の技術的背景とその問題点〕Ｘ線イメージ管を使用した被写体観察システムは、第４
図に示すように、Ｘ線管（１）の前面にＸ線イメージ管
■が設置され、被写体■を透過した変調Ｘ線の入射によ
りこのＸ線イメージ管■に１創られる出力像を、たとえ
ば比像カメラで躍像してモニタテレビに再生できるよう
に構成されている。

すなわち、Ｘ線イメージ管■は、一端部に入力面←）、
他喘部にこの入力面６）に対向して出力面■を有し、変
調されたＸ線を入力面６）で光学像に、ざらにこの光学
像を光電子像（、二変換し、この光電子像を集束７ＪＩ
速しで出力面０に輝度増強された出、す（粂か得られる
。そしてこの出力像をｌカメラにより顕像するよう（こ
なつ℃いる。

ところで従来のＸ線イメージ管（２）の入力面Ｏ）【よ
、第５図に示されるように、球面状に形成された７ノル
ミニウム基板偉）の凹面によ′う化ナトリウム賦活よう
化セシウム蛍光体の柱状晶ωからなる蛍光体層（８）か
形成され、この蛍光体層（８）上に酸化アルミニウム層
と酸化インジウム層からなる中間層（９）を介して光電
面（１Φが形成された構造に４＾つでいる。

ところで、被写体（３）のＸ線被曝を少くするためには
、被写体透過Ｘ線を１ｕ失なく蛍光体層（８）に入Ｑ＝
Ｊさせてその吸収部を多くすることが要語される。

ぞの点Ｘ線源側に設けられるアルミニウム阜仮（６）は
、Ｘ線吸収が少ない方がよい。しかし従来の入力面は、
その構成上省略すること（よできない。また蛍光体層（
８）については、Ｘ線吸収♀を多くするためには蛍光体
の＋１状晶ωを長くした方がよいが、）Ｉ状晶ωか艮く
なると、光の■折回数が増加し、柱状晶ω側面から他の
柱状晶■に伝播する光の早が増加し、解像度を低下させ
る。そのため＋１状晶をあまり長くすることはできない
。２００ＪｉＩｎ程度が限度である。また従来の蛍光体
層（８）は、基板（６）の凹面に蛍光体を蒸着しで形成
するため、＋１状晶■か基板（６）の凹面側で基板（６
）の中心軸と交差する方向を向くように配向し、その向
きがＸ線の入射方向と交差するので、柱状晶■が長くな
ると、入力面Ω）の周辺部で【よ、同−経路上のＸ線で
隣接する複数の柱状晶■が発光するようになり、解像度
を低下させる。さらにまた中間層（９）は、酸化アルミ
ニウムや酸化インジウムの蒸右層のため、層内に光の反
則点を多数もら、解像度を低下させるなどの問題点があ
る。

（発明の目的）この発明は、Ｘ線発光蛍光体層のＸ線吸収♀を多くして
、なおかつ解像度を低下させないＸ線イメージ管の入力
面を構成することにある。

（発明の概要〕暴仮面に形成されたＸ線発光蛍光体層を＋１４成づる並
列した多数の柱状晶間に光吸収層を介在させることによ
り、柱状晶を長くしても、柱状晶の側面を透過して隣接
柱状晶に入射覆る光の量が少くなるように構成した。

（発明の実施例）以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。

第１図にこの発明の一実施例である入力面を、また第２
図にその一部を拡大して示す。この入力面は、着色透過
カラスからなる厚さ約１２０埒ｌの球面状の置板Ｃのを
有し、この基板ＣΦの凸面にＸ線発光蛍冗体層■が、ま
た７、を仮Ｃ中の凹面にアンチ［ン・セシウム（ＳｂＣ
ｓ）、アンチモン・セシウム・カリウム（ＳｂＣｓＫ）
　、アンチ［ン・セシウム・カリウム・フトリウム（Ｓ
ｂＣｓＫＮａ）などからなる光電面（２のかＣＬＪられ
ている。

上記蛍光体層ＱＯは、よう化ナシリウム賦活よう化セシ
ウム蛍光体の並列した多数の柱状晶（２４）からなり、
各柱状晶（２４）は、基板Ｃ中の凸面側において、この
基板ＣΦの中心軸と交差するように上記中心軸に対して
傾斜している。また各柱状晶（２４）間には、カーボン
などからなる光吸収層（２５）が、さらにまた各柱状晶
（２４）の先端には、連続面からなるアルミニウム膜（
２６）か設けられている。

この入力面はつぎのように製作される。

第３図に示すように、まずよう化ナトリウム賦活よう化
セシウム蛍光体の蒸発源（２８）およびこの蒸発源（２
８）士にフィルタ（２９）が股間されたベルジャ（３０
）内に、上記フィルタ（２９）を介して凸面が蒸発源（
２８）と対向するように基板ＱΦが股間される。

この基板ＣΦの凸面に蛍光体を均一に蒸着するために、
フィルタ（２９）には、周辺部になる程広面偵の開孔が
形成され、これらフィルタ（２９）および基板（イ）は
、回転されるようになっている。

蒸着は、ベルジャ（３０）内の真空度を不活性ガスのも
とで１ＸＩＯ−２〜’ｌ　ＸＩＯ４Ｔｏｒｒにし、基板
Ｑ中を２００’Ｃ以下たとえば１００’Ｃにｈ口熱し、
かつこの基板Ｑのとフィルタ（２９）を回転しながらお
こなわれる。蒸発源（２８）を加熱してこの蒸発源（２
８）中の蛍光体を蒸着することにより、重板ＣΦの凸面
には、直径約１０Ｊ１ｆｎ、艮ざ４００〜５００．ｕ＋
の柱状晶（２４）が多数並列し、かつ基板Ｑφの凸面側
前方においてその中心軸と交差づるように上記中心軸に
対して傾斜して形成される。

つぎにこの多数の柱状晶（２４）の並列形成された基板
ＣΦを除湿された人気中に取り出し、その柱状晶（２４
）にたとえば低硝化度のニトロセルローズの有機溶媒液
たとえばアセトン溶液を塗布して柱状晶（２４）間にニ
トロセルローズを浸透させる。しかるのちたとえば真空
中で有機溶媒を蒸発させて柱状晶（２４）間にニトロセ
ルローズを残存させる。その後、この基板（イ）を不活
性ガスまたは真空中で２００〜３００’Ｃに昇温しでベ
ーキングし、炭化膜からなる光吸収層（２５）を柱状晶
（２４）間に形成する。

さらにその後この柱状晶（２４）にアルミニウムを真空
蒸着する。

光電面■の形成は、上記Ｘ線発光蛍光体層（２０ｈ１形
成された基板ＣのをＸ線イメージ管の外囲器内に他の電
極とともに取り付け、排気、ガス出しをおこなったのら
、上記外囲器に取り付けられた光電物質発生器を加熱し
て光電１勿？またとえば５ｂＣ５ＫＮａを蒸析すること
により形成される。

上記のよう１３入力而を構成すると、Ｘ線発光蛍光体の
＋Ｆ状晶（２４）を長くしてＸＩ♀吸収早を人にしても
、解像度の低下が少く、被写体の被曝を少くするパノ９
■と覆ることが′Ｃさる。−ス４１わら、この入力面は
、Ｘ線発光蛍光体層ＱＯを構成−ｑる柱状晶（２４）間
に光吸収層（２５）か設けられているので、＋↑状晶（
２４）の側面から隣接柱状晶に入ｑ・１する光の甲を減
少づることができ、Ｉ１状品（２４）を長くしてＸ、腺
吸収量をふやしても、解像度の低下を防止することかで
きる。また柱状晶（２４）は、）Ｊ板Ｃ■の凸面に形成
され、その凸面の前方においてこのり仮ＣΦの中心軸と
交差するように中心軸に対して傾斜し、Ｘ線の放射方面
と同じ向きに形成されているのＣ１従来の入力面のよう
に同一経路のＸ線が隣接する複数の柱状晶に入射するこ
とが少く、したがって解像度の低下を防止することがで
きる。また各柱状晶（２４）の先端に設けられたアルミ
ニウム膜（２６）は、光電面ｅ２１に対して反対方向に
伝播する光を反射し、光電面（２２１に到達する光の量
をふやす効果がある。ざらに着色光透過ガラスからなる
基板ＣΦは、第２図に矢印（３２）で示すように、基板
［相］中を斜めに横切る光をその長い経路により減衰さ
せ、基板ＣΦ中を光が通るとき生ずる光の拡散による解
像度低下を減少させる。また安定なガラス部材であるた
め、高感度りり光電面抵抗の小さい光電面を容易に形成
することができる。さらにまたこの入力面は、従来の入
力面のようにＸ線入射側に基板をもたないので、被写体
を透過したＸ線を損失なくＸ線発光蛍光体層（１２０に
入射させることができ、したがって少いＸ線量で蛍光体
層（２１）を所要に発光させることができる。

つぎに他の実施例について述べる。

上記実施例では、基板に並列形成された柱状晶にニトロ
セルローズ溶液を塗イ５したのち、これを炭化して光吸
収層を形成したが、この光吸収層は、カーボン懸濁液中
に柱状晶が形成された基板を浸漬するなど伯の方法で形
成してもよい。

〔発明の効果〕

基板面に形成されたＸ線発光蛍光体層を構成する並列し
た多数の柱状晶間に光吸収層を介在させることにより、
柱状晶側面から隣接柱状晶に入射する光の量を減少させ
るようにしたので、柱状晶長くしてＸ線の吸収量をふや
すように構成しても、解像度の低下を防止することがで
き、したがって被写体の被曝を少くし、カリ解像度のよ
い高性能Ｘ線イメージ管と覆ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例であるＸ線イメージ管の入
力面の一部を示す断面図、第２図１よその一部を拡大し
て示す断面図、第３図は基体にＸ線発光蛍光体層を形成
する装置の図、第４図はＸ線イメージ管を使用した被写
体Ｉ２察システムの図、第５図は従来のＸ線イメージ管
の入力面の一部を示す図である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基板面に並列した多数の柱状晶からなるＸ線発光
蛍光体層が設けられ、その柱状晶間に光吸収層が介在す
ることを特徴とするＸ線イメージ管の入力面。
（２）光吸収層はカーボン層からなることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のＸ線イメージ管の入力面。
（３）基板は球面状をなし、その凸面に柱状晶からなる
Ｘ線発光蛍光体層が設けられていることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載のＸ線イメージ管の入力面。
（４）Ｘ線発光蛍光体層の柱状晶は球面状基板の凹面側
においてこの基板の中心軸と交差するように上記中心軸
に対して傾斜していることを特徴とする特許請求の範囲
第３項記載のＸ線イメージ管の入力面。
（５）Ｘ線発光蛍光体層は各柱状晶の先端部を覆う連続
したアルミニウム膜を有することを特徴とする特許請求
の範囲第３項または第４項記載のＸ線イメージ管の入力
面。
（６）基板は着色光透過ガラスからなることを特徴とす
る特許請求の範囲第３項記載のＸ線イメージ管の入力面
。