JPS6238677A - 固体撮像素子 - Google Patents

固体撮像素子

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JPS6238677A
JPS6238677A JP60179648A JP17964885A JPS6238677A JP S6238677 A JPS6238677 A JP S6238677A JP 60179648 A JP60179648 A JP 60179648A JP 17964885 A JP17964885 A JP 17964885A JP S6238677 A JPS6238677 A JP S6238677A
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signal
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gate
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Masaaki Kimata
雅章 木股
Masao Yamawaki
正雄 山脇
Satoshi Yamakawa
聡 山川
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    • HELECTRICITY
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    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/71Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
    • H04N25/713Transfer or readout registers; Split readout registers or multiple readout registers
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    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/71Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は1水平期間内に1水平線ごとの信号を垂直電
荷転送素子で読出す方式の固体am素子に関する。
〔従来の技術] 第5図は1985年のアイニスニスシーシー(Inte
rnational  3olid−3tate  C
1rcuits(:、 onference )のダイ
ジェスト オブ テクニカル ペーパー(D iges
t or  T echnical  P aper)
100頁〜101頁(M、 Kimata et  a
l、 ) マたはテレビジョン学会技術報告NQ、TE
BS101−6.ED841 (木股他)に示されたC
3D(Charge Sweep  [)evice 
:電荷88寄せ素子)方式の従来の固体撮像素子のブロ
ック図である。
第5図において、従来の固体撮像素子は光検出器111
〜148と垂直電荷転送素子(C3D)210〜240
とインターフェイス部300と水平CCD400と出力
ブリアンプ500とトランスフ1ゲート走査回路600
とC8D走査回路700と配線801〜808とを含む
。光検出器111〜148は照射された光信号に応じた
信号電荷を蓄積するものである。垂直電荷転送素子21
0〜240は光検出器111〜148からの信号電荷を
イれぞれ@直方向に転送するものであり、垂直′IR?
tJ転送素子のそれぞれのゲートは後で説明するトラン
スファゲートを含む。1つの光検出器と垂直電荷転送素
子の1つのゲート−により1ii!it素が構成される
。インターフェイス部300は垂直′R向転送素子21
0〜240によって転送されてきた電荷を一時蓄積する
とともに、水平C0D400への信号電荷の転送を制御
するものである。
トランスファゲート走査回路600はトランスファゲー
トを選択する信号を発生するものである。
C8D走査回路700は垂直電荷転送素子210〜24
0の駆動信号を供給するものである。垂直電荷転送素子
210〜240の各々のゲートは配線801〜808に
よって互いに接続されている。
トランスフアゲ−1〜走査回路600からのIa号およ
びC8D走査回路700からの信号は共に配線801〜
808により垂直電荷転送素子210〜240のそれぞ
れのゲートに与えられる。
第6図は1画素の構成を詳細に示した図である。
第6図において、光検出器125は半導体基板とその半
導体基板とは異なった導電型の濃度の高い不純物領域と
で形成されるPN接合によって構成される。ゲート22
5は垂直電荷転送素子220の1つのゲートであり、そ
の一部の領域1は表面チャンネルのトランスフ7ゲー1
−になっている。
アルミニウム配線805はコンタク1〜ホール3を通じ
てゲート225に接続される。また、領域2は埋め込み
チャンネルの電荷転送素子である。
第7図は第5図の線B−B−の断面のゲート構造とチャ
ンネルポテンシャルを示した図である。
次に、第5図ないし第7図を参照して従来の固体m像素
子の動作について説明する。第7図において、ゲート2
21〜228は垂直電荷転送素子220のそれぞれのゲ
ートである。蓄積ゲート・321および蓄積制御ゲート
322とはインターフェイス部300を構成する。
まず、垂直電荷転送素子220のそれぞれのゲ−t−2
21〜228のそれぞれの電位を“H″″″H””L”
II L″11 H+1″゛)」”L II II L
 1ルベル〈H:高、L:低〉とした後、C8D走査回
路700の出力を高インピーダンス状態とし、トランス
ファゲート走査回路600を駆動して、1垂直線内で1
つのトランスファゲートを“HH”レベル(” l−f
 ”レベルより高いレベル)どし、信号電荷を読出す。
この’ HH”レベルのとき信号電荷の読出が可能であ
る。
第7図において、ケート222に選択信号が印加されて
いるので、光検出器122の信@電荷が読出されるく第
7図(a))。C8Dは多数の小さ°なポテンシャル井
戸に分割されており、光検出器から読出された信号電荷
は複数のボテ〉・シャル井戸に蓄積される。たとえば、
信号電荷はQs+およびQS2に分割されて転送される
その後トランス77ゲート走査回路600は高インピー
ダンス状態となり、続いて、C8Dの駆動が開始される
。この駆動は通常の4相駆0CCDと全く同様である。
すなわち、ゲート221〜228の電位は、第7図(b
 )に示す状態では、”H″”H” ”L” ”L″”
H””H’“” L ”II L IIであるが、次に
’L””H” “’H””L””L” ”H” ”H”
 ”L”どなり、次に” L ”“L ″  ″ H”
”H+   11  L  II   It  L  
II   l“ H′′  ト(″   となり、次に
“H”l L l“ °“L””H” “HIT  1
1 L )1“L””H″′となり、次にH″″ ll
 HII “L II+i L″”H゛″″H″# L
 II 11 L +1となって第7図(C)に示す状
態になる。
このサイクルの繰返しによって第7図(C)〜(C)に
示すように信号′R荷は蓄積ゲート321に転送される
最後に水平帰線期間内に蓄積IIIII御ゲート322
の電位が″H’レベルになり、蓄積ゲートの電位が″′
Lパレベルになることによって、第7図(r>に示すよ
うに信号電荷は蓄積ゲート321から水平CC’D 4
00に転送される。以上の動作が繰返されることによっ
てすべてのii!1fliの信号電荷が読出される。
なお、C3Dの転送効率が不十分な場合には、第7図(
d )に示すようにポテンシャル井戸に取り残しWit
JQrが存在するが、この取り残し電荷は信号電荷を掃
き寄せるのに必要なりロックサイクル数以上の回数C3
Dを駆動することによって8積ゲート内で主信号に加え
ることができる。
[発明が解決しようとする問題点] 従来のC8Dを用いた固体W4像素子では、光検出器か
ら垂直i荷転送素子への信号電荷の読出は1回しか行な
われないが、PN接合を光検出器に用いた場合には、読
出とともに抵抗値が上昇し、光検出器から読出されるべ
き信号N荷の転送は不完全転送となるため、残像が生じ
るという問題点があった。
それゆえにこの発明は上述のような問題点を解消するた
めになされたもので、光検出器から垂直電荷転送素子へ
の信号電荷の転送が不完全転送となる場合においても、
残像を十分低減できる固体撮像素子を提供することを目
的とする。
[問題点を解決するための手段] この発明にかかる固体me素子は、直交する第1および
第2の方向に配列した光信号検出手段および光信号検出
手段からの信号電荷を第1の方向に転送するN荷転送手
段を含んで画素を構成し、読出指令手段により第2の方
向に配列した槽数の画承列の中から順次1つのm素列を
選択して、信号電荷の読出を指令し、信号供給手段によ
り、読出指令手段の指令に基づいて、選択されていない
画素列には低電位の第1レベル信号と信号電荷を転送す
るための高電位の第2レベル信号とを交互に複数回供給
し、選択された画素列には第1レベル信号と第2レベル
信号よりも高電位であって光信号検出手段から信号電荷
を読出すための第3レベル信号とを交互に複数回供給す
るようにしたもの′I″ある。
[作用] この発明における固体Wi像素子は、光信号検出手段か
らの信号電荷の読出の回数を増すことにより不完全転送
による残像を低減1−ることができる。
[実施例] 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第2
図はこの発明の一実施例を示す固体wi像素子の概略構
成図である。第2図において、トランスファゲート走査
回路600およびC3D走査回路700の配置と配線9
01〜908を除いて、第5図に示した従来例と全く同
様の構成であるので、同一部分には同一の参照番号を付
して説明を省略する。
従来例では、トランスファゲート走査回路600とC8
D走査回路700とはそれぞれ独立に信号を供給したが
、この実施例においては、トランスファゲート走査回路
600の出力は配線901〜908を通じて、C3D走
査回路700に供給される。
第7図は第2図に示すJiA−A”に沿った断面のゲー
ト構造とチャンネルポテンシャルを示す図である。また
、第3図はエンハンスメント型MOSトランジスタ11
〜16により構成されたC8D走査回路700の1段分
を示した図である。ざらに、第4図は第3図に示した1
段分のO8O走査回路702の波形図である。
次に、第1図ないし第4図を参照してこの発明の一実施
例の固体撮像素子の動作について説明する。第2図に示
すトランスファゲート走査回路600は従来と全く同様
に構成されており、1水平期間内に配線901〜908
のうちの1本たとえば配置11902のみを高レベル(
選択状態)とし、他の線を低レベルにする。
まず、トランスファゲート走査回路600から高レベル
の出力が与えられるC8D走査回路702の動作につい
て説明する。第4図(a)に示すように、配線902の
出力は1水平期間内では高レベルであるので、トランジ
スタ11および13はON状態となる。このため、トラ
ンジスタ14はOFF状態となり、ノード1は’ HH
”レベルとなる。ただし、トランスファゲート走査回路
600の出力は十分高く、ノード1がHH”レベルとな
っても、トランジスタ11はON状態を保持するように
する。1水平期間内ではC8D走査回路702を駆動す
るたとえば4相のクロック信号φC(第4図(C))お
よびφc(第4図(d ))が供給されるので、第4図
(e )に示す配線802の出力は、φGが高レベルに
なれば、HH”レベルになり、φCが低レベルになれば
、″“11ルベルとなる。
次に、トランスファゲート走査回路600から低レベル
の出力が与えられるその他のC8D走査回路701t5
よび703〜708の動作について説明する。
第4図(a)の破線C示すようにたとえば配線905の
出力は1水平期間内では低レベルであるので、トランジ
スタ11および13はOFF状態になる。第4図(b)
に示すφ、は1水平線の読出終了後の帰線期間にトラン
ジスタ12をONにするクロック信号で、その他の期間
は低レベルであるので、トランジスタ12はOFF状態
である。
φ8が高レベルとなって、トランジスタ12がONにな
ると、トランジスタ14はON状態となり、ノード1は
’ H”レベルとなる。この゛H°゛レベルの状態はφ
、が低レベルとなってもそのまま保持されるため、第4
図(f)に示す配l1I805の出力は1水平期間内で
は、φ。が高レベルになれば゛H°゛レベルになり、φ
Cが低レベルになればL 11レベルになる。
第1図に示すゲート221〜228の電位はたとえばゲ
ート222に対応するトランスファゲート走査回路60
0の出力902のみが高レベルとなり、出力901およ
び903〜908は低レベルとなっている。したがって
垂直電荷転送素子220のゲート電位221〜228は
番号順にH″′″HH””L” “L ” ″“H” 
“l H1111L 1111 L″となる(第1図(
a))。その後C8Dの駆動に従ってそれぞれのゲート
電位はll L″″“Hl−1”“HパL””L”  
“”H”  ”H” ”L”となり、次に、”L” ”
L”  ”)(”  ”H” ”L” ”L”11 H
u l“l−1”となり、次に、HII It L 1
1 II L II″′H°°“Hool“L”“し”
LH′1となり、次に、“”H” ”HH” ”L” 
’“L””H” H””L””L”となって第1図(C
)に示す状態になる。
このようにゲニト222はC3Dの駆動の各サイクルで
″HH”レベルとなり、読み残された信号電荷はゲート
222が’ II H”レベルとなるごとに読出される
ので、残像は低減する。
なあ、上述の実施例ではC3Dの駆動の各サイクルごと
にゲート222を’ HH”レベルとしているが、これ
に限らず、全サイクルのうち複数回”HH″レベルとし
てもよい。
上述の実施例の場合にも、従来例と同様にC8Dの転送
効率を向上させるため信号電荷を掃き寄せるのに必要な
りロックサイクル数以上の回数C8Dを駆動してもよい
。なお、上述の実施例ではC8Oの駆動は4相駆勧CC
Oと同種に行なっているが、これに限らず他の何相かの
駆#J信号で駆動してもよい。また、上述の実施例では
nfチャンネル素子について説明しているが、pチャン
ネルの素子であっても同様の効果を奏する。
上述の実施例ではインターレースについては説明してい
ないが、トランスファゲート走査回路600内にインタ
ーレース回路を設けることも従来と同優に可能である。
また、光検出器はPN接合以外にショットキ接合などを
用いてもよい。
[発明の効果1 以上のように、この発明によれば、信号供給手段は、読
出指令手段の指令に基づいて、選択された画素列には低
電位の第3レベル信号と光信号検出手段から信号電荷を
読出すための第3レベル信号とを交互に複数回供給し、
複数回同一の光信号供給手段から信号電荷を読出すよう
にしているので、残像の少ない画像を得ることができる
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実滴例の固体撮像素子を構成する
垂直電荷転送素子、インターフェイスおよび水平COD
の断面のポテンシャルを示す図である。、第2図はこの
発明の一実m例の固体15m素子を示す概略構成図であ
る。第3図はこの発明の一実施例の固体撮像素子に用い
られるC8D走査回路の1段分を示す図である。第4図
は第3図に示すC8D走査回路の波形図である。第5図
は従来の固体1像素子の構成を示す図である。第6図は
第5図の固体搬像素子を構成する1画素を詳細に示した
図である。第7図は第5図の118−B−断面のポテン
シャルを示す図である。 図において、11]ないし148は光検出器、210.
220,230および240は垂直電荷転送素子、22
1ないし228はゲート、300はインターフェイス部
、400は水平CCD、500は出力ブリアンプ、60
0はトランスファゲート走査回路、700はC8O走査
回路、801ないし808および901ないし908は
配線を示す。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 それぞれが直交する第1および第2の方向に配列され、
    それぞれが光信号を検出する複数の光信号検出手段およ
    び前記光信号検出手段からの信号電荷を前記第1の方向
    に転送する電荷転送手段を含んで構成された画素と、 前記第2の方向に配列された複数の画素列の中から、順
    次1つの画素列を選択して、信号電荷の読出を指令する
    読出指令手段と、 前記読出指令手段の指令に基づいて、選択されていない
    画素列には低電位の第1レベル信号と信号電荷を転送す
    るための高電位の第2レベル信号とを交互に複数回供給
    し、選択された画素列には前記第1レベル信号と、前記
    第2レベル信号よりも高電位であつて前記光信号検出手
    段から信号電荷を読出すための第3レベル信号とを交互
    に複数回供給する信号供給手段とを備えた固体撮像素子
JP60179648A 1985-08-13 1985-08-13 固体撮像素子 Granted JPS6238677A (ja)

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JP60179648A JPS6238677A (ja) 1985-08-13 1985-08-13 固体撮像素子
KR1019860000434A KR900005876B1 (ko) 1985-08-13 1986-01-23 고체촬상소자
DE8686306090T DE3665648D1 (en) 1985-08-13 1986-08-06 Solid-state image sensor
EP86306090A EP0213803B1 (en) 1985-08-13 1986-08-06 Solid-state image sensor
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JPH0374997B2 JPH0374997B2 (ja) 1991-11-28

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ID=16069443

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EP (1) EP0213803B1 (ja)
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