JPS6233277Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6233277Y2 JPS6233277Y2 JP3046282U JP3046282U JPS6233277Y2 JP S6233277 Y2 JPS6233277 Y2 JP S6233277Y2 JP 3046282 U JP3046282 U JP 3046282U JP 3046282 U JP3046282 U JP 3046282U JP S6233277 Y2 JPS6233277 Y2 JP S6233277Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotary table
- heating chamber
- turntable
- bottom wall
- stopper member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 32
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の技術分野〕
この考案は回転台の軸部にストツパー部材を設
けて回転台の抜け止めを施したターンテーブル装
置を備えた高周波加熱装置にかかり、特にストツ
パー部材廻りで発生する電波リークを改善した高
周波加熱装置に関する。
けて回転台の抜け止めを施したターンテーブル装
置を備えた高周波加熱装置にかかり、特にストツ
パー部材廻りで発生する電波リークを改善した高
周波加熱装置に関する。
一般に高周波加熱装置に用いられる回転台の抜
け止めを施したターンテーブル装置においては、
加熱室の底壁面を通じて駆動側の回転軸と係合す
る回転台の軸部の外周側にストツパー部材を設
け、このストツパー部材と加熱室の底壁面との規
制で抜け止めを構成したものが採用されている。
け止めを施したターンテーブル装置においては、
加熱室の底壁面を通じて駆動側の回転軸と係合す
る回転台の軸部の外周側にストツパー部材を設
け、このストツパー部材と加熱室の底壁面との規
制で抜け止めを構成したものが採用されている。
従来から採用されているものとしては、第1図
で示すように回転台aの軸部bの外周側に着脱自
在なワツシヤーcを係合し、このワツシヤーcを
支持部としてワツシヤーcの上面にストツパー部
材としての環状の金属製のワツシヤーdを重合さ
せたものが用いられている。なお、ワツシヤーd
は加熱室の底壁面eに穿設した回転台貫通孔fよ
り大きくなつていることはいうまでもない。
で示すように回転台aの軸部bの外周側に着脱自
在なワツシヤーcを係合し、このワツシヤーcを
支持部としてワツシヤーcの上面にストツパー部
材としての環状の金属製のワツシヤーdを重合さ
せたものが用いられている。なお、ワツシヤーd
は加熱室の底壁面eに穿設した回転台貫通孔fよ
り大きくなつていることはいうまでもない。
ところで、ターンテーブルを備えた高周波加熱
装置においては、回転台aと加熱室の底壁面eと
の間隙を通じて加熱室から底壁面eの下部側へ若
干高周波がリークすることは知られている。
装置においては、回転台aと加熱室の底壁面eと
の間隙を通じて加熱室から底壁面eの下部側へ若
干高周波がリークすることは知られている。
ところが、上述したような金属製のワツシヤー
dを用いて抜け止めする技術によると、ワツシヤ
ーdに電波がのり、リークの量が多くなつてしま
う問題がある。データによれば無負荷の高周波加
熱動作の条件下でターンテーブルを駆動するモー
タでのリーク測定で60mW/cm2にも達し、これが
高周波加熱装置を制御するトランジスタ、マイコ
ンなどの電子部品等に影響を与えて誤動作をきた
したり、機外へリークするおそれをもたらす要因
となつている。
dを用いて抜け止めする技術によると、ワツシヤ
ーdに電波がのり、リークの量が多くなつてしま
う問題がある。データによれば無負荷の高周波加
熱動作の条件下でターンテーブルを駆動するモー
タでのリーク測定で60mW/cm2にも達し、これが
高周波加熱装置を制御するトランジスタ、マイコ
ンなどの電子部品等に影響を与えて誤動作をきた
したり、機外へリークするおそれをもたらす要因
となつている。
この考案は、上記事情に着目してなされたもの
でその目的とするところは、簡単な構造で回転台
廻りを通じての電波リークを減少させることがで
きる高周波加熱装置を提供することにある。
でその目的とするところは、簡単な構造で回転台
廻りを通じての電波リークを減少させることがで
きる高周波加熱装置を提供することにある。
この考案は、ストツパー部材を環状の電波吸収
体で構成することにより、回転台を通じてリーク
する高周波の減少化を図り、リークによる他部品
への影響および機外へのリークを防止しようとす
るものである。
体で構成することにより、回転台を通じてリーク
する高周波の減少化を図り、リークによる他部品
への影響および機外へのリークを防止しようとす
るものである。
以下、この考案を図面に示す一実施例にもとづ
いて説明する。第2図中1は高周波加熱装置であ
る電子レンジの本体で、この本体1内には加熱室
2が設けられる。さらに本体1内にはマグネトロ
ンなどの加熱機器(図示しない)が設けられ、加
熱室2内で食品等の被加熱物(図示しない)を高
周波加熱することができるようになつている。ま
た本体1の前面側には、加熱室1の開口を開閉す
る横開き式の扉体3および操作パネル4が設けら
れる。
いて説明する。第2図中1は高周波加熱装置であ
る電子レンジの本体で、この本体1内には加熱室
2が設けられる。さらに本体1内にはマグネトロ
ンなどの加熱機器(図示しない)が設けられ、加
熱室2内で食品等の被加熱物(図示しない)を高
周波加熱することができるようになつている。ま
た本体1の前面側には、加熱室1の開口を開閉す
る横開き式の扉体3および操作パネル4が設けら
れる。
そして、このように構成された電子レンジの加
熱室2の底部側には第3図で示すようにターンテ
ーブル装置5が設けられる。このターンテーブル
装置5は、加熱室2内の中央底面側にターンテー
ブル6を回転自在に支持する金属製の回転台7を
配し、加熱室2の底壁面2aの下部側に駆動モー
タ8を設置し、上記駆動モータ8の回転軸8aに
回転台7に設けられた軸部7aを底壁面2aを通
して挿入し、かつ回転軸8aと軸部7aとをたと
えば溝14aとピン14bとの係合手段で回転方
向に係合してなる。しかして、回転軸8aと回転
台7とは動力的に接続され、駆動モータ8の励磁
で回転台7上のターンテーブル6を回転動作させ
ることができるようになつている。なお、9はテ
ーブル案内ローラーである。また回転台7には抜
け止めが施されている。この抜け止めの構造とし
ては、第4図でも示すように回転台7の軸部7a
の外周側にワツシヤー10を係合し、このワツシ
ヤー10を支持部としてストツパー部材11をワ
ツシヤー10の上面に重合させてなる。またこの
ストツパー部材11は、環状、かつ円板状をなす
電波吸収体12から構成されていて、高周波を吸
収することができるようになつている。さらに電
波吸収体12は、底壁面2aに穿設された回転台
貫通孔13よりも大きく形成され、この底壁面2
aと回転台1との上下方向の規制関係で回転台7
の加熱室2側への抜け止めをはたしている。
熱室2の底部側には第3図で示すようにターンテ
ーブル装置5が設けられる。このターンテーブル
装置5は、加熱室2内の中央底面側にターンテー
ブル6を回転自在に支持する金属製の回転台7を
配し、加熱室2の底壁面2aの下部側に駆動モー
タ8を設置し、上記駆動モータ8の回転軸8aに
回転台7に設けられた軸部7aを底壁面2aを通
して挿入し、かつ回転軸8aと軸部7aとをたと
えば溝14aとピン14bとの係合手段で回転方
向に係合してなる。しかして、回転軸8aと回転
台7とは動力的に接続され、駆動モータ8の励磁
で回転台7上のターンテーブル6を回転動作させ
ることができるようになつている。なお、9はテ
ーブル案内ローラーである。また回転台7には抜
け止めが施されている。この抜け止めの構造とし
ては、第4図でも示すように回転台7の軸部7a
の外周側にワツシヤー10を係合し、このワツシ
ヤー10を支持部としてストツパー部材11をワ
ツシヤー10の上面に重合させてなる。またこの
ストツパー部材11は、環状、かつ円板状をなす
電波吸収体12から構成されていて、高周波を吸
収することができるようになつている。さらに電
波吸収体12は、底壁面2aに穿設された回転台
貫通孔13よりも大きく形成され、この底壁面2
aと回転台1との上下方向の規制関係で回転台7
の加熱室2側への抜け止めをはたしている。
しかして、このように構成された高周波加熱装
置5において、回転台7と加熱室2の底壁面2a
との間隙を通じて加熱室2内から底壁面2aの下
部側へリークする高周波は、大きな吸収面を備え
た電波吸収体11で吸収されることになり、回転
台7廻りを通じての電波リークを減少させること
ができるようになる。実験によれば無負荷の高周
波加熱動作の条件下で駆動モータ8でのリーク測
定で20mW/cm2といつた従来と比較して格段にリ
ーク量が少ないデータが得られるものであつた。
置5において、回転台7と加熱室2の底壁面2a
との間隙を通じて加熱室2内から底壁面2aの下
部側へリークする高周波は、大きな吸収面を備え
た電波吸収体11で吸収されることになり、回転
台7廻りを通じての電波リークを減少させること
ができるようになる。実験によれば無負荷の高周
波加熱動作の条件下で駆動モータ8でのリーク測
定で20mW/cm2といつた従来と比較して格段にリ
ーク量が少ないデータが得られるものであつた。
したがつて、リークによるトランジスタ、マイ
コンなどの電子部品等への影響および機外へのリ
ークを防止することができる。実験によると、特
に表示管を用いた電子レンジ製品については電波
によるちらつきがなくなつた。
コンなどの電子部品等への影響および機外へのリ
ークを防止することができる。実験によると、特
に表示管を用いた電子レンジ製品については電波
によるちらつきがなくなつた。
以上説明したようにこの考案によれば、簡単な
構造で回転台廻りを通じての電波リークを減少さ
せることができ、他部品の影響および機外へのリ
ークを防止することができるといつた効果を奏す
る。
構造で回転台廻りを通じての電波リークを減少さ
せることができ、他部品の影響および機外へのリ
ークを防止することができるといつた効果を奏す
る。
第1図は従来の高周波加熱装置のターンテーブ
ル装置を示す断面図、第2図はこの考案の一実施
例の高周波加熱装置を示す斜視図、第3図はその
ターンテーブル廻りの構造を示す断面図、第4図
はその要部を示す断面図である。 2……加熱室、7……回転台、7a……軸部、
8a……回転軸、11……ストツパー部材、12
……電波吸収体。
ル装置を示す断面図、第2図はこの考案の一実施
例の高周波加熱装置を示す斜視図、第3図はその
ターンテーブル廻りの構造を示す断面図、第4図
はその要部を示す断面図である。 2……加熱室、7……回転台、7a……軸部、
8a……回転軸、11……ストツパー部材、12
……電波吸収体。
Claims (1)
- ターンテーブルを回転自在に支持する回転台の
軸部を駆動側の回転軸に加熱室の底壁面を通じて
係合するとともに、回転台の軸部にストツパー部
材を設けて回転台を抜け止めしてなるターンテー
ブル装置を備えた高周波加熱装置において、上記
ストツパー部材を環状の電波吸収体で構成したこ
とを特徴とする高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3046282U JPS58133298U (ja) | 1982-03-04 | 1982-03-04 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3046282U JPS58133298U (ja) | 1982-03-04 | 1982-03-04 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58133298U JPS58133298U (ja) | 1983-09-08 |
JPS6233277Y2 true JPS6233277Y2 (ja) | 1987-08-25 |
Family
ID=30042190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3046282U Granted JPS58133298U (ja) | 1982-03-04 | 1982-03-04 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58133298U (ja) |
-
1982
- 1982-03-04 JP JP3046282U patent/JPS58133298U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58133298U (ja) | 1983-09-08 |
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