JPS6232607B2 - - Google Patents

Description

請求の範囲 １ 真空封鎖体によつて互に分離された２つの真
空室を備え、凹部をもつたドラムを備え、この凹
部内において基体が支持体上に固定されており、
基体のそれぞれ被覆してはならない部分を覆うよ
うにしたシールド孔をもつた変位可能なシールド
を各凹部内に備え、ドラムは支持体が両真空室を
通過するように封鎖壁と共に真空封鎖体を形成
し、第１の真空室にはグロー重合体層を製造する
ための装置、第２の真空室には金属被覆装置が設
けられ、グロー重合体層を製造するための装置と
金属被覆装置との間にシールドを移動するための
装置が設けられている、重なり合い側方に互にず
らして配置された金属層とグロー重合体層との製
造装置において、ドラム１は少くとも１つの定置
したガイドリング２３，２５によつて部分的に囲
まれ、ドラム１はばね３１によつてガイドリング
２３に押圧された少くとも１つのプツシユロツド
２１を備え、ガイドリング２３は凹部２２を備
え、ドラム１が回転するときこの凹部２２をプツ
シユロツド２１が通過し、プツシユロツド２１は
支持体を側方に移動するための装置１０と機能的
に連結され、グロー重合区間と金属被覆区間との
間において移動がガイドリング２３の凹部２２に
よつて行われることを特徴とする重なり合い側方
に互にずらして配置された金属層とグロー重合体
層との製造装置。

２ ドラム１の両端面の部分に配設した２つのガ
イドリング２３，２５を備え、このガイドリング
２３の少くとも１つはプツシユロツド２１を制御
するための凹部２２を備え、両ガイドリング２
３，２５は別の凹部２６を備え、ばねの力によつ
てそれぞれガイドリング２３，２５に押圧されド
ラム１の回転の際に別の凹部２６を通過するよう
にした２つのスライドピン２４とシールド２７が
機械的に固く連結され、この別の凹部２６はシー
ルド２７が支持体４の移動前に上に上げられ支持
体４の移動後に再び基体３０に押圧されるような
寸法であることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の装置。

３ プツシユロツド２１は凹部２２の範囲におい
てつめ車１５をつめ２０１つ回転させ、このつめ
車１５とカム板１０とは機械的に固く連結されて
おり、このカム板の１つの端面は、支持体４の接
触ピン９により走査されて支持体４の所望の移動
を直接行うような断面を備えることを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載の装置。

４ 接触ピン９を移動させるためのカム板１０の
端面上の曲線は、機械的な案内５によつて決定さ
れる接触ピン９の運動方向Ａに少くともほぼ垂直
な面１４を形成することを特徴とする特許請求の
範囲第３項記載の装置。

明細書 本発明は、真空封鎖体によつて互に分離された
２つの真空室を備え、凹部をもつたドラムを備
え、その凹部内において基体が支持体上に固定さ
れており、基体のそれぞれ被覆してはならない部
分を覆うようにしたシールド孔をもつた変位可能
なシールドを各凹部内に備え、ドラムは支持体が
両真空室を通過するように封鎖壁と共に真空封鎖
体を形成し、第１の真空室にはグロー重合体層を
製造するための装置、第２の真空室には金属被覆
装置が設けられ、グロー重合体層を製造するため
の装置と金属被覆装置との間にシールドを移動す
るための装置が設けられている、重なり合い側方
に互にずらして配置された金属層とグロー重合体
層との製造装置に関する。

このような装置は既に他の場所で提案された。
本発明の基礎とする目的は、シールドが被覆すべ
き基体に対して簡単な方法で定められた位置に移
動され、しかもこの位置を高い精度で再現するこ
とができるようにすることにある。

この目的は、冒頭に記載したような装置におい
て、ドラムは少くとも１つの定置したガイドリン
グによつて部分的に囲まれ、ドラムはばねによつ
てガイドリングに押圧された少くとも１つのプツ
シユロツドを備え、ガイドリングは凹部を備え、
ドラムが回転するときこの凹部をプツシユロツド
が通過し、プツシユロツドは支持体を側方に移動
するための装置と機能的に連結され、グロー重合
区間と金属被覆区間との間において移動がガイド
リングの凹部によつて行われるようにすることに
よつて達成される。

この装置は、移動の大きさと方向とを決定する
移動装置の部分が支持体と連結されており、その
結果ドラムの許容誤差がこのため問題にならない
ため、比較的簡単に構成される。プツシユロツド
およびつめ車を介して、ドラムの許容誤差の広い
範囲にわたつて常に正確に１段階進められる。さ
らに、支持体はドラムから離して、ドラムと無関
係に装備し、そして再び挿入することができる。
それによつてシールドと基体との相互間の位置の
再現性は影響されない。ガイドリングは凹部の相
互間および装置の他の部分に対する正確な位置を
保証し、その結果被層には利用することができな
いドラム周辺のシールドの移動に必要な部分は小
さく保つことができる。

異なる極性の金属層、およびその間に介在する
グロー重合体からなる誘電体層が設けられるべき
積層コンデンサを製造するには、基体をシールド
に対して、シールド孔のどの縁部にも平行でない
方向に移動するのが合目的である。このようにす
ることによつて、反対極の被層のあらゆる側の相
互の絶縁が生じる。一方、基体をシールドに対し
て移動する場合、すでに設けられた積層体を損傷
させてはならない。これは、グロー重合体層の部
分において明らかにその周囲にわたつて生じる。
他方において、絶縁層の分かれたものが被層の接
触範囲に達することがないようにするため、グロ
ー重合体層は基体上にあるシールドによつて制限
されなければならない。この要求を満たすため
に、シールドは、少くともグロー重合中は基体な
いし既に設けられた最上層の上に位置し、シール
ドに対して基体が移動する期間中は基体から上に
上げられていなければならない。これは本発明装
置の一実施態様においては、ドラムの両端面の部
分に配設した２つのガイドリングを備え、このガ
イドリングの少くとも１つはプツシユロツドを制
御するための凹部を備え、両ガイドリングは別の
凹部を備え、ばねの力によつてそれぞれガイドリ
ングに押圧されドラムの回転の際に別の凹部を通
過するようにした２つのスライドピンとシールド
が機械的に固く連結され、この別の凹部はシール
ドが支持体の移動前に上に上げられ支持体の移動
後に再び基体に押圧されるような寸法にすること
によつて好適に実施される。

シールドの簡単な上方運動および下方運動およ
び基体の移動に動きを分けることによつて、動き
の流れおよびこれに基づく装置が簡単に構成さ
れ、高精度が保証される。

基体の支持体を移動するための力の伝達は、プ
ツシユロツドが凹部の範囲においてドラム軸に少
くともほぼ平行な軸をもつたつめ車に対して押圧
され、これによつてつめ車がつめ１つだけ回転
し、このつめ車とカム板が機械的に固く連結さ
れ、このカム板の１つの端面は、支持体の接触ピ
ンにより走査されて支持体の所望の移動を直接行
うような断面を備えることによつて有利に行なわ
れる。カム板は、接触ピンを移動するための端面
上の曲線が、機械的な案内によつて決定される接
触ピンの運動方向に少くともほぼ垂直な面を形成
するよう構成することが好ましい。この実施態様
によつて接触ピンの運動は僅かな力を費やすだけ
で達成され、材料にかゝる応力は少く、装置の寸
法をこれに対応して小さくすることができる。

次に本発明を３つの図面について詳細に説明す
る。

第１図は横方向に定置されているシールドの下
方の基体の位置を概略的に示す。

第２図は部分的に切断および切り欠いて見た本
発明による装置を示す。

第３図は部分的に切り欠いて見た第２図の一切
断図を示す。

ドラム１は凹部２を備え、この中に挿入体３が
挿入されている。挿入体３の上には支持体４が変
位自在に取り付けられている。支持体４の変位は
矢印Ａの方向に行なうことができる。矢印Ａの方
向は、挿入体３の突出部および支持体４の対応す
る溝によつて定められる。支持体４の位置はガイ
ドピン９を介してカム板１０によつて定められ
る。カム板１０がその軸のまわりに回転すること
によつて、ガイドピン９は所定の順序でカム板１
０の面６ないし８に当接し、ばね１１によつてこ
れらの面に押圧される。ばね１１は挿入体３の孔
の中に保持されている。カム板１０のそれぞれの
面６ないし８は、支持体４の位置１６ないし１８
に対応している。

カム板１０はつめ車１５と摩擦力で連結され、
例えば共通軸１９上に押圧されている。

つめ車１５は、プツシユロツド２１が固定して
いるガイドリング２３の凹部２２を通過する際、
プツシユロツド２１を介してつめ２０を１回転さ
せる。

ガイドリング２３およびガイドリング２５は、
ドラム１をその両端面の部分において囲んでい
る。ガイドリング２３は、１つの共通の周円上に
設けられた凹部２２、および他の周円上に設けら
れた凹部２６を備えている。ドラム１が回転する
と、凹部２２をプツシユロツド２１が通過し、一
方、凹部２６をスライドピン２４が通過し、この
スライドピン２４はドラム１に対して半径方向に
動くシールド２７と機械的に固く連結されてい
る。凹部２６は、スライドピン２４がプツシユロ
ツド２１の前に対応する凹部に滑り込み、プツシ
ユロツド２１の後で凹部から再び押し出されるよ
うに、凹部２２と関連づけて配設されている。ば
ね２８はガイドリング２３および２５に対してス
ライドピンを押圧する。ガイドリング２５は同じ
く凹部２６を備え、この凹部を対応するシールド
の縁部のスライドピン２４が通過する。

シールド孔２９は、支持体４の対応するくぼみ
３１に配置されている基体３０上にある。

支持体４はカム板１０の回転によつてＡの方向
に動かされる。カム板１０の面６ないし８は、軸
１９の方向と等しい方向Ｂの移動の成分に対応す
る。特に摩擦力なしにＡの方向に動き出せるよう
にするため、カム板は移動方向Ａとほぼ垂直な面
１４を備えている。シールド孔２９は矩形状が有
利である。移動方向Ａはシールド孔２９のどの縁
部にも平行でない。

ガイドリング２３および２５は、同時に、ドラ
ム軸の方向の真空室の閉塞、すなわち真空封鎖体
としての役割を行なう。そのため、図示の例にお
いてプツシユロツド２１は、挿入体３にではなく
ドラム１内に直接組み込まれている。このように
すれば、ドラム周面の高い精度を真空封鎖体とし
て利用することができ、しかもプツシユロツド２
１の制御に付加的な所要面積をとることが回避さ
れ、このことは、もしプツシユロツドを挿入体３
に設けた場合には、挿入体３は取り付け公差を必
要とし、その結果この挿入体によつて真空封鎖体
の部分として形成された面では均一で高い真空に
ならないため不可能である。