JPS62293628A - Semiconductor inspection device - Google Patents

Semiconductor inspection device

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JPS62293628A
JPS62293628A JP61136557A JP13655786A JPS62293628A JP S62293628 A JPS62293628 A JP S62293628A JP 61136557 A JP61136557 A JP 61136557A JP 13655786 A JP13655786 A JP 13655786A JP S62293628 A JPS62293628 A JP S62293628A
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JP
Japan
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laser
semiconductor device
address signal
test signal
data
Prior art date
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Pending
Application number
JP61136557A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsuyoshi Shiragasawa
白ケ澤 強
Takeshi Ishihara
健 石原
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP61136557A priority Critical patent/JPS62293628A/en
Publication of JPS62293628A publication Critical patent/JPS62293628A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Liquid Crystal Display Device Control (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable evaluation, analysis, and inspection of a semiconductor device to be realized with non-contact and high-speed operation in a unit of its memory element, by controlling operations of a laser scanning means, a test signal generation means, a photoexcitation current inspecting means, respectively by using a timing means. CONSTITUTION:A power source means 40 supplies electric power to a semiconductor device 10. A test signal generation means 60 impresses a test signal containing an address signal on an input terminal of the device 10. A laser means 20 synchronizes with the address signal and radiates laser light selectively to the prescribed part of a memory element directed by the address signal. In a photo-excitation current measuring means 60, photo-excitation current appearing on the outside terminal of the device 10,due to carriers excited by light of laser radiation inside the device 10, is measured. A timing means 70 controls timing of respective means 20, 60, and 50. A memory means 80 memorizes and holds the data measured by the means 50. Thus, evaluation, analysis, and inspection of the device 10 can be realized with non-contact and highspeed operation in terms of memory element.

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 産業上の利用分野 本発明はメモIJ −L S I 、液晶表示パネルに
形成された液晶駆動用LSI等の記憶素子を有する半導
体検査装置に関し、非接触で効率的かつきVカこまかい
検査を実施可能な検査手段を提供するものである。
[Detailed Description of the Invention] 3. Detailed Description of the Invention Industrial Application Field The present invention relates to a semiconductor inspection device having a memory element such as a memo IJ-LSI or a liquid crystal driving LSI formed in a liquid crystal display panel. The present invention provides an inspection means capable of carrying out a non-contact, efficient and detailed inspection.

従来の技術 半導体集積回路(以降、LSIと称する。)のどの場所
が故障しているか、あるいはどの場所が特性的な問題を
有するかを解析するために、LSI内部の金属配線パタ
ーンに金属探針を機械的に接触させてLSI内部回路の
電気的状態を測定している。
Conventional technology In order to analyze which location of a semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as LSI) is malfunctioning or which location has a characteristic problem, a metal probe is inserted into the metal wiring pattern inside the LSI. The electrical condition of the LSI internal circuit is measured by mechanically contacting the LSI.

発明が解決しようとする問題点 上記従来法には以下に示す問題点が有る。The problem that the invention aims to solve The above conventional method has the following problems.

(1)LSIの内部素子、内部配線が微細化したことに
より、目的とする配線パターンに正確に接触できなくな
ってきた。
(1) As the internal elements and internal wiring of LSIs have become finer, it has become impossible to accurately contact the intended wiring pattern.

(2)機械的接触のため配線パターンに損傷をあたえや
すい。
(2) Wiring patterns are likely to be damaged due to mechanical contact.

(3)多数箇所の測定を行う場合、機械的方法であるた
めに処理スピードの向上を図れない。
(3) When measuring multiple locations, the processing speed cannot be improved because the method is mechanical.

問題点を解決するための手段 本発明は前述の問題点に鑑がみなされたものであり、外
部より入力されるアドレス信号によって選択される半導
体装置内部の記憶素子に、微細に絞ったレーザー光をレ
ーザー走査手段を介して照射し、レーザー照射した記憶
素子の電気的状態に対応して流れる光励起電流を半導体
装置の外部端子より読み取り、当該記憶素子の良否判定
を可能とするものである。
Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and is based on the invention, in which a finely focused laser beam is applied to a memory element inside a semiconductor device that is selected by an address signal input from the outside. is irradiated via a laser scanning means, and a photoexcitation current flowing in accordance with the electrical state of the memory element irradiated with the laser is read from an external terminal of the semiconductor device, thereby making it possible to determine the quality of the memory element.

すなわち、本発明は複数の記憶素子がX−Yの行列状に
配置され、外部よシ入力するアドレス信号によって選択
される記憶素子に外部よりデーターの書き込み、あるい
は読み出しを行うことにより所定の動作をなす半導体装
置に対し、前記半導体装置に電力を供給する電源手段と
、前記半導体装置の入力端子に前記アドレス信号を含む
テスト信号を印加するテスト信号発生手段と、前記アド
レス信号と同期し、かつアドレス信号によって指示され
る記憶素子の所定部に対して選択的にレーザー光を照射
するレーザー手段と、前記レーザー照射によって半導体
装置内部で光励起されるキャリヤーによって半導体装置
の外部端子に現れる光励起電流を測定する光励起電流測
定手段と、前記レーザー手段と前記テスト信号発生手段
と前記光励起電流測定手段のタイミング制御を行うタイ
ミング手段と、前記光励起電流検出手段によって測定さ
れたデーターを記憶、保存するメモリー手段とを備えた
ことを特徴とする半導体検査装置である。
That is, in the present invention, a plurality of memory elements are arranged in an X-Y matrix, and a predetermined operation is performed by externally writing or reading data into or from the memory elements selected by an address signal input from the outside. a power supply means for supplying power to the semiconductor device; a test signal generating means for applying a test signal including the address signal to an input terminal of the semiconductor device; A laser means that selectively irradiates a predetermined portion of a storage element designated by a signal with laser light, and a photoexcited current appearing at an external terminal of the semiconductor device by a carrier that is photoexcited inside the semiconductor device by the laser irradiation is measured. A photoexcitation current measuring means, a timing means for controlling the timing of the laser means, the test signal generation means, and the photoexcitation current measurement means, and a memory means for storing and storing data measured by the photoexcitation current detection means. This is a semiconductor inspection device characterized by the following.

さらに好ましくは、本発明は記憶保存された測定データ
ーを輝度変調し選択的にレーザー照射した前記記憶素子
の配置位置に対応させて画像表示する表示装置を備え、
輝度変調した画像データーを基準データーと比較し、そ
の差を算出して前記輝度差が一定値以上あるものについ
て故障であると判定する判定手段を有し、データーの差
が一定値以上ある記憶素子部のアドレスが表示される。
More preferably, the present invention includes a display device that modulates the stored measurement data in brightness and displays an image corresponding to the arrangement position of the storage element selectively irradiated with laser,
A memory element having a determination means for comparing the brightness-modulated image data with reference data, calculating the difference, and determining that the brightness difference is a certain value or more as a failure, and the data difference is more than the certain value. The address of the department will be displayed.

作  用 上記手段によって、基板の任意の場所に存在する半導体
記憶素子て対してレーザー光が照射可能となり、したが
って非接触で微細化、高集積化された液晶表示パネル上
に形成された大面積を有する半導体装置等の機能素子の
電気的状態を評価、解析することが可能となる。更に光
学的方法によって解析するため、処理スピードの向上を
図ることができる。
Effect: By the above means, it is possible to irradiate a semiconductor memory element located anywhere on a substrate with a laser beam, and therefore, a large area formed on a miniaturized and highly integrated liquid crystal display panel can be irradiated with a laser beam in a non-contact manner. It becomes possible to evaluate and analyze the electrical state of functional elements such as semiconductor devices. Furthermore, since the analysis is performed using an optical method, processing speed can be improved.

実施例 本発明による半導体検査装置の実施例について第1図〜
第6図を用いて説明する。
Embodiment An embodiment of the semiconductor inspection apparatus according to the present invention is shown in FIGS.
This will be explained using FIG.

第1図は本発明の一実施例の半導体検査装置の構成図を
示し、第6図は半導体装置検査時のタイミングチャート
を示す。
FIG. 1 shows a configuration diagram of a semiconductor testing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 shows a timing chart when testing a semiconductor device.

′第1図において、半導体装置(LSI)1oの表面に
は、レーザー手段2oによってレーザー光が照射される
。ここでレーザー手段2oは、He−Neレーザー光源
21、光学レンズ22、光チヨツパ−23、レーザー走
査手段30、対物レンズ25等から構成される。レーザ
ー光源21から出力されるレーザー光は光チヨツパ−2
3によりパルス化されたのちレーザー走査手段3Qへ入
力される。
' In FIG. 1, the surface of a semiconductor device (LSI) 1o is irradiated with laser light by a laser means 2o. Here, the laser means 2o is composed of a He-Ne laser light source 21, an optical lens 22, an optical chopper 23, a laser scanning means 30, an objective lens 25, and the like. The laser light output from the laser light source 21 is transmitted to the optical chopper 2.
3 and then inputted into the laser scanning means 3Q.

本実施例に於て光チヨツパ−23は光量調整とパ/l/
ス制御の可能なA、 O,M(Acous to−○p
tic Modulotor)  を用いている。
In this embodiment, the optical chopper 23 is used to adjust the light amount and to
A, O, M (Acous to -○p)
tic Modulator).

レーザー走査手段3oはレーザー光lを半導体装置表面
上でX、Y方向に走査するだめのものであり、ガルバー
ミラー、ポリゴンミラー等で構成され、電気的に制御さ
れる。レーザー走査手段おで走査処理されたレーザー光
は、対物レンズ26で微細に絞られ半導体装置1oの表
面に照射される。
The laser scanning means 3o is for scanning the laser beam 1 on the surface of the semiconductor device in the X and Y directions, and is composed of a galver mirror, a polygon mirror, etc., and is electrically controlled. The laser beam scanned by the laser scanning means is finely focused by the objective lens 26 and irradiated onto the surface of the semiconductor device 1o.

第2図にレーザー走査手段3oの構成図を示す。FIG. 2 shows a configuration diagram of the laser scanning means 3o.

テスト信号発生手段60より半導体装置に対して出力さ
れるXアドレス信号、Yアドレス信号は、レーザー走査
手段3oにも同時に印加される。Xアドレス信号は、D
/Aコンバーター31Xへ入力され、ここでXアドレス
信号に対応するアナログ信号に変換されたのち増幅器3
2Xで増幅されガルバーミラー33Xの入力となる。又
、Yアドレス信号も同様にD/Aコンバーター31Y、
増幅器32Yを経てガルバーミラー33Yに入力される
。ここでレーザー光をガルバーミラー33X133Y入
射することによりX−Yアドレス信号で指示される半導
体装置表面、即ちアドレス信号で選択された任意の記憶
素子表面をレーザー照射することが可能となる。
The X address signal and Y address signal output from the test signal generating means 60 to the semiconductor device are simultaneously applied to the laser scanning means 3o. The X address signal is D
/A converter 31X, where it is converted into an analog signal corresponding to the X address signal, and then sent to amplifier 3.
It is amplified by 2X and becomes the input to the galver mirror 33X. Similarly, the Y address signal is also sent to the D/A converter 31Y,
The signal is input to a galver mirror 33Y via an amplifier 32Y. By injecting the laser beam into the galver mirror 33X133Y, it becomes possible to irradiate the surface of the semiconductor device designated by the XY address signal, that is, the surface of any memory element selected by the address signal.

第1図に於て半導体装置1oに対して必要な電力は電源
4oによって供給され、電源4oは光励起電流検出手段
50を介して半導体装置の電源端子に供給される。又、
半導体装置に対する信号入力は前記テスト信号発生手段
eOによって供給され半導体装置10に所望の動作をさ
せることができる。この信号入力によって、複数の記憶
素子がX−Y方向に行列状に配置された半導体装置のな
かの記憶素子を電気的に選択し所望の操作を行う。
In FIG. 1, the power necessary for the semiconductor device 1o is supplied by a power source 4o, and the power source 4o is supplied to the power terminal of the semiconductor device via a photoexcitation current detection means 50. or,
Signal input to the semiconductor device is supplied by the test signal generating means eO, allowing the semiconductor device 10 to operate as desired. By inputting this signal, a desired operation is performed by electrically selecting a memory element in a semiconductor device in which a plurality of memory elements are arranged in rows and columns in the X-Y direction.

このとき、本発明の半導体検査装置は、前記選択された
記憶素子に対してレーザー照射を行う。このレーザー照
射によって記憶素子の電気的状態に対応した光励起電流
を前記光励起電流検出手段5゜によって読み取る。この
ため、前記レーザー走査手段3oの動作と前記テスト信
号発生手段60の動作、並びに前記光励起電流検出手段
5oは同期して動作する必要がある。本発明ではこれら
のタイミングを制御するため、タイミング手段7oを設
ける。このタイミング手段によって、半導体装置の動作
制御、レーザー照射のタイミング、光励起電流の検出の
一連の制御を行う。この動作は一般に半導体装置の二次
元平面に行列状に配置された各記憶素子に対して行うた
め、複数の光励起電流データーが得られるため、本実施
例ではこれらのデーターを順次メモリー手段80に記憶
保存する。記憶、保存したデーターは画像表示又は、良
否判定に用いられる。
At this time, the semiconductor inspection apparatus of the present invention irradiates the selected memory element with a laser. By this laser irradiation, a photoexcitation current corresponding to the electrical state of the storage element is read by the photoexcitation current detection means 5°. For this reason, the operation of the laser scanning means 3o, the operation of the test signal generating means 60, and the optical excitation current detecting means 5o must operate in synchronization. In the present invention, a timing means 7o is provided to control these timings. This timing means performs a series of controls including operation control of the semiconductor device, laser irradiation timing, and detection of photoexcitation current. Since this operation is generally performed for each memory element arranged in a matrix on a two-dimensional plane of a semiconductor device, a plurality of photoexcitation current data are obtained, so in this embodiment, these data are sequentially stored in the memory means 80. save. The memorized and saved data is used for image display or quality determination.

レーザー照射による半導体装置の電気的状態の検査は半
導体内部で光励起される電子−正孔の流れが半導体装置
の電気的状態によって異なることを利用するものである
Inspection of the electrical state of a semiconductor device by laser irradiation utilizes the fact that the flow of electrons and holes that are photoexcited inside the semiconductor varies depending on the electrical state of the semiconductor device.

例えば第3図aに示すMOS−FETのソース領域にレ
ーザー照射した場合について説明する。
For example, the case where the source region of the MOS-FET shown in FIG. 3a is irradiated with a laser will be explained.

先ず、ゲート端子電圧がoV即ちFETがOFFの場合
はn+ソース領域近傍で光励起した電子−1正孔十のう
ち正孔+は主としてp + G N D端子へ流れ電子
−はn+ソース端子に主として集まる。
First, when the gate terminal voltage is oV, that is, the FET is OFF, the holes + mainly flow to the p + G N D terminal, and the electrons - mainly flow to the n + source terminal. get together.

このため、第3図すに示すように外部配線を介して電子
−と正孔+は結合し循環電流icが流れ電源端子での電
流増加はない。
Therefore, as shown in FIG. 3, electrons - and holes + are combined via the external wiring, and a circulating current IC flows, so that there is no increase in current at the power supply terminal.

一方、ゲート端子電圧が2v、即ちFETがONの場合
はn+ソース領域近傍で光励起した電子−1正孔+nの
うち、正孔+は主としてp + G N D端子へ流れ
、電子−は○N状態のチャンネルを介してn+ドレイン
端子へ流れる。この為、電源端子ではioの電流増加が
観察される。
On the other hand, when the gate terminal voltage is 2V, that is, the FET is ON, among the electrons -1 holes +n photoexcited near the n+ source region, the holes + mainly flow to the p + G N D terminal, and the electrons - are ○N flows through the state channel to the n+ drain terminal. Therefore, an increase in the current of io is observed at the power supply terminal.

この様に外部端子に流れる電流を測定することにより、
FETのON/○FF状態、あるいは良否の判別をする
ことができる。
By measuring the current flowing to the external terminal in this way,
It is possible to determine whether the FET is ON/FF or pass/fail.

次に本実施例半導体検査装置動作の状態を第4図、第6
図を用いて説明する。
Next, the operating state of the semiconductor inspection apparatus of this embodiment is shown in FIGS. 4 and 6.
This will be explained using figures.

第4図は液晶表示゛パネルに用いられる液晶駆動LSI
の回路構成図である。透明ガラス基板上に、アモルファ
スシリコン等の薄膜トランジスタよりなるMOS−FE
T(Qと容量(qで構成される記憶素子がX、Y方向に
行列状に配置されており、Yアドレス信号線によって選
択される複数の記憶素子の容量にデーター人力線上の電
位に対応する電荷がチャージされる。
Figure 4 shows a liquid crystal drive LSI used in liquid crystal display panels.
FIG. MOS-FE consisting of a thin film transistor such as amorphous silicon on a transparent glass substrate
Storage elements consisting of T (Q and capacitance (q) are arranged in matrix in the X and Y directions, and the capacitance of the plurality of storage elements selected by the Y address signal line corresponds to the potential on the data line. Electric charge is charged.

本半導体装置は、前述の様に液晶表示パネル駆動用LS
Iであり、ガラス基板上に形成されたLSI表面に配光
処理を施したのち対向ガラス基板との間に液晶材料が充
慎される。液晶表示パネルの実動状態では前記、記憶素
子チャージの有無あるいはチャージ量に応じて記憶素子
上に充慎された液晶を電界線光させることによυ文字、
図形又は画像表示を行うことができる。
As mentioned above, this semiconductor device is an LS for driving a liquid crystal display panel.
After performing a light distribution process on the surface of an LSI formed on a glass substrate, a liquid crystal material is placed between it and the opposing glass substrate. In the actual operating state of the liquid crystal display panel, the υ character,
Graphic or image display can be performed.

ここで本LSIの特性を本実施例半導体検査装置により
検査する場合、第4図に示した記憶素子の各MO3−F
ET部、Po 、 P 1−・−−−−P 1o 。
When testing the characteristics of this LSI using the semiconductor testing apparatus of this embodiment, each MO3-F of the memory element shown in FIG.
ET part, Po, P 1-・----P 1o.

Pll・・・・・・に順次レーザー光が照射される。こ
のとき、Yアドレス信号ライン、データー人力線には前
述のテスト信号入力手段より、第6図に示すYアドレス
信号、書き込み信号が供給される。
Pll... is sequentially irradiated with laser light. At this time, the Y address signal and write signal shown in FIG. 6 are supplied to the Y address signal line and data input line from the aforementioned test signal input means.

toの期間において前記レーザー走査手段30はYアド
レス信号を用いて、poの位置にレーザー照射する様動
作する。尚、本実施例ではテスト信号入力手段のXアド
レス信号は、半導体装置には入力されず、レーザー走査
手段のみに入力される。
During the period to, the laser scanning means 30 operates to irradiate a laser beam to the position po using the Y address signal. In this embodiment, the X address signal of the test signal input means is not input to the semiconductor device, but only to the laser scanning means.

先ずYアドレス信号がハイレベル期間、対応する複数の
記憶素子のMOS−FETはONしておりこの期間にデ
ーター人力信号が与えられ各記憶素子の容量はチャージ
される。次にYアドレス信号はロウとなり、同時にデー
ター人力信号もロウとなる。つぎに光励起電流検出手段
60には電流測定のサンプリングパルスS1が与えられ
、MOS−FETがOFFで、レーザーが照射されてい
ないときの電流を測定する。次にレーザーパルスがON
となり、po点にレーザー光が照射され、サンプリング
パルスS2によってMOS−FETがOFFのときのレ
ーザー照射時の電流が測定される。
First, while the Y address signal is at a high level, the MOS-FETs of the corresponding plurality of storage elements are turned on, and during this period, the data input signal is applied and the capacitance of each storage element is charged. Next, the Y address signal becomes low, and at the same time, the data input signal also becomes low. Next, a sampling pulse S1 for current measurement is given to the photoexcitation current detection means 60, and the current is measured when the MOS-FET is OFF and the laser is not irradiated. Then the laser pulse turns on
Then, the point po is irradiated with laser light, and the current during laser irradiation when the MOS-FET is OFF is measured by the sampling pulse S2.

次にYアドレス信号はハイレベルとなりデーター人力信
号もハイとなυ再び容量はチャージアップされた後、サ
ンプリングパルスS3によって電流測定が行われる。次
にレーザーがONしてS4によって電流測定が行われる
。ここで82とSlによる電流の差がFETがOFFの
ときの光励起電流であり、S4と33による電流の差が
FETがONのときの光励起電流となる。
Next, the Y address signal becomes high level and the data input signal also becomes high. After the capacitance is charged up again, current measurement is performed using the sampling pulse S3. Next, the laser is turned on and current measurement is performed in S4. Here, the difference between the currents due to 82 and Sl is the photoexcitation current when the FET is OFF, and the difference between the currents due to S4 and 33 is the photoexcitation current when the FET is ON.

次[tlの期間にはPlについて同様の動作を行い順次
この動作が繰シ返される。
During the next [tl period, a similar operation is performed for Pl, and this operation is sequentially repeated.

以上、順次測定される光励起電流はメモリ手段に記憶保
存される。
As described above, the sequentially measured photoexcitation currents are stored and stored in the memory means.

メモリ手段に記憶保存されたデーターは、レーザー照射
位置の光励起電流の大きさに応じて輝度変調され、画像
素子すれば目視的にかつ、記憶素子配置場所に対応させ
てその電流量を評価できる。
The data stored in the memory means is modulated in brightness according to the magnitude of the photoexcitation current at the laser irradiation position, and if an image element is used, the amount of current can be evaluated visually and in accordance with the location where the memory element is placed.

ここで、記憶素子に欠陥があれば光励起電流が正常な記
憶素子に比べて異なってくる為、故障記憶素子を限定す
ることができる。
Here, if there is a defect in the memory element, the photoexcitation current will be different from that of a normal memory element, so it is possible to limit the faulty memory element.

又、前記輝度変調した画像データーを基準画像データー
と比較し、その輝度差を表示してもよい。
Further, the brightness-modulated image data may be compared with reference image data, and the difference in brightness may be displayed.

又、この輝度差が一定値以上ある部分のみ表示すれば、
より効果的な解析が可能となる。
Also, if only the parts where this luminance difference is above a certain value are displayed,
More effective analysis becomes possible.

更に、前述の輝度差が一定値以上ある記憶素子の行列状
の物理的位置を算出、素子することにより、有効な情報
を提供することができる。
Furthermore, effective information can be provided by calculating and determining the physical positions in a matrix of memory elements in which the luminance difference is greater than or equal to a certain value.

又、前記輝度差が一定値以上ある機能素子の数を数える
ことも有効となる。
It is also effective to count the number of functional elements whose luminance difference is greater than a certain value.

発明の効果 以上のように本発明によれば複数の記憶素子がX、Y方
向の行列状に配置された半導体装置の記憶素子単位の評
価、解析、検査を非接触、高速で実現することができる
Effects of the Invention As described above, according to the present invention, evaluation, analysis, and inspection of each memory element of a semiconductor device in which a plurality of memory elements are arranged in rows and columns in the X and Y directions can be realized in a non-contact manner and at high speed. can.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の半導体検査装置の一実施例の概略構成
図、第2図は同装置のレーザー走査手段の概略構成図、
第3図は電子−正孔の流れの説明図、第4図は半導体装
置の構成図、第6図は半導体装置の検査時のタイミング
チャート図である。 10・・・・・・半導体装置、2o・・・・・・レーザ
ー手段、30・・・・・・レーザー走査手段、4Q・・
・・・・電源手段、50・・・・・・光励起電流検出手
段、6Q・・・・・・テスト信号発生手段、7o・・・
・・・タイミング手段。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第3
図 ゲート端子 レーザー光 レーザー光
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of a semiconductor inspection device of the present invention, FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a laser scanning means of the same device,
FIG. 3 is an explanatory diagram of the flow of electrons and holes, FIG. 4 is a configuration diagram of the semiconductor device, and FIG. 6 is a timing chart during inspection of the semiconductor device. 10... Semiconductor device, 2o... Laser means, 30... Laser scanning means, 4Q...
...Power supply means, 50...Photoexcitation current detection means, 6Q...Test signal generation means, 7o...
...timing means. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person No. 3
illustration gate terminal laser light laser light

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)複数の記憶素子がX−Yの行列状に配置され、外
部より入力するアドレス信号によって選択される記憶素
子に外部よりデーターの書き込み、あるいは読み出しを
行うことにより所定の動作をなす半導体装置に対し、前
記半導体装置に電力を供給する電源手段と、前記半導体
装置の入力端子に前記アドレス信号を含むテスト信号を
印加するテスト信号発生手段と、前記アドレス信号と同
期し、かつアドレス信号によって指示される記憶素子の
所定部に対して選択的にレーザー光を照射するレーザー
手段と、前記レーザー照射によって半導体装置内部で光
励起されるキャリヤーによって半導体装置の外部端子に
現れる光励起電流を測定する光励起電流測定手段と、前
記レーザー手段と前記テスト信号発生手段と前記光励起
電流測定手段のタイミング制御を行うタイミング手段と
、前記光励起電流検出手段によつて測定されたデーター
を記憶、保存するメモリー手段とを備えてなる半導体検
査装置。
(1) A semiconductor device in which a plurality of memory elements are arranged in an X-Y matrix and performs a predetermined operation by externally writing or reading data to or from the memory elements selected by an address signal input from the outside. a power supply means for supplying power to the semiconductor device; a test signal generation means for applying a test signal including the address signal to an input terminal of the semiconductor device; a laser means for selectively irradiating a predetermined portion of a storage element with laser light, and a photoexcitation current measurement for measuring a photoexcitation current appearing at an external terminal of the semiconductor device by a carrier that is photoexcited inside the semiconductor device by the laser irradiation. means, timing means for controlling the timing of the laser means, the test signal generating means, and the photoexcitation current measuring means, and a memory means for storing and storing data measured by the photoexcitation current detection means. Semiconductor inspection equipment.
(2)記憶保存された測定データーを輝度変調し選択的
にレーザー照射した前記記憶素子の配置位置に対応させ
て画像表示する表示装置を備えてなる特許請求の範囲第
1項に記載の半導体検査装置。
(2) Semiconductor inspection according to claim 1, comprising a display device that modulates the brightness of stored measurement data and displays an image corresponding to the arrangement position of the storage element selectively irradiated with laser. Device.
(3)輝度変調した画像データーを基準データと比較し
、その差を算出して前記輝度差が一定値以上あるものに
ついて故障であると判定する判定手段を有する特許請求
の範囲第1項に記載の半導体検査装置。
(3) Claim 1, further comprising a determining means for comparing the brightness-modulated image data with reference data, calculating the difference, and determining that the brightness difference is a certain value or more as a failure. semiconductor inspection equipment.
(4)データーの差が一定値以上ある記憶素子部のアド
レスを表示する特許請求の範囲第1項に記載の半導体検
査装置。
(4) The semiconductor inspection device according to claim 1, which displays addresses of memory element portions where the data difference is greater than or equal to a certain value.
JP61136557A 1986-06-12 1986-06-12 Semiconductor inspection device Pending JPS62293628A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02136772A (en) * 1988-11-16 1990-05-25 Tokyo Electron Ltd Optical probing method

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JPH02136772A (en) * 1988-11-16 1990-05-25 Tokyo Electron Ltd Optical probing method

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