JPS6228951B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6228951B2 JPS6228951B2 JP55014168A JP1416880A JPS6228951B2 JP S6228951 B2 JPS6228951 B2 JP S6228951B2 JP 55014168 A JP55014168 A JP 55014168A JP 1416880 A JP1416880 A JP 1416880A JP S6228951 B2 JPS6228951 B2 JP S6228951B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- present
- reaction
- corrosion
- usually
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- -1 aromatic nitro compound Chemical class 0.000 claims description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 13
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 8
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 17
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 3
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N 4-Phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC=C1 JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTSLROIKFLNUIJ-UHFFFAOYSA-N 5-Ethyl-2-methylpyridine Chemical compound CCC1=CC=C(C)N=C1 NTSLROIKFLNUIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=[NH+]C=C1 AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- TUCDKKABEJTXCG-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl) 2-nitrobenzenesulfonate Chemical class [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O TUCDKKABEJTXCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRQWVAWXEBTURS-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl) carbamate Chemical compound NC(=O)OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O FRQWVAWXEBTURS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVHAWXWFPBPFOS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethyl-3-nitrobenzene Chemical group CC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1C FVHAWXWFPBPFOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORPVVAKYSXQCJI-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1Br ORPVVAKYSXQCJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOTKRQAVGJMPNV-UHFFFAOYSA-N 1-fluoro-2,4-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(F)C([N+]([O-])=O)=C1 LOTKRQAVGJMPNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVIRIXVOLLJIPF-UHFFFAOYSA-N 1-nitro-2-(2-nitrophenoxy)benzene Chemical class [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O XVIRIXVOLLJIPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXWVNAOIXKIIJK-UHFFFAOYSA-N 1-nitro-2-(2-nitrophenyl)sulfanylbenzene Chemical class [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1SC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O MXWVNAOIXKIIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJKGJBPXVHTNJL-UHFFFAOYSA-N 1-nitronaphthalene Chemical class C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=CC=CC2=C1 RJKGJBPXVHTNJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYSXLQBUUOPLBB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dinitrotoluene Chemical compound CC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1[N+]([O-])=O DYSXLQBUUOPLBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMBFBMJGBANMMK-UHFFFAOYSA-N 2,4-dinitrotoluene Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O RMBFBMJGBANMMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FILKGCRCWDMBKA-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloropyridine Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=N1 FILKGCRCWDMBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTRDKALNCIHHNI-UHFFFAOYSA-N 2,6-dinitrotoluene Chemical compound CC1=C([N+]([O-])=O)C=CC=C1[N+]([O-])=O XTRDKALNCIHHNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVSTDHRRYQFGI-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC(Cl)=C1 MZVSTDHRRYQFGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKDGRDCXVWSXDC-UHFFFAOYSA-N 2-chloropyridine Chemical compound ClC1=CC=CC=N1 OKDGRDCXVWSXDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAODLNXWYIKSO-UHFFFAOYSA-N 2-fluoropyridine Chemical compound FC1=CC=CC=N1 MTAODLNXWYIKSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTFOFMTUOBLHG-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypyridine Chemical compound COC1=CC=CC=N1 IWTFOFMTUOBLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylpyridine Natural products CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMWKITSNTDAEDT-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C=O CMWKITSNTDAEDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWWHTIHDQBHTHP-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoyl chloride Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C(Cl)=O BWWHTIHDQBHTHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLAZTCDQAHEYBI-UHFFFAOYSA-N 2-nitrotoluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O PLAZTCDQAHEYBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWBYVHWWZMMIOT-UHFFFAOYSA-N 2-phenylsulfanylpyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1SC1=CC=CC=C1 DWBYVHWWZMMIOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWWNNNAOGWPTQY-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobenzenesulfonyl chloride Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(S(Cl)(=O)=O)=C1 MWWNNNAOGWPTQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFZMKDROVBLNY-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O ROFZMKDROVBLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPTVNYMJQHSSEA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrotoluene Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 ZPTVNYMJQHSSEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAHLCBVHPDDF-UHFFFAOYSA-N Dinitrochlorobenzene Chemical class [O-][N+](=O)C1=CC=C(Cl)C([N+]([O-])=O)=C1 VYZAHLCBVHPDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021549 Vanadium(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021551 Vanadium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N anhydrous collidine Natural products CC1=CC=NC(C)=C1C HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940054051 antipsychotic indole derivative Drugs 0.000 description 1
- 229940027991 antiseptic and disinfectant quinoline derivative Drugs 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N collidine Natural products CC1=CC=C(C)C(C)=N1 UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- PHWSCBWNPZDYRI-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-nitrobenzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 PHWSCBWNPZDYRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940032296 ferric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- VLZLOWPYUQHHCG-UHFFFAOYSA-N nitromethylbenzene Chemical compound [O-][N+](=O)CC1=CC=CC=C1 VLZLOWPYUQHHCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNPMXMIWHVZGMJ-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,6-dicarbonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC(C#N)=N1 XNPMXMIWHVZGMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N sym-collidine Natural products CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005186 trinitrobenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000015 trinitrotoluene Substances 0.000 description 1
- JBIQAPKSNFTACH-UHFFFAOYSA-K vanadium oxytrichloride Chemical compound Cl[V](Cl)(Cl)=O JBIQAPKSNFTACH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ITAKKORXEUJTBC-UHFFFAOYSA-L vanadium(ii) chloride Chemical compound Cl[V]Cl ITAKKORXEUJTBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K vanadium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+3] HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
本発明は芳香族ウレタンの製造方法に関するも
のである。 例えば、トリレンジイソシアナートのような芳
香族イソシアナートはポリウレタン原料として有
用なものであり、通常、工業的には芳香族ニトロ
化合物を水素還元して得られる芳香族アミンをホ
スゲンと反応させることにより製造されている。
しかしながら、この方法は工程が複雑であり、ま
た、有害ガスであるホスゲンを使用すること及び
ホスゲン化反応の際に塩化水素が発生し装置腐食
の問題があることなどの欠点を有する。 そのため、近年、ホスゲンを使用しない新しい
イソシアナートの製造法がいくつか提案されてお
り、例えば、芳香族ニトロ化合物を触媒の存在
下、脂肪族低級アルコール及び一酸化炭素と反応
させて対応する芳香族ウレタンを製造し、次い
で、該ウレタンを熱分解することにより芳香族イ
ソシアナートを得る方法が知られている。 しかしながら、この方法では芳香族ウレタンを
製造する場合に、通常、触媒としてパラジウム―
複素環式第三級アミン―ハロゲン化水素を含有す
る触媒を使用する必要があるが、反応系内では高
温高圧下で脂肪族低級アルコール中にハロゲン化
水素が存在する状態となり、反応器に対する腐食
作用が極めて大きくなる。したがつて、例えば、
SUS316などの通常のステンレス製の反応器を使
用した場合には、孔食又は全面腐食が発生する。
また、ステンレスの耐食性を改良した例えば、ハ
ステロイなどの高級材質を使用しても孔食が発生
する。更に、一般的に脂肪族低級アルコール中に
塩化水素が存在するときに、耐食性が高いとされ
ているチタン製反応器(例えば「防蝕技術」
vol.13No.5、1964年、第22〜25頁参照)を使用し
た場合でも、同様に孔食又は応力割れが発生す
る。 そのため、これらの材質を工業的に採用するこ
とは極めて難しく、工業的に安心して使用できる
材質が望まれていた。 本発明者等は上記実情に鑑み、ウレタン化反応
の条件下において腐食を受けない材質を得るべく
種々検討したところ、意外にも、一般的に脂肪族
〓〓〓〓〓
低級アルコール中で塩化水素が存在する場合に、
チタンよりも腐食を受け易いとされているジルコ
ニウムを採用することにより、本発明の反応条件
下では腐食を殆んど受けないことを知見し本発明
を完成した。 すなわち、本発明の要旨は、芳香族ニトロ化合
物を白金族金属―複素環式第三級アミン―ハロゲ
ン化水素を含む触媒の存在下、脂肪族低級アルコ
ール及び一酸化炭素と100〜240℃の温度で1〜
500Kg/cm2の加圧下、反応させて芳香族ウレタン
を製造する方法において、ジルコニウム製の反応
器を用いて反応を行なうことを特徴とする芳香族
ウレタンの製造方法に存する。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明で対象となる芳香族ニトロ化合物として
は、通常、ニトロベンゼン、ニトロトルエン、o
―ニトロ―キシレン、クロロトロベンゼン、ブロ
モニトロベンゼン、ニトロフエニルカルバメー
ト、ニトロアニリール、ニトロベンズアルデヒ
ド、ニトロベンゾイルクロリド、エチル―p―ニ
トロベンゾエート、m―ニトロベンゼンスルホニ
ルクロリド、ニトロ無水フタル酸などのモノニト
ロベンゼン類、ジニトロベンゼン、2,4―又は
2,6―ジニトロトルエン、1―クロロ―2,4
―ジニトロベンゼン、1―フルオロ―2,4―ジ
ニトロベンゼンなどのジニトロベンゼン類、2,
4,6―トリニトロトルエンなどのトリニトロベ
ンゼン類等が挙げられる。また、ニトロナフタレ
ン類、ニトロビフエニ類、ビス(ニトロフエニ
ル)アルカン類、ビス(ニトロフエニル)エーテ
ル類、ビス(ニトロフエニル)チオエーテル類、
ビス(ニトロフエニル)スルホン酸類、ビス(ニ
トロフエノキシ)アルカン類、ヘテロ芳香族ニト
ロ化合物類等も使用することができる。 一方、脂肪族低級アルコールは通常、炭素数1
〜4のアルコールであり、例えば、メタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノールが挙げら
れる。 上述のような芳香族ニトロ化合物とアルコール
との使用割合は、反応上からはニトロ化合物のニ
トロ基1個につき1分子のアルコールが必要であ
るが、本発明の場合には、第三成分としての溶媒
を実質的に使用することなく、アルコールを大過
剰に使用することにより溶媒を兼ねるので、通
常、芳香族ニトロ化合物のニトロ基に対して、2
〜400モル倍、好ましくは5〜50モル倍のアルコ
ールが使用される。 本発明では触媒として、白金族金属―複素環式
第三級アミン―ハロゲン化水素、必要に応じてル
イス酸の含有する触媒が使用される。 白金族金属触媒としては、例えば、パラジウ
ム、ロジウム、ルテニウム、白金、イリジウム、
オスミウム金属又はこれらの塩化物、シアン化
物、チオシアン化物、酸化物、硫酸塩、硝酸塩、
酢酸塩などが挙げられる。金属成分は通常、活性
炭、グラフアイト、珪藻土などの担体に0.2〜5
重量%担持して使用してもよい。この白金族触媒
の使用量は反応液に対して金属として通常、
0.001〜1重量%、好ましくは0.005〜0.1重量%で
ある。 複素環式第三級アミンは通常、ピリジン、クロ
ルピリジン、ブロムピリジン、フルオロピリジ
ン、2,6―ジクロルピリジン、4―フエニルピ
リジン、ピコリン、2―メチル―5―エチルピリ
ジン、2,6―ルチジン、コリジン、2―ビニル
ピリジン、2―クロル―4―メチルピリジン、4
―フエニルチオピリジン、2―メトキシピリジ
ン、2,6―ジシアノピリジン、α―ピコリン酸
フエニル、α―ピコリン酸メチル、α―ピコリン
酸アミドなどのピリジン誘導体、キノリン、クロ
ルキリノン、5,6,7,8―テトラヒドロキリ
ンなどのキノリン誘導体が挙げられる。また、ピ
ロール誘導体、イミダソール誘導体、インドール
誘導体、カルバゾール誘導体なども使用すること
ができる。これら第三級アミンの使用量は通常、
ハロゲン化水素に対して0.1〜20モル、好ましく
は1〜10モルである。 ハロゲン化水素は例えば、塩化水素、臭化水
素、沃化水素であり、通常、ハロゲン化水素その
ものを使用するか、又は上述の第三級アミンの塩
として使用される。また、例えば、白金族金属化
合物―塩化第二鉄―第三級アミンなどの触媒系の
ように、反応系内でハロゲン化水素を生成する化
合物を使用してもよい。ハロゲン化水素の使用量
は通常、反応液に対して0.01〜3重量%、好まし
くは0.1〜1.5重量%である。反応装置の腐食は主
にハロゲン化水素の影響により起るが、本発明の
場合には、前述のハロゲン化水素の使用量では腐
〓〓〓〓〓
食の問題は発生しない。 また、ルイス酸を併用する場合には、例えば、
二塩化バナジウム、三塩化バナジウム、オキシ三
塩化バナジウム、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化
第一銅、塩化第二銅、塩化第二錫、塩化アルミニ
ウム、酢酸銅などの公知のルイス酸触媒を使用す
ることができる。ルイス酸の使用量は通常、白金
族金属原子に対して0.1〜1.000モル、好ましくは
1〜50モルである。 本発明の反応は芳香族ニトロ化合物、脂肪族低
級アルコール及び触媒を反応器に仕込み、一酸化
炭素により加圧して撹拌下、行なうことができ
る。反応温度は100〜240℃、好しくは140〜200℃
であり、圧力は1〜500Kg/cm2、好ましくは20〜
200Kg/cm2である。反応時間は通常、10分〜6時
間である。 本発明ではジルコニウム製の反応器を用いるこ
とを必須の要件とするものであり、通常、使用さ
れる例えば、SUS316などのステンレス、ハステ
ロイ及びチタンなどの材質は使用することができ
ない。一般的に本発明のようなアルコール中にハ
ロゲン化水素が存在する場合には、チタンがジル
コニウムよりも耐食性があると考えられるいた
が、本発明の場合には、逆にチタンが使用でき
ず、ジルコニウムが好ましいと言うことは驚くべ
きことである。 反応終了後の混合物は通常、固体で存在する白
金族触媒を過して分離し、次いで、母液を晶析
することにより芳香族ウレタンの結晶を析出さ
せ、これを過して回収する。また、反応母液は
第三級アミン、ハロゲン化水素などの触媒が含有
されているので、通常、母液をそのまま反応系に
リサイクルし再使用するのが好ましい。 以上、本発明によれば、ジルコニウム製反応器
を使用することにより、反応器の材質腐食が全く
発生しないので、工業的に極めて意義のあるもの
である。 次に、本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。 実施例 10チタン製オートクレーブに2,4―ジニト
ロトルエン250g、モレキユラーシーブスで脱水
したエタノール2000mlを仕込み、更に、活性炭に
2wt%で担持した金属パラジウム33.3g、オキシ
三塩化パナジウム4.73g、ピリジン塩酸塩34.88
g及びピリジン6.48gを仕込み、この混合物中に
第1表に示す各材質の試験片(30×50×2m/
m)をセツトし、次いで、反応系内をN2ガスで
置換し、140℃に昇温したのち、系内に一酸化炭
素を80Kg/cm2Gまで圧入し、160℃に昇温して6
時間、反応を行なつた。 反応終了後、オートクレーブを放冷、放圧し、
反応性生成液を取り出し、この生成液を高速液体
クロマトグラフにより分析したところ、2,4―
ジニトロトルエンの転化率は100%であり、ま
た、目的生成物である芳香族ジウレタンの収率は
92%であつた。 一方、反応器内にセツトした各試験片を取り出
し、腐食状態を調べたところ第1表に示す結果を
得た。
のである。 例えば、トリレンジイソシアナートのような芳
香族イソシアナートはポリウレタン原料として有
用なものであり、通常、工業的には芳香族ニトロ
化合物を水素還元して得られる芳香族アミンをホ
スゲンと反応させることにより製造されている。
しかしながら、この方法は工程が複雑であり、ま
た、有害ガスであるホスゲンを使用すること及び
ホスゲン化反応の際に塩化水素が発生し装置腐食
の問題があることなどの欠点を有する。 そのため、近年、ホスゲンを使用しない新しい
イソシアナートの製造法がいくつか提案されてお
り、例えば、芳香族ニトロ化合物を触媒の存在
下、脂肪族低級アルコール及び一酸化炭素と反応
させて対応する芳香族ウレタンを製造し、次い
で、該ウレタンを熱分解することにより芳香族イ
ソシアナートを得る方法が知られている。 しかしながら、この方法では芳香族ウレタンを
製造する場合に、通常、触媒としてパラジウム―
複素環式第三級アミン―ハロゲン化水素を含有す
る触媒を使用する必要があるが、反応系内では高
温高圧下で脂肪族低級アルコール中にハロゲン化
水素が存在する状態となり、反応器に対する腐食
作用が極めて大きくなる。したがつて、例えば、
SUS316などの通常のステンレス製の反応器を使
用した場合には、孔食又は全面腐食が発生する。
また、ステンレスの耐食性を改良した例えば、ハ
ステロイなどの高級材質を使用しても孔食が発生
する。更に、一般的に脂肪族低級アルコール中に
塩化水素が存在するときに、耐食性が高いとされ
ているチタン製反応器(例えば「防蝕技術」
vol.13No.5、1964年、第22〜25頁参照)を使用し
た場合でも、同様に孔食又は応力割れが発生す
る。 そのため、これらの材質を工業的に採用するこ
とは極めて難しく、工業的に安心して使用できる
材質が望まれていた。 本発明者等は上記実情に鑑み、ウレタン化反応
の条件下において腐食を受けない材質を得るべく
種々検討したところ、意外にも、一般的に脂肪族
〓〓〓〓〓
低級アルコール中で塩化水素が存在する場合に、
チタンよりも腐食を受け易いとされているジルコ
ニウムを採用することにより、本発明の反応条件
下では腐食を殆んど受けないことを知見し本発明
を完成した。 すなわち、本発明の要旨は、芳香族ニトロ化合
物を白金族金属―複素環式第三級アミン―ハロゲ
ン化水素を含む触媒の存在下、脂肪族低級アルコ
ール及び一酸化炭素と100〜240℃の温度で1〜
500Kg/cm2の加圧下、反応させて芳香族ウレタン
を製造する方法において、ジルコニウム製の反応
器を用いて反応を行なうことを特徴とする芳香族
ウレタンの製造方法に存する。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明で対象となる芳香族ニトロ化合物として
は、通常、ニトロベンゼン、ニトロトルエン、o
―ニトロ―キシレン、クロロトロベンゼン、ブロ
モニトロベンゼン、ニトロフエニルカルバメー
ト、ニトロアニリール、ニトロベンズアルデヒ
ド、ニトロベンゾイルクロリド、エチル―p―ニ
トロベンゾエート、m―ニトロベンゼンスルホニ
ルクロリド、ニトロ無水フタル酸などのモノニト
ロベンゼン類、ジニトロベンゼン、2,4―又は
2,6―ジニトロトルエン、1―クロロ―2,4
―ジニトロベンゼン、1―フルオロ―2,4―ジ
ニトロベンゼンなどのジニトロベンゼン類、2,
4,6―トリニトロトルエンなどのトリニトロベ
ンゼン類等が挙げられる。また、ニトロナフタレ
ン類、ニトロビフエニ類、ビス(ニトロフエニ
ル)アルカン類、ビス(ニトロフエニル)エーテ
ル類、ビス(ニトロフエニル)チオエーテル類、
ビス(ニトロフエニル)スルホン酸類、ビス(ニ
トロフエノキシ)アルカン類、ヘテロ芳香族ニト
ロ化合物類等も使用することができる。 一方、脂肪族低級アルコールは通常、炭素数1
〜4のアルコールであり、例えば、メタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノールが挙げら
れる。 上述のような芳香族ニトロ化合物とアルコール
との使用割合は、反応上からはニトロ化合物のニ
トロ基1個につき1分子のアルコールが必要であ
るが、本発明の場合には、第三成分としての溶媒
を実質的に使用することなく、アルコールを大過
剰に使用することにより溶媒を兼ねるので、通
常、芳香族ニトロ化合物のニトロ基に対して、2
〜400モル倍、好ましくは5〜50モル倍のアルコ
ールが使用される。 本発明では触媒として、白金族金属―複素環式
第三級アミン―ハロゲン化水素、必要に応じてル
イス酸の含有する触媒が使用される。 白金族金属触媒としては、例えば、パラジウ
ム、ロジウム、ルテニウム、白金、イリジウム、
オスミウム金属又はこれらの塩化物、シアン化
物、チオシアン化物、酸化物、硫酸塩、硝酸塩、
酢酸塩などが挙げられる。金属成分は通常、活性
炭、グラフアイト、珪藻土などの担体に0.2〜5
重量%担持して使用してもよい。この白金族触媒
の使用量は反応液に対して金属として通常、
0.001〜1重量%、好ましくは0.005〜0.1重量%で
ある。 複素環式第三級アミンは通常、ピリジン、クロ
ルピリジン、ブロムピリジン、フルオロピリジ
ン、2,6―ジクロルピリジン、4―フエニルピ
リジン、ピコリン、2―メチル―5―エチルピリ
ジン、2,6―ルチジン、コリジン、2―ビニル
ピリジン、2―クロル―4―メチルピリジン、4
―フエニルチオピリジン、2―メトキシピリジ
ン、2,6―ジシアノピリジン、α―ピコリン酸
フエニル、α―ピコリン酸メチル、α―ピコリン
酸アミドなどのピリジン誘導体、キノリン、クロ
ルキリノン、5,6,7,8―テトラヒドロキリ
ンなどのキノリン誘導体が挙げられる。また、ピ
ロール誘導体、イミダソール誘導体、インドール
誘導体、カルバゾール誘導体なども使用すること
ができる。これら第三級アミンの使用量は通常、
ハロゲン化水素に対して0.1〜20モル、好ましく
は1〜10モルである。 ハロゲン化水素は例えば、塩化水素、臭化水
素、沃化水素であり、通常、ハロゲン化水素その
ものを使用するか、又は上述の第三級アミンの塩
として使用される。また、例えば、白金族金属化
合物―塩化第二鉄―第三級アミンなどの触媒系の
ように、反応系内でハロゲン化水素を生成する化
合物を使用してもよい。ハロゲン化水素の使用量
は通常、反応液に対して0.01〜3重量%、好まし
くは0.1〜1.5重量%である。反応装置の腐食は主
にハロゲン化水素の影響により起るが、本発明の
場合には、前述のハロゲン化水素の使用量では腐
〓〓〓〓〓
食の問題は発生しない。 また、ルイス酸を併用する場合には、例えば、
二塩化バナジウム、三塩化バナジウム、オキシ三
塩化バナジウム、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化
第一銅、塩化第二銅、塩化第二錫、塩化アルミニ
ウム、酢酸銅などの公知のルイス酸触媒を使用す
ることができる。ルイス酸の使用量は通常、白金
族金属原子に対して0.1〜1.000モル、好ましくは
1〜50モルである。 本発明の反応は芳香族ニトロ化合物、脂肪族低
級アルコール及び触媒を反応器に仕込み、一酸化
炭素により加圧して撹拌下、行なうことができ
る。反応温度は100〜240℃、好しくは140〜200℃
であり、圧力は1〜500Kg/cm2、好ましくは20〜
200Kg/cm2である。反応時間は通常、10分〜6時
間である。 本発明ではジルコニウム製の反応器を用いるこ
とを必須の要件とするものであり、通常、使用さ
れる例えば、SUS316などのステンレス、ハステ
ロイ及びチタンなどの材質は使用することができ
ない。一般的に本発明のようなアルコール中にハ
ロゲン化水素が存在する場合には、チタンがジル
コニウムよりも耐食性があると考えられるいた
が、本発明の場合には、逆にチタンが使用でき
ず、ジルコニウムが好ましいと言うことは驚くべ
きことである。 反応終了後の混合物は通常、固体で存在する白
金族触媒を過して分離し、次いで、母液を晶析
することにより芳香族ウレタンの結晶を析出さ
せ、これを過して回収する。また、反応母液は
第三級アミン、ハロゲン化水素などの触媒が含有
されているので、通常、母液をそのまま反応系に
リサイクルし再使用するのが好ましい。 以上、本発明によれば、ジルコニウム製反応器
を使用することにより、反応器の材質腐食が全く
発生しないので、工業的に極めて意義のあるもの
である。 次に、本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。 実施例 10チタン製オートクレーブに2,4―ジニト
ロトルエン250g、モレキユラーシーブスで脱水
したエタノール2000mlを仕込み、更に、活性炭に
2wt%で担持した金属パラジウム33.3g、オキシ
三塩化パナジウム4.73g、ピリジン塩酸塩34.88
g及びピリジン6.48gを仕込み、この混合物中に
第1表に示す各材質の試験片(30×50×2m/
m)をセツトし、次いで、反応系内をN2ガスで
置換し、140℃に昇温したのち、系内に一酸化炭
素を80Kg/cm2Gまで圧入し、160℃に昇温して6
時間、反応を行なつた。 反応終了後、オートクレーブを放冷、放圧し、
反応性生成液を取り出し、この生成液を高速液体
クロマトグラフにより分析したところ、2,4―
ジニトロトルエンの転化率は100%であり、ま
た、目的生成物である芳香族ジウレタンの収率は
92%であつた。 一方、反応器内にセツトした各試験片を取り出
し、腐食状態を調べたところ第1表に示す結果を
得た。
【表】
〓〓〓〓〓
Claims (1)
- 1 芳香族ニトロ化合物を白金族金属―複素環式
第三級アミン―ハロゲン化水素を含む触媒の存在
下、脂肪族低級アルコール及び一酸化炭素と100
〜240℃の温度で1〜500Kg/cm2の加圧下、反応さ
せて芳香族ウレタンを製造する方法において、ジ
ルコニウム製の反応器を用いて反応を行なうこと
を特徴とする芳香族ウレタンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1416880A JPS56110659A (en) | 1980-02-07 | 1980-02-07 | Preparation of aromatic urethane |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1416880A JPS56110659A (en) | 1980-02-07 | 1980-02-07 | Preparation of aromatic urethane |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56110659A JPS56110659A (en) | 1981-09-01 |
JPS6228951B2 true JPS6228951B2 (ja) | 1987-06-23 |
Family
ID=11853604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1416880A Granted JPS56110659A (en) | 1980-02-07 | 1980-02-07 | Preparation of aromatic urethane |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS56110659A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2532267B2 (ja) * | 1988-02-18 | 1996-09-11 | 日本写真印刷株式会社 | 積層回路基板 |
-
1980
- 1980-02-07 JP JP1416880A patent/JPS56110659A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56110659A (en) | 1981-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3993685A (en) | Process for the production of urethanes | |
US4297501A (en) | Process for the preparation of urethanes | |
EP0000563B1 (en) | Process for preparing aromatic urethanes | |
US4186269A (en) | Process for producing an aromatic urethane | |
US4134880A (en) | Process for producing an aromatic urethane from nitro compounds, hydroxyl compounds and carbon monoxide using metal-Lewis acid-ammonia catalyst systems | |
Ugo et al. | Catalysis by palladium salts: XIII. The reductive carbonylation of nitroaromatic compounds to isocyanates with PdII and Pd0 complexes as homogeneous catalysts | |
US4236016A (en) | Process for the preparation of urethanes | |
JPS6228951B2 (ja) | ||
CA1133009A (en) | Process for the preparation of urethane | |
US4469882A (en) | Process for the production of aromatic carbamates | |
US4629804A (en) | Process for preparation of urethanes | |
JPS60502209A (ja) | ウレタンの製造方法 | |
JPH0529349B2 (ja) | ||
JPS5811942B2 (ja) | 芳香族ウレタンの精製方法 | |
US3812169A (en) | Preparation of aromatic isocyanates in a tubular reactor | |
US3600419A (en) | Preparation of aromatic isocyanates | |
EP0029460B1 (en) | Process for preparing aromatic urethane | |
JPS61191665A (ja) | 芳香族カルバミド酸アリ−ルエステルの製造法 | |
JPS6259253A (ja) | 尿素類の製造方法 | |
JPS6318939B2 (ja) | ||
JPS61191664A (ja) | 芳香族カルバミド酸アリ−ルエステルの製法 | |
JPS6121467B2 (ja) | ||
JPS6360960A (ja) | 芳香族ジイソシアネ−トの製造法 | |
JPH0328416B2 (ja) | ||
JPS61191666A (ja) | 芳香族カルバミド酸アリ−ルエステルの製造方法 |