JPS62287637A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPS62287637A
JPS62287637A JP61130351A JP13035186A JPS62287637A JP S62287637 A JPS62287637 A JP S62287637A JP 61130351 A JP61130351 A JP 61130351A JP 13035186 A JP13035186 A JP 13035186A JP S62287637 A JPS62287637 A JP S62287637A
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JP
Japan
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test mode
circuit
pad
input
integrated circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP61130351A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Kamata
忠 鎌田
Seiichiro Otake
精一郎 大竹
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Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62287637A publication Critical patent/JPS62287637A/en
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Abstract

PURPOSE:To enable a semiconductor wafer to be screened as it is by means of providing an input pad for commanding test mode setting. CONSTITUTION:A power supply 14 is connected to a power supply pad 11 by mounting a semiconductor wafer 12 on an electrode plate 13. When a pad 15 for commanding test mode setting is impressed with a negative voltage using a jig 16, a transistor 171 on a test mode throwing circuit 17 is turned on. Then, the level of an output signal line 172 from said circuit 17 is lowered to set up a burn-in mode; an input.output processing circuit 19 is actuated; a clock signal is transmitted by an oscillating circuit 21 to be inputted in an inner circuit (a). Thus, respective clips are screened before they are packaged.

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 [産業上の利用分野コ この発明は、半導体回路装置の製造過程において1、特
にウェハの状態でスクリーニング(バーイン)を実行で
きるようにする半導体集積回路装置に関する。
Detailed Description of the Invention 3. Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] This invention is directed to 1. Particularly, a method for manufacturing a semiconductor device that allows screening (burn-in) to be performed in the wafer state in the manufacturing process of semiconductor circuit devices. The present invention relates to integrated circuit devices.

[従来の技術] 半導体集積回路の検査を行なうスクリーニング(通称は
バーンイン)は、半導体チップの組立て工程を終了し、
パッケージで封止した後にプリント基板等に搭載して行
なうのが一般的である。そして、例えば特開昭55−1
i0067号公報に記載されるように、このようなテス
トを実行するに好適となるるように半導体装置も構成さ
れるようにしているものである。この場合、さらに各種
の外付部品を用いて、半導体回路を実動作と同様の状態
に設定してバーンインを実行するようにしている。
[Prior Art] Screening (commonly known as burn-in), which tests semiconductor integrated circuits, is performed after the assembly process of semiconductor chips is completed.
Generally, the device is sealed in a package and then mounted on a printed circuit board or the like. For example, JP-A-55-1
As described in the i0067 publication, a semiconductor device is also configured to be suitable for executing such a test. In this case, burn-in is performed by using various external components to set the semiconductor circuit in a state similar to that in actual operation.

しかし、このようにしたのではバーレインの数量に限界
が生ずるものであり、検査コスト、この検査のための設
備コストが増大するようになってしまうものである。
However, if this is done, there will be a limit to the quantity of verhein, and the cost of inspection and the cost of equipment for this inspection will increase.

[発明が解決しようとする問題点] この発明は上記のような点に鑑みなされたもので、半導
体回路装置がチップ状態に分離され、さらにパッケージ
される前のウェハ状態で、効果的にバーンイン可能にす
ると共に、さらに実動作に近い状態で効率的にバーンイ
ンできるようにする半導体集積回路装置を提供しようと
するものである。
[Problems to be Solved by the Invention] This invention has been made in view of the above points, and it is possible to effectively burn-in a semiconductor circuit device in a wafer state before it is separated into chips and further packaged. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device that can perform burn-in efficiently in a state closer to actual operation.

[問題点を解決するための手段] すなわち、この発明に係る半導体集積回路装置にあって
は、テストモード設定指令のための入力バンドを備える
ものであり、このパッドに特定される電圧によるテスト
モード指令が入力されると、テストモード指令信号を発
生するテストモード投入回路を設定する。そして、テス
トモード設定状態で、集積回路部に電源を設定すると共
に、クロック信号発生部、さらに出力処理手段に動作指
令が与えられるようにし、上記電源の設定された内部回
路をテスト動作させるようにしているものである。
[Means for Solving the Problems] That is, the semiconductor integrated circuit device according to the present invention is provided with an input band for a test mode setting command, and a test mode is set by a voltage specified to this pad. When a command is input, a test mode input circuit is set that generates a test mode command signal. Then, in the test mode setting state, a power supply is set to the integrated circuit section, and an operation command is given to the clock signal generation section and further to the output processing means, so that the internal circuit to which the power supply is set is put into test operation. It is something that

[作用] 上記のような半導体集積回路装置にあっては、チップ状
態に分離する前のウェハの状態で、上記入力パッドに特
定されるテストモード設定用の電圧信号を治具を用いて
供給するようにすれば、各チップに形成された半導体回
路がウェハ単位で検査できるようになるものであり、実
装後のスクリーニングを省略することができるようにな
るものである。
[Operation] In the semiconductor integrated circuit device as described above, a jig is used to supply a voltage signal for setting a test mode specified to the input pad in a wafer state before separation into chip states. By doing so, the semiconductor circuits formed on each chip can be inspected on a wafer-by-wafer basis, and screening after mounting can be omitted.

[発明の実施例] 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。[Embodiments of the invention] Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は半導体ウニ/%に設定されるチップの1つに対
応する部分の回路を示すものであり、電源電圧を印加す
る電源パッド11を備える。このパッド11は、例えば
半導体ウェハ12の裏面部に設定されるものであり、第
2図で示すようにバーンイン時に電極板13上に設置す
ることによって、電源14が接続されるようになるもの
である。
FIG. 1 shows a circuit of a portion corresponding to one of the chips set to semiconductor uni/%, and includes a power supply pad 11 to which a power supply voltage is applied. This pad 11 is set, for example, on the back surface of the semiconductor wafer 12, and is connected to the power source 14 by being placed on the electrode plate 13 during burn-in, as shown in FIG. be.

第2図において、(A)図は半導体ウェハ12を示すも
ので、このウェハ12は複数のチップ121.122、
・・・に分割されるものであり、この半導体ウェハ12
のまま同図(B)で示すように電極板13上に載置され
るようになるもので、上記ウエノ112の裏面に電源バ
ッド11を構成゛する電極膜が形成されているものであ
る。
In FIG. 2, (A) shows a semiconductor wafer 12, which includes a plurality of chips 121, 122,
..., and this semiconductor wafer 12
It is placed on the electrode plate 13 as shown in FIG. 2B, and an electrode film constituting the power supply pad 11 is formed on the back surface of the wafer 112.

そして、上記半導体ウェハ12の表面側には、各チップ
それぞれに対応してテストモード入力用のパッド15が
形成されるもので、このパッド15には上記電極板13
上に載置された半導体ウニ/\12に対面するように設
定される治具1Bに設定した電極プローブ161が接続
されるようになっている。
On the front side of the semiconductor wafer 12, a pad 15 for test mode input is formed corresponding to each chip, and this pad 15 is provided with the electrode plate 13.
An electrode probe 161 is connected to the jig 1B, which is set to face the semiconductor urchin/\12 placed above.

すなわち、このテストモード設定用のパッド15には、
テストモードを設定する場合に例えば特殊な負電圧を印
加するものであり、このパッド15に負電圧が印加され
ると、テストモード投入回路17のトランジスタ171
がオンされるようになるものであり、電源用パッド11
に接続された半導体回路部18に電源が供給設定される
ようになるものである。この回路g18は、この半導体
集積回路の実動作のために必要な回路部分である。
That is, on this test mode setting pad 15,
When setting the test mode, for example, a special negative voltage is applied, and when a negative voltage is applied to this pad 15, the transistor 171 of the test mode input circuit 17
is turned on, and the power supply pad 11
Power is set to be supplied to the semiconductor circuit section 18 connected to the semiconductor circuit section 18 . This circuit g18 is a circuit portion necessary for the actual operation of this semiconductor integrated circuit.

上記テストモード投入回路17にあっては、出力信号線
172を抵抗183によってプルアップし、トランジス
タ171がオフ状態のときには出力信号線172にハイ
レベルの信号が出力されるようになっている。そして、
パッド15に負電圧が印加され、トランジスタ171が
オンされることによって、信号線L72にローレベルの
テストモード(バーンインモード)設定指令信号が出力
されるようになっている。
In the test mode input circuit 17, the output signal line 172 is pulled up by a resistor 183, so that a high level signal is output to the output signal line 172 when the transistor 171 is in an off state. and,
By applying a negative voltage to the pad 15 and turning on the transistor 171, a low-level test mode (burn-in mode) setting command signal is output to the signal line L72.

上記出力信号線172からの出力信号は、入出力処理回
路19を構成するP型MOSトランジスタ191のゲー
トに供給されるもので、信号線171の信号がローレベ
ルとなると、上記トランジスタ161をオンして、信号
入力パッド20をプルアップするようになる。そして、
このパッド20から半導体の内部回路部における信号の
入出力処理が実行されるようにするものである。
The output signal from the output signal line 172 is supplied to the gate of the P-type MOS transistor 191 constituting the input/output processing circuit 19. When the signal on the signal line 171 becomes low level, the transistor 161 is turned on. As a result, the signal input pad 20 is pulled up. and,
This pad 20 is used to perform signal input/output processing in the internal circuit section of the semiconductor.

また、上記出力信号線172からの信号は、発振回路2
1に供給される。この発振回路21は、ノアゲート21
1、インバータ212、スリーステートインバータ21
3、抵抗214.215 、容!21B+、:よッテ構
成されるものであり、信号線172がローレベルとなる
ことによってクロック信号を発振するようになり、クロ
ック入力パッド22にクロック信号が供給されるように
なる。そして、このクロック信号は半導体内部回路部に
動作クロック信号として供給される。
Further, the signal from the output signal line 172 is transmitted to the oscillation circuit 2.
1. This oscillation circuit 21 includes a NOR gate 21
1. Inverter 212, three-state inverter 21
3, resistance 214.215, yong! When the signal line 172 becomes low level, a clock signal is oscillated, and the clock signal is supplied to the clock input pad 22. This clock signal is then supplied to the semiconductor internal circuit section as an operating clock signal.

すなわち、上記のように構成される半導体集積回路装置
においては、チップに分離される前のウェハ12の状態
でバーレインが行われるもので、第2図で示したように
半導体ウェハ12を電極板13上に載置することによっ
て、電源用パッド11に電源が接続設定されるようにす
る。このような状態で適当な治具16を用いてテストモ
ード設定指令用のパッド15に負電圧を印加すると、テ
ストモード投入回路17のトランジスタ171がオンさ
れる。そして、このテストモード投入回路17からの出
力信号線172がローレベルとなり、バーンインモード
が設定されるもので、入出力処理回路19が動作状態と
なり、発振回路2でクロック信号が発生され、この発振
クロック信号が内部回路に入力されるようになる。
That is, in the semiconductor integrated circuit device configured as described above, the wafer 12 is subjected to the burraining process before being separated into chips, and the semiconductor wafer 12 is placed on the electrode plate 13 as shown in FIG. By placing it on top, the power supply pad 11 is connected to the power supply. In this state, when a negative voltage is applied to the test mode setting command pad 15 using an appropriate jig 16, the transistor 171 of the test mode input circuit 17 is turned on. Then, the output signal line 172 from the test mode input circuit 17 becomes low level, and the burn-in mode is set, the input/output processing circuit 19 becomes operational, the oscillation circuit 2 generates a clock signal, and the oscillation A clock signal is now input to the internal circuit.

すなわち、電源電圧を第2図で示したような状態で半導
体ウェハ12の裏面より与えるようにし、テストモード
投入用の負電圧を、プローブコンタクトあるいは導電性
ゴム等を用いたコンタクト機構によって、パッド15を
介して各チップに与えるようにすることによって、その
チップのバーンインに必要な状態、例えば入力端子のプ
ルアップ、動作クロック信号の内部発生等が自動的に実
行されるようになる。
That is, the power supply voltage is applied from the back side of the semiconductor wafer 12 in the state shown in FIG. By supplying the signal to each chip via the chip, the conditions necessary for burn-in the chip, such as pulling up input terminals and internally generating an operating clock signal, can be automatically executed.

そして、各チップはパッケージされる前に、またウェハ
の状態であるときに、一般にダイナミックバーンインと
呼ばれる実動作に近いスクリーニングが実行されるよう
になるものである。
Before each chip is packaged or when it is in the wafer state, a screening process generally called dynamic burn-in that closely resembles actual operation is performed.

[発明の効果] 以上のようにこの発明に係る半導体集積回路装置にあっ
ては、チップ化されパッケージされる前の半導体ウェハ
の状態°において、各チップの動作状態を実動作に近い
状態で検査することかできるものであり、半導体の製造
工程、特にスクリーニング工程を充分に簡略化して実行
できるようになるものである。特に、上記スクリーニン
グを実行するチップ数が充分に大きな数量まで簡単に実
行できるものであり、この種半導体集積回路装置の信頼
性の向上のためにも大きな効果が発揮されるものである
[Effects of the Invention] As described above, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the operating state of each chip can be inspected in a state close to actual operation in the state of the semiconductor wafer before it is made into chips and packaged. This makes it possible to sufficiently simplify the semiconductor manufacturing process, especially the screening process. In particular, the above-mentioned screening can be easily performed up to a sufficiently large number of chips, and a great effect is exhibited in improving the reliability of this type of semiconductor integrated circuit device.

【図面の簡単な説明】 第1図はこの発明の一実施例に係る半導体集積回路装置
の1つのチップ部分を取出して示したバーンイン制御部
の回路構成図、第2図の(A)は上記バーンインを行な
う半導体ウェハを示す図、第2図(B)は上記ウェハの
バーンイン時の設定状態を説明する側面から見た図であ
る。 11・・・電源用パッド、12・・・半導体ウェハ、1
3・・・電極板、14・・・電源、15・・・テストモ
ード指令用のパッド、16・・・治具、17・・・テス
トモード投入回路、18・・・半導体回路部、19・・
・入出力処理回路、20・・・信号入力パッド、21・
・・発振回路。
[BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS] FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a burn-in control section showing one chip part of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention, and (A) of FIG. FIG. 2B is a diagram showing a semiconductor wafer undergoing burn-in, and is a side view illustrating the setting state of the wafer during burn-in. 11... Power supply pad, 12... Semiconductor wafer, 1
3... Electrode plate, 14... Power supply, 15... Pad for test mode command, 16... Jig, 17... Test mode input circuit, 18... Semiconductor circuit section, 19...・
・Input/output processing circuit, 20...Signal input pad, 21・
...Oscillation circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 テストモード設定時に特定される電圧信号を与えるため
のモード設定用の入力パッドと、上記パッドに上記特定
される電圧信号が与えられた状態でテストモード指令信
号が発生されるようにするテストモード投入回路と、 このテストモード投入回路のテストモード設定状態で電
源電圧が設定されるようにした内部集積回路部と、 上記テストモード投入回路からのテストモード指令信号
によって動作状態に設定される入出力処理手段を含む動
作指令手段とを具備し、 上記パッドに特定されるテストモード指定の電圧信号が
与えられ、テストモード投入回路のテストモードの設定
指令状態で、上記内部集積回路部の動作状態の検査が実
行されるようにしたことを特徴とする半導体集積回路装
置。
[Claims] A mode setting input pad for giving a voltage signal specified when setting a test mode, and a test mode command signal being generated with the specified voltage signal being applied to the pad. an internal integrated circuit section that sets the power supply voltage in the test mode setting state of this test mode entry circuit; and operation command means including an input/output processing means to be set, and when a voltage signal specifying a specified test mode is applied to the pad, and the test mode input circuit is in a test mode setting command state, the internal integrated circuit 1. A semiconductor integrated circuit device, wherein an inspection of the operating state of a component is performed.
JP61130351A 1986-06-06 1986-06-06 Semiconductor integrated circuit device Pending JPS62287637A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6358953A (en) * 1986-08-29 1988-03-14 Fujitsu Ltd Integrated circuit
US5219765A (en) * 1990-09-12 1993-06-15 Hitachi, Ltd. Method for manufacturing a semiconductor device including wafer aging, probe inspection, and feeding back the results of the inspection to the device fabrication process

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