JPS62277729A - ドライエツチング装置 - Google Patents
ドライエツチング装置Info
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- JPS62277729A JPS62277729A JP12047486A JP12047486A JPS62277729A JP S62277729 A JPS62277729 A JP S62277729A JP 12047486 A JP12047486 A JP 12047486A JP 12047486 A JP12047486 A JP 12047486A JP S62277729 A JPS62277729 A JP S62277729A
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- Japan
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- gas
- waste
- exhaust duct
- etching chamber
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- Pending
Links
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ウェハー（以下ウェハーという）の製造
装置、特にウェハーをドライエツチング処理する半導体
ウェハー製造装置に関するものである。
装置、特にウェハーをドライエツチング処理する半導体
ウェハー製造装置に関するものである。
ウェハーのドライエツチング処理工程は、反応性ガスと
して三塩化ボロン（Ｂ（１，）、四塩化炭素（ＣＣＱ４
）、塩素（ＣＱＺ）などを使用しグロー放電プラズマ中
にてウェハーをエツチング処理する工程である。
して三塩化ボロン（Ｂ（１，）、四塩化炭素（ＣＣＱ４
）、塩素（ＣＱＺ）などを使用しグロー放電プラズマ中
にてウェハーをエツチング処理する工程である。
従来、反応性ガスＣＢＣＱ、、 ＣＣＱ４． ＣＱ、な
ど）を使用するドライエツチング装置として第２図に示
すごとき構成のエツチング装置が使用されている。
ど）を使用するドライエツチング装置として第２図に示
すごとき構成のエツチング装置が使用されている。
第２図に示すドライエツチング装置はエツチングチャン
バー１と、チャンバー１内に設置されたグロー放電プラ
ズマ発生用上部電極２及び下部電極３と、電極２，３に
高周波電力を供給するＲＦ電源５と、前記エツチングチ
ャンバー１内に反応性ガスを導入するガス供給管９と１
反応性ガス流散をコントロールするマスフロー８と、エ
ツチングチャンバー１を排気するメカニカルブースタポ
ンプ６及びロータリポンプ７と、前記ロータリポンプ７
の排気処理を行う排気ダクト１５とから構成されていた
。
バー１と、チャンバー１内に設置されたグロー放電プラ
ズマ発生用上部電極２及び下部電極３と、電極２，３に
高周波電力を供給するＲＦ電源５と、前記エツチングチ
ャンバー１内に反応性ガスを導入するガス供給管９と１
反応性ガス流散をコントロールするマスフロー８と、エ
ツチングチャンバー１を排気するメカニカルブースタポ
ンプ６及びロータリポンプ７と、前記ロータリポンプ７
の排気処理を行う排気ダクト１５とから構成されていた
。
ところで、未反応のエツチングガス及びエツチング時発
生した生成物が排気ダクト１５に吸引される。ここで、
未反応のエツチングガス特にＢＣＱ 。
生した生成物が排気ダクト１５に吸引される。ここで、
未反応のエツチングガス特にＢＣＱ 。
（三塩化ボロン）が排気ダクト内にて特に空気中に含ま
れる水分と反応して多量の粉状のホウ酸が発生するため
、排気ダクト１５の詰まり等を起こすことになる。
れる水分と反応して多量の粉状のホウ酸が発生するため
、排気ダクト１５の詰まり等を起こすことになる。
このような場合に従来は設備を一時停止させ、排気ダク
トに洗浄液を吹き付けて洗浄を行っていたため、装置の
稼動率が悪いばかりでなく、点検作業に莫大な経費を要
していた。排気ダクト内の詰まりは反応ガスの使用量に
左右されるものであるが、従来は反応ガスの使用量に基
づく点検作業が行われておらず、したがって定期点検時
期に達する前に反応ガスの大量使用に伴って排気ダクト
内が異常に詰まり、排気能力を低下させて装置に支障を
与えてしまうという危険性があった。
トに洗浄液を吹き付けて洗浄を行っていたため、装置の
稼動率が悪いばかりでなく、点検作業に莫大な経費を要
していた。排気ダクト内の詰まりは反応ガスの使用量に
左右されるものであるが、従来は反応ガスの使用量に基
づく点検作業が行われておらず、したがって定期点検時
期に達する前に反応ガスの大量使用に伴って排気ダクト
内が異常に詰まり、排気能力を低下させて装置に支障を
与えてしまうという危険性があった。
本発明の目的は反応ガスの使用量に基づく定期点検を可
能にするドライエツチング装置を提供することにある。
能にするドライエツチング装置を提供することにある。
本発明はグロー放電プラズマ発生用電極を有するエツチ
ングチャンバに接続された排気ダクト内の廃ガスを吸着
捕集する廃ガス処理部と、前記エツチングチャンバ内に
供給される反応ガスの供給量を積算する積算ガス流量計
と、供給ガスの積算量が設定値に達したときに信号を出
力する検知部と、検知部の出力信号により排気ダクトの
点検時期を報知するアラームコントローラとを有するこ
とを特徴とするドライエツチング装置である。
ングチャンバに接続された排気ダクト内の廃ガスを吸着
捕集する廃ガス処理部と、前記エツチングチャンバ内に
供給される反応ガスの供給量を積算する積算ガス流量計
と、供給ガスの積算量が設定値に達したときに信号を出
力する検知部と、検知部の出力信号により排気ダクトの
点検時期を報知するアラームコントローラとを有するこ
とを特徴とするドライエツチング装置である。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、エツチングチャンバー１内に対をなす
上□両電極２と下部電極３とを設置し、両電極２，３に
ＲＦ電源５を接続する。チャンバー１より導出した排気
ダクト１５には真空排気するメカニカルブースタポンプ
６とロータリポンプ７とを設置し、廃ガス処理部１３を
垂直姿勢で排気ダクト１５に接続し、廃ガス処理部１３
の前後に開閉弁１７ａ、１７ｂを設ける。廃ガス処理部
１３の出口側はメインの排気ダクト１４に接続される。
上□両電極２と下部電極３とを設置し、両電極２，３に
ＲＦ電源５を接続する。チャンバー１より導出した排気
ダクト１５には真空排気するメカニカルブースタポンプ
６とロータリポンプ７とを設置し、廃ガス処理部１３を
垂直姿勢で排気ダクト１５に接続し、廃ガス処理部１３
の前後に開閉弁１７ａ、１７ｂを設ける。廃ガス処理部
１３の出口側はメインの排気ダクト１４に接続される。
前記廃ガス処理部１３内には廃ガスを吸着捕集する吸着
剤１６を充填する。
剤１６を充填する。
一方、エツチングチャンバー１にはマスフロー８を備え
たガス供給管９を接続し、供給ガス量を積算する積算ガ
ス流量計１０をガス供給管９に設置する。さらに、積算
ガス流量計１０の指示値が予め設定された積算量に達し
たときにこれを検知して信号を出力する。検知部１１と
、検知部１１の出力を得て排気ダクト１５を点検する時
期に至ったことを報知するアラームコントローラ１２と
を備えている。
たガス供給管９を接続し、供給ガス量を積算する積算ガ
ス流量計１０をガス供給管９に設置する。さらに、積算
ガス流量計１０の指示値が予め設定された積算量に達し
たときにこれを検知して信号を出力する。検知部１１と
、検知部１１の出力を得て排気ダクト１５を点検する時
期に至ったことを報知するアラームコントローラ１２と
を備えている。
実施例において、エツチングチャンバー１から排気され
た廃ガスは排気ダクト１５に設けられた廃ガス処理部１
３の下部から上部に向けて流動し、廃ガス特に未反応Ｂ
ＣＱ ３ が吸着剤１６に吸着捕集され、浄化される。
た廃ガスは排気ダクト１５に設けられた廃ガス処理部１
３の下部から上部に向けて流動し、廃ガス特に未反応Ｂ
ＣＱ ３ が吸着剤１６に吸着捕集され、浄化される。
一方、積算ガス流量計１０はエツチングチャンバー１に
供給されるガス量を積算し、設定値に達したときにアラ
ームコントローラ１２は検知部１１の信号を受けて警灯
、警報などによって排気ダクトの点検時期に達したこと
を報知する。アラームコントローラ１２からの報知によ
り作業者は廃ガス処理部１３の開閉弁１７ａ 、 １７
ｂを閉じて処理部１３内の吸着剤１６の詰め替えを行い
、その終了後に開閉弁１７ａ。
供給されるガス量を積算し、設定値に達したときにアラ
ームコントローラ１２は検知部１１の信号を受けて警灯
、警報などによって排気ダクトの点検時期に達したこと
を報知する。アラームコントローラ１２からの報知によ
り作業者は廃ガス処理部１３の開閉弁１７ａ 、 １７
ｂを閉じて処理部１３内の吸着剤１６の詰め替えを行い
、その終了後に開閉弁１７ａ。
１７ｂを開き作業を完了させる。
以上説明したように本発明はドライエツチング処理時に
排出された廃ガスを吸着剤にて吸着処理し１反応ガスの
使用総量に基づいて廃ガス処理部の交換時期を判定する
ようにしたので、メインダクトの詰まりゃそれに伴う排
気能力の低下等の危険性を防止でき、又、排気処理に対
する経費も大幅に節約することができる。又、定期的に
実施しなければならない洗浄、ガスボンベ交換等も積算
流量により正確な頻度の指定を行うことができる。
排出された廃ガスを吸着剤にて吸着処理し１反応ガスの
使用総量に基づいて廃ガス処理部の交換時期を判定する
ようにしたので、メインダクトの詰まりゃそれに伴う排
気能力の低下等の危険性を防止でき、又、排気処理に対
する経費も大幅に節約することができる。又、定期的に
実施しなければならない洗浄、ガスボンベ交換等も積算
流量により正確な頻度の指定を行うことができる。
以上のように本発明によれば、安全面及び経費の節約等
に資する効果は大である。
に資する効果は大である。
第１図は本発明によるドライエツチング装置を示す概略
図、第２図は従来のドライエツチング装置を示す概略図
である。
図、第２図は従来のドライエツチング装置を示す概略図
である。
Claims (1)
- （１）グロー放電プラズマ発生用電極を有するエッチン
グチャンバに接続された排気ダクト内の廃ガスを吸着捕
集する廃ガス処理部と、前記エッチングチャンバ内に供
給される反応ガスの供給量を積算する積算ガス流量計と
、供給ガスの積算量が設定値に達したときに信号を出力
する検知部と、検知部の出力信号により排気ダクトの点
検時期を報知するアラームコントローラとを有すること
を特徴とするドライエッチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12047486A JPS62277729A (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | ドライエツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12047486A JPS62277729A (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | ドライエツチング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62277729A true JPS62277729A (ja) | 1987-12-02 |
Family
ID=14787069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12047486A Pending JPS62277729A (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | ドライエツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62277729A (ja) |
-
1986
- 1986-05-26 JP JP12047486A patent/JPS62277729A/ja active Pending
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