KR101542428B1 - 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치에 관한 것으로 특히, 프로세스 챔버와 필터, 진공펌프 및 트랩으로 구성되는 공지의 잔류 셀레늄 포집장치에 있어서, 상기 트랩을 원통형 바디와, 인너 컬렉팅 타워, 바디 내장용 히터, 아울렛 커버, 배기가스 안내관, 복수의 바디 외장용 히터 및 셀레늄 배출 단속밸브로 구성하고, 상기 트랩에는 별도의 컨트롤러를 연결한 것을 특징으로 한다.
따라서, 프로세스 챔버에서 배출되거나 공정 케미칼 자체가 진공펌프 측으로 직접 바이패스되는 과정에서 배기 라인이나 진공펌프 내에서 반응하여 파우더 형태로 형성됨으로 인해 발생되는 배관 막힘이나 진공펌프의 효율저하 문제 및 진공펌프의 불시정지 등의 문제를 해결할 수 있고, 진공펌프의 불시 정지 같은 문제는 생산도중 일어날 경우 생산품의 불량으로 인한 폐기, 장비 가동율 저하 등의 큰 경제적 손실을 가져올 수 있는 문제점을 해결할 수 있어 반도체 제조에 따른 생산비용을 대폭 절감할 수 있다.

Description

반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치{Intercepting Apparatus For Residual Selenium In The Process Of Manufacturing Semi-conductors}
본 발명은 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치에 관한 것으로 보다 구체적으로는 반도체(특히 태양전지) 제조 공정에서 사용된 후 배출되는 각종 케미칼(Chemical) 중 주기율표 16족에 4주기에 속하는 산소족원소의 하나로 원소기호는 Se, 녹는점 221℃, 끓는점은 685℃의 특성을 갖고 프로세스 챔버(Process Chamber)에서 배출되는 잔류 셀레늄(Selenium) 기체를 트랩을 통해 포집하여 액상으로 변환한 후 캐니스터(Canister)에 저장 및 보호할 수 있도록 발명한 것이다.
즉, 반도체 제조 공정에서 발생되는 부산물인 셀레늄을 재활용할 수 있도록 공정 후의 잔류 가스를 액체나 고체상태로 포집 및 저장할 수 있도록 발명한 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조 공정에서 사용되고 있는 프로세스 챔버는 반도체 전공정에서 실제로 웨이퍼의 공정이 이루어지고, 진공펌프는 진공상태에서 공정을 진행하기 위하여 프로세스 챔버로부터 가스를 흡입하여 챔버의 진공을 유지하며, 스크러버는 배기 전에 필터링이 필요한 유독가스 등을 거르거나 집진하는 장치를 말한다.
그런데 이와 같은 반도체 제조장치를 이용하여 반도체를 제조하는 공정에서는 인체에 치명적인 각종 유독성, 부식성, 인화성 가스를 다량으로 사용한다.
예를 들어 화학기상성장법(CVD: Chemical Vapor Deposition) 공정에서는 다량의 실란, 디클로로 실란, 암모니아, 산화질소, 아르신, 포스핀, 디보론, 보론, 트리클로라이드 등을 사용하는바, 이들은 반도체 공정 중 미량만이 소비되고, 잉여 배출되는 폐가스는 비교적 고농도의 유독물질을 함유하고 있다.
또한, 저압 CVD공정, 플라즈마 강화 CVD, 플라즈마 에칭, 에피택시 증착 등과 같은 여러 반도체 공정들에서도 각종의 유독성 폐가스인 부산물이 생성된다.
이러한 부산물인 폐가스 처리는 최근 들어 환경에 대한 관심이 증대됨에 따라, 중요문제로 대두 되고 있으며 현재 이러한 폐가스를 대기중에 방출하기 전에 폐가스의 유독성 물질을 제거하는 것이 환경적으로 법적으로 의무화되어 있다.
이러한 차원에서 반도체 제조공정으로부터 유출되는 폐가스를 처리하기 위한 다양한 방법들이 연구되고 실용화되어 오긴 했으나, 현재까지 개발된 폐가스 처리장치는 그다지 만족할만한 성능과 효과를 거두지 못하였을 뿐만 아니라 많은 결함을 안고 있다.
한편, 프로세스를 위하여 챔버로 유입된 가스는 일부만 공정에 사용되고 나머지는 배기 되는데, 이러한 가스는 배기과정에서 배기라인이나 진공펌프에서 반응하여 파우더를 형성하고 이로 인해 배관 막힘이나 진공펌프의 불시 정지 같은 문제가 생산도중 일어날 경우 생산품의 불량으로 인한 폐기, 장비 가동률 저하 등의 큰 경제적 손실을 가져올 수 있다.
이를 막기 위하여, 현재 진공펌프가 멈추기 전에 주기적으로 펌프 자체를 교체하는 작업이 이루어지고 있고, 사용 후의 펌프에 대하여서는 세정이나 수리가 실시된다.
특히, 반도체 중 태양전지를 제조하는데 사용되는 셀레늄의 경우 고가의 소스로 프로세스에서 사용되는 양보다 배기되어 버려지는 양이 훨씬 많기 때문에 경제적 손실이 크다.
즉, 고체 상태의 셀레늄은 압력을 가하거나 열을 가하여 기체 상태로 만든 후 챔버로 유입시켜 공정에 사용하게 되는데, 챔버로 유입되어 사용 후 남은 셀레늄은 기체 상태 혹은 고체상태로 펌프로 유입되어 반응하거나 파우더를 형성하여 문제를 일으킬 수 있으므로 기체 상태의 셀레늄에 상대적으로 낮은 온도공급 및 가스유로를 제어하여 다시 액체나 고체상태로 만든 후 이를 저장하여 재활용할 필요가 있는 실정이다.
대한민국 등록특허공보 10-1024504호(2011년 03월 17일) 대한민국 등록특허공보 10-0676927호(2007년 01월 25일) 대한민국 등록특허공보 10-0647725호(2006년 11월 13일)
본 발명은 이와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 프로세스 챔버와 잔류 가스 배출용 진공펌프 사이에 히터와 냉각장치를 구비하고 가스 상태의 셀레늄을 액체상태로 변화시켜 주는 트랩을 설치하되, 상기 트랩의 저부에는 히터를 구비하고 트랩을 통해 포집되는 셀레늄을 저장하는 캐스터를 설치하여 반도체(특히 태양전지) 제조 공정에서 사용된 후 배출되는 각종 케미칼 중 잔류 셀레늄을 액상으로 원활히 포집 및 저장하여 재활용할 수 있도록 함으로써 프로세스 챔버에서 배출되거나 공정 케미칼 자체가 진공펌프 측으로 직접 바이패스되는 과정에서 배기 라인이나 진공펌프 내에서 반응하여 파우더 형태로 형성됨으로 인해 발생되는 배관 막힘이나 진공펌프의 효율저하 문제 및 진공펌프의 불시정지 등의 문제를 해결할 수 있고, 진공펌프의 불시 정지 같은 문제는 생산도중 일어날 경우 생산품의 불량으로 인한 폐기, 장비 가동율 저하 등의 큰 경제적 손실을 가져올 수 있는 문제점을 해결할 수 있어 반도체 제조에 따른 생산비용을 대폭 절감할 수 있는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 상기 트랩의 저부에 설치되는 캐니스터는 트랩의 저부에서 착탈 가능하도록 설치하되, 상기 트랩 저부의 드레인 파이프와 캐니스터 입구의 셀레늄 유입 파이프에는 각각 밸브를 설치하여 트랩을 통해 액화시켜 캐니스터로 포집 및 저장한 셀레늄의 량이 정해진 량이 되면 각각의 밸브를 닫고 해당 캐니스터만 트랩으로부터 별도로 분리하여 새로운 캐니스터로 교체할 수 있도록 함으로써 트랩은 지속적으로 사용하면서 캐니스터만 교체해주면 되므로 공정의 중단없이 포집된 셀레늄을 회수하여 재사용할 수 있어 공정 중단에 따른 경제적 손실을 방지할 수 있음은 물론 반도체 제조에 따른 생산비용을 대폭 절감할 수 있는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 캐니스터와 컨트롤러를 캐스터가 구비된 이동수단의 상면에 설치하여 비교적 중량체인 컨트롤러 및 캐니스터의 이동성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 인건비 등을 대폭 절감할 수 있고, 특히 위험물인 셀레늄이 저장되는 캐니스터의 교환 및 이동시 안전성을 대폭 확보할 수 있는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치를 제공하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명 장치는, 셀레늄을 포함하는 공정 케미칼을 유입 받아 반도체 전공정에서 실제로 웨이퍼의 공정을 실시하는 프로세스 챔버와; 상기 프로세스 챔버에서 배출된 다음 트랩을 통과한 후에도 가스 형태를 갖고 진공펌프 측으로 유입되는 공정 케미칼 내에 포함되어 있는 입자성분을 포집하는 필터와; 상기 필터와 트랩을 통해 프로세스 챔버로부터 가스를 흡입하여 챔버의 진공을 유지하는 진공펌프와; 상기 프로세스 챔버와 진공펌프 사이에 설치되어 진공펌프 측으로 유입되는 부산물인 셀레늄에 반응을 일으켜 액상 또는 파우더로 포집하는 트랩이 구비된 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치에 있어서, 상기 트랩을, 상부에 프로세스 챔버와 연결되는 케미칼 유입공이 형성되고, 저면에 복수의 다리가 설치된 하판에는 상기 진공펌프와 연결되는 폐가스 배출구와 액상 또는 파우더 형태로 포집된 셀레늄이 배출되는 드레인 파이프가 구비된 원통형 바디와; 정해진 간격을 두고 배치되는 복수의 수직봉에 복수의 타공판이 수직방향에 대해 정해진 간격을 두고 경사지게 고정 설치된 형태를 갖고 상기 원통형 바디의 일측부에 착탈 가능하게 설치되어 기체상태의 셀레늄이 액상 또는 파우더 형태로 변화되며 원통형 바디 바닥 측으로 흘러내리도록 하는 인너 컬렉팅 타워(Inner Collecting Tower)와; 상기 원통형 바디 내 바닥면과 상기 인너 켈렉팅 타워의 저면 사이에 착탈 가능하게 설치된 상태에서 컨트롤러의 제어를 받아 상기 원통형 바디 내에서 이미 액상으로 변환된 셀레늄이 파우더 또는 고체화되지 않고 액상의 상태를 유지하도록 하는 바디 내장용 히터와; 상면이 막히고 트인 저면 내측 일부에는 가스 유입구가 형성된 반 원통체 형상을 갖고 상기 원통형 바디 내에서 인너 켈렉팅 타워에 인접되게 설치되어 액상 또는 파우더 형태로 변화되지 않은 일부 셀레늄 가스를 진공펌프와 연결된 배기가스 안내관 측으로 안내하는 가스 배기유로를 형성시켜 주는 아울렛 커버(Outlet Cover)와; 상기 아울렛 커버 내부에서 원통형 바디의 폐가스 배출구에 수직방향으로 결합되어 상기 아울렛 커버를 통해 유도되는 셀레늄 가스가 진공펌프 측으로 배출되게 하는 배기가스 안내관과; 상기 원통형 바디의 외주면과 저면에 각각 착탈 가능하게 설치된 상태에서 컨트롤러의 제어를 받아 상기 바디의 내부온도가 기체상태의 셀레늄을 액체상태로 변환하는데 필요한 정해진 온도를 유지하도록 하는 복수의 바디 외장용 히터와; 상기 원통형 바디의 외부에서 드레인 파이프에 고정 설치되어 상기 원통형 바디 내에서 액상 또는 파우더 형태로 포집된 셀레늄의 배출을 단속하는 셀레늄 배출 단속밸브;로 구성하되, 상기 트랩과 별개로 상기 바디 내장 및 외장용 히터에 공급되는 전원전압을 제어하는 컨트롤러를 더 설치한 것을 특징으로 한다.
또, 상기 원통형 바디의 하판 외측에는 상기 컨트롤러의 파워케이블을 전기적으로 결합 및 분리할 수 있도록 하는 파워 케이블 박스를 더 설치한 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 아울렛 커버의 상면과 상기 원통형 바디의 외면에는 하나 또는 다수의 손잡이를 더 구비시킨 것을 특징으로 한다.
또, 상기 원통형 바디의 상,하 플랜지에 각각 기밀 유지용 오링을 설치하기 위한 링 삽입홈을 형성하고, 상기 원통형 바디의 상,하부에는 상기 기밀 유지용 오링의 열화 및 경화를 방지하기 위해 외부의 냉각수 공급관을 통해 공급되는 냉각수가 흐르도록 하는 냉각수 유도홈을 각각 더 형성한 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 트랩의 드레인 파이프에 착탈 가능하게 결합된 셀레늄 배출 단속밸브 출구에 트랩을 통해 포집되어 배출되는 액상 또는 파우더 상태의 셀레늄을 받아 저장하는 캐니스터를 벨로우즈를 통해 착탈 가능하게 더 설치한 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 캐니스터는 상부 개구부 주연부에 플랜지가 구비된 사각용기 형태를 갖는 하우징과; 상기 하우징 내부에 착탈 가능하게 설치되어 트랩을 통해 포집되어 배출되는 액상 또는 파우더 상태의 셀레늄을 저장하는 컬렉팅 포트와; 셀레늄 유입 파이프 및 복수의 손잡이를 구비하고 상기 하우징의 상면 개구부에 다수의 볼트를 통해 착탈 가능하게 설치되는 탑 플레이트와; 상기 탑 플레이트의 셀레늄 유입 파이프 단부에 고정 설치되어 트랩에서 캐니스터 내로 유입되거나 캐니스터 내에 저장된 액상 또는 파우더 형태의 셀레늄 유입 및 배출을 단속하는 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브;로 구성한 것을 특징으로 한다.
또, 상기 캐니스터의 하우징 외주면과 탑 플레이트에는 상기 컨트롤러의 제어를 받아 상기 캐니스터의 내부온도가 정해진 온도를 유지하여 액체상태의 셀레늄이 고화되는 것을 방지하도록 하는 복수의 캐니스터 가열용 히터를 착탈 가능하게 더 설치한 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 셀레늄 배출 단속밸브와 벨로우즈 및 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브의 외측에도 상기 컨트롤러의 제어를 받아 발열하여 그 내부를 흐르는 액체 및 파우더 상태의 셀레늄이 고화되는 것을 방지하는 복수의 밸브 및 벨로우즈 가열용 히터를 착탈 가능하게 더 설치한 것을 특징으로 한다.
또, 상기 캐니스터의 탑 플레이트에는 컬렉팅 포트 내로 포집 저장된 셀레늄의 포집 량을 육안으로 확인할 수 있도록 하는 투시창을 더 설치한 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 캐니스터의 탑 플레이트 내부에는 컬렉팅 포트 내로 포집 저장되는 셀레늄의 포집 량을 전기적인 신호로 검출하는 수위센서를 더 설치하고, 상기 캐니스터의 탑 플레이트 외부에는 상기 수위센서에서 정해진 한계수위를 검출할 때 경보음을 발생시키는 부저를 더 설치한 것을 특징으로 한다.
또, 상기 캐니스터의 컬렉팅 포트 바닥면과 내면 사이에는 컬렉팅 포트 내로 포집되어 저장되던 셀레늄이 온도저하로 인해 파우더 형태로 고화되었을 때 외부로 쉽게 빼낼 수 있도록 직 삼각형 형상을 갖는 복수의 셀레늄 배출 안내편을 정해진 간격을 두고 일체로 더 돌출 성형한 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 컨트롤러 및 캐니스터는, 받침판의 일측 상방부로 손잡이가 구비되고, 저면에는 복수의 캐스터와 고정구가 구비된 구성을 갖는 캐니스터 이동수단 상면에 착탈 가능하게 설치하고, 상기 캐니스터는 사각 프레임에 캐니스터 안착판이 구비됨과 동시에 상기 캐니스터 안착판의 전면 또는 후면에 손잡이가 구비되며, 상기 사각 프레임의 저면 모서리부에는 굴음단속수단이 구비된 캐스터가 구비된 구성을 갖는 캐니스터 이동수단의 상면에 착탈 가능하게 설치한 것을 특징으로 한다.
또, 상기 컨트롤러 이동수단의 받침판과 상기 캐니스터 이동수단의 프레임이 일직선을 이루도록 일면이 접촉되게 밀착 설치하되, 상호 밀착된 받침판과 프레임의 양 측면에서 서로 반대방향으로 고정편을 각각 돌출 성형하고, 상기 고정편에 천공된 볼트 통과공을 통해 볼트를 받침판 및 프레임에 결합하는 형태를 통해 캐니스터 및 컨트롤러 이동수단을 상호 착탈 가능하게 일체로 고정할 수 있도록 한 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 하우징의 플랜지 상면을 포함하여 상기 플랜지와 접촉되는 탑 플레이트의 저면에는 각각 기밀 유지용 오링을 설치하기 위한 링 삽입홈을 더 형성한 것을 특징으로 한다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치에 의하면, 프로세스 챔버와 잔류 가스 배출용 진공펌프 사이에 히터와 냉각장치를 구비하고 가스 상태의 셀레늄을 액체상태로 변화시켜 주는 트랩을 설치하되, 상기 트랩의 저부에는 히터를 구비하고 트랩을 통해 포집되는 셀레늄을 저장하는 캐스터를 설치하여 반도체(특히 태양전지) 제조 공정에서 사용된 후 배출되는 각종 케미칼 중 잔류 셀레늄을 액상으로 원활히 포집 및 저장하여 재활용할 수 있도록 함으로써 프로세스 챔버에서 배출되거나 공정 케미칼 자체가 진공펌프 측으로 직접 바이패스되는 과정에서 배기 라인이나 진공펌프 내에서 반응하여 파우더 형태로 형성됨으로 인해 발생되는 배관 막힘이나 진공펌프의 효율저하 문제 및 진공펌프의 불시정지 등의 문제를 해결할 수 있고, 진공펌프의 불시 정지 같은 문제는 생산도중 일어날 경우 생산품의 불량으로 인한 폐기, 장비 가동율 저하 등의 큰 경제적 손실을 가져올 수 있는 문제점을 해결할 수 있어 반도체 제조에 따른 생산비용을 대폭 절감할 수 있다.
또, 상기 트랩의 저부에 설치되는 캐니스터는 트랩의 저부에서 착탈 가능하도록 설치하되, 상기 트랩 저부의 드레인 파이프와 캐니스터 입구의 셀레늄 유입 파이프에는 각각 밸브를 설치하여 트랩을 통해 액화시켜 캐니스터로 포집 및 저장한 셀레늄의 량이 정해진 량이 되면 각각의 밸브를 닫고 해당 캐니스터만 트랩으로부터 별도로 분리하여 새로운 캐니스터로 교체할 수 있도록 함으로써 트랩은 지속적으로 사용하면서 캐니스터만 교체해주면 되므로 공정의 중단없이 포집된 셀레늄을 회수하여 재사용할 수 있어 공정 중단에 따른 경제적 손실을 방지할 수 있음은 물론 반도체 제조에 따른 생산비용을 대폭 절감할 수 있다.
또한, 캐니스터와 컨트롤러를 캐스터가 구비된 이동수단의 상면에 설치하여 비교적 중량체인 컨트롤러 및 캐니스터의 이동성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 인건비 등을 대폭 절감할 수 있고, 특히 위험물인 셀레늄이 저장되는 캐니스터의 교환 및 이동시 안전성을 대폭 확보할 수 있는 등 매우 유용한 발명인 것이다.
도 1은 본 발명 장치의 개략적인 블록 구성도.
도 2는 본 발명 장치 중 트랩의 분해 사시도.
도 3은 본 발명 장치 중 캐니스터의 분해 사시도.
도 4는 본 발명 장치의 결합상태 사시도.
도 5는 본 발명 장치의 전체 분해 사시도.
도 6은 본 발명 장치의 결합상태 일측면도.
도 7은 본 발명 장치의 결합상태 평면도.
도 8은 본 발명 장치 트랩의 종단면도.
도 9는 본 발명 장치 캐니스터의 종단면도.
도 10은 본 발명 장치 중 컨트롤러 이동수단 및 캐니스터 이동수단의 결합 상태 사시도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명 장치의 개략적인 블록 구성도를 나타낸 것이고, 도 2는 본 발명 장치 중 트랩의 분해 사시도를 나타낸 것이며, 도 3은 본 발명 장치 중 캐니스터의 분해 사시도를 나타낸 것이고, 도 4는 본 발명 장치의 결합상태 사시도를 나타낸 것이며, 도 5는 본 발명 장치의 전체 분해 사시도를 나타낸 것이다.
또한, 도 6은 본 발명 장치의 결합상태 일측면도를 나타낸 것이고, 도 7은 본 발명 장치의 결합상태 평면도를 나타낸 것이며, 도 8은 본 발명 장치 트랩의 종단면도를 나타낸 것이고, 도 9는 본 발명 장치 캐니스터의 종단면도를 나타낸 것이며, 도 10은 본 발명 장치 중 컨트롤러 이동수단 및 캐니스터 이동수단의 결합 상태 사시도를 나타낸 것이다.
이에 따르면 본 발명 장치는 도 1 내지 도 9에 도시한 바와 같이 프로세스 챔버(1)와 필터(2), 진공펌프(3) 및 트랩(4)으로 구성되는 공지의 잔류 셀레늄 포집장치에 있어서, 상기 트랩(4)을 원통형 바디(41)와, 인너 컬렉팅 타워(42), 바디 내장용 히터(43), 아울렛 커버(44), 배기가스 안내관(45), 복수의 바디 외장용 히터(46) 및 셀레늄 배출 단속밸브(47)로 구성하고, 상기 트랩(4)에는 별도의 컨트롤러(5)를 연결하여 반도체 제조 공정에서 발생하는 각종 부산물 중 셀레늄을 재활용할 수 있도록 공정 후의 잔류 가스를 액체나 고체상태로 포집 및 저장할 수 있도록 한 것을 기본적인 주요기술 구성요소로 한다.
이때, 공지된 잔류 셀레늄 포집장치의 구성요소 중 프로세스 챔버(1)는 셀레늄을 포함하는 공정 케미칼을 유입 받아 반도체 전공정에서 실제로 웨이퍼의 공정을 실시하는 기능을 수행하고, 상기 필터(2)는 프로세스 챔버(1)에서 배출된 다음 트랩(4)을 거친 후에도 가스 형태를 갖고 진공펌프(3) 측으로 유입되는 공정 케미칼 내에 포함되어 있는 입자성분을 포집하여 진공펌프(3)의 손상 및 고장을 방지하는 기능을 수행하게 된다.
또, 상기 진공펌프(3)는 필터(2)와 트랩(4)을 통해 프로세스 챔버(1)로부터 가스를 흡입하여 챔버의 진공을 유지해 주는 기능을 수행하고, 상기 트랩(4)은 프로세스 챔버(1)와 진공펌프(3) 사이에 설치되어 진공펌프(3) 측으로 유입되는 부산물인 셀레늄에 반응을 일으켜 액상 또는 파우더 형태로 포집하는 기능을 수행하게 된다.
한편, 본 발명에서 제시한 트랩(4)의 구성요소 중 상기 원통형 바디(41)는 도 2 및 도 8에 도시한 바와 같이 상,하부에 플랜지가 각각 구비되어 있고, 상기 상부 플랜지 내측(즉 원통형 바디(41)의 상부 개구부)에는 프로세스 챔버(1)와 직접 연통되는 케미칼 유입공(411)이 형성되어 있으며, 하부 플랜지에 일체로 형성되거나 또는 착탈 가능하게 설치되는 하판(412)의 저면에는 복수의 다리(412-a)가 정해진 간격을 두고 설치됨은 물론 상기 진공펌프(3)와 연결되는 폐가스 배출구(412-b)와 액상 또는 파우더 형태로 포집된 셀레늄이 중력에 또는 강제로 배출되는 드레인 파이프(412-c)가 구비된 구성을 갖는다.
또, 상기 인너 컬렉팅 타워(42)는 정해진 간격을 두고 배치되는 복수의 수직봉(421)에 복수의 타공판(422)이 수직방향에 대해 정해진 간격을 두고 경사지게 고정 설치된 구성을 갖고, 상기 원통형 바디(41)의 일측부에 착탈 가능하게 설치된 상태에서 프로세스 챔버(1)로부터 대략 400℃ 온도의 기체상태로 유입되는 셀레늄 중 액상 또는 파우더 형태로 변화된 셀레늄이 복수의 타공판(422)을 순차적으로 타고 상기 원통형 바디(41)의 바닥 측으로 흘러내리도록 하는 기능을 수행하게 된다.
또한, 상기 바디 내장용 히터(43)는 상기 원통형 바디(41) 내 바닥면과 상기 인너 켈렉팅 타워(42)의 저면 사이에 착탈 가능하게 설치된 상태에서, 후술하는 컨트롤러(5)에서 공급되는 전압에 대응하여 온도를 갖도록 발열하며 상기 원통형 바디(41) 내에서 이미 액상으로 변환된 셀레늄이 파우더 또는 고체화되지 않고 액상의 상태를 유지하도록 하는 기능을 수행하게 된다.
또, 상기 아울렛 커버(44)는 상면이 막히고 트인 저면 내측 일부에는 가스 유입구(441)가 형성된 반 원통체 형상의 구성을 갖고 상기 원통형 바디(41) 내에서 인너 켈렉팅 타워(42)에 인접되게 설치되어 상기 원통형 바디(41) 내에서 액상이나 파우더 형태로 변환되지 않고 가스 형태를 그대로 유지하는 일부 셀레늄 가스가 상기 가스 유입구(441)를 통해 자체의 내부로 유입된 다음 후술하는 배기가스 안내관(45)을 통해 상기 진공펌프(3) 측으로 배출되도록 안내하는 기능 즉, 가스 배기유로를 형성시켜 주는 기능을 수행하게 된다.
또한, 상기 배기가스 안내관(45)은 상기 아울렛 커버(44)의 높이보다는 낮ㅇ은 형태를 갖고 상기 아울렛 커버(44) 내부에서 원통형 바디(41)의 폐가스 배출구(412-b)에 저부가 삽입되어 고정되도록 수직방향으로 결합된 구성을 갖고, 상기 아울렛 커버(44) 내측으로 유도되는 셀레늄 가스가 진공펌프(3) 측으로 배출되도록 안내하는 기능을 수행하게 된다.
또, 상기 복수의 바디 외장용 히터(46)는 도 5에 도시한 바와 같이 상기 원통형 바디(41)의 외주면과 저면의 형상에 대응하는 형상을 갖게 복수 개로 제작되어 상기 원통형 바디(41)의 외주면과 저면에 각각 착탈 가능하게 설치된 구성을 갖고, 후술하는 컨트롤러(5)에서 공급되는 전원전압에 대응하는 제어를 받으며 상기 원통형 바디(41)의 내부온도가 기체상태의 셀레늄을 액체상태로 변환하는데 필요한 정해진 온도(예를 들어 200~300℃)를 유지하도록 원통형 바디의 외측을 가열시켜 주는 기능을 수행하게 된다.
또한, 상기 셀레늄 배출 단속밸브(47)는 도 4 내지 도 7에에 도시한 바와 같이 상기 원통형 바디(41)의 외부로 돌출된 상기 드레인 파이프(412-c)의 단부에 고정 설치된 구성을 갖고, 필요에 따라 사용자에 의해 개폐되며 상기 원통형 바디(41) 내에서 액상 또는 파우더 형태로 포집된 형태를 갖는 셀레늄의 배출을 차단하거나, 외부 또는 후술하는 캐니스터(6) 측으로 배출시켜 주는 기능을 수행하게 된다.
또, 상기 컨트롤러(5)는 도 4, 도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이 상기한 트랩(4)과 별개로 제작된 구성을 갖고, 상기 원통형 바디(41)의 내,외부에 각각 설치되어 있는 바디 내장 및 외장용 히터(43)(46)에 공급되는 전원전압을 제어하여 상기 원통형 바디(41) 내의 온도를 정해진 온도로 유지시켜 줄 수 있도록 하는 기능을 수행하게 된다.
이 밖에도 본 발명에서는 상기 원통형 바디(41)의 하판(412) 외측에 도 2와 같이 파워 케이블 박스(413)를 부가 설치하여 상기 컨트롤러(5)의 파워케이블을 상기한 내장 및 외장용 히터(43)(46)에 직접 연결하지 않고 상기 파워 케이블 박스(413)를 통해 전기적으로 원활히 상호 연결하거나 분리시킬 수 있도록 하였다.
또한, 본 발명에서는 상기 아울렛 커버(44)의 상면과 상기 원통형 바디(41)의 외면에는 하나 또는 다수의 손잡이(442)(414)를 더 구비시켜 줌으로써 상기 아울렛 커버(44)를 상기 원통형 바디(41)로부터 분리하거나 원통형 바디(41) 내부로 설치할 때 상기 손잡이(442)를 잡고 편리하게 분리 및 설치할 수 있음은 물론 중량체인 상기 트랩(4)을 이동시키고자 할 때 상기 원통형 바디(41)의 외면에 설치한 손잡이(414)들을 잡고 원활히 이동시킬 수 있다.
또, 본 발명에서는 상기 원통형 바디(41)의 상,하 플랜지에는 각각 링 삽입홈(415)을 형성하여 기밀 유지용 오링(416)을 설치하여 줌으로써 상기 원통형 바디(41)의 상,하 플랜지에 각각 프로세스 챔버(1) 및 하판(412)을 결합하였을 때 접촉부 사이의 기밀을 유지시켜 줄 수 있다.
뿐만 아니라, 본 발명에서는 상기 원통형 바디(41)의 상,하부에 외부의 냉각수 공급관(417)과 연결되는 냉각수 유도홈(418)을 각각 더 형성하여 줌으로써 정해진 온도(예를 들어 200~300℃)를 유지하는 상기 트랩(4)의 내부온도에 의해 상기 기밀 유지용 오링(416)이 열화되거나 경화되는 것 자체를 방지할 수 있어 상기 원통형 바디(41)의 상,하 플랜지와 프로세스 챔버(1) 및 하판(412) 사이의 결합부에 대한 기밀을 지속적으로 유지시킬 수 있다.
한편, 본 발명에서는 상기한 구성요소 이외에도 상기 트랩(4)의 드레인 파이프(412-c)에 착탈 가능하게 결합된 셀레늄 배출 단속밸브(47)의 출구에 캐니스터(6)를 관과 종단 이음관과의 상대적인 축 방향 움직임을 허용하면서 그 사이의 가스 또는 액체물을 밀폐시켜 주는 벨로우즈(7)를 통해 착탈 가능하게 더 설치하여, 상기 트랩(4)을 통해 포집되어 배출되는 액상 또는 파우더 상태의 셀레늄을 상기 캐니스터(6)를 통해 받아 저장하였다가 차후 재사용할 수 있도록 하였다.
이때, 상기 캐니스터(6)는 도 3 및 도 9와 같이 기본적으로 하우징(61)과 컬렉팅 포트(62), 탑 플레이트(63) 및 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브(64)로 구성한 형태를 갖는다.
상기한 캐니스터(6)의 구성요소 중 상기 하우징(61)은 상부 개구부 주연부에 플랜지(611)가 구비된 사각용기 형태를 갖고 외부 케이스의 기능을 수행한다.
또, 상기 컬렉팅 포트(62)는 상기 하우징(61)과 마찬가지로 상부가 개구된 사각용기의 형태를 갖고 상기 하우징(61) 내부에 착탈 가능하게 설치된 형태에서 트랩(4)을 통해 포집되어 배출되는 액상 또는 파우더 상태의 셀레늄을 저장하는 기능을 수행하게 된다.
또한, 상기 탑 플레이트(63)는 사각 판체 형상을 가짐은 물론 셀레늄 유입 파이프(631) 및 복수의 손잡이(632)를 구비하고 상기 하우징(61)의 상면 개구부에 다수의 볼트를 통해 착탈 가능하게 설치된다.
또, 상기 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브(64)는 상기 탑 플레이트(63)의 셀레늄 유입 파이프(631) 단부에 고정 설치된 구성을 갖고, 상기 트랩(4)에서 캐니스터(6) 내로 유입되거나 캐니스터(6) 내에 이미 저장된 상태를 갖는 액상 또는 파우더 형태의 셀레늄에 대한 유입 및 배출을 단속하는 기능을 수행하게 된다.
이 밖에도 본 발명에서는 상기 캐니스터(6)의 하우징(61) 외주면과 탑 플레이트(63)의 형상에 대응하는 형상을 갖게 제작한 복수의 캐니스터 가열용 히터(65)를 도 5와 같이 각각 착탈 가능하게 더 설치한 상태에서 상기 컨트롤러(5)를 통해 상기한 복수의 캐니스터 가열용 히터(65)의 발열온도를 제어하는 방식을 통해 상기 캐니스터(6)의 내부온도가 정해진 온도를 유지하도록 함으로써 상기 캐니스터(6) 내로 유입되어 저장되고 있는 액체상태의 셀레늄이 고화되는 것을 방지할 수 있다.
뿐만 아니라, 본 발명에서는 상기 셀레늄 배출 단속밸브(47)와 벨로우즈(7) 및 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브(64)의 외측에도 도 5와 같이 상기 컨트롤러(5)의 제어를 받는 복수의 밸브 및 벨로우즈 가열용 히터(471, 641, 71)를 각각 착탈 가능하게 더 설치하여 줌으로써 상기 셀레늄 배출 단속밸브(47)와 벨로우즈(7) 및 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브(64) 내의 온도를 정해진 온도 범위 내로 유지시킬 수 있다.
따라서, 액체 및 파우더 상태의 셀레늄이 상기 트랩(4)에서 배출되어 상기 셀레늄 배출 단속밸브(47)와 벨로우즈(7) 및 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브(64)를 통해 캐니스터(6) 측으로 흘러내리는 과정에서 온도저하로 인해 고화되는 것 차체를 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에서는 상기 캐니스터(6)의 탑 플레이트(63)에 투시창(633)을 설치하거나, 또는 상기 캐니스터(6)의 탑 플레이트(63) 내부 및 외부에는 수위센서(634)와 부저(635)를 각각 설치하여, 상기 컬렉팅 포트(62) 내로 포집 및 저정된 셀레늄의 포집 량을 실시간으로 육안을 통해 인지할 수 있도록 함은 물론 한계 포집 량이 될 경우 육안 또는 청각을 통해 정확히 인지할 수 있도록 함으로써 사용자가 상기 캐니스터의 교체시기를 정확히 인식하고 새로운 캐니스터로 신속하게 교체시켜 줄 수 있다.
따라서, 트랩(4)은 지속적으로 사용하면서 캐니스터(6)만 교체해주면 되므로 공정의 중단없이 포집된 셀레늄을 회수하여 재사용할 수 있어 공정 중단에 따른 경제적 손실을 방지할 수 있음은 물론 반도체 제조에 따른 생산비용을 대폭 절감할 수 있다
또, 본 발명에서는 상기 캐니스터(6)의 컬렉팅 포트(62) 바닥면과 내면 사이에 복수의 셀레늄 배출 안내편(621)을 정해진 간격을 두고 일체로 더 돌출 성형하여 줌으로써 상기 컬렉팅 포트(62) 내로 포집되어 저장되던 셀레늄이 온도저하로 인해 파우더 형태로 고화되었을 때 상기 컬렉팅 포트(62) 내에 부착되는 것을 방지할 수 있어 외부로 쉽게 빼내어 제거한 후 상기 컬렉팅 포트(62)를 재사용할 수 있다.
또한, 본 발명에서는 비교적 중량체인 상기 컨트롤러(5)를 포함하여 상기 캐니스터(6)를 바닥에 설치하지 않고 각각 도 4, 도 6, 도 7 및 도 10과 같이 컨트롤러 이동수단(8) 및 캐니스터 이동수단(9)에 탑재시켜 상기 컨트롤러(5) 및 캐니스터(6)에 대한 이동성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 인건비 등을 대폭 절감할 수 있고, 특히 위험물인 셀레늄이 저장되는 캐니스터(6)의 교환 및 이동시 안전성을 확보할 수 있도록 하였다.
이때, 상기 컨트롤러 이동수단(8)은 도 10에 도시한 바와 같이 받침판(81)의 일측 상방부로 손잡이(82)를 구비시켜 이동시 편리성을 향상시켜 주고, 저면에는 복수의 캐스터(83)와 고정구(84)를 동시에 구비시켜 줌으로써 컨트롤러(5)를 탑재한 상태에서 캐스터(83)의 굴음운동을 통해 원활히 이동시킬 수 있음은 물론 사용시 고정구(84)들을 이용하여 특정장소에 완벽히 고정된 형태를 유지시킬 수도 있다.
또, 상기 캐니스터 이동수단(9)은 도 10에 도시한 바와 같이 사각 프레임(91)에 종단면이 "┗┛" 형상을 갖는 캐니스터 안착판(92)을 설치함과 동시에 상기 캐니스터 안착판(92)의 전면 또는 후면에 손잡이(93)를 구비시켜 이동시 편리성을 향상시켜 주고, 상기 사각 프레임(91)의 저면 모서리부에는 굴음단속수단이 구비된 캐스터(94)를 구비시켜 줌으로써 캐니스터(6)를 탑재한 상태에서 원활히 이동시킬 수 있음은 물론 특정장소에 고정시켜 둘 수도 있다.
또한, 본 발명에서는 상기 컨트롤러 이동수단(8) 및 캐니스터 이동수단(9)을 특정장소에 고정시켜 둘 때, 상기 컨트롤러 이동수단(8)의 받침판(81)과 상기 캐니스터 이동수단(9)의 프레임(91)이 상호 일직선을 이루도록 일면이 밀착 접촉되게 하되, 상호 밀착된 받침판(81)과 프레임(91)의 양 측면에서는 서로 반대방향으로 고정편(811)(911)을 각각 돌출 성형하여 줌은 물론 상기 고정편(811)(911)에 천공된 볼트 통과공을 통해 볼트(95)를 끼워 각각 받침판(81) 및 프레임(91)의 측면에 결합할 수 있도록 함으로써 상기 캐니스터(6) 및 컨트롤러(5)의 고정상태시 안정성을 확보할 수 있다.
또, 본 발명에서는 상기 하우징(61)의 플랜지(611) 상면을 포함하여 상기 플랜지(611)와 접촉되는 탑 플레이트(63)의 저면에는 각각 링 삽입홈(612)을 형성하여 기밀 유지용 오링(613)을 삽입 설치할 수 있도록 함으로써 상기 하우징(61)의 플랜지(611) 상면과 탑 플레이트(63)의 저면 사이의 접촉부에 대한 기밀성을 확보할 수 있다.
상술한 실시 예는 본 발명의 가장 바람직한 예에 대하여 설명한 것이지만, 상기한 실시 예 및 특허청구범위에 기재된 내용만으로 한정하는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변형이 가능하다는 것은 당업자에게 있어서 명백한 것이다.
1 : 프로세스 챔버
2 : 필터
3 : 진공펌프
4 : 트랩
41 : 원통형 바디 411 : 케미칼 유입공
412 : 하판 412-a : 다리
412-b : 폐가스 배출구 412-c : 드레인 파이프
413 : 파워 케이블 박스 414 : 손잡이
415 : 링 삽입홈 416 : 기밀 유지용 오링
417 : 냉각수 공급관 418 : 냉각수 유도홈
42 : 인너 컬렉팅 타워
421 : 수직봉 422 : 타공판
43 : 바디 내장용 히터
44 : 아울렛 커버
441 : 가스 유입구 442 : 손잡이
45 : 배기가스 안내관 46 : 바디 외장용 히터
47 : 셀레늄 배출 단속밸브 471 : 밸브 가열용 히터
5 : 컨트롤러
6 : 캐니스터
61 : 하우징 611 : 플랜지
612 : 링 삽입홈 613 : 기밀 유지용 오링
62 : 컬렉팅 포트 621 : 셀레늄 배출 안내편
63 : 탑 플레이트
631 : 셀레늄 유입 파이프 632 : 손잡이
633 : 투시창 634 : 수위센서
635 : 부저
64 : 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브 641 : 밸브 가열용 히터
65 : 캐니스터 가열용 히터
7 : 벨로우즈
8 : 컨트롤러 이동수단
81 : 받침판 811 : 고정편
82 : 손잡이 83 : 캐스터
84 : 고정구
9 : 캐니스터 이동수단
91 : 프레임 9111 : 고정편
92 : 캐니스터 안착판 93 : 손잡이
94 : 캐스터 95 : 볼트

Claims (14)

  1. 셀레늄을 포함하는 공정 케미칼을 유입 받아 반도체 전공정에서 실제로 웨이퍼의 공정을 실시하는 프로세스 챔버와; 상기 프로세스 챔버에서 배출된 다음 트랩을 통과한 후에도 가스 형태를 갖고 진공펌프 측으로 유입되는 공정 케미칼 내에 포함되어 있는 입자성분을 포집하는 필터와; 상기 필터와 트랩을 통해 프로세스 챔버로부터 가스를 흡입하여 챔버의 진공을 유지하는 진공펌프와; 상기 프로세스 챔버와 진공펌프 사이에 설치되어 진공펌프 측으로 유입되는 부산물인 셀레늄에 반응을 일으켜 액상 또는 파우더로 포집하는 트랩이 구비된 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치에 있어서,
    상기 트랩을,
    상부에 프로세스 챔버와 연결되는 케미칼 유입공이 형성되고, 저면에 복수의 다리가 설치된 하판에는 상기 진공펌프와 연결되는 폐가스 배출구와 액상 또는 파우더 형태로 포집된 셀레늄이 배출되는 드레인 파이프가 구비된 원통형 바디와;
    정해진 간격을 두고 배치되는 복수의 수직봉에 복수의 타공판이 수직방향에 대해 정해진 간격을 두고 경사지게 고정 설치된 형태를 갖고 상기 원통형 바디의 일측부에 착탈 가능하게 설치되어 기체상태의 셀레늄이 액상 또는 파우더 형태로 변화되며 원통형 바디 바닥 측으로 흘러내리도록 하는 인너 컬렉팅 타워와;
    상기 원통형 바디 내 바닥면과 상기 인너 켈렉팅 타워의 저면 사이에 착탈 가능하게 설치된 상태에서 컨트롤러의 제어를 받아 상기 원통형 바디 내에서 이미 액상으로 변환된 셀레늄이 파우더 또는 고체화되지 않고 액상의 상태를 유지하도록 하는 바디 내장용 히터와;
    상면이 막히고 트인 저면 내측 일부에는 가스 유입구가 형성된 반 원통체 형상을 갖고 상기 원통형 바디 내에서 인너 켈렉팅 타워에 인접되게 설치되어 액상 또는 파우더 형태로 변화되지 않은 일부 셀레늄 가스를 진공펌프와 연결된 배기가스 안내관 측으로 안내하는 가스 배기유로를 형성시켜 주는 아울렛 커버와;
    상기 아울렛 커버 내부에서 원통형 바디의 폐가스 배출구에 수직방향으로 결합되어 상기 아울렛 커버를 통해 유도되는 셀레늄 가스가 진공펌프 측으로 배출되게 하는 배기가스 안내관과;
    상기 원통형 바디의 외주면과 저면에 각각 착탈 가능하게 설치된 상태에서 컨트롤러의 제어를 받아 상기 바디의 내부온도가 기체상태의 셀레늄을 액체상태로 변환하는데 필요한 정해진 온도를 유지하도록 하는 복수의 바디 외장용 히터와;
    상기 원통형 바디의 외부에서 드레인 파이프에 고정 설치되어 상기 원통형 바디 내에서 액상 또는 파우더 형태로 포집된 셀레늄의 배출을 단속하는 셀레늄 배출 단속밸브;로 구성하되,
    상기 트랩과 별개로 상기 바디 내장 및 외장용 히터에 공급되는 전원전압을 제어하는 컨트롤러를 설치하고,
    상기 원통형 바디의 상,하 플랜지에 각각 기밀 유지용 오링을 설치하기 위한 링 삽입홈을 형성하고, 상기 원통형 바디의 상,하부에는 상기 기밀 유지용 오링의 열화 및 경화를 방지하기 위해 외부의 냉각수 공급관을 통해 공급되는 냉각수가 흐르도록 하는 냉각수 유도홈을 각각 형성한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 원통형 바디의 하판 외측에는 상기 컨트롤러의 파워케이블을 전기적으로 결합 및 분리할 수 있도록 하는 파워 케이블 박스를 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 아울렛 커버의 상면과 상기 원통형 바디의 외면에는 하나 또는 다수의 손잡이를 구비시킨 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  4. 삭제
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 트랩의 드레인 파이프에 착탈 가능하게 결합된 셀레늄 배출 단속밸브 출구에 트랩을 통해 포집되어 배출되는 액상 또는 파우더 상태의 셀레늄을 받아 저장하는 캐니스터를 벨로우즈를 통해 착탈 가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 캐니스터는,
    상부 개구부 주연부에 플랜지가 구비된 사각용기 형태를 갖는 하우징과;
    상기 하우징 내부에 착탈 가능하게 설치되어 트랩을 통해 포집되어 배출되는 액상 또는 파우더 상태의 셀레늄을 저장하는 컬렉팅 포트와;
    셀레늄 유입 파이프 및 복수의 손잡이를 구비하고 상기 하우징의 상면 개구부에 다수의 볼트를 통해 착탈 가능하게 설치되는 탑 플레이트와;
    상기 탑 플레이트의 셀레늄 유입 파이프 단부에 고정 설치되어 트랩에서 캐니스터 내로 유입되거나 캐니스터 내에 저장된 액상 또는 파우더 형태의 셀레늄 유입 및 배출을 단속하는 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브;로 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 하우징 외주면과 탑 플레이트에는 컨트롤러의 제어를 받아 상기 캐니스터의 내부온도가 정해진 온도를 유지하여 액체상태의 셀레늄이 고화되는 것을 방지하도록 하는 복수의 캐니스터 가열용 히터를 착탈 가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 셀레늄 배출 단속밸브와 벨로우즈 및 셀레늄 유입 및 배출 단속밸브의 외측에도 상기 컨트롤러의 제어를 받아 발열하여 그 내부를 흐르는 액체 및 파우더 상태의 셀레늄이 고화되는 것을 방지하는 복수의 밸브 및 벨로우즈 가열용 히터를 착탈 가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  9. 청구항 6에 있어서,
    상기 캐니스터의 탑 플레이트에는 컬렉팅 포트 내로 포집 저장된 셀레늄의 포집 량을 육안으로 확인할 수 있도록 하는 투시창을 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  10. 청구항 6에 있어서,
    상기 캐니스터의 탑 플레이트 내부에는 컬렉팅 포트 내로 포집 저장되는 셀레늄의 포집 량을 전기적인 신호로 검출하는 수위센서를 설치하고, 상기 캐니스터의 탑 플레이트 외부에는 상기 수위센서에서 정해진 한계수위를 검출할 때 경보음을 발생시키는 부저를 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  11. 청구항 6에 있어서,
    상기 캐니스터의 컬렉팅 포트 바닥면과 내면 사이에는 컬렉팅 포트 내로 포집되어 저장되던 셀레늄이 온도저하로 인해 파우더 형태로 고화되었을 때 외부로 쉽게 빼낼 수 있도록 복수의 셀레늄 배출 안내편을 정해진 간격을 두고 일체로 돌출 성형한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  12. 청구항 5에 있어서,
    상기 컨트롤러 및 캐니스터는,
    받침판의 일측 상방부로 손잡이가 구비되고, 저면에는 복수의 캐스터와 고정구가 구비된 구성을 갖는 캐니스터 이동수단 상면에 착탈 가능하게 설치하고,
    상기 캐니스터는 사각 프레임에 캐니스터 안착판이 구비됨과 동시에 상기 캐니스터 안착판의 전면 또는 후면에 손잡이가 구비되며, 상기 사각 프레임의 저면 모서리부에는 굴음단속수단이 구비된 캐스터가 구비된 구성을 갖는 캐니스터 이동수단의 상면에 착탈 가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 컨트롤러 이동수단의 받침판과 상기 캐니스터 이동수단의 프레임이 일직선을 이루도록 일면이 밀착 접촉되게 결합하되, 상호 밀착된 받침판과 프레임의 양 측면에서 서로 반대방향으로 고정편을 각각 돌출 성형하고, 상기 고정편에 천공된 볼트 통과공을 통해 볼트를 받침판 및 프레임에 결합하는 형태를 통해 캐니스터 및 컨트롤러 이동수단을 상호 착탈 가능하게 일체로 고정한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
  14. 청구항 6에 있어서,
    상기 하우징의 플랜지 상면을 포함하여 상기 플랜지와 접촉되는 탑 플레이트의 저면에는 각각 기밀 유지용 오링을 설치하기 위한 링 삽입홈을 더 형성한 것을 특징으로 하는 반도체 공정에서의 잔류 셀레늄 포집장치.
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