JPS622638B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS622638B2 JPS622638B2 JP58103922A JP10392283A JPS622638B2 JP S622638 B2 JPS622638 B2 JP S622638B2 JP 58103922 A JP58103922 A JP 58103922A JP 10392283 A JP10392283 A JP 10392283A JP S622638 B2 JPS622638 B2 JP S622638B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper
- cathode
- amount
- electrolytic
- electrolysis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 29
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 27
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 10
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 4
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 3
- UGWKCNDTYUOTQZ-UHFFFAOYSA-N copper;sulfuric acid Chemical compound [Cu].OS(O)(=O)=O UGWKCNDTYUOTQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- OARRHUQTFTUEOS-UHFFFAOYSA-N safranin Chemical compound [Cl-].C=12C=C(N)C(C)=CC2=NC2=CC(C)=C(N)C=C2[N+]=1C1=CC=CC=C1 OARRHUQTFTUEOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005486 sulfidation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
本発明は銅の電解精製法の改良に関するもので
あり特にCuやCu合金の鋳造に供される高品質の
銅を得んとするものである。 通常銅の電解精製法としては液温40〜70℃の
Cu分30〜55ｇ／、遊離硫酸100〜250ｇ／を
含む硫酸々性硫酸銅を電解液として純度約99％の
粗銅をアノードとし、純Cu又はTi或はSUS等の
薄板をカソードとして電流密度１〜5A／ｄm2の
直流電流を通じて電気分解を行い、カソード上に
99.99％の電気銅を析出せしめて回収しているも
のである。 電解に際してはカソード析出銅の平滑光沢化を
目的として電解液中にニカワやチオ尿素等の有機
化合物或はカソードにAg共析防止を目的として
Clイオンを共存せしめているものである。 ところでCuやCu合金の鋳造は専ら反射炉を使
用し十分に脱ガスして精製した溶液を鋳造に供し
ていたものであるが、近時生産性を向上し且つコ
ストを安くする点から溶解と鋳造とを連続化した
設備が使用されるようになつてきた。この設備に
は溶解炉はシヤフト炉や電気炉等が使用され、従
来の脱ガス精製工程を行はないことから鋳塊の品
質が電気銅と直接関連を有するので原料の電気銅
の高品質化が望まれているものであつた。特に鋳
塊品質に致命的欠陥であるブローホールに関して
は電気銅中の水素及び硫黄を低減せしめることに
よつてブローホールの発生を阻止しうるため、こ
れが重要な課題となつている。 なお水素量については溶解前の電気銅に高温予
熱処理等を行つて低減を計つているものであるが
十分に除去することが出来ない。 本発明はかゝる現状に鑑み鋭意研究を行つた結
果電気銅中の水素量のみならず硫黄をも低減しう
る銅の電解法を開発したものである。即ち本発明
方法は硫酸々性銅電解液中にて電気分解によりカ
ソード上に純銅を析出せしめる銅の電解法におい
て、上記電解液に析出銅１トン当り40〜200ｇの
ニカワ、20〜100ｇのチオ尿素及び0.5ｇ以上のサ
フラニンを夫々添加したことを特徴とするもので
ある。 本発明方法においてニカワの添加はカソードの
外観を平滑化するための必須条件であるが、その
量が40ｇ未満では平滑化が不十分であり又200ｇ
を超えた場合には逆にカソード外観を損うので望
ましくない。 又チオ尿素の添加は析出粒の微細化によるカソ
ード外観の平滑光沢化に必須条件である。その添
加量は後述するサフラニンの量にもよるが20〜
100ｇが適当であり、20ｇ未満ではその効果が不
十分であり、100ｇを越えるとカソード中の硫黄
を増加せしめるので好ましくない。 又サフラニンの添加はカソード中のH2量とチ
オ尿素に起因するカソード中の硫黄量の低減に効
果を有するが、その量が0.5ｇ未満では効果が薄
く又５ｇを越えてもそれ程効果が顕著にならない
ので通常１〜５ｇの範囲が望ましい。 本発明方法おいて電気銅中の水素並に硫黄を低
減せしめる機構についてはこれを明白になしえな
いか、水素量の低減はカソード界面でのCuイオ
ンの欠如により下式の如く水素イオンの放電反応
が進行し、こゝに生じたＨがカソードに拡散浸透
するためであり、サフラニンの添加によりこの反
応が何らかの機構で抑制するためと推考される。 H+＋ｅ→Ｈ またチオ尿素に起因する硫黄量のサフラニンに
よる低減はチオ尿素によるCuの硫化反応を析出
微細化作用を損はずにサフラニンにより抑制され
るためと推考される。 本発明方法はこのような新規な設備を設けるこ
となく操業条件等の変更もなく、従来の設備を使
用し且つ操業条件はそのままで水素並に硫黄の少
いCu又はCu合金鋳造用の高品質の電気銅をうる
ものである。 次に本発明の実施例について説明する。 実施例 巾1000mm×長1000mm×厚0.7mmの銅薄板（カソ
ード）56枚と同形状の粗銅アノード55枚とを100
mmのピツチで交互に並列せしめて電解槽内に収納
した。この槽内に60℃のCu42ｇ／、遊離
H2SO4183ｇ／の組成の電解液を40／minで
循環せしめ2.5A／ｄm2の電流密度で10日間電解
を行つて約12mm厚のカソード電気銅をえた。 この電解時において上記電解液中に第１表に示
す組成の添加剤を連続的に添加した。 斯くして得た電気銅は湯洗後、タフピツチ銅の
ビユレツト（300φ）の原料として200℃×３分間
予熱処理後、還元雰囲気中の電解炉に投入溶解し
た後、保持炉でバーナの空燃比調整により適度な
酸素を溶解せしめて鋳造に供した得られたビレツ
トについて水素含有量、硫黄含有量及びカラーチ
エツクによるブローホールの有無を測定したその
結果は第１表に併記した。
あり特にCuやCu合金の鋳造に供される高品質の
銅を得んとするものである。 通常銅の電解精製法としては液温40〜70℃の
Cu分30〜55ｇ／、遊離硫酸100〜250ｇ／を
含む硫酸々性硫酸銅を電解液として純度約99％の
粗銅をアノードとし、純Cu又はTi或はSUS等の
薄板をカソードとして電流密度１〜5A／ｄm2の
直流電流を通じて電気分解を行い、カソード上に
99.99％の電気銅を析出せしめて回収しているも
のである。 電解に際してはカソード析出銅の平滑光沢化を
目的として電解液中にニカワやチオ尿素等の有機
化合物或はカソードにAg共析防止を目的として
Clイオンを共存せしめているものである。 ところでCuやCu合金の鋳造は専ら反射炉を使
用し十分に脱ガスして精製した溶液を鋳造に供し
ていたものであるが、近時生産性を向上し且つコ
ストを安くする点から溶解と鋳造とを連続化した
設備が使用されるようになつてきた。この設備に
は溶解炉はシヤフト炉や電気炉等が使用され、従
来の脱ガス精製工程を行はないことから鋳塊の品
質が電気銅と直接関連を有するので原料の電気銅
の高品質化が望まれているものであつた。特に鋳
塊品質に致命的欠陥であるブローホールに関して
は電気銅中の水素及び硫黄を低減せしめることに
よつてブローホールの発生を阻止しうるため、こ
れが重要な課題となつている。 なお水素量については溶解前の電気銅に高温予
熱処理等を行つて低減を計つているものであるが
十分に除去することが出来ない。 本発明はかゝる現状に鑑み鋭意研究を行つた結
果電気銅中の水素量のみならず硫黄をも低減しう
る銅の電解法を開発したものである。即ち本発明
方法は硫酸々性銅電解液中にて電気分解によりカ
ソード上に純銅を析出せしめる銅の電解法におい
て、上記電解液に析出銅１トン当り40〜200ｇの
ニカワ、20〜100ｇのチオ尿素及び0.5ｇ以上のサ
フラニンを夫々添加したことを特徴とするもので
ある。 本発明方法においてニカワの添加はカソードの
外観を平滑化するための必須条件であるが、その
量が40ｇ未満では平滑化が不十分であり又200ｇ
を超えた場合には逆にカソード外観を損うので望
ましくない。 又チオ尿素の添加は析出粒の微細化によるカソ
ード外観の平滑光沢化に必須条件である。その添
加量は後述するサフラニンの量にもよるが20〜
100ｇが適当であり、20ｇ未満ではその効果が不
十分であり、100ｇを越えるとカソード中の硫黄
を増加せしめるので好ましくない。 又サフラニンの添加はカソード中のH2量とチ
オ尿素に起因するカソード中の硫黄量の低減に効
果を有するが、その量が0.5ｇ未満では効果が薄
く又５ｇを越えてもそれ程効果が顕著にならない
ので通常１〜５ｇの範囲が望ましい。 本発明方法おいて電気銅中の水素並に硫黄を低
減せしめる機構についてはこれを明白になしえな
いか、水素量の低減はカソード界面でのCuイオ
ンの欠如により下式の如く水素イオンの放電反応
が進行し、こゝに生じたＨがカソードに拡散浸透
するためであり、サフラニンの添加によりこの反
応が何らかの機構で抑制するためと推考される。 H+＋ｅ→Ｈ またチオ尿素に起因する硫黄量のサフラニンに
よる低減はチオ尿素によるCuの硫化反応を析出
微細化作用を損はずにサフラニンにより抑制され
るためと推考される。 本発明方法はこのような新規な設備を設けるこ
となく操業条件等の変更もなく、従来の設備を使
用し且つ操業条件はそのままで水素並に硫黄の少
いCu又はCu合金鋳造用の高品質の電気銅をうる
ものである。 次に本発明の実施例について説明する。 実施例 巾1000mm×長1000mm×厚0.7mmの銅薄板（カソ
ード）56枚と同形状の粗銅アノード55枚とを100
mmのピツチで交互に並列せしめて電解槽内に収納
した。この槽内に60℃のCu42ｇ／、遊離
H2SO4183ｇ／の組成の電解液を40／minで
循環せしめ2.5A／ｄm2の電流密度で10日間電解
を行つて約12mm厚のカソード電気銅をえた。 この電解時において上記電解液中に第１表に示
す組成の添加剤を連続的に添加した。 斯くして得た電気銅は湯洗後、タフピツチ銅の
ビユレツト（300φ）の原料として200℃×３分間
予熱処理後、還元雰囲気中の電解炉に投入溶解し
た後、保持炉でバーナの空燃比調整により適度な
酸素を溶解せしめて鋳造に供した得られたビレツ
トについて水素含有量、硫黄含有量及びカラーチ
エツクによるブローホールの有無を測定したその
結果は第１表に併記した。
【表】
Claims (1)
- １ 硫酸々性銅電解液中にて電気分解によりカソ
ード上に純銅を析出せしめる銅の電解法におい
て、上記電解液に析出銅１トン当り40〜200ｇの
ニカワ、20〜100ｇのチオ尿素及び0.5ｇ以上のサ
フラニンを夫々添加したことを特徴とする銅の電
解法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58103922A JPS59229491A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | 銅の電解法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58103922A JPS59229491A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | 銅の電解法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59229491A JPS59229491A (ja) | 1984-12-22 |
| JPS622638B2 true JPS622638B2 (ja) | 1987-01-21 |
Family
ID=14366914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58103922A Granted JPS59229491A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | 銅の電解法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59229491A (ja) |
-
1983
- 1983-06-10 JP JP58103922A patent/JPS59229491A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59229491A (ja) | 1984-12-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2320773A (en) | Electrodeposition of manganese | |
| CN106702436A (zh) | 高强耐腐蚀电解锰用铅基多元合金阳极材料的制备方法 | |
| US2923671A (en) | Copper electrodeposition process and anode for use in same | |
| JPS6184389A (ja) | 高純度電気銅の製造方法 | |
| JP4041590B2 (ja) | 純度５ｎ以上の高純度ビスマスの製造方法 | |
| JPS622638B2 (ja) | ||
| JP3934685B2 (ja) | 連続電気化学的鉛精錬による鉛のリサイクル方法 | |
| JPH0867932A (ja) | 高電流密度メッキ用銅陽極 | |
| US3755112A (en) | Electrowinning of copper | |
| US2623848A (en) | Process for producing modified electronickel | |
| JPH0125398B2 (ja) | ||
| US3951764A (en) | Aluminum-manganese alloy | |
| US2771413A (en) | Electrodeposition of chromium | |
| US3723267A (en) | Method of producing high purity antimony from antimony trioxide obtained by burning refined metal | |
| JPS6332873B2 (ja) | ||
| US1901407A (en) | Electrolytic process for producing alloys of lithium | |
| JPS6024198B2 (ja) | 銅メツキ用アノード材の製造方法 | |
| US1569137A (en) | Refining of copper-nickel matte | |
| JP2785044B2 (ja) | 銅アノードモールド及び銅アノードの製造方法 | |
| US2966407A (en) | Electrolytic recovery of nickel | |
| US2850443A (en) | Method of treating alloys | |
| Mantell | Electrodeposition of powders for powder metallurgy | |
| US1920819A (en) | Electrolytic refining of brass | |
| CN1015383B (zh) | 电解用铅银钙稀土多元不溶性合金阳极及其制法 | |
| JPS6096782A (ja) | 銅電解用Ｐｂ合金アノード |