JPS62263137A - Polyphenol compound and production thereof - Google Patents

Polyphenol compound and production thereof

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JPS62263137A
JPS62263137A JP61103370A JP10337086A JPS62263137A JP S62263137 A JPS62263137 A JP S62263137A JP 61103370 A JP61103370 A JP 61103370A JP 10337086 A JP10337086 A JP 10337086A JP S62263137 A JPS62263137 A JP S62263137A
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JP
Japan
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formula
polyphenol
represented
compound
formulas
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Application number
JP61103370A
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Japanese (ja)
Inventor
Fumihiko Yamamoto
山元 文彦
Shigeo Yokoyama
茂雄 横山
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62263137A publication Critical patent/JPS62263137A/en
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract

NEW MATERIAL:A polyphenol compound of formula (X is bivalent group of formula II or III; R is H or 4-hydroxy-3,5-dimethylphenylmethyl; n is 0 or integer of 1-3). EXAMPLE:Hexaphenol of formula IV. USE:An intermediate raw material for polyepoxy resin capable of giving a cured product having excellent glass transition temperature, heat-distortion temperature, high-temperature elasticity, etc. PREPARATION:The polyphenol compound of formula I can be produced by reacting polymethylol bisphenol A of formula V (A is H or methylol) with at least equivalent of 2,6-xylenol based on the methylol group of the former compound.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規な構造を有するポリフェノール化合物及び
その製造方法に関するものである。さらに詳しくいえば
、本発明は、ガラス転移温度、熱変形温度、耐熱弾性特
注などの耐熱特性の優れた硬fヒ物を与えうるポリエポ
キシ樹脂の中間原料として有用な新規ポリフェノール化
合物及びその製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a polyphenol compound having a novel structure and a method for producing the same. More specifically, the present invention provides a novel polyphenol compound useful as an intermediate raw material for polyepoxy resin that can provide a hard material with excellent heat resistance properties such as glass transition temperature, heat distortion temperature, and custom heat-resistant elasticity, and a method for producing the same. It is related to.

従来の技術 従来、エポキシ樹脂は機械的特性、電気的特性。Conventional technology Traditionally, epoxy resin has limited mechanical and electrical properties.

接着性、耐熱性などKg!nていることから、例えば接
着剤、塗料、電子部品用封止剤、カーボン繊維強化プラ
スチツク用マトリックス樹脂などに広範囲に使用されて
いるが、最近、成形材料、フェス、印刷回路用7遺層板
、電子部品用封止剤、先端複合材料(ACM )などの
分野においては、ガラス転移@度、熱変形温度、耐熱弾
性特性などの耐熱特性に優またエポキシ樹脂硬化型組成
物が要望さ几ている。
Adhesion, heat resistance, etc. kg! Because of this, it is widely used in adhesives, paints, encapsulants for electronic components, and matrix resins for carbon fiber-reinforced plastics. In the fields of electronic parts encapsulants, advanced composite materials (ACM), etc., there is a demand for epoxy resin-curable compositions that have excellent heat resistance properties such as glass transition temperature, heat distortion temperature, and heat-resistant elastic properties. There is.

こnまで、耐熱性:P−優れたエポキシ樹脂硬化型組成
物を構成するポリエポキシ化合物としては、例えばエポ
キシ化フェノールノボラック樹@、エポキシ化0−クレ
ゾールノボラック樹脂、  1.1,2.2−テトラキ
ス(p−ヒドロキシフェニル)エタンのテトラグリシジ
ルエーテルなどの多核フェノール類のポリグリシジルエ
ーテル、キシリレンジアミンのテトラグリシジル化物、
インシアヌル殿のトリグリシジル化物などの芳香族ポリ
アミンのポリグリシジル化物などが広く利用さルている
。しかしながら、これらのポリエポキシ化合物と用いた
エポキシ樹脂硬化型組成物は、前記の耐熱特性はいず1
も十分ではなく、さらに耐熱特性の優またエポキシ樹脂
の開発が要望さ1ている。
Up to now, examples of the polyepoxy compounds constituting the epoxy resin curable composition with excellent heat resistance: P- include epoxidized phenol novolak resin@, epoxidized 0-cresol novolak resin, 1.1, 2.2- Polyglycidyl ethers of polynuclear phenols such as tetraglycidyl ether of tetrakis(p-hydroxyphenyl)ethane, tetraglycidyl compounds of xylylene diamine,
Polyglycidylated aromatic polyamines such as triglycidylated incyanur are widely used. However, the epoxy resin curable compositions used with these polyepoxy compounds do not have the above-mentioned heat resistance properties.
However, there is a need for the development of epoxy resins with even better heat resistance.

ところで、最近、テトラメチロールビスフェノールAと
フェノール又は0−クレゾールとの反応で得らする。一
般式 (式中の乙は水素原子又はメチル基である)で示さ几る
ポリフェノールのへキサグリシジルエーテルが提案さ1
ている(特表昭61−500024号公報)。
By the way, recently it has been obtained by the reaction of tetramethylolbisphenol A and phenol or 0-cresol. A hexaglycidyl ether of a polyphenol represented by the general formula (wherein B is a hydrogen atom or a methyl group) has been proposed.
(Special Publication No. 1983-500024).

しかしながら、前記一般式〇)で示さnるポリフェノー
ルは熱安定性が低く、加熱処理によって高分子量化しや
すいため、このものを製造する際に種々の間頌が生じる
っすなわち、該ポリフェノールをyi造する際には、未
反応のフェノール又は〇−クレゾールを反応生成物中か
ら除去する工程が必要であり、通常真空蒸留法や水蒸気
蒸留法によって未反応フェノール又は0−クレゾールは
除去しているが、こ1には温度を150−180℃まで
上げる必要がある。しかし、このような高温では、該ポ
リフェノールは高分子l化じやすく、溶融粘度が上昇し
て流動性が低下しかつ黒色に着色してぐる上に、その中
にメチレンエーテル基(−CH20CH2−)を有する
化合物が副生物として混入するようになる。一般に、こ
のメチレンエーテル基は熱的に不安定であり、ポリエポ
キシ化合物中に存在するとその硬化物の耐熱性を著しく
低下させるため、あらかじめ該ポリフェノールを170
℃以上の温度で加熱処理して、熱的に安定なメチレン基
(−CH2−)に変換しておく必要があるが。
However, the polyphenol represented by the general formula 〇) has low thermal stability and is easily made to have a high molecular weight by heat treatment, so various difficulties arise when producing this polyphenol. In some cases, a step is required to remove unreacted phenol or 0-cresol from the reaction product, and unreacted phenol or 0-cresol is usually removed by vacuum distillation or steam distillation, but this 1 requires raising the temperature to 150-180°C. However, at such high temperatures, polyphenols tend to polymerize, their melt viscosity increases, fluidity decreases, and they turn black, and they also contain methylene ether groups (-CH20CH2-). Compounds with this will be mixed in as by-products. Generally, this methylene ether group is thermally unstable, and if it exists in a polyepoxy compound, it will significantly reduce the heat resistance of the cured product.
However, it is necessary to convert it into a thermally stable methylene group (-CH2-) by heat treatment at a temperature of ℃ or higher.

170℃以上の温度では該ポリフェノールの高分子量化
を伴う。そして、このように高分子量化したポリフェノ
ールは、エビハロヒドリンとのエポキシ化反応が極めて
進行しにくり、かつ得ら几たポリエポキシ化合物の軟化
点が非常に高くなるなどの問題を生じ、実用的に使用す
ることができない。
A temperature of 170° C. or higher is accompanied by an increase in the molecular weight of the polyphenol. Polyphenols with high molecular weight in this way cause problems such as the epoxidation reaction with shrimp halohydrin progressing extremely slowly and the softening point of the obtained polyepoxy compound becoming extremely high, making it impractical for practical use. cannot be used.

ま之、一般式(1)で示さnるポリフェノールの製造に
おいて、原料のテトラメチロールビスフェノールAのメ
チロール基に対するフェノール又は〇−クレゾールのフ
ェノール性水酸基のモル比が2以下の場合には、オリゴ
マーが主として生成し、目的の一般式(+)で示さする
ポリフェノールは少量生成するにすぎない(特表昭61
−500024号公報)。
However, in the production of the polyphenol represented by general formula (1), if the molar ratio of the phenolic hydroxyl group of phenol or 〇-cresol to the methylol group of the raw material tetramethylolbisphenol A is 2 or less, the oligomer is mainly The desired polyphenol represented by the general formula (+) is produced in only a small amount (Japanese Patent Publication No. 1983).
-500024).

したがって、高度に純粋なポリフェノールを得るには、
フェノール性水竣基/メチロール基のモル比を8以上と
非常に高くする必要があり、このため多量のフェノール
又はo−クレゾールを反応生成物より除去、回収せねば
ならず、その結果コストが上昇し経済的に不利になるの
を免汎ない。
Therefore, to obtain highly pure polyphenols,
It is necessary to have a very high molar ratio of phenolic hydroxyl groups/methylol groups of 8 or more, which requires a large amount of phenol or o-cresol to be removed and recovered from the reaction product, resulting in increased costs. There is no excuse for being economically disadvantaged.

このように、前記一般式CI)で示さ几るポリフェノー
ルは、それ自体熱安定性が低いという欠点をπするとと
もに、このものから得らnるポリエポキシ化合物の硬化
型組成物も耐熱特性が十分ではないという欠点ヲ有して
おり、さらに耐熱性の優几たエポキシ樹脂の開発が要望
されている。
In this way, the polyphenol represented by the general formula CI) overcomes the drawback of low thermal stability, and the curable composition of the polyepoxy compound obtained from it also has sufficient heat resistance properties. However, there is a need for the development of an epoxy resin with even better heat resistance.

発明が解決しようとする問題点 本発明の目的はこのような事情のもとで、従来のものに
比べてガラス転移温度、熱変形温度、耐熱弾性特性など
の耐熱特性に侵また硬化物を与えるポリエポキシ化合物
を製造するための中間原料として好適なポリフェノール
化合物を提供することにある。
Problems to be Solved by the Invention Under these circumstances, the purpose of the present invention is to improve heat resistance properties such as glass transition temperature, heat distortion temperature, and heat elasticity properties, and to provide a cured product compared to conventional ones. The object of the present invention is to provide a polyphenol compound suitable as an intermediate raw material for producing a polyepoxy compound.

問題点を解決するための手段 本発明者らは前記O望ましい性質を示す新規なポリエポ
キシ化合物の中間原料を開発するために鋭意研究を重ね
た結果、ポリメチロールビスフェノールAとその中のメ
チロール基に対して少なくとも当量の2.6−キシレノ
ールとを反応させるととにより、その目的を達成しうろ
ことを見出し。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive research to develop an intermediate raw material for a new polyepoxy compound exhibiting the above-mentioned desirable properties of O. As a result, we have found that polymethylolbisphenol A and the methylol group therein It has been found that the object can be achieved by reacting 2,6-xylenol with at least an equivalent amount of 2,6-xylenol.

この知見に基づいて本発明を完成するに至った。Based on this knowledge, we have completed the present invention.

すなわち、本発明は、一般式 (式中のXは 又は で表わさ几る二価の基、Rは水素原子又は4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニルメチルL  nはO又は
1〜3の整数である) で示されるポリフェノール化合物を提供するものである
。このものは、例えば一般式 (式中のAは水素原子又はメチロール基である)で示さ
するポリメチロールビスフェノールAとその中のメチロ
ール基に対して少なくとも当量の2.6−キシレノール
とを酸性触媒の存在下に反応させることにより得らルる
That is, the present invention is based on the general formula (wherein X is a divalent group represented by or, R is a hydrogen atom or 4-hydroxy-3,5-dimethylphenylmethyl L, The present invention provides a polyphenol compound represented by: This product includes, for example, polymethylolbisphenol A represented by the general formula (A in the formula is a hydrogen atom or a methylol group) and 2,6-xylenol in an amount of at least equivalent to the methylol group in the acidic catalyst. It is obtained by reacting in the presence of

前記一般式CIで示されるポリメチロールビスフェノー
ルAは1例えば水酸化ナトリウム触媒の存在下に、ビス
フェノールAとその1モルに対して4.0〜4.4モル
のホルムアルデヒドとを反応させることにより得ること
ができる。この反応生成物は通常80%以上がテトラメ
チロールビスフェノールAであるカ、トリメチロールビ
スフェノールAなども含有している。
Polymethylol bisphenol A represented by the general formula CI can be obtained by reacting bisphenol A with 4.0 to 4.4 moles of formaldehyde per mole thereof in the presence of a sodium hydroxide catalyst, for example. Can be done. This reaction product usually contains 80% or more of tetramethylolbisphenol A, trimethylolbisphenol A, and the like.

このよう忙して得らnた一般式([[I)で示さするポ
リメチロールビスフェノールと、そのメチロール基に対
して当量以上の2.6−キシレノールとを酸性触媒の存
在下に反応させることにより、前記一般式(n)で示さ
几るポリフェノールが得られる。メチロール基に対する
2、6−キシレノールのモル比は、通常1.0〜10%
好ましくは1.2〜5の範囲で選ばルる。このモル比が
1.0未満では反応生成物中にポリメチロールビスフェ
ノールAの自己縮合物が多く含ま几る傾向があり、また
10を超えると過剰の2,6−キシレノールを反応生成
物から除去1回収するコストが高くなるので好ましくな
い。
By reacting the polymethylol bisphenol represented by the general formula ([I) obtained in this way with 2,6-xylenol in an amount equivalent to or more than the methylol group in the presence of an acidic catalyst, A polyphenol represented by the general formula (n) is obtained. The molar ratio of 2,6-xylenol to methylol group is usually 1.0 to 10%.
It is preferably selected within the range of 1.2 to 5. When this molar ratio is less than 1.0, the reaction product tends to contain a large amount of self-condensed product of polymethylolbisphenol A, and when it exceeds 10, excess 2,6-xylenol is removed from the reaction product. This is not preferable because the cost of recovery increases.

この反応において用いら几る酸性触媒としては。The acidic catalyst used in this reaction is:

例えば塩酸、硫酸、リン酸などの無機駿、シュウ酸、コ
ハク酸などのM機酸を挙げることができる。
Examples include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, and organic acids such as oxalic acid and succinic acid.

これらの触媒の使用量は、ポリメチロールビスフェノー
ルAと2.6−キシレノールとの合計i it K対し
、通常0.02〜2重量係の範囲で選ばする。
The amount of these catalysts to be used is usually selected within the range of 0.02 to 2 weight ratios based on the total i it K of polymethylolbisphenol A and 2,6-xylenol.

また、反応温度は通常50〜120″C1好ましくは7
0〜105℃の範囲で選は几る。
In addition, the reaction temperature is usually 50 to 120" C1, preferably 7
The temperature range is 0 to 105°C.

このポリメチロールビスフェノールAと2.6−キシレ
ノールとの反5においては、構造式で示されるヘキサフ
ェノール化合物が主成分として生成し、その他種々のオ
リゴマーも生成する。
In this reaction 5 of polymethylolbisphenol A and 2,6-xylenol, a hexaphenol compound represented by the structural formula is produced as a main component, and various other oligomers are also produced.

このオリゴマーとしては、次に示す二量体及び三量体が
挙げられる。
Examples of this oligomer include the following dimers and trimers.

このオリゴマーの生成機構については、例えばテトラメ
チロールビスフェノールAとトリメチロールビスフェノ
ールAとの縮合反応により、構造式 %式%) で示さnる中間体が生成し、この中間体に2.6−キシ
レノールが反応して、前記の二量体が生成すると考えら
する。三量体以上のオリゴマーについても同様の生成機
構が考えらnる。トリメチロールビスフェノールAと2
,6−キシレノールとの反応では次の構造式のポリフェ
ノール化合物などが生成する。
Regarding the formation mechanism of this oligomer, for example, the condensation reaction of tetramethylolbisphenol A and trimethylolbisphenol A produces an intermediate represented by the structural formula (%), and 2,6-xylenol is added to this intermediate. It is thought that the above-mentioned dimer is produced by the reaction. A similar production mechanism can be considered for trimer or higher oligomers. Trimethylol bisphenol A and 2
, 6-xylenol produces polyphenol compounds with the following structural formula.

前記の二量体を選択的にH遣するには、まずビスフェノ
ールAのメチロール化反応において、ビスフェノールA
1モルに対シて3.5モルのホルムアルデヒドを反応さ
せて、トリメチロールビスフェノールAとテトラメチロ
ールビスフェノールAとのほぼ当量の混合物を製造する
。次にこのメチロール化物を酸性下で、2.6−キシレ
ノールと反応させると前記し次オリゴマーの生成機構に
より二量体を選択的に人造することができる。
In order to selectively convert the dimer into hydrogen, first, in the methylolation reaction of bisphenol A, bisphenol A
A mixture of approximately equivalent amounts of trimethylolbisphenol A and tetramethylolbisphenol A is produced by reacting 3.5 moles of formaldehyde per mole. Next, by reacting this methylolated product with 2,6-xylenol under acidic conditions, a dimer can be selectively produced using the oligomer formation mechanism described above.

三量体については、メチロール化反応においてビスフェ
ノールA1モルに対I−で3.0モルのホルムアルデヒ
ドを反応させて、ジメチロールビスフェノールA、)l
/メチロールビスフェノールA及びテトラメチロールビ
スフェノールAのほぼ当量の混合物を製造する。次にこ
のメチロール化物の混合物を酸性下で、2.6−キシレ
ーノールト反応させると三量体、二量体を主成分とする
ポリフェノールを人造することができる。
For the trimer, 1 mole of bisphenol A is reacted with 3.0 moles of formaldehyde to dimethylol bisphenol A, )l in a methylolation reaction.
/A mixture of approximately equivalent amounts of methylolbisphenol A and tetramethylolbisphenol A is prepared. Next, by subjecting this methylolated mixture to a 2,6-xylenol reaction under acidic conditions, polyphenols containing trimers and dimers as main components can be produced.

このような反応によって得らnる前記一般式(■)で示
さ几るポリフェノールは、約70%が前記式□□□で示
さルるヘキサフェノール化合物で、約30チがオリゴマ
ー類である。
About 70% of the polyphenol represented by the general formula (■) obtained by such a reaction is a hexaphenol compound represented by the above formula □□□, and about 30% is an oligomer.

一般式(It)で示さ几るポリフェノールの製造ニおい
ては、前記したように酸性触媒で反応を行うため、ポリ
メチロールビスフェノールAの異なる分子中のメチロー
ル基との間の縮合反応は、メチロール基と2.6−キシ
レノールの環水素との縮合反応より反応速度が大きいた
め、前記のオリゴマーの生成量を実質的に零にすること
は不可能であるが上記のメチロール基相互の縮合反応を
できるだけ抑制するため、酸性触媒下で過剰に存在する
2.6−+タレノール中にポリメチロールビスフェノー
ルAを少量づつ滴下して反応させる方法を用いるのが有
利である。
In the production of the polyphenol represented by the general formula (It), since the reaction is carried out with an acidic catalyst as described above, the condensation reaction between the methylol groups in different molecules of polymethylolbisphenol A is Since the reaction rate is higher than that of the condensation reaction between 2,6-xylenol and the ring hydrogen, it is impossible to reduce the amount of oligomer produced to substantially zero, but the condensation reaction between the methylol groups is as much as possible. In order to suppress the reaction, it is advantageous to use a method in which polymethylolbisphenol A is added dropwise into 2.6-+talenol present in excess under an acidic catalyst.

このようにして、ポリメチロールビスフェノールAと2
.6−キシレノールとを反応させて得ら几た反応液中に
は、生成物の一般式(n)で示されるポリフェノール以
外に、過剰の2.6−キシレノール及び触媒が含まれて
いるため、まず反応液を水で抽出して該触媒を除いたの
ち、真空蒸発器などにより該2.6−キシレノールを除
去することが望ましい。2.6−キシレノールの除去は
通常150〜160℃の温度で行われる。さらに、反応
生成物中に微量に存在するメチレンエーテル結合(−C
H20CH2−)を有する化合物を分解して、安定なメ
チレン結合(−CH2−)に変換するために1反応生成
物を通常180℃の温度で1時間程度加熱処理するのが
好ましい。
In this way, polymethylol bisphenol A and 2
.. The reaction solution obtained by reacting with 6-xylenol contains excess 2,6-xylenol and a catalyst in addition to the polyphenol represented by the product general formula (n). After the reaction solution is extracted with water to remove the catalyst, it is desirable to remove the 2,6-xylenol using a vacuum evaporator or the like. Removal of 2.6-xylenol is usually carried out at a temperature of 150-160°C. Furthermore, methylene ether bonds (-C
In order to decompose the compound having H20CH2-) and convert it into a stable methylene bond (-CH2-), it is preferable to heat-treat one reaction product at a temperature of usually 180 DEG C. for about one hour.

一般式(II)で示されるポリフェノールは熱安定性に
優nているため、前記のような加熱処理操作によって高
分子量化することはほとんど認められない。この熱安定
性の原因はその化学構造に起因すると考えら几る。すな
わち、一般式(II)で示さ几るポリフェノールの主成
分は、 で示さ几るヘキサフェノール化合物であり、この化合物
は、フェノール性水酸基に対して、 2,4.6の位置
にメチル基又はメチレン基が結合しているため、反応活
性点が存在せず、したがって、加熱処理操作により、該
化合物相互の反応が進行せず、高分子量化しないものと
考えられる。
Since the polyphenol represented by the general formula (II) has excellent thermal stability, it is hardly recognized that the polyphenol has a high molecular weight by the above-described heat treatment operation. The cause of this thermal stability is thought to be due to its chemical structure. That is, the main component of the polyphenol represented by general formula (II) is a hexaphenol compound represented by Since the groups are bonded, there is no reactive active site, and therefore, it is thought that the reaction between the compounds does not proceed and the molecular weight does not increase due to the heat treatment operation.

こ几に対し、一般式(1) %式% (式中のEは水素原子又はメチル基である)で示さルる
ポリフェノール(特表昭61−500024号公報)は
、フェノール性水酸基に対して、2,6位の少なくとも
1個所は置換基が結合していないため活性点が存在し、
加熱処理操作により該ポリフェノールはなんらかの反応
が起こり、高分子量化するものと思わする。
In contrast, polyphenols represented by the general formula (1) % formula % (E in the formula is a hydrogen atom or a methyl group) (Japanese Patent Publication No. 1983-500024) have a phenolic hydroxyl group. , at least one of the 2 and 6 positions has no substituent bonded, so an active site exists,
It is thought that some kind of reaction occurs in the polyphenol due to the heat treatment operation, resulting in a higher molecular weight.

本発明の一般式C11)で示さするポリフェノールは。The polyphenol represented by the general formula C11) of the present invention is.

エピハロヒドリンと公知の方法で反応させることにより
、一般式(V) 又は で表わさする二価の基、2は水素原子又はである) で示さ几るポリエポキシ化合物にすることができる。
By reacting with epihalohydrin by a known method, a polyepoxy compound represented by the general formula (V) or (where 2 is a hydrogen atom or ) can be obtained.

本発明のポリフェノール化合物より製造されるこのポリ
エポキシ化合物は硬化剤と共に配合することによりエポ
キシ樹脂硬化型組成物の用途に供さnる。このエポキシ
樹脂硬化型組成物に配合さ几る硬化剤としては、従来か
らエポキシ樹脂の硬化剤として知らnている化合物の中
から任意のものを使用することができる。
This polyepoxy compound produced from the polyphenol compound of the present invention can be used as an epoxy resin curable composition by blending it with a curing agent. As the curing agent blended into this epoxy resin curable composition, any compound can be used from among the compounds conventionally known as curing agents for epoxy resins.

発明の効果 本発明のポリフェノール化合物より製造さするポリエポ
キシ化合物は、特にガラス転移温度、熱変形温度、耐熱
弾性特性などの耐熱特性に優几る上に1曲げ強度、アイ
ゾツト衝撃強度などの機械的特性にも優几た硬化物を与
えることができ、例えば接着剤、フェス、塗料、絶縁材
料、積層板、印刷回路用積層板、あるいはトランジスタ
ー、IC,LSIなどの封止用材料やスイッチ、コネク
ターなどの成形材料などに好適に用いらする。なお1本
発明の新規なポリフェノール化合物は、エポキシ樹脂の
硬化剤としてもM用である。
Effects of the Invention The polyepoxy compound produced from the polyphenol compound of the present invention has particularly excellent heat resistance properties such as glass transition temperature, heat distortion temperature, and heat-resistant elastic properties, as well as mechanical properties such as 1 bending strength and isot impact strength. It can provide cured products with excellent properties, such as adhesives, stickers, paints, insulating materials, laminates, laminates for printed circuits, or sealing materials for transistors, ICs, LSIs, switches, and connectors. It is suitable for use in molding materials such as. Note that the novel polyphenol compound of the present invention is also used as a curing agent for epoxy resin.

実施例 次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本
発明はこ1らの例によってなんら限定さルるものではな
い。
EXAMPLES Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these examples in any way.

実施例1 ビスフェノールA 228 F (1,0モル) t−
21’のガラス製フラスコに入ル、エタノール200?
、水520?、カセイソーダ809 (2,0モル)を
加え60℃で30分間かきまぜ念のち、室温に冷却して
37%ホルマリン水溶液328 r (4,05モル)
を加え50℃で5時間かきまぜたところ、黄色透明な粘
ちょう液が得られた。この反応液中の残存ホルムアルデ
ヒドは0.30%(ホルムアルデヒド反応率96.7%
)であシ、液体クロマトグラフィーによる分析の結果、
テトラメチロールピスフエ/−ルAが82%、トリメチ
ロールビスフェノールAが17%であった。原料ビスフ
ェノールAは検出さ1なかった。
Example 1 Bisphenol A 228 F (1.0 mol) t-
Pour 200 ethanol into a 21' glass flask.
,Wednesday 520? , add caustic soda 809 (2.0 mol), stir at 60°C for 30 minutes, cool to room temperature, and add 328 r (4.05 mol) of a 37% formalin aqueous solution.
When the mixture was stirred at 50°C for 5 hours, a yellow transparent viscous liquid was obtained. The residual formaldehyde in this reaction solution was 0.30% (formaldehyde reaction rate 96.7%).
) Adashi, the results of analysis by liquid chromatography,
Tetramethylol bisphenol A was 82% and trimethylol bisphenol A was 17%. Raw material bisphenol A was not detected.

ポリフェノールの製造 3tのガラス製フラスコに2,6−キシレノール976
 P (8,0モル)を入n、触媒として36%塩酸1
49を加えたのち、前記のポリメチロールイスフェノー
ルAの反応液を36%塩酸で中和した溶液を反応温度f
:80℃に保ちながら2時間かけてフラスコ内に滴下し
、さらに80℃で5時間かきまぜた。次に反応液を室温
まで冷却し静置したのち、上層の水層を除き有機層を水
1000*で3回洗浄し1次いで真空エバポレーターを
用いて150℃で3時間かけて溶媒及び2.6−キシレ
ノールを除去した。さらにメチレンエーテル結合全除去
するため180℃で1時間加熱処理したところ、黄色透
明固型物のポリフェノール6959(ヘキサフェノール
についての理論値の91%)が得ら几た。
Production of polyphenol 2,6-xylenol 976 in a 3 ton glass flask
P (8.0 mol) and 36% hydrochloric acid 1 as a catalyst.
After adding 49, the reaction solution of polymethylol phenol A was neutralized with 36% hydrochloric acid and the solution was heated to the reaction temperature f.
: While maintaining the temperature at 80°C, it was dropped into the flask over 2 hours, and the mixture was further stirred at 80°C for 5 hours. Next, the reaction solution was cooled to room temperature and allowed to stand, then the upper aqueous layer was removed, the organic layer was washed three times with water 1000*, and then the solvent and 2.6 - removed xylenol. Further, in order to completely remove the methylene ether bonds, heat treatment was performed at 180° C. for 1 hour, and polyphenol 6959 (91% of the theoretical value for hexaphenol) was obtained as a yellow transparent solid.

このポリフェノールの組成は、ゲル浸透クロマトグラフ
ィーにより分析した結果、構造式(IV)で示さするヘ
キサフェノール化合物が70%、オリコマ−が27%、
 ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
メタンが3%であった。
As a result of analysis by gel permeation chromatography, the composition of this polyphenol was found to be 70% hexaphenol compound represented by structural formula (IV), 27% olicomer,
Bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)
Methane was 3%.

このポリフェノールをクロロホルム−61中VC溶解し
てIH,及び13C核磁気共鳴スペクトルを測定した結
果、次の構造式の化合物が主成分であることが確認さ几
た。
As a result of dissolving this polyphenol in chloroform-61 using VC and measuring IH and 13C nuclear magnetic resonance spectra, it was confirmed that a compound having the following structural formula was the main component.

エポキシ化 前工程で得ら几た生成物のポリフェノール300f (
0,393モル)fI:2tのフラスコに入ル、エビク
ロロヒドリン1527 f (16,5モル)、メチル
セロソルブ4502を加え溶解したのち、温度60℃に
昇温し、48チカセイソーダ1969 (2,358モ
ル)を3.5時間かけて、一定流量でフラスコ内に滴下
した。反応液を冷却したのち、析出した食塩をろ別し、
ろ液中の過剰のエピクロルヒドリン、メチルセロソルブ
、水を真空エバポレーターを用いて、80〜90℃で蒸
発除去した。次に、得られた固型物にメチルインブチル
ケトン1500 f ’fH加えて溶解したのち、この
溶液に水75o2を加えて振とうし残存する食塩を抽出
除去した。この抽出操作を3回繰り返した。得られた有
機層を真空エバポレーターを用いて、@度140〜15
0’Cまで上げて溶媒を除去したところ、透明淡黄色固
型物のポリエポキシ化合物4282が得らまた(ヘキサ
グリシジルエーテルについての理論値の99%)。
Polyphenol 300f (
After adding and dissolving shrimp chlorohydrin 1527 f (16.5 mol) and methyl cellosolve 4502, the temperature was raised to 60°C, and the temperature was raised to 60°C. , 358 mol) was added dropwise into the flask at a constant flow rate over 3.5 hours. After cooling the reaction solution, the precipitated common salt was filtered out,
Excess epichlorohydrin, methyl cellosolve, and water in the filtrate were removed by evaporation at 80 to 90°C using a vacuum evaporator. Next, 1500 f'fH of methyl inbutyl ketone was added to the obtained solid to dissolve it, and then 75 o2 of water was added to this solution and shaken to extract and remove the remaining common salt. This extraction operation was repeated three times. The obtained organic layer was heated to 140 to 15 degrees using a vacuum evaporator.
Removal of the solvent at 0'C gave polyepoxy compound 4282 as a clear pale yellow solid (99% of theory for hexaglycidyl ether).

このものは IH及び13G核磁気共鳴スベク)/I/
による構造解析、ゲル浸透クロマトグラフィーによる分
析の結果、下記の構造式のへキサグリシジルエーテルが
主成分であることが確認さnた。
This one is IH and 13G nuclear magnetic resonance Subek)/I/
As a result of structural analysis by and gel permeation chromatography, it was confirmed that hexaglycidyl ether having the following structural formula was the main component.

CH2−CHCH2OCH5CH50−a(2−CH−
CH2\0′             \0/また。
CH2-CHCH2OCH5CH50-a(2-CH-
CH2\0'\0/Again.

CTAB法(セチルトリメチルアンモニウムブロマイド
法)によるエポキシ当量は198であつ之。
The epoxy equivalent according to the CTAB method (cetyltrimethylammonium bromide method) was 198.

なお、第1図は前記ポリフェノールのゲル浸透クロマト
グラフィー(GPC)のチャートである。フェノールノ
ボラック樹脂を用いた検量線では、保持容量20ntl
は分子量が約2000.227!は分子量が約1000
.24−は分子量が約500であった。
Incidentally, FIG. 1 is a gel permeation chromatography (GPC) chart of the polyphenol. In the calibration curve using phenol novolac resin, the retention capacity was 20 ntl.
has a molecular weight of about 2000.227! has a molecular weight of about 1000
.. 24- had a molecular weight of about 500.

第1図における保持容量23−のピークが、構造式(財
)で示さルるヘキサフェノール化合物(分子量764)
であることは明らかである。
The peak of retention capacity 23- in Figure 1 is a hexaphenol compound (molecular weight 764) represented by the structural formula (product).
It is clear that

第2図は前記ポリエポキシ化合物のGPCチャートであ
る。エポキシクレゾールノボラック樹脂を用い次検量線
では、保持容量20ゴは分子量が約2500、22−は
分子量が約1500.24−は分子量が約SOOであっ
た。
FIG. 2 is a GPC chart of the polyepoxy compound. In the following calibration curve using epoxy cresol novolac resin, retention capacity 20-go had a molecular weight of about 2,500, 22- had a molecular weight of about 1,500, and 24- had a molecular weight of about SOO.

第2図における保持容量23−のピークが、構造式(I
V)で示されるヘキサフェノール化合物のエポキシ化物
(分子量1178)であり、保持容量18〜22−のピ
ークがオリゴマ一体のエポキシ化物である。
The peak of retention capacity 23- in FIG. 2 corresponds to the structural formula (I
It is an epoxidized product (molecular weight 1178) of a hexaphenol compound represented by V), and the peak with a retention capacity of 18 to 22- is an epoxidized product integrated with an oligomer.

第3図は該ポリフェノールを1:%TM5tを含むCD
Cl3に溶解し、日本分光■製GX−270型FT−N
MRを使用したプロトン−核磁気共鳴(I H−NMR
)スペクトル図であシ、そnぞ几のシグナルの帰属は以
下のとおりである。
Figure 3 shows a CD containing 1:% TM5t of the polyphenol.
Dissolved in Cl3, JASCO Corporation GX-270 type FT-N
Proton-nuclear magnetic resonance (I H-NMR) using MR
) The attribution of the signals in the spectrum diagram is as follows.

ケミカルシフト  帰 属 1.4〜1.7 ppm  :  ビスフェノールAに
由来するメチル基の水素 1.8〜2.2ppm  :  2.6−キシレノール
に由来するメチル基の水素 合しているメチレン基の水素 4.7〜4.9ppm:  フェノール性水酸基の水素
6.6〜7.2 ppm  :  芳香族環に直結して
いる水素また、この図のそnぞnのシグナルの強度比よ
シ、このポリフェノールは、ビスフェノールA1分子当
り、約3.5分子の2,6−キシレノールと約3.5当
量のメチレン基が結合していることが明らかであり、こ
の結果は、第1図のGPCチャートと良く対応しており
、該ポリフェノールが約70%の七ツマ一体と約30%
のオリゴマ一体を含むことを示している。
Chemical shift Attribution 1.4-1.7 ppm: Hydrogen of methyl group derived from bisphenol A 1.8-2.2 ppm: Hydrogen of methylene group resulting from hydrogenation of methyl group derived from 2.6-xylenol 4.7-4.9 ppm: Hydrogen of phenolic hydroxyl group 6.6-7.2 ppm: Hydrogen directly connected to aromatic ring Also, according to the intensity ratio of each signal in this figure, this polyphenol It is clear that approximately 3.5 molecules of 2,6-xylenol and approximately 3.5 equivalents of methylene groups are bound per molecule of bisphenol A, and this result is in good agreement with the GPC chart in Figure 1. The polyphenol content is approximately 70% of Nanatsuma Ichigo and approximately 30% of the polyphenol content.
It is shown that it contains an oligomer of .

第4図は前記と同一の機種による該ポリフェノールの1
30−NMRスペクトル図であり、そn(fnのシグナ
ルの帰属は以下のとおりである。
Figure 4 shows one of the polyphenols produced by the same model as above.
30-NMR spectrum, and the attribution of the signal of fn is as follows.

ケミカルシフト   帰 属 16ppm    二 2,6−キシレノールに由来す
るメチル基の炭素 結合しているメチレン基の炭素 42.0 ppm    :  ビスフェノールAに由
来する四級炭素 123〜151ppm:  芳香族環を形成する炭素ま
7’(、13C−NMRの場合にはシグナルの強度比は
必ずしもそ1ぞnの炭素の存在と同一ではない。
Chemical shift Attribution: 16 ppm 42.0 ppm of carbon in methylene group bonded to methyl group derived from 2,6-xylenol: 123 to 151 ppm of quaternary carbon derived from bisphenol A: Carbon forming aromatic ring In the case of 13C-NMR, the signal intensity ratio is not necessarily the same as the presence of each n carbon.

第5図は該ポリエポキシ化合物を1%のTMSを含むc
Dct5に溶解して測定し′fcIH−NMRスペクト
ル図である。
Figure 5 shows the polyepoxy compound containing 1% TMS.
It is a 'fcIH-NMR spectrum measured after dissolving in Dct5.

第3図と比較すると、4.7〜4.9ppmに存在して
いた水酸基の水素のシグナルが消失しており、新たに2
.4〜4.2ppmにグリシジル基の3種類の水素の複
雑なシグナルが出現している。
Comparing with Figure 3, the hydrogen signal of the hydroxyl group that existed at 4.7 to 4.9 ppm has disappeared, and 2 new signals have been added.
.. Complex signals of three types of hydrogen in the glycidyl group appear at 4 to 4.2 ppm.

第6図は該ポリエポキシ化合物の130−NMRスペク
トル図である。
FIG. 6 is a 130-NMR spectrum of the polyepoxy compound.

第4図と比較すると44.5 ppm、so、s pp
m、73〜74ppmにグリシジル基の3種類の炭素の
シグナルが新たに出現している。
Compared to Figure 4, it is 44.5 ppm, so, s pp
Three types of carbon signals of glycidyl groups newly appeared at 73 to 74 ppm.

また、該ポリフェノールft180℃で5時間加熱処理
後のGPCチャーIf第7図に示す。第1図と第7図と
から、加熱処理前と加熱処理後とでほとんど変化してい
ないことが分かる。
Further, the GPC chart If after heat treatment at 180° C. for 5 hours is shown in FIG. 7. From FIG. 1 and FIG. 7, it can be seen that there is almost no change between before and after heat treatment.

第10図は実施例Iで製造しλポリフェノール化合物を
、薄層クロマトグラフィーで分離して得られた下記の構
造式のヘキサフェノール化合物と推定さする化合物のG
POチャートである。第10図の保持容量237!のビ
ークが本発明のへキサフェノール(分子量764)であ
ることは明らかである。
Figure 10 shows the G of a compound presumed to be a hexaphenol compound with the following structural formula obtained by separating the λ polyphenol compound produced in Example I by thin layer chromatography.
This is a PO chart. The holding capacity in Figure 10 is 237! It is clear that the peak is the hexaphenol of the present invention (molecular weight 764).

第11図は上記のへキサフェノール化合物をCDCl3
に溶解し、日本分光■裂GX−270型FT−NMRを
使用して測定したプロトン−核磁気共鳴(IH−NMR
)スペクトルである。
Figure 11 shows the above hexaphenol compound in CDCl3.
proton-nuclear magnetic resonance (IH-NMR) dissolved in
) is a spectrum.

そ1ぞルのシグナルの帰属は以下のとおりである。The attribution of each signal is as follows.

ケミカルシフト   帰 属 の水素 4.8〜4.9 ppm  :  フェノール性水醗基
の水素6.7〜7.2 ppm  :  芳香族環に直
結している水素この図のそnぞルのシグナルの強度比よ
り、この化合物は、ビスフェノールAI分子当シ、約4
分子の2,6−キシレノールと約4分子のメチレン基が
結合していることは明らかである。この結果と第10図
のGPCチャートよりこの化合物は本1発明のヘキサフ
ェノール化合物であることが確認さまた。
Chemical shift Attributable hydrogen: 4.8 to 4.9 ppm: Hydrogen of phenolic water group: 6.7 to 7.2 ppm: Hydrogen directly connected to the aromatic ring. Based on the intensity ratio, this compound has about 40% of bisphenol AI molecules.
It is clear that about 4 molecules of methylene groups are bonded to the 2,6-xylenol molecule. From this result and the GPC chart shown in FIG. 10, it was confirmed that this compound is the hexaphenol compound of the present invention.

実施例2〜5 実施例1と同様の操作により、第1表に示す条件でポリ
フェノール及びポリエポキシ化合物を合成した。
Examples 2 to 5 Polyphenols and polyepoxy compounds were synthesized by the same operations as in Example 1 under the conditions shown in Table 1.

比較例 実施例1のポリフェノールの展進において。Comparative example In the development of polyphenols in Example 1.

2.6−キシレノールの代シにフェノールを用いた以外
は、実施例1と同様にして下記の構造式のへキサフェノ
ール化合物を主成分とするポリフェノールを得た。
A polyphenol containing a hexaphenol compound having the following structural formula as a main component was obtained in the same manner as in Example 1 except that phenol was used in place of 2.6-xylenol.

さらに実施例1と同様にエビクロロヒドリンと反応させ
てエポキシ樹脂を得た。
Further, in the same manner as in Example 1, it was reacted with shrimp chlorohydrin to obtain an epoxy resin.

第8図は前記ポリフェノールのGPCチャートであり、
第9図は該ポリフェノールを180 ℃で5時間加熱処
理後のGPCチャートである。第9図から、保持容量2
4ゴに存在していたモノマ一体が減少し、高分子量物が
増加していることが分かる。
FIG. 8 is a GPC chart of the polyphenol,
FIG. 9 is a GPC chart after the polyphenol was heat-treated at 180° C. for 5 hours. From Figure 9, holding capacity 2
It can be seen that the amount of monomers present in 4G has decreased and the amount of high molecular weight materials has increased.

応用例 実施例1、比較例1で得たエポキシ樹脂、及びエポキシ
クレゾールノボラック樹脂(ECN −273。
Application Examples Epoxy resins obtained in Example 1 and Comparative Example 1, and epoxy cresol novolak resin (ECN-273).

旭化成■製)を用いて、第2表の硬化剤、配合組成、硬
化条件で硬化し、得ら几た硬化物の物性を測定し念。そ
の結果を第3表に示す。
(manufactured by Asahi Kasei ■) under the curing agent, compounding composition, and curing conditions shown in Table 2, and the physical properties of the resulting cured product were measured. The results are shown in Table 3.

第    2    表 注1)  DAP  メタフェニレンジアミン2) D
DM  ジアミノジフェニルメタン8)当量/エポキシ
当量 第    3    図
Table 2 Note 1) DAP Metaphenylenediamine 2) D
DM Diaminodiphenylmethane 8) Equivalent/Epoxy Equivalent Figure 3

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図、第3図及び第4図はそnぞ1実施例1で得らま
たポリフェノールのGPCチャート。 I H−NMRスペクトル図及び13C−NMRスペク
トル図、第2図、第5図及び第6図はそれぞれ実施例1
で得られたポリエポキシ化合物のGPCチャート。 IH−NMRスペクトル図及び1”C−NMRスペクト
ル図、第8図は比較例で得られたポリフェノールのGp
eチャートである。 第7図及び第9図はそれぞn実施例1で得ら几たポリフ
ェノール及び比較例で得られたポリフェノールのtso
 ’c% 5時間加熱処理後のGPCチャートである。 第10図及び第11図はそれぞれ実施例1で得られたポ
リフェノールより分離して得ら几たヘキサフェノールの
GPC及び’H−NMRスペクトルである。
1, 3 and 4 are GPC charts of the polyphenols obtained in Example 1. The I H-NMR spectrum diagram, the 13C-NMR spectrum diagram, FIGS. 2, 5, and 6 are those of Example 1, respectively.
A GPC chart of the polyepoxy compound obtained in . IH-NMR spectrum and 1"C-NMR spectrum, Figure 8 shows the Gp of the polyphenol obtained in the comparative example.
This is an e-chart. Figures 7 and 9 show the concentrations of the purified polyphenol obtained in Example 1 and the polyphenol obtained in Comparative Example, respectively.
'c% It is a GPC chart after heat treatment for 5 hours. FIG. 10 and FIG. 11 are GPC and 'H-NMR spectra of hexaphenol obtained by separating it from the polyphenol obtained in Example 1, respectively.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のXは ▲数式、化学式、表等があります▼OH又はHO▲数式
、化学式、表等があります▼ で表わされる二価の基、Rは水素原子又は4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフエニルメチル基、nは0又は1
〜3の整数である) で示されるポリフエノール化合物。 2 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるヘキサフエノールである特許請求の範囲第1
項記載のポリフエノール化合物。 3 酸性触媒の存在下、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のAは水素原子又はメチロール基である)で示さ
れるポリメチロールビスフエノールAとその中のメチロ
ール基に対して少なくとも当量の2,6−キシレノール
とを反応させることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のXは ▲数式、化学式、表等があります▼OH又はHO▲数式
、化学式、表等があります▼ で表わされる二価の基、Rは水素原子又は4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフエニルメチル基、nは0又は1
〜3の整数である) で示されるポリフエノール化合物の製造方法。 4 ポリフエノール化合物が、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるヘキサフエノールである特許請求の範囲第3
項記載の製造方法。
[Claims] 1 General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (X in the formula is represented by ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ OH or HO ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ R is a hydrogen atom or a 4-hydroxy-3,5-dimethylphenylmethyl group, n is 0 or 1
An integer of ~3) A polyphenol compound represented by: 2. Claim 1, which is hexaphenol represented by the formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼
The polyphenol compound described in . 3. In the presence of an acidic catalyst, polymethylol bisphenol A represented by the general formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (A in the formula is a hydrogen atom or a methylol group) and the methylol group therein There is a general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (where X is ▲ ▲ there is a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ OH or HO ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Divalent group represented by R is a hydrogen atom or 4-hydroxy-3,5-dimethylphenylmethyl group, n is 0 or 1
An integer of ~3) A method for producing a polyphenol compound represented by: 4 Claim 3 in which the polyphenol compound is hexaphenol represented by the formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼
Manufacturing method described in section.
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WO2021215745A1 (en) * 2020-04-24 2021-10-28 주식회사 엘지화학 Curing agent, adhesive composition for semiconductor comprising same, adhesive film for semiconductor, and semiconductor package using same

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