JPS6226309B2 - - Google Patents

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JPS6226309B2
JPS6226309B2 JP53159912A JP15991278A JPS6226309B2 JP S6226309 B2 JPS6226309 B2 JP S6226309B2 JP 53159912 A JP53159912 A JP 53159912A JP 15991278 A JP15991278 A JP 15991278A JP S6226309 B2 JPS6226309 B2 JP S6226309B2
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JP
Japan
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protective layer
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laminate
thickness
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Application number
JP53159912A
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Japanese (ja)
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JPS5587543A (en
Inventor
Kaoru Iwata
Kazutomi Suzuki
Kazumi Ookawa
Masao Suzuki
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
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Publication of JPS6226309B2 publication Critical patent/JPS6226309B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は被覆された選択光透過性積層体に関
し、更に詳しくは、可視光透過率並びに赤外反射
率が高く、且つ耐摩耗性に優れた選択光透過性積
層体に関する。 選択光透過性積層体は、例えば可視光に対して
透明で赤外光に対して反射能を有するものなどが
透明断熱膜として利用されている。かかる性能を
有する積層体は太陽エネルギー集熱器、温水器、
グリーンハウス、建築物の窓、冷凍・冷蔵シヨー
ケース、車輛・航空機の窓等の利用が考えられ、
太陽エネルギーの利用及びエネルギー放散の防止
をはかる透明断熱窓としての機能が今後益々重要
となつてくる。 かかる目的を達成する為に、均質で高性能の選
択光透過性積層体が、工業的に安価、大量に供給
されることが切望されている。 従来、上記の如き性能を有する膜(積層体)と
しては、 1 金、銅、銀、パラジウム等の金属薄膜: 2 酸化インジウム、酸化スズ、ヨウ化銅等の化
合物半導体膜: 3 金、銅、銀、パラジウム等の金属薄膜と、他
の要素との組合せにより、ある波長領域におけ
る透明性を改善したもの 等が知られている。特に上記3の構成体の代表的
なものは、金属薄膜層を透明高屈折率薄膜層では
さんだ積層体であつて、例えば真空蒸着、反応性
蒸着、化学コーテイング法又はスパツタリング法
で形成されたBi2O3/Au/Bi2O3、ZnS/Ag/
ZnS又はTiO2/Ag/TiO2等の積層体が提案され
ている。金属層として銀を用いたものは、銀自体
がもつ光学的特性により可視光領域における透明
性及び赤外光に対する反射能が特に優れている。 しかし、該選択光透過性を有する積層体を透明
断熱窓として使用する場合は、可視光透過性が赤
外光反射能といつた本来の性能だけでなく耐摩耗
性や耐久性(耐光性、耐熱性)といつた実用性能
も要求される。ところが、一般に上記の如く極め
て薄い金属薄膜や金属酸化物薄膜を積層したもの
は耐摩耗性に於いて不十分である場合が多く、例
えば複層ガラス内に使用する場合は問題は少ない
が、直接外部にさらされる場合は保護層を設ける
ことが必要である。 本発明者らは、該積層体の実用性を上げるべく
種々の保護コーテイング剤を検討したところ多く
の保護コーテイング剤が耐摩耗性を向上せしめう
ることを見出したが、同時に赤外線反射能即ち熱
線反射能を著るしく低下せしめることを発見し
た。 この原因を追跡した結果、保護層が赤外線の大
部分を吸収し、吸収された赤外線エネルギーは熱
線として再放射されると同時に、伝導や対流によ
り周囲に伝達されることが判つた。従つて保護層
を実際に選択光透過性積層体に適用する場合に次
の如き問題が存在する。 保護層が厚すぎると保護機能は増大するが、
赤外領域の吸収率が高くなり、従つて赤外光に
対する反射能が著るしく低下する。一般の保護
コーテイング剤を用いた場合では、保護層の膜
厚1.5〜2.0μmでは赤外反射能のかなりの低下
はまぬがれえない。 0.3μm〜1.5μm程度の保護層膜厚は赤外線
反射能を低下させないという点で本発明の目的
に適した膜厚である。しかしこの膜厚では可視
光をあてると虹色の干渉稿が発生する為通常の
用途には使えない。 更に膜厚を薄くすると、赤外領域の吸収は
益々低下し、干渉稿の発生も回避しうるが、逆
に耐摩耗性は著るしく低下する。例えば一般の
塗料用コーテングでは多くの場合干渉を避けた
膜厚、即ち0.3μm以下では保護層としての十
分な機能は期待し難い。 本発明者らは、かかる予盾する問題を解決すべ
く鋭意研究した結果、耐摩耗性の高い保護層と、
赤外吸収率の低い保護層とを組合せて用いること
により、かかる問題が一挙に解決しうることを見
出し、本発明に到達した。 即ち発明は 1 透明な成形物基板の少なくとも片面に高屈折
率誘電体薄膜層および金属薄膜層を積層してな
る選択光透過性積層体上に、反射赤外により膜
厚2μmで測定した場合の3〜25μmの波長範
囲における平均赤外吸収率が35%以下の透明保
護層(A)、さらに該保護層(A)上に500gの落砂テ
ストによる曇価が15%以下の耐摩耗性透明保護
層(B)を順次積層した積層体であつて (a) 該保護層(A)の膜厚と、該保護層(B)の膜厚と
の和が、干渉膜厚の上限より厚く、且つ (b) 該保護層(B)の膜厚が干渉膜厚の上限以下で
あることを特徴とする被覆された積層体であ
り、更に 2 耐摩耗性透明保護層(B)が、多(メタ)アクリ
ロイル化合物から主としてなる三次元重合体被
覆層である上記第1項記載の被覆された積層体
である。 本発明の如く、特定の膜厚に二層コーテイング
することによりもたらされる利点を、夫々単独コ
ーテイングした場合と比較し詳述する。 (1) 該保護層(B)を単独で、干渉膜厚の上限以上の
膜厚で設けた場合は、耐摩耗性は十分達成でき
ても赤外吸収率が極めて高くなり、熱線反射能
が著るしく低下してしまう。 (2) 該保護層(B)を単独で、干渉膜厚の下限以下例
えば0.1〜0.2μm程度の膜厚で設けた場合は熱
線反射能を低下せしめることはない。しかし通
常の保護コーテイング剤を用いた場合は少なく
とも1.5〜2μmの膜厚がないと保護層として
の機能は発現せず、たとえ高度の耐摩耗性を有
するコーテイング剤(ARコーテイング剤)で
あつても0.1〜0.2μm程度では厳しい使用環境
に対しては十分とはいえない。 (3) 該保護層(A)を単独で設けた場合は、膜厚が干
渉膜厚の下限以下である場合はもとより、上限
以上であつても耐摩耗性が不十分であり、厳し
い使用条件には耐え難い。 (4) それに対して、本発明の二層構造によれば、
赤外域の吸収を抑え、且つ干渉稿を生ずること
なく耐摩耗性が発現する膜厚設定が可能とな
る。例えば透明保護層(A)の膜厚を1.4μmに
し、耐摩耗性保護層(B)の膜厚を0.7μmにする
ことにより、保護層の全膜厚は2.1μmとなり
干渉稿を生ずることなく、又耐摩耗性保護層(B)
の膜厚も耐摩耗性を十分発現する膜厚とするこ
とができ、従つて熱線反射能を犠牲にすること
なく耐摩耗性の改善された積層体を得ることが
できる。 本発明に於て用いられる選択光透過性積層体の
ベースとなる透明な成形物基板としては、有機系
無機系成型物およびこれらの複合成型物のいずれ
でもよい。有機系成型物としては、例えばポリエ
チレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタ
レート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ア
クリル樹脂、ポリアミド樹脂、その他の樹脂の成
型物があげられる。 一方無機系成型物としては例えばソーダガラ
ス、硼硅酸ガラス質、アルミナ、マグネシア、ジ
ルコニア、シリカ系などの金属酸化物などの成型
物があげられる。 これらの成型物は板状、シート状、フイルム
状、等の任意の型に成型されており、またその目
的に応じ着色又は無着色の透明のものが選ばれ
る。ただし加工性の面よりシート状、フイルム
状、板状のものが、中でもフイルム状のものが生
産性の面より特に好ましい。更に二軸配向したポ
リエチレンテレフタレートフイルムが透明性フイ
ルムの強度、寸法安定性、積層体との接着性など
の点より好ましい。 本発明に用いられる高屈折率誘導体薄膜層とし
ては、例えば二酸化チタン、酸化チタン、酸化ビ
スマス、硫化亜鉛、酸化錫および酸化インジウム
等からなる薄膜層を挙げることができる。 高屈折率誘電体薄膜層は可視光に対して1.6以
上、好ましくは1.8以上の屈折率を有し、可視光
透過率80%以上、好ましくは90%以上であるのが
効果的であり、その膜厚は50〜600Å、好ましく
は120〜400Åである。 これらの薄膜層はスパツタリング、イオンプレ
ーテイング、真空蒸着又は化学コーテイングでも
設けることができる。化学コーテイングの例とし
て、例えばアルキルチタネートを主成分とする溶
質の有機溶液を塗工することにより、酸化チタン
薄膜層を設けることができる。アルキルチタネー
トの膜形成の条件を調節することにより、該薄膜
層中に0.1〜10重量%のアルキル基を残存させた
ものは金属層又は、有機質フイルムとの接着性が
向上し、巾広い波長領域にわたつての透明性もす
ぐれた選択光透過性フイルムであり、特に好まし
い。 本発明に用いられる選択光透過性フイルムを構
成する金属薄膜層の材料としては、銀、金、銅、
アルミニウム、ニツケル、パラジウム、錫および
これらの合金あるいは混合物が用いられる。殊
に、銀、金、銅、それらの合金或いは混合物が好
ましく用いられる。その膜厚は30〜500Å、好ま
しくは50〜200Åであり、これは窓の透明性と断
熱性との両者を考慮した場合、この範囲が好適で
あるからである。 金属薄膜層を形成する方法としては、例えば真
空蒸着法、カソードスパツタリング法、プラズマ
溶射法、気相メツキ法、化学メツキ法、電気メツ
キ法およびそれらの組合せのいずれでも可能であ
るが、とりわけ、真空蒸着法は蒸着が効率よく行
なわれるため、又、スパツタリング法は金属薄膜
の組成の時間的変動を小さくできる点で有利であ
る。 金属薄膜層は一層でもよく、又、異なつた金属
を組合せた多層であつてもよい。 特に好ましい金属薄膜層としては、100〜200
Åの銀と銅の合金層であり、且つ合金中の銅の割
合が0.5〜15重量%である金属薄膜100〜200Å
の銀層と5〜50Åの銅層の二層からなる金属薄膜
等である。 本発明に於ける透明保護層(A)は膜厚2μmで測
定した場合の3〜25μmの範囲に於ける平均赤外
吸収率が35%以下、好ましくは30%以下の赤外線
吸収率の低い透明保護層である。ここで平均赤外
吸収率は2μmの膜厚の保護層に300〓(27℃)
の黒体から放射される赤外線を照射した場合に、
3〜25μmの波長範囲の輻射エネルギー中、保護
層に吸収される割合として定義する。その測定法
は後述するが、銀の蒸着膜上に保護層を2μm設
けた試験片を用いて反射赤外により吸収率の波長
依存性を測定する。得られた吸収率と300〓(27
℃)での輻射エネルギー強度とを考慮して3〜25
μmの波長域で積分することにより求められる。 かかる透明保護層に用いる素材としては例えば
ポリ(メタ)アクリレート系塗料;飽和ポリエス
テル系塗料;エチレン−酢酸ビニル共重合体系塗
料;ポリスチレン系塗料;ポリビニルホルマール
あるいはポリビニルブチラール系塗料;ポリ塩化
ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体或いは
塩化ビニル−塩化ビニリデン等の塩化ビニル系塗
料;アルコール溶性ナイロン;ポリエチレン或い
はポリプロピレン等のポリオレフイン等が例示さ
れる。特に2−エチルヘキシルアルコールやブチ
ルアルコールなどの高級脂肪族アルコールの(メ
タ)アクリル酸エステルから主としてなるポリ
(メタ)アクリレート系塗料;エチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグ
リコール等の線状或いは分枝状の脂肪族ジオール
とアジピン酸や、セバチン酸等の脂肪族ジカルボ
ン酸或いはε−オキシカプロン酸等から主とし
て、或る飽和ポリエステル樹脂系塗料;エチレン
−酢酸ビニル共重合系塗料;アクリロニトリル−
スチレン共重合体;ポリスチレン;脂肪族ポリア
ミド共重合体からなるアルコール可溶性ナイロン
等が赤外領域に於ける吸収が小さい為好ましい。
またポリエチレン、ポリプロピレンは薄膜コーテ
イングをするためにプラズマコーテイング等の特
殊技術を要するが、赤外吸収率が低い為に好適に
用いられる。 これらの保護層の塗工方法は特に限定はなく、
例えば溶剤で稀釈した溶液を塗布するか又は浸漬
法・噴霧法、スピナー法やグラビヤコーテイング
などのマシンコーテイング法などの一般的な塗工
法をそのまま適用出来る。 本発明に於て用いられる耐摩耗性透明保護層(B)
は500gカーボランダムを用いた落砂テストによ
る曇価が15%以下、好ましくは10%以下のもので
ある。但し、この場合の曇価は膜厚変化が曇価に
影響を及ぼさない程度に十分厚い膜厚で測定した
値である。かかる耐摩耗性透明保護層としては多
官能ポリ(メタ)アクリレート系塗料やジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート等の三次元
架橋膜;メラミン樹脂系塗料等の熱硬化性樹脂塗
料を加熱硬化して得られる三次元架橋膜; ポリケイ酸やオルガノポリシロキサン系等のケ
イ素化合物を三次元架橋した被膜等、無機ガラス
やSiO2の蒸着物等があげられる。 これらの耐摩耗性保護層は三次元架橋体が多く
その被膜の形成法は特に限定しないが一般にはモ
ノマーを塗工してそのあとで重合反応せしめて被
膜形成せしめる。これらの塗工法は特に限定はな
く、例えば溶剤で稀釈した溶液を塗布するか又は
浸漬法、噴霧法、スピナー法やグラビヤコーテイ
ングなどのマシンコーテイング法等の一般的な塗
工法をそのまま適用出来る。又重合反応せしめる
方法は、それぞれモノマーにより異る。例えば多
官能ビニル決モノマーの場合は熱重合開始剤や光
重合開始剤を加えておいて加熱重合したり、又光
重合したりするし、又熱硬化性樹脂塗料やポリケ
イ酸やオルガノポリシロキサン等などの縮合系の
三次元架橋皮膜は加熱縮合により一般に重合し、
皮膜を形成する。又無機ガラスやSiO2の蒸着物
等は蒸着法、イオンプレーテイング法、スパツタ
ーリング法等の方法により皮膜形成する。 かかる耐摩耗性コーテイング剤として官能基数
3〜6の多官能(メタ)アクリレート(即ち、
(メタ)アクリロイル基を多数有する化合物)か
ら主としてなる三次元重合体被覆層は次の理由か
ら特に好適に用いられる。 (イ) 多官能のアクリレート重合物に基ずく高次の
網目構造を形成する為高い硬度が発現される。
従つて膜厚を十分薄くして熱線反射能を低下さ
せないでも保護層としての機能をはたす。 (ロ) ラジカル反応を利用している為反応が速くか
つ低温で硬化させることが出来る。従つて工程
の連続化が容易であり、長尺物に有利である。 (ハ) アクリレート系であるためラジカル開始剤に
よる熱重合又は増感剤を併用することによる光
重合もいずれも可能である。その官能数が多く
なる為多くの場合は空気硬化性、即ち空気の存
在下での重合性を有するため有利である。 かかる多官能(メタ)アクレリートとしては (イ) トリメチロールプロパン、トロメチロールエ
タン、ペンタエリスリトール等の多官能ポリオ
ールと(メタ)アクリル酸との反応により得ら
れる多官能(メタ)アクリレート (ロ) トリメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸
と、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ートとの反応により得られる多官能(メタ)ア
クリレート (ハ) ヘキサメチロールメラミンのヘキサヒドロキ
シエーテル、ヒドロキシプロピルエーテル、ト
リスヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリ
スヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ヒド
ロキシエチルシアヌレート、ヒドロキシプロピ
ルシアヌレート、ヘキサヒドロキシエチルメラ
ミン、ヘキサヒドロキシプロピルメラミン等と
(メタ)アクリレート等の反応により得られる
シアヌル環、イソシアヌル環、メラミン環を含
む(メタ)アクリレート等が好適に用いられ
る。 かかる多官能(メタ)アクリレートに使用する
重合開始剤は、硬化手段により異なり、紫外線硬
化の場合、ベンゾフエノン、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル
等のベンゾインエーテル類;ベンジル、ベンジル
ジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール等
のベンジルケタール類;2−アルキルアントラキ
ノン類;ジアセチル等が挙げられ、熱硬化の場合
アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物;ベ
ンゾイルパーオキシド、ラウリルパーオキシド、
ジ−tert−ブチルパーオキシド、ジクミルパーオ
キシド、クメンヒドロペルオキシド等の過酸化物
が挙げられ、紫外線と熱を併用する場合、重合開
始剤は組合せて使用することもできる。使用量
は、通常該(メタ)アクリル酸エステルに対して
0.01〜10重量%の範囲である。又、γ線又は電子
線等を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開
始剤を添加する必要はない。 保存安定剤としての重合禁止剤は、必ずしも必
要ではないが、例えばハイドロキノン、ハイドロ
キノンモノメチルエーテル、カテコール、2・6
−ジ−tert−ブチルフエノール、N−ニトロジフ
エニルアミン、フエノチアジン等が挙げられ、通
常該(メタ)アクリル酸エステルに対して10〜
1000ppm用いられる。 又、該コーテイング液は前記一般式で示される
(メタ)アクリル酸エステルの硬化物の耐アブレ
ージヨン性能及び該成型物に対する優れた密着性
を損わない程度に、通常のビニルモノマーを添加
することができる。 該コーテイング液を塗布されたポリエステル成
型物は、該コーテイング液が溶剤で稀釈されてい
る場合には先ず加熱等により溶剤を除去し溶剤を
含まない場合にはそのまま重合させることができ
る。重合は紫外線、γ線、熱、電子線又はそれら
の組合せによりなされるが、好ましくは紫外線、
熱又はそれらの組合せである。 エステルは大部分のものが空気硬化性(空気中
の酸素により硬化が阻害されない)を有している
為、重合に際して窒素等の不活性ガスを用いた
り、減圧にしたり、フイルムやガラス等により空
気を遮断する必要がない場合が多い。 又二種の保護層(A)及び(B)の選択にあたつては一
般的には(A)層及び(B)層の層容性が低い方が良い。
いいかえれば一般には(A)及び(B)の溶解度パラメー
ター差が大きいものの方が良い。理由は(A)層の
上に(B)層を塗工するに際し、(B)層が(A)層と相容す
ると耐摩耗性の低下をまねく。従つて好適な組合
せとしては、例えば(B)層に多官能アクリレート系
三次元重合体被覆層を用い(A)層にポリスチレン、
アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエス
テルレジン、ポリエチレン、ポリプロピレン或は
ポリアミド等を用いるケースが挙げられる。 同様な理由から(B)層を設ける際に用いる塗工用
溶剤は(A)層を溶解しにくいものが好ましい。 本発明において用いられる透明保護層(A)と耐摩
耗性透明保護層(B)の膜厚は、(A)の膜厚と(B)の膜厚
との和が干渉膜厚限界より厚く、かつ(B)の膜厚が
干渉膜厚の上限以下である。ここに干渉膜厚と
は、可視光を当てた時に、にじ色の干渉稿を生じ
る膜厚であり、屈折率等により若干変るのでいち
がいにはいえないが、通常は約0.3μm〜1.5μm
程度である。但し、干渉効果は0.3μmで急激に
変化するのでなく、膜厚の増大に伴い次第に暗く
なり、更に膜厚が増大すると干渉効果を発現す
る。従つて(A)の膜厚と(B)の膜厚の和が干渉膜厚限
界内では干渉が生じる為好ましくない。また(A)と
(B)との膜厚の和の上限は使用目的と耐スクラツチ
性、赤外線反射率等との性能を勘案して決定すべ
きであるが、あまりに大きいと赤外吸収率が高く
なりすぎるため5μm、一般には4μm以下の範
囲で用いられる。 次に(B)層の膜厚は干渉膜厚の上限以下であるが
あまりに厚いと一般に赤外吸収率が高くなりすぎ
る為好ましくは1.0μm以下特に好ましくは0.8μ
m以下の範囲が用いられる。(B)層の膜厚が1.0μ
m以上の場合には、(A)層とあわせた二層の赤外吸
収率と、それと同一膜厚に(B)層を単独で設けた場
合との赤外吸収率の差が小さくなる為二層にする
利点が小さくなる。又(B)層の膜厚は0.05μm以上
好ましくは0.1μm以上、更に好ましくは0.2μm
以上の範囲で用いられる。それ以下では(B)層の耐
摩耗性保護層としての意味がなくなる。 又本発明の効果を一層高めるために透明高屈折
率誘電体薄膜層の表面に例えばシランカツプリン
グ剤処理、接着層コーテイング等をしても差つか
えない。 又本発明の効果を害わない範囲で更に表面処理
例えば着色剤、紫外線吸収剤を併用することは一
向さしつかえない。 本発明の積層体を熱線反射材料として使用する
場合積層体表面に水滴が付着するとその効果が著
るしく姐害されるのでそれを低減するために表面
に親水性を付与する、又は撥水、撥油処理をする
等の加工を行つてもさしつかえない。 以上保護層を設けることにより熱線反射能をそ
こなわずに耐スクラツチ性を著しく向上する他
に、湿気や、紫外線を遮断することにより耐光性
等も向上せしめることが出来る。 かくして得られた積層体は、透明断熱膜として
利用される以外にその導電性を利用した用途、例
えば液晶デイスプレー用電極、電場発光体用電
極、光導電性感光体用電極、帯電防止層、面発熱
体等のエレクトロニツクス等の分野にも利用され
る。 以下、本発明のより具体的な説明を実施例で示
す。なお、実施例中で光透過率は特に断わらない
限り波長500nmにおける値である。赤外線反射
率は、日立製作所EPI−型赤外分光器に反射率
測定装置を取付け、スライドガラスに銀を充分に
厚く(約3000Å)真空蒸着したものの反射率を
100%として、特に断らないかぎり10μに於て測
定した。 又、金属薄膜中の元素組成はけい光X線分析法
(理学電機ケイ光X線分析装置使用)により定量
して求めた。 又落砂テストは透明フイルム上に膜厚3μm〜
5μmの保護層を設けて500gのカーボランタム
を用い、テスト前後の曇価の差を求めた。 またクロツクメーターテストは、東洋精機製ク
ロツクメーターを使用した。市販のガーゼを用
い、500g/cm2の荷重をかけてサンプル表面を往
復摩耗させ、金属層が摩耗するようになるまでの
往復回数を求めた。 なお膜厚測定は安立電機製デジタル電子マイク
ロメーター(K351A型)により測定した。次に
平均赤外吸収率の計算方法を示す。 高屈折率誘電体薄膜層及び金属薄膜層を積層し
てなる選択透過性積層体上に、保護層(特に断わ
らない限り膜厚2μ)を設け、その赤外反射率を
3〜25μの波長領域で測定する。一方300〓(27
℃)の黒体から輻射されるエネルギーを0.2μm
毎にピツクアツプし、それぞれの波長に応じた輻
射エネルギーと赤外線反射率との積を0.2μm毎
に計算し、3〜25μmの波長領域で総和を求め
る。そしてその総和を3〜25μm領域の輻射エネ
ルギー強度での総和で割ることにより規格化す
る。この値は300〓から輻射されるエネルギー
(3〜25μm領域)を総合的に何%反射するかを
表わす。金属層がある膜厚以上ある場合、赤外線
の透過率はほとんどなしとみなせるから100から
この規格化した反射率の差を求めるとその時に用
いた保護層の赤外線吸収能を表わすことになる。
この値を平均赤外吸収率と定義する。3〜25μm
領域の輻射エネルギーは300〓の黒体輻射エネル
ギー全体の約85%に相当する。熱貫流係数は、昭
和電工製HFM−MU型を用いて測定した。 なお実施例中の「部」はすべて重合に基づくも
のである。 次に、耐摩耗性透明保護層(B)の原料になる物質
の合成法を以下に合成法A〜Eとして例示する。 合成法 A 2−ヒドロキシエチルアクリレート82g、トリ
エチルアミン51g及びN−ニトロソジフエニルア
ミン25mgをジオキサン130mlに溶解する。トリメ
リト酸クロリド37.1gをジオキサン40mlに溶解し
た溶液に20〜35℃に保ちながら撹拌下で落下後、
室温で2時間反応する。析出したトリエチルアミ
ン塩酸塩を別後ジオキサンを減圧下で留去す
る。残渣をエーテル抽出し0.5N−HCl水溶液で洗
浄し更に水洗する。エーテル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、更に濃縮して液状のアクリル酸エス
テル(A−1とする)を得た。このものの赤外吸
収スペクトルは1730cm-1にエステルの特性吸収、
1640cm-1及び1620cm-1にC=Cの特性吸収を示し
た。 上記のトリメリト酸クロリドをトリメシン酸ク
ロリドに代えて同様にアクリル酸エステル(A−
2)を得た。 合成法 B トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレ
ート522g、メタクリル酸56.8g、濃硫酸0.6g、
フエノチアジン16mg、トルエン120mlを撹拌機、
水分離器を備えたフラスコ内に仕込み、還流下に
反応させた。反応により生成する水をトルエンと
の共沸混合物として系に流出させた。4時間後に
ほぼ理論量の水が流出したので、反応系を冷却し
た。2wt%のアンモニアと20wt%の硫酸アンモニ
ウムを含む水溶液で、次いで20wt%の硫酸アン
モニウムのみを含む水溶液で反応液を洗つた後、
トルエン層にハイトロキノンモノメチルエーテル
25mgを添加し、減圧下にトルエンを除去した。 得られたメタクリル酸エステル((B−1)と
する。)は、冷却後結晶化した。収量は72gであ
つた。赤外吸収スペクトルは、1460cm-1、1690cm
-1近辺にイソシアヌレートに基ずく吸収、1720cm
-1近辺にメタクロイル基のカルボニルに基ずく吸
収、1635cm-1近辺にビニル基に基ずく吸収、1165
cm-1近辺いC−O−Cに基ずく吸収が観測され
た。 上記のメタクリル酸56.8gをアクリル酸48.6g
に代えて同様の方法でアクリル酸エステル(B−
2)を得た。 合成法 C 2−ヒドロキシルエチルアクリレート125.4g
とN−ニトロソジフエニルアミン25mgとから成る
溶液中に、塩化シアヌル55.3gを添加して得られ
るスラリー状混合物に、室温下撹拌しながら炭酸
ソーダ細粒95.4gを添加した。系はすぐに発熱す
るが、80℃以下となるよう冷却しながら1時間撹
拌した。次いで95℃まで反応温度を高め、その温
度で2時間撹拌をつづけた。冷却後、反応混合物
にエチルエーテル200mlを添加し、沈澱を別後
100mlの水で5回洗浄した。硫酸マグネシウム20
gを添加し脱水した後、エテルエーテルを留去し
た。淡黄色の液状物105gが得られた。このもの
には、液体クロマトグラフイー、マススペルト、
赤外吸収スペクトル(IR)、元素分析よりトリス
(アクロイルオキシエチル)シアヌレート(C−
1)を得た。 合成法 D ヘキサメチロールメラミン45.3g、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート200g、p−メトキシフ
エノール500mg及び濃硫酸8gを30℃で10時間撹
拌した。得られた混合物を酢酸エチル/n−ヘキ
サンで抽出、重炭酸ソーダ飽和水溶液で洗浄、水
洗し、有機層を濃縮するとアクリル酸エステル
((D−1)をえた。 合成法 E 塩化シアヌル184.4部、ジオキサン413部からな
る溶液を氷水600部に激しい撹拌下に注ぎ込みス
ラリーを得た。ジエタノールアミン316.2gを反
応系の温度が30℃以下となるように外部冷却しな
がら、該スラリー中に滴下した。滴下後、フエノ
ールフタレイン溶液を数滴添加し、反応系を序々
に加熱しながら還流温度にまで高め更に還流下2
時間維持した。該加熱及び還流期間中、反応系内
のフエノールフタレインの呈色に注意しながら水
酸化ナトリウム120g及び水300gからなる溶液を
滴加した。次いで冷却し、反応混合物から溶媒を
除去し乾固した。 該反応混合物をn−ブタノールで抽出し、その
まま再結晶させ針状晶のヘキサ(ヒドロキシエチ
ル)メラミン240gを得た。 ヘキサキス(ヒドロキシエチル)メラミン39.1
g及びp−メトキシフエノール0.03gをアクリル
酸100gに溶解し、該溶液中に撹拌させながらア
クリル酸無水物80部を室温下に滴下し、次いで40
℃〜50℃で5時間反応させた。 反応物を激しい撹拌下に水1200g中に投じ、有
機層を分離した。該有機層に酢酸エチル200gを
加え炭酸ナトリウム水溶液で2回洗浄後水洗を3
回繰返し、有機層を分離し、有機層に硫酸マグネ
シウム30gを加え、乾燥後溶媒を減圧留去し、ヘ
キサキス(アクリロイルオキシエチル)メラミン
(E−1)の粘稠な液体を得た。 ジエタノールアミン316.2gの代りにジイソプ
ロパノールアミン400gを用いて同様の方法でヘ
キサキス(2−アクリロイルオキシプロピル)メ
ラミン(E−2)を得た。 実施例 1 光透過率86%、膜厚50μmの二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフイルムに厚さ300Åの酸化
チタン薄膜層、厚さ170Åの銀及び銅の合金より
薄膜層(銀92重量%、銅8重量%)及び280Åの
酸化チタン薄膜層を順次積層し、選択光透過性を
有する積層体を得た。 酸化チタン薄膜層はいずれもテトラブチルチタ
ネートの4量体3部、イソプロピルアルコール97
部からなる溶液をバーコーターで塗布し、120℃
3分間加熱して設けた。 金属薄膜層は銀−銅合金(銀70%、銅30%)を
用い、抵抗加熱方式で真空蒸着して設けた。 この選択光透過性を有する積層体(積層体○イと
する)の上にSAN−H(三菱モンサント化成ス
チレン−アクリルニトリル共重合体)8部、メチ
ルエチルケトン92部からなるコーテイング液をパ
ーコーターNo.20を用いてコーテイングし、120℃
3分の乾燥によつて膜厚2.0μの透明保護層を得
た。この保護層の平均赤外吸収率を計算すると21
%という値が得られた。 続いて同じコーテイング液をバーコーターNo.12
を用いて積層体○イの上にコーテイングし120℃3
分の乾燥によつて膜厚1.5μの保護層(A)を得た。
この積層体の上にA−TMMT(テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレート)(膜厚3μでの落
砂テストによる曇価1.2%)10部、エチレングリ
コールモノエチルエーテル(エチルセルソンブ)
90部、ベンジルジメチルケタール0.15部からなる
コーテイング液をスピナーを用いて塗布し、120
℃で3分間溶媒を蒸発除去した後2KW高圧水銀
灯20cm下、1分間紫外線照射して、膜厚0.5μの
A−TMMTから成る耐摩耗性透明保護層(B)を得
た。 この、積層体○イ/SAN−H(1.5μ)/A−
TMMT(0.5μ)よりなる積層体に、クロツクメ
ーターテストを実施したところ15000回でもまだ
金属層の摩耗はおこらず高い耐スクラツチ性を示
した。それに対して、保護層のない積層体○イでは
1〜2回で金属層のほとんどが摩耗した。 また、この保護層を有した積層体の平均赤外吸
収率は27%、熱貫流係数は1.60と赤外吸収の小さ
い断熱性能の大きい積層体を得ることができた。 500mμの透過率も72%で優れた可視光透過性
を示し、干渉稿なども見られなかつた。 比較例 1〜5 実施例1で用いた保護層のない選択光透過性を
有する積層体○イの上に、次の各種の保護層を設
け、断熱性能として平均赤外吸収率、熱貫流係数
及び耐スクラツチ性としてクロツクメータ−テス
トを実施した。
The present invention relates to a coated selective light transmitting laminate, and more particularly to a selective light transmitting laminate having high visible light transmittance and infrared reflectance and excellent abrasion resistance. As the selective light transmitting laminate, for example, one that is transparent to visible light and reflective to infrared light is used as a transparent heat insulating film. Laminated bodies with such performance can be used in solar energy collectors, water heaters,
Possible uses include greenhouses, building windows, frozen and refrigerated cases, vehicle and aircraft windows, etc.
The function of transparent insulating windows that utilize solar energy and prevent energy dissipation will become increasingly important in the future. In order to achieve this objective, it is strongly desired that homogeneous, high-performance selective light transmitting laminates be industrially available at low cost and in large quantities. Conventionally, films (laminates) having the above-mentioned properties include: 1. Metal thin films such as gold, copper, silver, and palladium; 2. Compound semiconductor films such as indium oxide, tin oxide, and copper iodide; 3. Gold, copper, It is known that the transparency in a certain wavelength range is improved by a combination of a metal thin film such as silver or palladium and other elements. In particular, a typical structure of the above 3 is a laminate in which a metal thin film layer is sandwiched between transparent high refractive index thin film layers, such as Bi formed by vacuum evaporation, reactive evaporation, chemical coating method or sputtering method. 2 O 3 /Au/Bi 2 O 3 , ZnS/Ag/
Laminated bodies such as ZnS or TiO 2 /Ag/TiO 2 have been proposed. Those using silver as the metal layer have particularly excellent transparency in the visible light region and reflective ability for infrared light due to the optical properties of silver itself. However, when using a laminate having selective light transmittance as a transparent heat insulating window, it is necessary to have not only the inherent performance such as visible light transmittance and infrared light reflectance, but also its abrasion resistance and durability (light resistance, Practical performance such as heat resistance) is also required. However, in general, laminated extremely thin metal films or metal oxide thin films as described above often have insufficient abrasion resistance.For example, when used inside double-glazed glass, there are few problems, but when used directly When exposed to the outside, it is necessary to provide a protective layer. The present inventors investigated various protective coating agents in order to improve the practicality of the laminate and found that many protective coating agents can improve wear resistance, but at the same time, they have a high ability to reflect infrared rays, that is, heat ray reflection. It was discovered that this significantly reduced performance. As a result of tracing the cause of this, it was found that the protective layer absorbs most of the infrared rays, and that the absorbed infrared energy is re-radiated as heat rays and at the same time is transmitted to the surroundings by conduction and convection. Therefore, when actually applying a protective layer to a selectively transparent laminate, the following problems exist. If the protective layer is too thick, the protective function will increase, but
The absorption rate in the infrared region becomes high, and therefore the reflectivity for infrared light is significantly reduced. When a general protective coating agent is used, when the thickness of the protective layer is 1.5 to 2.0 μm, a considerable decrease in infrared reflectivity cannot be avoided. A protective layer thickness of about 0.3 μm to 1.5 μm is suitable for the purpose of the present invention in that it does not reduce infrared reflective ability. However, with this film thickness, rainbow-colored interference patterns occur when exposed to visible light, so it cannot be used for normal purposes. If the film thickness is further reduced, the absorption in the infrared region will further decrease and the generation of interference marks can be avoided, but on the contrary, the wear resistance will be significantly reduced. For example, in most cases, coatings for general paints cannot be expected to have a sufficient function as a protective layer if the film thickness is less than 0.3 μm to avoid interference. As a result of intensive research in order to solve such problems, the inventors of the present invention have developed a highly wear-resistant protective layer,
It has been discovered that such problems can be solved at once by using a protective layer with a low infrared absorption rate, and the present invention has been achieved. That is, the invention is based on the following: 1. On a selective light transmitting laminate formed by laminating a high refractive index dielectric thin film layer and a metal thin film layer on at least one side of a transparent molded substrate, a film thickness of 2 μm measured by reflected infrared light is obtained. A transparent protective layer (A) with an average infrared absorption rate of 35% or less in the wavelength range of 3 to 25 μm, and a wear-resistant transparent layer with a haze value of 15% or less when tested with 500 g of sand on top of the protective layer (A). A laminate in which protective layers (B) are sequentially laminated, wherein (a) the sum of the thickness of the protective layer (A) and the thickness of the protective layer (B) is greater than the upper limit of the interference film thickness; and (b) a coated laminate characterized in that the film thickness of the protective layer (B) is less than or equal to the upper limit of the interference film thickness; The coated laminate according to item 1 above, which is a three-dimensional polymer coating layer mainly composed of a meth)acryloyl compound. The advantages brought about by coating two layers to a specific thickness as in the present invention will be explained in detail in comparison with the case where each layer is coated alone. (1) If the protective layer (B) is provided alone with a thickness greater than the upper limit of the interference film thickness, the infrared absorption rate will be extremely high and the heat ray reflection ability will be reduced even if sufficient wear resistance is achieved. It will drop significantly. (2) When the protective layer (B) is provided alone with a thickness of less than the lower limit of the interference film thickness, for example, about 0.1 to 0.2 μm, the heat ray reflecting ability will not be reduced. However, when using a normal protective coating agent, it will not function as a protective layer unless the film thickness is at least 1.5 to 2 μm, and even if the coating agent has a high degree of wear resistance (AR coating agent), it will not function as a protective layer. A thickness of about 0.1 to 0.2 μm is not sufficient for harsh usage environments. (3) When the protective layer (A) is provided alone, wear resistance is insufficient not only when the film thickness is below the lower limit of the interference film thickness, but even when it is above the upper limit, and it cannot be used under severe usage conditions. It's unbearable. (4) In contrast, according to the two-layer structure of the present invention,
It is possible to set a film thickness that suppresses absorption in the infrared region and exhibits wear resistance without causing interference. For example, by setting the thickness of the transparent protective layer (A) to 1.4 μm and the thickness of the wear-resistant protective layer (B) to 0.7 μm, the total thickness of the protective layer will be 2.1 μm, without causing any interference. , and wear-resistant protective layer (B)
The film thickness can also be set to a film thickness that sufficiently exhibits abrasion resistance, and therefore a laminate with improved abrasion resistance can be obtained without sacrificing heat ray reflective ability. The transparent molded substrate serving as the base of the selectively transparent laminate used in the present invention may be either an organic-based inorganic molded product or a composite molded product thereof. Examples of organic molded products include polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polybutylene terephthalate resin,
Examples include molded products of polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, acrylic resin, polyamide resin, and other resins. On the other hand, examples of inorganic molded products include molded products of metal oxides such as soda glass, borosilicate glass, alumina, magnesia, zirconia, and silica. These molded products can be molded into any shape such as a plate, sheet, or film, and colored or uncolored transparent ones are selected depending on the purpose. However, sheet-like, film-like, and plate-like materials are preferable from the viewpoint of processability, and among them, film-like materials are particularly preferable from the viewpoint of productivity. Further, a biaxially oriented polyethylene terephthalate film is preferable from the viewpoints of the strength of the transparent film, dimensional stability, adhesiveness with the laminate, and the like. Examples of the high refractive index dielectric thin film layer used in the present invention include thin film layers made of titanium dioxide, titanium oxide, bismuth oxide, zinc sulfide, tin oxide, indium oxide, and the like. It is effective for the high refractive index dielectric thin film layer to have a refractive index of 1.6 or more, preferably 1.8 or more for visible light, and a visible light transmittance of 80% or more, preferably 90% or more. The film thickness is 50 to 600 Å, preferably 120 to 400 Å. These thin film layers can also be applied by sputtering, ion plating, vacuum deposition or chemical coating. As an example of a chemical coating, a thin layer of titanium oxide can be provided, for example by applying an organic solution of a solute based on an alkyl titanate. By adjusting the conditions for alkyl titanate film formation, those in which 0.1 to 10% by weight of alkyl groups remain in the thin film layer have improved adhesion with metal layers or organic films, and can be used in a wide wavelength range. It is a selective light transmitting film with excellent transparency throughout the film, and is particularly preferred. Materials for the metal thin film layer constituting the selectively transparent film used in the present invention include silver, gold, copper,
Aluminum, nickel, palladium, tin and alloys or mixtures thereof are used. In particular, silver, gold, copper, and alloys or mixtures thereof are preferably used. The film thickness is 30 to 500 Å, preferably 50 to 200 Å, because this range is suitable when both the transparency and heat insulation of the window are taken into consideration. Examples of methods for forming the metal thin film layer include vacuum evaporation, cathode sputtering, plasma spraying, vapor phase plating, chemical plating, electroplating, and combinations thereof. The vacuum evaporation method is advantageous in that vapor deposition is performed efficiently, and the sputtering method is advantageous in that temporal fluctuations in the composition of the metal thin film can be reduced. The metal thin film layer may be a single layer, or may be a multilayer combination of different metals. A particularly preferable metal thin film layer is 100 to 200
Metal thin film 100-200 Å, which is a silver and copper alloy layer with a copper content of 0.5-15% by weight in the alloy.
It is a metal thin film consisting of two layers: a silver layer of 100 Å and a copper layer of 5 to 50 Å. The transparent protective layer (A) in the present invention is a transparent material with a low infrared absorption rate, with an average infrared absorption rate of 35% or less, preferably 30% or less, in the range of 3 to 25 μm when measured with a film thickness of 2 μm. It is a protective layer. Here, the average infrared absorption rate is 300〓(27℃) for a protective layer with a thickness of 2μm.
When irradiated with infrared rays emitted from a black body,
It is defined as the proportion of radiant energy in the wavelength range of 3 to 25 μm that is absorbed by the protective layer. The measurement method will be described later, but the wavelength dependence of the absorbance is measured using reflected infrared light using a test piece in which a 2 μm thick protective layer is provided on a deposited silver film. The absorption rate obtained and 300〓(27
3 to 25, taking into account the radiant energy intensity at
It is obtained by integrating in the μm wavelength range. Materials used for such transparent protective layers include, for example, poly(meth)acrylate paints; saturated polyester paints; ethylene-vinyl acetate copolymer paints; polystyrene paints; polyvinyl formal or polyvinyl butyral paints; polyvinyl chloride, vinyl acetate. -Vinyl chloride-based paints such as vinyl chloride copolymer or vinyl chloride-vinylidene chloride; alcohol-soluble nylon; and polyolefins such as polyethylene or polypropylene. In particular, poly(meth)acrylate paints mainly composed of (meth)acrylic acid esters of higher aliphatic alcohols such as 2-ethylhexyl alcohol and butyl alcohol; linear or branched paints such as ethylene glycol, tetramethylene glycol, neopentyl glycol, etc. Mainly from aliphatic diols such as adipic acid, aliphatic dicarboxylic acids such as sebacic acid, or ε-oxycaproic acid, certain saturated polyester resin paints; ethylene-vinyl acetate copolymer paints; acrylonitrile-
Alcohol-soluble nylon made of styrene copolymer; polystyrene; aliphatic polyamide copolymer and the like are preferred because they have low absorption in the infrared region.
Although polyethylene and polypropylene require special techniques such as plasma coating to form a thin film coating, they are preferably used because of their low infrared absorption. There are no particular limitations on the coating method for these protective layers;
For example, a solution diluted with a solvent may be applied, or a general coating method such as a dipping method, a spray method, a spinner method, or a machine coating method such as gravure coating can be applied as is. Wear-resistant transparent protective layer (B) used in the present invention
has a haze value of 15% or less, preferably 10% or less in a sand drop test using 500 g of carborundum. However, the haze value in this case is a value measured with a sufficiently thick film so that changes in film thickness do not affect the haze value. Such wear-resistant transparent protective layers include three-dimensional crosslinked films such as polyfunctional poly(meth)acrylate paints and diethylene glycol bisallyl carbonate; three-dimensional crosslinked films obtained by heating and curing thermosetting resin paints such as melamine resin paints; Crosslinked film: Examples include films formed by three-dimensionally crosslinking silicon compounds such as polysilicic acid and organopolysiloxane, and vapor deposits of inorganic glass and SiO 2 . Many of these wear-resistant protective layers are three-dimensionally crosslinked, and the method of forming the film is not particularly limited, but generally a monomer is applied and then a polymerization reaction is carried out to form the film. These coating methods are not particularly limited; for example, a solution diluted with a solvent may be applied, or a general coating method such as a dipping method, a spray method, a spinner method, or a machine coating method such as gravure coating can be directly applied. Furthermore, the method for carrying out the polymerization reaction differs depending on the monomer. For example, in the case of polyfunctional vinyl-based monomers, thermal polymerization initiators or photopolymerization initiators are added and the polymerization is performed by heating or photopolymerization, and thermosetting resin paints, polysilicic acid, organopolysiloxane, etc. Three-dimensional crosslinked films of condensation systems such as
Forms a film. Inorganic glass, SiO 2 deposits, etc. are formed into a film by a method such as a vapor deposition method, an ion plating method, or a sputtering method. As such a wear-resistant coating agent, a polyfunctional (meth)acrylate having a functional group number of 3 to 6 (i.e.,
A three-dimensional polymer coating layer mainly composed of (a compound having a large number of (meth)acryloyl groups) is particularly preferably used for the following reasons. (a) It exhibits high hardness because it forms a high-order network structure based on a polyfunctional acrylate polymer.
Therefore, it functions as a protective layer even if the film thickness is made sufficiently thin without reducing the heat ray reflecting ability. (b) Because it uses radical reactions, the reaction is fast and it can be cured at low temperatures. Therefore, the process can be easily made continuous, which is advantageous for long products. (c) Since it is an acrylate type, thermal polymerization using a radical initiator or photopolymerization using a sensitizer is also possible. Since the functional number thereof is increased, it is advantageous in many cases because it has air curability, that is, polymerizability in the presence of air. Such polyfunctional (meth)acrylates include (a) polyfunctional (meth)acrylates obtained by reacting polyfunctional polyols such as trimethylolpropane, tromethylolethane, and pentaerythritol with (meth)acrylic acid; and (b) trimellitic acid. , trimesic acid, pyromellitic acid, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate (iii) Polyfunctional (meth)acrylate obtained by the reaction of hexahydroxyether of hexamethylolmelamine, hydroxypropyl Cyanuric ring, isocyanuric ring obtained by reaction of ether, trishydroxyethyl isocyanurate, trishydroxypropyl isocyanurate, hydroxyethyl cyanurate, hydroxypropyl cyanurate, hexahydroxyethylmelamine, hexahydroxypropylmelamine, etc. and (meth)acrylate, etc. , (meth)acrylate containing a melamine ring, etc. are preferably used. Polymerization initiators used for such polyfunctional (meth)acrylates vary depending on the curing method; in the case of ultraviolet curing, benzoin ethers such as benzophenone, benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether; benzyl, benzyl dimethyl ketal, and benzyl diethyl; Benzyl ketals such as ketal; 2-alkylanthraquinones; diacetyl, etc.; in the case of heat curing, azo compounds such as azobisisobutyronitrile; benzoyl peroxide, lauryl peroxide,
Examples include peroxides such as di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, and cumene hydroperoxide. When ultraviolet rays and heat are used together, polymerization initiators can also be used in combination. The amount used is usually based on the (meth)acrylic ester.
It ranges from 0.01 to 10% by weight. Furthermore, when using gamma rays, electron beams, or the like as a curing means, it is not necessarily necessary to add a polymerization initiator. Polymerization inhibitors as storage stabilizers are not necessarily required, but include, for example, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, catechol, 2.6
-di-tert-butylphenol, N-nitrodiphenylamine, phenothiazine, etc., and usually 10 to 10% of the (meth)acrylic acid ester
1000ppm used. Further, the coating liquid may contain an ordinary vinyl monomer to the extent that it does not impair the abrasion resistance of the cured product of the (meth)acrylic acid ester represented by the above general formula and the excellent adhesion to the molded product. can. When the coating liquid is diluted with a solvent, the polyester molded article coated with the coating liquid can be polymerized by first removing the solvent by heating or the like, and if it does not contain a solvent, it can be directly polymerized. Polymerization is carried out using ultraviolet rays, gamma rays, heat, electron beams, or a combination thereof, preferably ultraviolet rays,
heat or a combination thereof. Most esters are air-curable (curing is not inhibited by oxygen in the air), so during polymerization, inert gas such as nitrogen is used, pressure is reduced, or air is cured using a film or glass. In many cases, there is no need to shut it off. Furthermore, when selecting the two types of protective layers (A) and (B), it is generally better that the layers (A) and (B) have a lower layer capacity.
In other words, it is generally better to have a larger difference in solubility parameters between (A) and (B). The reason is that when coating the (B) layer on the (A) layer, if the (B) layer is compatible with the (A) layer, this will lead to a decrease in abrasion resistance. Therefore, a suitable combination is, for example, using a polyfunctional acrylate three-dimensional polymer coating layer for the (B) layer and polystyrene for the (A) layer.
Examples include cases where acrylonitrile-styrene copolymer, polyester resin, polyethylene, polypropylene, polyamide, etc. are used. For the same reason, the coating solvent used when forming the layer (B) is preferably one that does not easily dissolve the layer (A). The thickness of the transparent protective layer (A) and wear-resistant transparent protective layer (B) used in the present invention is such that the sum of the thickness of (A) and the thickness of (B) is greater than the interference thickness limit; And the film thickness of (B) is less than or equal to the upper limit of the interference film thickness. Here, the interference film thickness is the film thickness that produces a rainbow-colored interference pattern when exposed to visible light, and although it cannot be said to be exact because it varies slightly depending on the refractive index, etc., it is usually about 0.3 μm to 1.5 μm.
That's about it. However, the interference effect does not change rapidly at 0.3 μm, but gradually becomes darker as the film thickness increases, and as the film thickness further increases, the interference effect appears. Therefore, if the sum of the film thicknesses of (A) and (B) is within the interference film thickness limit, interference will occur, which is not preferable. Also (A)
The upper limit of the sum of the film thicknesses (B) and (B) should be determined by considering the intended use, scratch resistance, infrared reflectance, etc., but if it is too large, the infrared absorption will be too high, so it should be set at 5 μm. , generally used in a range of 4 μm or less. Next, the film thickness of layer (B) is below the upper limit of the interference film thickness, but if it is too thick, the infrared absorption rate will generally be too high, so it is preferably 1.0 μm or less, particularly preferably 0.8 μm.
A range of m or less is used. (B) Layer thickness is 1.0μ
m or more, the difference between the infrared absorption of the two layers together with the (A) layer and the infrared absorption when the (B) layer is provided alone at the same thickness becomes small. The advantage of having two layers is reduced. The thickness of layer (B) is 0.05 μm or more, preferably 0.1 μm or more, and more preferably 0.2 μm.
It is used in the above range. If it is less than that, the (B) layer has no meaning as a wear-resistant protective layer. Further, in order to further enhance the effects of the present invention, the surface of the transparent high refractive index dielectric thin film layer may be treated with a silane coupling agent, coated with an adhesive layer, etc. Furthermore, it is not at all prohibited to use surface treatments such as coloring agents and ultraviolet absorbers in combination within a range that does not impair the effects of the present invention. When the laminate of the present invention is used as a heat ray reflective material, if water droplets adhere to the surface of the laminate, the effect will be significantly impaired, so in order to reduce this, the surface should be made hydrophilic or water repellent. There is no problem with processing such as oil treatment. By providing the above-mentioned protective layer, not only the scratch resistance can be significantly improved without impairing the heat ray reflection ability, but also the light resistance can be improved by blocking moisture and ultraviolet rays. In addition to being used as a transparent heat insulating film, the thus obtained laminate can be used for applications utilizing its conductivity, such as electrodes for liquid crystal displays, electrodes for electroluminescent materials, electrodes for photoconductive photoreceptors, antistatic layers, It is also used in fields such as electronics, such as surface heating elements. Hereinafter, a more specific explanation of the present invention will be shown in Examples. In the examples, unless otherwise specified, the light transmittance is a value at a wavelength of 500 nm. Infrared reflectance is measured by attaching a reflectance measurement device to a Hitachi EPI-type infrared spectrometer and measuring the reflectance of a slide glass with sufficiently thick (approx. 3000 Å) vacuum-deposited silver.
Unless otherwise specified, measurements were taken at 10μ as 100%. Further, the elemental composition in the metal thin film was determined by quantitative determination using a fluorescence X-ray analysis method (using a Rigaku Fluorescence X-ray analyzer). In addition, the sand drop test was performed on a transparent film with a film thickness of 3 μm or more.
A protective layer of 5 μm was provided and 500 g of carborantum was used, and the difference in haze value before and after the test was determined. For the clock meter test, a clock meter manufactured by Toyo Seiki was used. Using commercially available gauze, the sample surface was abraded back and forth under a load of 500 g/cm 2 , and the number of back and forth movements until the metal layer began to wear was determined. The film thickness was measured using a digital electronic micrometer (model K351A) manufactured by Anritsu Electric. Next, a method for calculating the average infrared absorption rate will be shown. A protective layer (thickness: 2μ unless otherwise specified) is provided on the selectively permeable laminate formed by laminating a high refractive index dielectric thin film layer and a metal thin film layer, and its infrared reflectance is adjusted to a wavelength range of 3 to 25μ. Measure with. On the other hand, 300〓(27
0.2 μm of the energy radiated from a black body at
The product of the radiant energy and the infrared reflectance according to each wavelength is calculated every 0.2 μm, and the sum is determined in the wavelength range of 3 to 25 μm. Then, the sum is normalized by dividing it by the sum of the radiant energy intensity in the 3 to 25 μm region. This value represents the total percentage of energy radiated from 300〓 (in the 3 to 25 μm range) that is reflected. If the metal layer is thicker than a certain thickness, it can be assumed that there is almost no infrared transmittance, so finding the difference in this normalized reflectance from 100 will represent the infrared absorbing ability of the protective layer used at that time.
This value is defined as the average infrared absorption rate. 3~25μm
The radiant energy in this region corresponds to about 85% of the total blackbody radiant energy of 300〓. The heat transmission coefficient was measured using HFM-MU model manufactured by Showa Denko. In addition, all "parts" in the examples are based on polymerization. Next, methods for synthesizing substances that are raw materials for the abrasion-resistant transparent protective layer (B) are illustrated below as synthesis methods A to E. Synthesis method A 82 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 51 g of triethylamine and 25 mg of N-nitrosodiphenylamine are dissolved in 130 ml of dioxane. After dropping 37.1 g of trimellitic acid chloride in 40 ml of dioxane under stirring while keeping the temperature at 20-35°C,
React for 2 hours at room temperature. After separating the precipitated triethylamine hydrochloride, dioxane is distilled off under reduced pressure. The residue is extracted with ether, washed with a 0.5N aqueous HCl solution, and further washed with water. The ether layer was dried over magnesium sulfate and further concentrated to obtain a liquid acrylic ester (referred to as A-1). The infrared absorption spectrum of this product has the characteristic absorption of ester at 1730 cm -1 .
It showed C=C characteristic absorption at 1640 cm -1 and 1620 cm -1 . Similarly, acrylic acid ester (A-
2) was obtained. Synthesis method B Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate 522g, methacrylic acid 56.8g, concentrated sulfuric acid 0.6g,
Add 16 mg of phenothiazine and 120 ml of toluene to a stirrer.
The mixture was charged into a flask equipped with a water separator and reacted under reflux. The water produced by the reaction flowed into the system as an azeotrope with toluene. After 4 hours, almost the theoretical amount of water had flowed out, so the reaction system was cooled. After washing the reaction solution with an aqueous solution containing 2 wt% ammonia and 20 wt% ammonium sulfate, and then with an aqueous solution containing only 20 wt% ammonium sulfate,
Hytroquinone monomethyl ether in toluene layer
25 mg was added and the toluene was removed under reduced pressure. The obtained methacrylic ester (referred to as (B-1)) was crystallized after cooling. The yield was 72g. Infrared absorption spectrum is 1460cm -1 and 1690cm
Isocyanurate-based absorption near -1 , 1720cm
Absorption based on carbonyl of methacroyl group near -1 , absorption based on vinyl group near 1635 cm -1 , 1165
Absorption based on C-O-C near cm -1 was observed. 56.8g of the above methacrylic acid to 48.6g of acrylic acid
Acrylic ester (B-
2) was obtained. Synthesis method C 2-hydroxylethyl acrylate 125.4g
To a slurry mixture obtained by adding 55.3 g of cyanuric chloride to a solution consisting of 25 mg of N-nitrosodiphenylamine and 25 mg of N-nitrosodiphenylamine, 95.4 g of fine particles of soda carbonate were added with stirring at room temperature. Although the system immediately generated heat, it was stirred for 1 hour while being cooled to below 80°C. The reaction temperature was then raised to 95°C and stirring was continued at that temperature for 2 hours. After cooling, add 200ml of ethyl ether to the reaction mixture and separate the precipitate.
Washed 5 times with 100 ml of water. Magnesium sulfate 20
After dehydration, ether ether was distilled off. 105 g of a pale yellow liquid was obtained. This includes liquid chromatography, mass spelling,
Infrared absorption spectrum (IR) and elemental analysis revealed that tris(acroyloxyethyl)cyanurate (C-
1) was obtained. Synthesis method D 45.3 g of hexamethylolmelamine, 200 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 500 mg of p-methoxyphenol and 8 g of concentrated sulfuric acid were stirred at 30°C for 10 hours. The resulting mixture was extracted with ethyl acetate/n-hexane, washed with saturated aqueous sodium bicarbonate solution, washed with water, and the organic layer was concentrated to obtain acrylic acid ester ((D-1). Synthesis method E: 184.4 parts of cyanuric chloride, 413 parts of dioxane A slurry was obtained by pouring the solution consisting of 1.0 parts into 600 parts of ice water with vigorous stirring. 316.2 g of diethanolamine was added dropwise into the slurry while externally cooling the reaction system to a temperature of 30°C or less. After the dropwise addition, Add several drops of phenolphthalein solution, gradually heat the reaction system to reflux temperature, and further reflux for 2 hours.
Time was maintained. During the heating and refluxing period, a solution consisting of 120 g of sodium hydroxide and 300 g of water was added dropwise while paying attention to coloration of phenolphthalein in the reaction system. The reaction mixture was then cooled and the solvent was removed to dryness. The reaction mixture was extracted with n-butanol and directly recrystallized to obtain 240 g of hexa(hydroxyethyl)melamine in the form of needles. Hexakis (hydroxyethyl) melamine 39.1
0.03 g of g and p-methoxyphenol were dissolved in 100 g of acrylic acid, 80 parts of acrylic anhydride was added dropwise to the solution at room temperature while stirring, and then 40 g of p-methoxyphenol was dissolved in 100 g of acrylic acid.
The reaction was carried out at 50°C to 50°C for 5 hours. The reaction mass was poured into 1200 g of water under vigorous stirring and the organic layer was separated. Add 200 g of ethyl acetate to the organic layer, wash twice with aqueous sodium carbonate solution, and then wash with water 3 times.
The organic layer was separated several times, 30 g of magnesium sulfate was added to the organic layer, and after drying, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a viscous liquid of hexakis(acryloyloxyethyl)melamine (E-1). Hexakis(2-acryloyloxypropyl)melamine (E-2) was obtained in the same manner using 400 g of diisopropanolamine instead of 316.2 g of diethanolamine. Example 1 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a light transmittance of 86% and a film thickness of 50 μm, a titanium oxide thin film layer with a thickness of 300 Å, and a thin film layer of a silver and copper alloy with a thickness of 170 Å (92% by weight of silver, 8% by weight of copper) %) and 280 Å titanium oxide thin film layers were sequentially laminated to obtain a laminate having selective light transmittance. The titanium oxide thin film layer is made of 3 parts of tetrabutyl titanate and 97 parts of isopropyl alcohol.
Apply a solution consisting of
Heat and set for 3 minutes. The metal thin film layer was formed using a silver-copper alloy (70% silver, 30% copper) and was vacuum deposited using a resistance heating method. A coating liquid consisting of 8 parts of SAN-H (Mitsubishi Monsanto chemical styrene-acrylonitrile copolymer) and 92 parts of methyl ethyl ketone was applied onto this laminate having selective light transmittance (laminated body ○A) using Percoater No. 20. coating at 120℃
A transparent protective layer with a thickness of 2.0 μm was obtained by drying for 3 minutes. Calculating the average infrared absorption rate of this protective layer is 21
A value of % was obtained. Next, apply the same coating liquid to Bar Coater No.12.
Coat the laminate ○a using
A protective layer (A) with a film thickness of 1.5 μm was obtained by drying for 30 minutes.
On top of this laminate, 10 parts of A-TMMT (tetramethylolmethane tetraacrylate) (haze value 1.2% by sand drop test at a film thickness of 3 μm) and ethylene glycol monoethyl ether (ethyl celsonbu) were added.
A coating solution consisting of 90 parts and 0.15 parts of benzyl dimethyl ketal was applied using a spinner, and 120 parts of
After the solvent was evaporated for 3 minutes at °C, ultraviolet rays were irradiated for 1 minute under a 2KW high-pressure mercury lamp 20cm long to obtain an abrasion-resistant transparent protective layer (B) made of A-TMMT with a thickness of 0.5μ. This laminate ○I/SAN-H (1.5μ)/A-
When a laminate made of TMMT (0.5μ) was subjected to a clock meter test, the metal layer still showed high scratch resistance even after 15,000 cycles. On the other hand, in the case of the laminate (○) without a protective layer, most of the metal layer was worn out after one or two times. Furthermore, the average infrared absorption rate of the laminate with this protective layer was 27%, and the heat transmission coefficient was 1.60, making it possible to obtain a laminate with low infrared absorption and high heat insulation performance. The transmittance at 500 mμ was 72%, showing excellent visible light transmission, and no interference was observed. Comparative Examples 1 to 5 The following various protective layers were provided on the laminate ○A with selective light transmission without a protective layer used in Example 1, and the average infrared absorption coefficient and heat transmission coefficient were measured as heat insulation performance. A clock meter test was also conducted to determine scratch resistance.

【表】 比較例1で示されるように透明保護層である
SAN−H単独では断熱性能は優れているが耐ス
クラツチ性が悪い。 一方比較例2で示されるように耐摩耗性透明保
護層であるA−TMMT単独では耐スクラツチ性
は優れているが、平均赤外吸収率が大きく、断熱
性能が悪い。 比較例3ではA−TMMT0.8μの例を示してあ
るが、これは耐スクラツチ性が優れ、断熱性能も
まずまずであるが、可視光に対して干渉する膜厚
であるので、干渉縞が見られる。 干渉縞が出現するまでの膜厚ということで
SAN−H、A−TMMTについて0.1μのコーテイ
ングを施し、その結果を比較例4、5に示した。
ともに断熱性能は非常に優れているが耐スクラツ
チ性がSAN−Hの場合は非常に悪く、A−
TMMTの場合も充分とは言えない。 実施例 2 透過率86%、厚さ50μmの二軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムに厚さ300Åの酸化チ
タン薄膜層、厚さ170Åの銀及び銅よりなる薄膜
層(銅8重量%、銀92重量%)及び厚さ300Åの
酸化チタン薄膜層を順次積層し、透明で選択光透
過性を有する積層体をフイルム上に形成させた。 酸化チタン層は、市販の高純度酸化チタン粉末
を成形したターゲツトを用いて低温スパツタリン
グで設けた。スパツタリング条件は真空槽を高真
空(5×10-6Torr)まで充分に排気した後、Ar
ガスを5×10-3torrの圧力になるまで導入し、高
周波電場によつて酸化チタン薄膜層を設けた。高
周波スパツタリング出力は500W被スパツタ部と
ターゲツト間の距離は10cmとし、スパツタリング
時間20分で300Åの膜厚を有する酸化チタン薄膜
層が得られた。 銀及び銅よりなる薄膜層は実施例1と同一方法
で設けた。この積層体(製層体○ロとする)の上
に、A層として平均赤外吸収率20%のポリスチレ
ン(旭ダウ製スタイロン666、K−27)を、トル
エンを溶媒として1.5μコーテイングし、その上
にB層として合成法Eで述べたヘキサキス(2−
アクリロイルオキシプロピル)メラミン(E−
2)(落砂テスト1.0)をエチルセルソルブを溶媒
としてコーテイングし、実施例1のA−TMMT
と同様に乾燥、紫外線照射を行なつて硬化させ、
0.5μの膜厚を有する保護層を得た。 この積層体の平均赤外吸収率は28%、熱貫流係
数は1.61と断熱性能に優れ、またクロツクメータ
ーテストも15000回以上であり耐スクラツチ性も
非常に高い積層体が得られた500mμの可視光透
過率も72%と優れ、干渉縞も見られなかつた。 実施例 3 実施例1の170Åの銀及び銅の合金のかわり
に、170Åの銀及び金の合金よりなる薄膜層(銀
95重量%、金5重量%)にかえて積層体○ハを形成
させた。 銀及び金の合金よりなる薄膜層はスパツタリン
グ方式により設けた。この積層体○ハの上にA層と
して実施例1で述べたSAN−Hを1.5μコーテイ
ングし、その上にB層として合成法Cで述べたト
リス(アクロイルオキシエチル)シアヌレート
(C−1)(落砂テスト1.5)をイソプロピルアル
コールを溶媒としてコーテイングし、実施例1と
同様に紫外線照射によつて硬化させ、0.5μの膜
厚を得た。 この積層体の平均赤外吸収率は28%、熱貫流係
数は1.60と断熱性能にすぐれ、またクロツクメー
ターテストも13000回以上であり、耐スクラツチ
性も非常に高い保護層が得られた。また500mμ
の可視光透過率は71%であり、干渉縞も見られな
かつた。 実施例 4〜12 各種選択光透過性を有する積層体を作成し、耐
スクラツチ性、断熱性能を測定した。 いずれの場合も優れた耐スクラツチ性、断熱性
能を示した。 尚特に断わらない限り耐摩耗性保護層(B)には樹
脂分に対し2wt%のベンジルジメチルケタールを
添加し、実施例1と同様にして硬化させた。
[Table] Transparent protective layer as shown in Comparative Example 1
SAN-H alone has excellent heat insulation performance but poor scratch resistance. On the other hand, as shown in Comparative Example 2, A-TMMT alone, which is an abrasion-resistant transparent protective layer, has excellent scratch resistance, but has a high average infrared absorption rate and poor heat insulation performance. Comparative Example 3 shows an example of A-TMMT 0.8μ, which has excellent scratch resistance and decent heat insulation performance, but the film thickness interferes with visible light, so interference fringes are not visible. It will be done. The film thickness is the point at which interference fringes appear.
A coating of 0.1 μm was applied to SAN-H and A-TMMT, and the results are shown in Comparative Examples 4 and 5.
Both have very good insulation performance, but the scratch resistance of SAN-H is very poor, and A-
In the case of TMMT, this cannot be said to be sufficient. Example 2 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a transmittance of 86% and a thickness of 50 μm, a titanium oxide thin film layer with a thickness of 300 Å, and a thin film layer of silver and copper with a thickness of 170 Å (8% by weight of copper, 92% by weight of silver). and a titanium oxide thin film layer with a thickness of 300 Å were sequentially laminated to form a transparent laminate having selective light transmittance on the film. The titanium oxide layer was formed by low-temperature sputtering using a target formed from commercially available high-purity titanium oxide powder. The sputtering conditions are as follows: After the vacuum chamber is sufficiently evacuated to high vacuum (5×10 -6 Torr), Ar
Gas was introduced until the pressure reached 5×10 −3 torr, and a titanium oxide thin film layer was formed using a high frequency electric field. The high frequency sputtering output was 500 W, the distance between the sputtered part and the target was 10 cm, and a titanium oxide thin film layer with a thickness of 300 Å was obtained in a sputtering time of 20 minutes. A thin film layer of silver and copper was provided in the same manner as in Example 1. On this laminate (laminated body ○○), as layer A, 1.5μ of polystyrene (Styron 666, K-27 manufactured by Asahi Dow) with an average infrared absorption rate of 20% was coated using toluene as a solvent. On top of that, hexakis (2-
acryloyloxypropyl) melamine (E-
2) (Sand falling test 1.0) was coated with ethyl cellosolve as a solvent, and A-TMMT of Example 1 was coated.
Dry in the same manner as above, and cure by irradiating with ultraviolet rays.
A protective layer with a film thickness of 0.5μ was obtained. This laminate has an average infrared absorption rate of 28%, a heat transmission coefficient of 1.61, and has excellent insulation performance.It has also been tested over 15,000 times on a clock meter, and has very high scratch resistance. The visible light transmittance was also excellent at 72%, and no interference fringes were observed. Example 3 Instead of the 170 Å silver and copper alloy of Example 1, a 170 Å thin film layer (silver) made of a 170 Å silver and gold alloy was used.
95% by weight and 5% by weight of gold), a laminate ○c was formed instead. A thin film layer made of an alloy of silver and gold was provided by a sputtering method. On top of this laminate ○C, 1.5μ of SAN-H described in Example 1 was coated as layer A, and on top of this, tris(acroyloxyethyl) cyanurate (C-1) described in synthesis method C was coated as layer B. ) (Sand Drop Test 1.5) was coated with isopropyl alcohol as a solvent and cured by UV irradiation in the same manner as in Example 1 to obtain a film thickness of 0.5μ. This laminate has an average infrared absorption rate of 28%, a heat transmission coefficient of 1.60, and has excellent heat insulation performance.It has also been tested over 13,000 times on a clock meter, resulting in a protective layer with extremely high scratch resistance. Also 500mμ
The visible light transmittance was 71%, and no interference fringes were observed. Examples 4 to 12 Laminated bodies having various selective light transmittances were prepared and their scratch resistance and heat insulation performance were measured. In all cases, excellent scratch resistance and heat insulation performance were exhibited. Unless otherwise specified, benzyl dimethyl ketal was added to the wear-resistant protective layer (B) in an amount of 2 wt % based on the resin content, and the layer was cured in the same manner as in Example 1.

【表】【table】

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 透明な成形物基板の少なくとも片面に高屈折
率誘電体薄膜層および金属薄膜層を積層してなる
選択光透過性積層体上に、反射赤外により膜厚2
μmで測定した場合の3〜25μmの波長範囲にお
ける平均赤外吸収率が35%以下の透明保護層(A)、
さらに該保護層(A)上に500gの落砂テストによる
曇価が15%以下の耐摩耗性透明保護層(B)を順次積
層した積層体であつて (a) 該保護層(A)の膜厚と、該保護層(B)の膜厚との
和が干渉膜厚の上限より厚く、且つ (b) 該保護層(B)の膜厚が干渉膜厚の上限以下であ
ることを特徴とする被覆された積層体。 2 耐摩耗性透明保護層(B)が、多(メタ)アクリ
ロイル化合物から主としてなる三次元重合体被覆
層である特許請求の範囲第1項記載の被覆された
積層体。
[Scope of Claims] 1. On a selective light transmitting laminate formed by laminating a high refractive index dielectric thin film layer and a metal thin film layer on at least one side of a transparent molded substrate, a film thickness of 2
A transparent protective layer (A) having an average infrared absorption rate of 35% or less in the wavelength range of 3 to 25 μm when measured in μm;
Furthermore, a laminate in which a wear-resistant transparent protective layer (B) having a haze value of 15% or less as determined by a 500 g falling sand test is successively laminated on the protective layer (A), wherein (a) the protective layer (A) The sum of the film thickness and the film thickness of the protective layer (B) is thicker than the upper limit of the interference film thickness, and (b) the film thickness of the protective layer (B) is less than or equal to the upper limit of the interference film thickness. coated laminate. 2. The coated laminate according to claim 1, wherein the wear-resistant transparent protective layer (B) is a three-dimensional polymer coating layer mainly composed of a poly(meth)acryloyl compound.
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