JP2008201922A - Coating agent, cured coating layer, and structure - Google Patents

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JP2008201922A JP2007040336A JP2007040336A JP2008201922A JP 2008201922 A JP2008201922 A JP 2008201922A JP 2007040336 A JP2007040336 A JP 2007040336A JP 2007040336 A JP2007040336 A JP 2007040336A JP 2008201922 A JP2008201922 A JP 2008201922A
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Akinori Banba
昭典 番場
Tadashi Koike
匡 小池
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating agent for forming a coating layer to be interposed in between an organic substrate and a metallic or inorganic compound vacuum-deposition film for the purpose of improving the adhesion therebetween. <P>SOLUTION: The coating agent comprises (A) a polyorganosiloxane sol prepared by the hydrolysis or condensation of (a-1) a silane compound of the following general formula (I) or its partial hydrolyzate and (a-2) a silane compound of the following general formula (II) or its partial hydrolyzate and (B) an acrylic organic macromolecular compound. The general formula (I) is as follows: CH<SB>2</SB>=C(R)-COO-A-SiR<SP>1</SP><SB>n</SB>(OR<SP>2</SP>)<SB>3-n</SB>(wherein, R is H or CH<SB>3</SB>; A is an alkylene group; R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are each a 1-10C alkyl; and n is an integer of 0-2). The general formula (II) is as follows: R<SP>3</SP><SB>m</SB>Si(OR<SP>4</SP>)<SB>4-m</SB>(wherein, R<SP>3</SP>is H, a 1-10C alkyl, aryl, aralkyl or vinyl; R<SP>4</SP>is a 1-10C alkyl; and m is an integer of 0-3). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、コーティング剤、硬化コート層および構造体に関する。さらに詳しくは、本発明は、有機系基材と金属や無機化合物蒸着膜との密着性を向上させるために、それらの間に介在させるコート層形成用のコーティング剤、このコーティング剤を用いて有機系基材上に設けられた硬化コート層、および該硬化コート層を有する構造体、特に前記硬化コート層上に、金属や無機化合物蒸着膜が設けられてなる構造体に関するものである。   The present invention relates to a coating agent, a cured coating layer, and a structure. More specifically, the present invention relates to a coating agent for forming a coating layer interposed between them in order to improve the adhesion between the organic base material and the deposited metal or inorganic compound film, and an organic layer is formed using this coating agent. The present invention relates to a cured coating layer provided on a system substrate, and a structure having the cured coating layer, particularly a structure in which a metal or inorganic compound vapor deposition film is provided on the cured coating layer.

従来、反射ミラーや光学レンズなどの光学部品ではガラス基材が多く使われていた。反射ミラーではガラス基板上にアルミニウム等の金属を真空蒸着等で成膜することにより、反射膜を形成していた。また、光学レンズでは部品表面の反射を防止するためにTiO等の高屈折率材料の薄膜とSiO等の低屈折率材料の薄膜を交互に蒸着した多層膜からなる反射防止膜を設けることがなされてきた。 Conventionally, a glass substrate is often used in optical components such as a reflection mirror and an optical lens. In the reflective mirror, a reflective film is formed by depositing a metal such as aluminum on a glass substrate by vacuum deposition or the like. In addition, in the optical lens, in order to prevent reflection on the component surface, an antireflection film comprising a multilayer film in which a thin film of a high refractive index material such as TiO 2 and a thin film of a low refractive index material such as SiO 2 are alternately deposited is provided. Has been made.

しかしながら、近年、軽量で低コストである上、生産性に優れることから透明樹脂、例えばポリメチルメタクリレートで代表されるアクリル系樹脂を始め、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリノルボルネンなどのポリシクロオレフィン系樹脂などが、光学材料の基材として使用されている。このようなプラスチック基材上に、金属系蒸着膜を設けた例として、以下に示すものを挙げることができる。   However, in recent years, it is lightweight, low cost, and has excellent productivity, so transparent resins such as acrylic resins represented by polymethyl methacrylate, polycarbonate resins, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polynorbornene, etc. These polycycloolefin resins are used as substrates for optical materials. Examples of providing a metal-based vapor deposition film on such a plastic substrate include the following.

プラズマディスプレイ(PDP)、ブラウン管(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)などのディスプレイにおいては、画面に外部から光が入射し、この光が反射して表示画像を見ずらくすることがあり、特に近年、フラットパネルディスプレイの大型化に伴い、上記問題を解決することが、ますます重要な課題となってきている。このような問題を解決するために、これまで種々のディスプレイに対して、様々な反射防止処置や防眩処置がとられている。その一つとして反射防止フィルムを各種のディスプレイに使用することが行われている。   In displays such as a plasma display (PDP), a cathode ray tube (CRT), and a liquid crystal display (LCD), light is incident on the screen from the outside, and this light is reflected to make it difficult to view the displayed image. As the size of flat panel displays increases, solving the above problems has become an increasingly important issue. In order to solve such a problem, various antireflection treatments and antiglare treatments have been taken for various displays so far. As one of them, an antireflection film is used for various displays.

この反射防止フィルムの作製方法としては、ドライプロセス法(蒸着法)とウェットプロセス法(コーティング法)が知られており、ドライプロセス法によれば、基材フィルム上に、低屈折率の物質(MgF)を薄膜化する方法や、屈折率の高い物質[ITO(錫ドープ酸化インジウム)、TiOなど]と屈折率の低い物質(MgF、SiOなど)を交互に積層する方法などで作製される。 As a method for producing the antireflection film, a dry process method (evaporation method) and a wet process method (coating method) are known. According to the dry process method, a low refractive index substance ( With a method of thinning MgF 2 ), a method of alternately stacking a material having a high refractive index [ITO (tin-doped indium oxide), TiO 2, etc.) and a material having a low refractive index (MgF 2 , SiO 2, etc.) Produced.

また、建物の窓、乗物の窓、あるいは冷蔵、冷凍ショーケースの窓などにおいて、暑さの軽減、省エネルギー化を図るために、これらの窓に熱線(赤外線)を反射又は吸収する性能を付与する方法が提案されている。例えば、透明基材フィルムの表面に、アルミニウム、銀、金等の金属薄膜をスパッタリングや蒸着により形成してなる熱線反射フィルムを窓に貼付する方法が知られている。   In addition, to reduce heat and save energy in building windows, vehicle windows, refrigerated and frozen showcase windows, etc., these windows are given the ability to reflect or absorb heat rays (infrared rays). A method has been proposed. For example, a method is known in which a heat ray reflective film formed by sputtering or vapor deposition of a metal thin film such as aluminum, silver, or gold on the surface of a transparent substrate film is attached to a window.

一方、表面に導電性材料層を有する有機基材、特にプラスチックフィルムは、エレクトロルミネッセンス素子(EL素子)、液晶表示素子(LCD素子)、太陽電池などに用いられ、さらに電磁波遮蔽フィルムや帯電防止性フィルムなどとして用いられている。このような用途に用いられる導電性材料としては、例えば酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化カドミウム、ITOなどの金属酸化物や、金、白金、銀、ニッケル、アルミニウム、銅のような金属などの無機系または金属系導電性材料が用いられる。そして、これらの無機系または金属系導電性材料は、通常真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの公知の手段により、プラスチックフィルムなどの有機基材上に、厚さ5〜200nm程度の薄膜として形成される。   On the other hand, an organic base material having a conductive material layer on its surface, particularly a plastic film, is used for an electroluminescence element (EL element), a liquid crystal display element (LCD element), a solar cell, etc., and further an electromagnetic wave shielding film or antistatic property. It is used as a film. Examples of conductive materials used in such applications include metal oxides such as indium oxide, tin oxide, zinc oxide, cadmium oxide, and ITO, and metals such as gold, platinum, silver, nickel, aluminum, and copper. Inorganic or metallic conductive materials are used. These inorganic or metallic conductive materials are usually about 5 to 200 nm thick on an organic substrate such as a plastic film by known means such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating. It is formed as a thin film.

さらに、近年、書き換え可能、高密度、大容量の記憶容量、記録再生ヘッドと非接触等の特徴を有する光記録媒体として、半導体レーザー光等の熱エネルギーを用いて磁性膜の磁化反転を利用して情報を記録し磁気光学効果を利用して読み出す光磁気ディスクや結晶から、アモルファスへの相変化を利用した相変化ディスクが開発され、実用化に至っている。   Furthermore, in recent years, magnetic reversal of magnetic films has been utilized using thermal energy such as semiconductor laser light as an optical recording medium that has features such as rewritable, high-density, large-capacity storage capacity, and non-contact with the recording / reproducing head. As a result, magneto-optical disks and crystals that record information and read out using the magneto-optic effect have been developed and put into practical use.

このような光記録媒体は、一般に、透光性有機基材、例えばポリカーボネートやポリメチルメタクリレートなどの基材上に光記録材料層、誘電体層、金属反射層、有機保護層などが順次積層された構造を有しており、また、基材と光記録材料層との間に、誘電体下地層を設ける場合もある。   In general, such an optical recording medium is formed by sequentially laminating an optical recording material layer, a dielectric layer, a metal reflective layer, an organic protective layer, etc. on a transparent organic substrate, for example, a substrate such as polycarbonate or polymethyl methacrylate. In some cases, a dielectric underlayer is provided between the substrate and the optical recording material layer.

基板上に設けられる光記録材料層には、例えばTb−Fe、Tb−Fe−Co、Dy−Fe−Co、Tb−Dy−Fe−Coなどの無機系の光磁気型記録材料、あるいはTeOx、Te−Ge、Sn−Te−Ge、Bi−Te−Ge、Sb−Te−Ge、Pb−Sn−Te、Tl−In−Seなどの無機系の相変化型記録材料が用いられる。また、所望により、基板と光記録材料層との間に設けられる誘電体下地層には、例えばSiN、SiO、SiO、Taなどの無機系材料が用いられる。前記無機系の光記録材料層や誘電体下地層は、通常真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの公知の手段によって形成される。 For the optical recording material layer provided on the substrate, for example, an inorganic magneto-optical recording material such as Tb—Fe, Tb—Fe—Co, Dy—Fe—Co, Tb—Dy—Fe—Co, or TeOx, Inorganic phase change recording materials such as Te—Ge, Sn—Te—Ge, Bi—Te—Ge, Sb—Te—Ge, Pb—Sn—Te, Tl—In—Se are used. If desired, an inorganic material such as SiN, SiO, SiO 2 , Ta 2 O 5 is used for the dielectric underlayer provided between the substrate and the optical recording material layer. The inorganic optical recording material layer and the dielectric underlayer are usually formed by known means such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating.

しかしながら、このようにプラスチック基材上に金属や無機化合物蒸着膜を設けた場合、該蒸着膜とプラスチック基材との密着性が乏しいという問題を有し、その向上が求められていた。   However, when a metal or inorganic compound vapor-deposited film is provided on a plastic substrate in this way, there is a problem that the adhesion between the vapor-deposited film and the plastic substrate is poor, and an improvement thereof has been demanded.

金属や無機化合物蒸着膜とプラスチック基材との密着性を向上させる手段として、例えばプラスチック基材上に、真空蒸着法により反射防止膜を形成させる際に、無機系微粒子と、シランカップリング剤と、樹脂成分とを含む密着力強化層を、前記プラスチック基材と反射防止膜との間に介在させる技術が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   As a means for improving the adhesion between a metal or inorganic compound vapor-deposited film and a plastic substrate, for example, when forming an antireflection film on a plastic substrate by vacuum vapor deposition, inorganic fine particles, a silane coupling agent, A technique is disclosed in which an adhesion enhancing layer containing a resin component is interposed between the plastic substrate and the antireflection film (see, for example, Patent Document 1).

しかしながら、この技術においては、無機微粒子としてポリオルガノシロキサンゾルは用いておらず、また、樹脂成分としてアクリル系有機高分子化合物を用いているが、分子中に加水分解により金属酸化物と結合し得る金属含有基は有していない。
特開2000−241604号公報
However, in this technique, polyorganosiloxane sol is not used as the inorganic fine particles, and acrylic organic polymer compound is used as the resin component, but it can be bonded to the metal oxide by hydrolysis in the molecule. It does not have a metal-containing group.
JP 2000-241604 A

本発明は、このような事情のもとで、有機系基材と金属や無機化合物蒸着膜との密着性を向上させるために、それらの間に介在させるコート層形成用のコーティング剤、このコーティング剤を用いて有機系基材上に設けられた硬化コート層、および該硬化コート層を有する構造体、特に前記硬化コート層上に、金属や無機化合物蒸着膜が設けられてなる構造体を提供することを目的とするものである。   Under such circumstances, the present invention provides a coating agent for forming a coat layer interposed between them in order to improve the adhesion between an organic base material and a metal or inorganic compound vapor-deposited film. A cured coating layer provided on an organic base material using an agent, and a structure having the cured coating layer, particularly a structure in which a metal or inorganic compound vapor deposition film is provided on the cured coating layer It is intended to do.

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、ゾル−ゲル法で得られた特定のポリオルガノシロキサンゾルと、アクリル系有機高分子化合物、特に分子中に加水分解により金属酸化物と結合し得る金属含有基を有するアクリル系単量体と、金属を含まないアクリル系単量体とを共重合させて得られた重合体とを含むコーティング剤により、その目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention obtained a specific polyorganosiloxane sol obtained by a sol-gel method and an acrylic organic polymer compound, particularly by hydrolysis into a molecule. Achieving that objective with a coating agent that includes an acrylic monomer having a metal-containing group capable of bonding to a metal oxide and a polymer obtained by copolymerizing an acrylic monomer that does not contain metal The present invention has been found, and the present invention has been completed based on this finding.

すなわち、本発明は、
(1) 有機系基材と、該基材上に形成される金属系蒸着膜との間に設けられる中間層を形成するためのコーティング剤であって、
(A)(a−1)一般式(I)
That is, the present invention
(1) A coating agent for forming an intermediate layer provided between an organic base material and a metal-based vapor deposition film formed on the base material,
(A) (a-1) General formula (I)

Figure 2008201922
(式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数1〜6のアルキレン基、RおよびRは、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、nは0〜2の整数を示し、Rが複数ある場合には、複数のRはたがいに同一でも異なっていてもよく、ORが複数ある場合には、複数のORはたがいに同一でも異なっていてもよい。)
で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物と、(a−2)一般式(II)
Si(OR4−m …(II)
(式中、Rは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基またはビニル基、Rは炭素数1〜10のアルキル基、mは0〜3の整数を示し、Rが複数ある場合には、複数のRはたがいに同一でも異なっていてもよく、ORが複数ある場合には、複数のORはたがいに同一でも異なっていてもよい。)
で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物とを、加水分解・縮合して得られたポリオルガノシロキサンゾル、および(B)アクリル系有機高分子化合物を含むことを特徴とするコーティング剤、
(2) (A)成分と(B)成分とを、固形分質量比95:5〜5:95の割合で含む上記(1)項に記載のコーティング剤、
(3) (A)成分のポリオルガノシロキサンゾルにおける、原料の(a−1)成分と(a−2)成分とのモル比が99:1〜60:40である上記(1)または(2)項に記載のコーティング剤、
(4) 一般式(I)で表されるシラン化合物が、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび/または3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランである上記(1)〜(3)項のいずれか1項に記載のコーティング剤、
(5) 一般式(II)で表されるシラン化合物が、メチルトリメトキシシランである上記(1)〜(4)項のいずれか1項に記載のコーティング剤、
(6) (B)成分のアクリル系有機高分子化合物が、(b−1)分子中に加水分解により金属酸化物と結合し得る金属含有基を有するアクリル系単量体と、(b−2)金属を含まないアクリル系単量体とを共重合させて得られたものである上記(1)〜(5)項のいずれか1項に記載のコーティング剤、
(7) (b−1)成分のアクリル系単量体が、一般式(I)
Figure 2008201922
Wherein R is a hydrogen atom or a methyl group, A is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, R 1 and R 2 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 2. shown, when R 1 is plural, a plurality of R 1 may be the same with or different from each other, if the OR 2 there is a plurality, the plurality of OR 2 may be the same with or different from each other. )
And a partial hydrolyzate thereof, (a-2) general formula (II)
R 3 m Si (OR 4 ) 4-m (II)
(In the formula, R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aralkyl group or vinyl group having 7 to 10 carbon atoms, and R 4 is an alkyl having 1 to 10 carbon atoms. group, m represents an integer of 0 to 3, when there are a plurality of R 3, a plurality of R 3 may be the same with or different from each other, if the OR 4 there is a plurality, the plurality of OR 4 is They may be the same or different.)
A coating agent comprising: a polyorganosiloxane sol obtained by hydrolysis and condensation with a silane compound represented by formula (1) or a partial hydrolyzate thereof; and (B) an acrylic organic polymer compound,
(2) The coating agent according to the above item (1), which contains the component (A) and the component (B) at a solid content mass ratio of 95: 5 to 5:95,
(3) In the polyorganosiloxane sol as the component (A), the molar ratio of the component (a-1) to the component (a-2) is 99: 1 to 60:40 (1) or (2) ) Coating agent according to paragraph
(4) Any one of the above items (1) to (3), wherein the silane compound represented by the general formula (I) is 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and / or 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. Coating agent according to paragraph,
(5) The coating agent according to any one of (1) to (4) above, wherein the silane compound represented by the general formula (II) is methyltrimethoxysilane.
(6) The acrylic organic polymer compound of component (B) is (b-1) an acrylic monomer having a metal-containing group capable of binding to a metal oxide by hydrolysis in the molecule; The coating agent according to any one of the above items (1) to (5), which is obtained by copolymerizing an acrylic monomer not containing a metal)
(7) The acrylic monomer as the component (b-1) is represented by the general formula (I)

Figure 2008201922
(式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数1〜6のアルキレン基、RおよびRは、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、nは0〜2の整数を示し、Rが複数ある場合には、複数のRはたがいに同一でも異なっていてもよく、ORが複数ある場合には、複数のORはたがいに同一でも異なっていてもよい。)
で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物である上記(6)項に記載のコーティング剤、
(8) (b−2)成分のアクリル系単量体が、一般式(III)
Figure 2008201922
Wherein R is a hydrogen atom or a methyl group, A is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, R 1 and R 2 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 2. shown, when R 1 is plural, a plurality of R 1 may be the same with or different from each other, if the OR 2 there is a plurality, the plurality of OR 2 may be the same with or different from each other. )
The coating agent according to (6) above, which is a silane compound represented by
(8) The acrylic monomer as the component (b-2) is represented by the general formula (III)

Figure 2008201922
(式中、Rは水素原子またはメチル基、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を示す。)
で表される化合物である上記(6)または(7)項に記載のコーティング剤、
(9) (b−1)成分のアクリル系単量体が、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび/または3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランである上記(7)または(8)項に記載のコーティング剤、
(10) (B)成分のアクリル系有機高分子化合物が、(b−1)成分のアクリル系単量体と、(b−2)成分のアクリル系単量体とを、モル比1:99〜15:85の割合で共重合させて得られたものである上記(6)〜(9)項のいずれか1項に記載のコーティング剤、
(11) 上記(1)〜(10)項のいずれか1項に記載のコーティング剤を用いて、有機系基材表面に形成されたことを特徴とする硬化コート層、
(12) 厚さが0.01〜10μmである上記(11)項に記載の硬化コート層、
(13) 上記(11)または(12)項に記載の硬化コート層を有することを特徴とする構造体、および
(14) 硬化コート層上に、物理的気相蒸着法または化学的気相蒸着法により、金属膜および無機化合物膜の中から選ばれる少なくとも1層の薄膜が設けられてなる上記(13)項に記載の構造体、
を提供するものである。
Figure 2008201922
(In the formula, R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
The coating agent according to (6) or (7) above, which is a compound represented by:
(9) The acrylic monomer as the component (b-1) is 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and / or 3-acryloxypropyltrimethoxysilane as described in (7) or (8) above Coating agent,
(10) The acrylic organic polymer compound as the component (B) has a molar ratio of 1:99 between the acrylic monomer as the component (b-1) and the acrylic monomer as the component (b-2). The coating agent according to any one of (6) to (9) above, which is obtained by copolymerization at a ratio of ˜15: 85,
(11) A cured coating layer formed on the surface of an organic base material using the coating agent according to any one of (1) to (10) above,
(12) The cured coating layer according to (11), wherein the thickness is 0.01 to 10 μm,
(13) A structure having the cured coating layer described in (11) or (12) above, and (14) physical vapor deposition or chemical vapor deposition on the cured coating layer. The structure according to item (13), wherein a thin film of at least one layer selected from a metal film and an inorganic compound film is provided by a method,
Is to provide.

本発明によれば、有機系基材と金属や無機化合物蒸着膜との密着性を向上させるために、それらの間に介在させるコート層形成用のコーティング剤、このコーティング剤を用いて有機系基材上に設けられた硬化コート層、および該硬化コート層を有する構造体、特に前記硬化コート層上に、金属や無機化合物蒸着膜が設けられてなる構造体を提供することができる。   According to the present invention, in order to improve the adhesion between an organic base material and a metal or inorganic compound vapor-deposited film, a coating agent for forming a coating layer interposed between them, an organic base using this coating agent It is possible to provide a cured coating layer provided on the material and a structure having the cured coating layer, particularly a structure in which a metal or inorganic compound vapor deposition film is provided on the cured coating layer.

まず、本発明のコーティング剤について説明する。本発明のコーティング剤は、有機系基材と、該基材上に形成される金属や無機化合物蒸着膜との間に設けられる中間層を形成するためのコーティング剤であって、(A)特定のポリオルガノシロキサンゾル、および(B)アクリル系有機高分子化合物を含むことを特徴とする。
[(A)ポリオルガノシロキサンゾル]
この(A)成分のポリオルガノシロキサンゾルは、以下に示す(a−1)一般式(I)
First, the coating agent of the present invention will be described. The coating agent of the present invention is a coating agent for forming an intermediate layer provided between an organic base material and a metal or inorganic compound deposition film formed on the base material. And (B) an acrylic organic polymer compound.
[(A) Polyorganosiloxane sol]
The polyorganosiloxane sol of component (A) has the following (a-1) general formula (I)

Figure 2008201922
で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物と、(a−2)一般式(II)
Si(OR4−m …(II)
で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物とを、加水分解・縮合して得られたゾルである。
Figure 2008201922
And a partial hydrolyzate thereof, (a-2) general formula (II)
R 3 m Si (OR 4 ) 4-m (II)
A sol obtained by hydrolyzing and condensing a silane compound represented by the formula (1) or a partial hydrolyzate thereof.

前記(a−1)成分である一般式(I)において、Rは水素原子またはメチル基を示す。Aは炭素数1〜6のアルキレン基、好ましくは炭素数1〜4のアルキレン基を示し、このアルキレン基は、直鎖状および分岐鎖状のいずれであってもよいが、直鎖状のものが好ましく、例えばエチレン基、トリメチレン基を好ましく挙げることができる。   In the general formula (I) as the component (a-1), R represents a hydrogen atom or a methyl group. A represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. The alkylene group may be linear or branched, but is linear. For example, an ethylene group and a trimethylene group can be preferably mentioned.

およびRは、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基を示す。このアルキル基は、直鎖状および分岐鎖状のいずれであってもよく、その例としては、メチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基などを挙げることができる。nは0〜2の整数を示し、Rが複数ある場合には、複数のRはたがいに同一でも異なっていてもよく、ORが複数ある場合には、複数のORはたがいに同一でも異なっていてもよい。 R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. The alkyl group may be linear or branched, and examples thereof include a methyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert -A butyl group, various pentyl groups, various hexyl groups, etc. can be mentioned. n represents an integer of 0 to 2, if R 1 is plural, a plurality of R 1 may be the same with or different from each other, if the OR 2 there is a plurality, the plurality of OR 2 are mutually It may be the same or different.

前記一般式(I)における−SiR (OR3−nで表される基としては、例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリ−n−プロポキシシリル基、トリイソプロポキシシリル基、トリ−n−ブトキシシリル基、トリイソブトキシシリル基、トリ−sec−ブトキシシリル基、トリ−tert−ブトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基、メチルジメトキシシリル基などを挙げることができる。 Examples of the group represented by —SiR 1 n (OR 2 ) 3-n in the general formula (I) include a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, a tri-n-propoxysilyl group, and a triisopropoxysilyl group. , Tri-n-butoxysilyl group, triisobutoxysilyl group, tri-sec-butoxysilyl group, tri-tert-butoxysilyl group, dimethylmethoxysilyl group, methyldimethoxysilyl group and the like.

前記一般式(I)で表されるシラン化合物としては、例えば2−メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、2−メタクリロキシエチルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、2−アクリロキシエチルトリメトキシシラン、2−アクリロキシエチルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができる。これらの中では、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが、得られるコーティング剤の性能の観点から好適である。   Examples of the silane compound represented by the general formula (I) include 2-methacryloxyethyltrimethoxysilane, 2-methacryloxyethyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltriethoxy. Examples thereof include silane, 2-acryloxyethyltrimethoxysilane, 2-acryloxyethyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-acryloxypropyltriethoxysilane. Among these, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane are preferable from the viewpoint of the performance of the resulting coating agent.

本発明においては、(a−1)成分として、前記一般式(I)で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物を1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   In the present invention, as the component (a-1), the silane compound represented by the general formula (I) or a partial hydrolyzate thereof may be used alone or in combination of two or more. Good.

一方、前記(a−2)成分である一般式(II)において、Rは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基またはビニル基を示す。 On the other hand, in the general formula (II) as the component (a-2), R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms. Or a vinyl group is shown.

前記炭素数1〜10のアルキル基としては、炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。このアルキル基は、直鎖状および分岐鎖状のいずれであってもよく、その例としては、メチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基などを挙げることができる。   As said C1-C10 alkyl group, a C1-C6 alkyl group is preferable. The alkyl group may be linear or branched, and examples thereof include a methyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert -A butyl group, various pentyl groups, various hexyl groups, etc. can be mentioned.

また、炭素数6〜10のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などが挙げられ、炭素数7〜10のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基などが挙げられる。   Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include phenyl group, tolyl group, xylyl group, and naphthyl group. Examples of the aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms include benzyl group, phenethyl group, and phenylpropyl group. Groups and the like.

は炭素数1〜10のアルキル基を示し、炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。このアルキル基としては、前記Rのうちのアルキル基の説明で例示したものと同じものを挙げることができる。 R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. As this alkyl group, the same thing as what was illustrated by description of the alkyl group of said R < 3 > can be mentioned.

mは0〜3の整数を示し、Rが複数ある場合には、複数のRはたがいに同一でも異なっていてもよく、ORが複数ある場合には、複数のORはたがいに同一でも異なっていてもよい。 m represents an integer of 0 to 3, when there are a plurality of R 3, a plurality of R 3 may be the same with or different from each other, if the OR 4 there is a plurality, the plurality of OR 4 each other It may be the same or different.

mとしては1〜3の整数が好ましく、このような一般式(II)で表されるシラン化合物としては、例えばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシシラン、メチルフェニルジメトキシシランなどが挙げられ、これらの中では、得られるコーティング剤の性能の観点から、メチルトリメトキシシランが好ましい。   m is preferably an integer of 1 to 3, and examples of the silane compound represented by the general formula (II) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, etc. Among these, methyltrimethoxysilane is preferable from the viewpoint of the performance of the resulting coating agent.

本発明においては、(a−2)成分として、前記一般式(II)で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物を1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   In the present invention, as the component (a-2), the silane compound represented by the general formula (II) or a partial hydrolyzate thereof may be used alone or in combination of two or more. Good.

本発明においては、得られるコーティング剤の性能の観点から、前記(a−1)成分と(a−2)成分の使用割合は、モル比で99:1〜60:40が好ましく、90:10〜65:35がより好ましい。   In the present invention, from the viewpoint of the performance of the resulting coating agent, the use ratio of the component (a-1) and the component (a-2) is preferably 99: 1 to 60:40 in terms of molar ratio, and 90:10. ~ 65: 35 is more preferred.

本発明においては、前記(a−1)成分と(a−2)成分との混合物を加水分解・縮合させることにより、所望する(A)成分のポリオルガノシロキサンゾルを調製する。   In the present invention, a desired polyorganosiloxane sol of the component (A) is prepared by hydrolyzing and condensing the mixture of the component (a-1) and the component (a-2).

加水分解・縮合反応については、アルコール、ケトン、エーテルなどの極性溶媒中において、(a−1)成分と(a−2)成分との混合物を塩酸、硫酸、硝酸などの酸、あるいは固体酸としてのカチオン交換樹脂を用い、通常−10〜70℃、好ましくは10〜40℃の温度において、好ましくは5分間以上共加水分解縮重合させ、固体酸を用いた場合には、それを除去して、(A)成分のポリオルガノシロキサンゾルを得る。このようにして得られたポリオルガノシロキサンゾルの濃度は、通常0.5〜50質量%程度、好ましくは1〜30質量%である。   For the hydrolysis / condensation reaction, a mixture of the component (a-1) and the component (a-2) is converted into an acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid or nitric acid, or a solid acid in a polar solvent such as alcohol, ketone or ether. When the solid acid is used, the cation exchange resin is usually removed at a temperature of −10 to 70 ° C., preferably 10 to 40 ° C., preferably for 5 minutes or more. , (A) component polyorganosiloxane sol is obtained. The concentration of the polyorganosiloxane sol thus obtained is usually about 0.5 to 50% by mass, preferably 1 to 30% by mass.

なお、この加水分解・縮合反応においは、(a−1)成分における(メタ)アクリロキシ基の重合は、実質上起こらない。該(メタ)アクリロキシ基の重合が起こると、得られるコーティング剤の性能が不十分なものとなる。
[(B)アクリル系有機高分子化合物]
この(B)成分のアクリル系有機高分子化合物としては、(b−1)分子中に加水分解により金属酸化物と結合し得る金属含有基を有するアクリル系単量体と、(b−2)金属を含まないアクリル系単量体とを共重合させて得られた重合体を用いることが好ましい。
In this hydrolysis / condensation reaction, the polymerization of the (meth) acryloxy group in the component (a-1) does not substantially occur. When the polymerization of the (meth) acryloxy group occurs, the performance of the resulting coating agent becomes insufficient.
[(B) Acrylic organic polymer compound]
The acrylic organic polymer compound of component (B) includes (b-1) an acrylic monomer having a metal-containing group capable of binding to a metal oxide by hydrolysis in the molecule, and (b-2). It is preferable to use a polymer obtained by copolymerizing an acrylic monomer containing no metal.

前記(b−1)成分のアクリル系単量体としては、前述の(a−1)成分として用いた一般式(I)で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物と同じものを挙げることができる。   Examples of the acrylic monomer of the component (b-1) include the same silane compound represented by the general formula (I) used as the component (a-1) or a partially hydrolyzed product thereof. Can do.

本発明においては、この(b−1)成分のアクリル系単量体として、一般式(I)で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物を1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、(a−1)成分として使用したものと同じものを用いてもよいし、異なるものを用いてもよい。この(b−1)成分の好ましいものは、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび/または3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランである。   In the present invention, as the acrylic monomer of the component (b-1), the silane compound represented by the general formula (I) or a partial hydrolyzate thereof may be used alone or in combination of two or more. May be used in combination. Moreover, the same thing as what was used as (a-1) component may be used, and a different thing may be used. The preferred component (b-1) is 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and / or 3-acryloxypropyltrimethoxysilane.

一方、(b−2)成分の金属を含まないアクリル系単量体としては、一般式(III)   On the other hand, the acrylic monomer not containing the metal of component (b-2) is represented by the general formula (III)

Figure 2008201922
で表される化合物を用いることができる。
Figure 2008201922
The compound represented by these can be used.

前記一般式(III)において、Rは水素原子またはメチル基を示し、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を示す。Rで示される炭化水素基としては、炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基を好ましく挙げることができる。炭素数1〜10のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、および各種のブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基などが挙げられる。炭素数3〜10のシクロアルキル基の例としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基などが、炭素数6〜10のアリール基の例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などが、炭素数7〜10のアラルキル基の例としては、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチチル基などが挙げられる。 In the general formula (III), R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the hydrocarbon group represented by R 6 include a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and 7 carbon atoms. -10 aralkyl groups can be preferably mentioned. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and various butyl groups, pentyl groups, hexyl groups, octyl groups, and decyl groups. Examples of the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, and a xylyl group. Examples of the aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, such as a group and a naphthyl group, include a benzyl group, a methylbenzyl group, and a phenethylyl group.

この一般式(III)で表されるエチレン性不飽和単量体の例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer represented by the general formula (III) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and hexyl (meth). Examples include acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, and benzyl (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、必要に応じ、密着性向上剤として、(b−3)一般式(IV)   In the present invention, if necessary, as an adhesion improver, (b-3) general formula (IV)

Figure 2008201922
(式中、Rは水素原子またはメチル基、Rはエポキシ基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、ハロゲン原子若しくはエーテル結合を有する炭化水素基を示す。)
で表されるアクリル系単量体を適宜用いることができる。
Figure 2008201922
(In the formula, R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 represents an epoxy group, a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, a halogen atom, or a hydrocarbon group having an ether bond.)
An acrylic monomer represented by the formula can be used as appropriate.

前記一般式(IV)で表されるアクリル系単量体において、Rで示されるエポキシ基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、ハロゲン原子若しくはエーテル結合を有する炭化水素基としては、炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基を好ましく挙げることができる。上記置換基のハロゲン原子としては、塩素原子および臭素原子が好ましく、またアミノ基は遊離のアミノ基、モノアルキル置換アミノ基、ジアルキル置換アミノ基のいずれであってもよい。上記炭化水素基の具体例としては、前述の一般式(III)におけるRの説明において例示した基と同じものを挙げることができる。 In the acrylic monomer represented by the general formula (IV), the epoxy group, the hydroxyl group, the mercapto group, the amino group, the halogen atom or the hydrocarbon group having an ether bond represented by R 8 has 1 to 1 carbon atoms. Preferred examples include 10 linear or branched alkyl groups, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, aryl groups having 6 to 10 carbon atoms, and aralkyl groups having 7 to 10 carbon atoms. The halogen atom for the substituent is preferably a chlorine atom or a bromine atom, and the amino group may be any of a free amino group, a monoalkyl-substituted amino group, and a dialkyl-substituted amino group. Specific examples of the hydrocarbon group include the same groups as those exemplified in the description of R 6 in the general formula (III).

前記一般式(IV)で表されるアクリル系単量体の例としては、グリシジル(メタ)アクリレート、3−グリシドキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メルカプトエチル(メタ)アクリレート、3−メルカプトプロピル(メタ)アクリレート、2−メルカプトプロピル(メタ)アクリレート、2−アミノエチル(メタ)アクリレート、3−アミノプロピル(メタ)アクリレート、2−アミノプロピル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、4−ジメチルアミノベンジル(メタ)アクリレート、2−クロロエチル(メタ)アクリレート、2−ブロモエチル(メタ)アクリレートなどを好ましく挙げることができる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the acrylic monomer represented by the general formula (IV) include glycidyl (meth) acrylate, 3-glycidoxypropyl (meth) acrylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-mercaptoethyl (meth) acrylate, 3-mercaptopropyl (meth) acrylate, 2- Mercaptopropyl (meth) acrylate, 2-aminoethyl (meth) acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylate, 2-aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 4-dimethylaminobenzyl ( Meta) Acryle DOO, 2-chloroethyl (meth) acrylate, preferably, 2-bromoethyl (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

前記(b−1)成分と(b−2)成分と、必要により用いられる(b−3)成分とを、メチルイソブチルケトンなどの適当な溶媒中において、ラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル共重合させることにより、所望の(B)成分であるアクリル系有機高分子化合物を得ることができる。   The component (b-1), the component (b-2), and the component (b-3) to be used as necessary are mixed in a suitable solvent such as methyl isobutyl ketone in the presence of a radical polymerization initiator. By polymerization, an acrylic organic polymer compound as the desired component (B) can be obtained.

本発明においては、前記(B)成分のアクリル系有機高分子化合物は、(b−1)成分のアクリル系単量体と、(b−2)成分のアクリル系単量体とを、モル比1:99〜15:85の割合で共重合させてなる重合体が好ましく、2:98〜10:90の割合で共重合させてなる重合体がより好ましい。なお、必要により(b−3)成分を用いる場合には、前記(b−2)成分の一部を該(b−3)成分に置き換えればよい。
[コーティング剤]
本発明のコーティング剤は、前記のようにして調製した(A)成分のポリオルガノシロキサンゾルと、(B)成分のアクリル系有機高分子化合物とを含むものであり、その含有割合は、密着性の観点から、(A)成分と(B)成分との固形分質量比で95:5〜5:95の範囲が好ましく、90:10〜10:90の範囲がより好ましい。
In the present invention, the acrylic organic polymer compound of the component (B) is a molar ratio of the acrylic monomer of the component (b-1) and the acrylic monomer of the component (b-2). A polymer obtained by copolymerization at a ratio of 1:99 to 15:85 is preferable, and a polymer obtained by copolymerization at a ratio of 2:98 to 10:90 is more preferable. When the component (b-3) is used as necessary, a part of the component (b-2) may be replaced with the component (b-3).
[Coating agent]
The coating agent of the present invention comprises the (A) component polyorganosiloxane sol prepared as described above and the (B) component acrylic organic polymer compound. In view of the above, the solid content mass ratio of the component (A) and the component (B) is preferably in the range of 95: 5 to 5:95, and more preferably in the range of 90:10 to 10:90.

本発明のコーティング剤の溶媒としては、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、セロソルブ系溶媒、ケトン系溶媒およびこれらの混合溶媒などを挙げることができる。   Examples of the solvent for the coating agent of the present invention include alcohol solvents, ether solvents, cellosolve solvents, ketone solvents, and mixed solvents thereof.

本発明のコーティング剤には、所望により密着性などの本発明の特性を損なわない範囲で、(A)成分と(B)成分以外に他の成分を加えることができる。例えば、アクリル系化合物のモノマーやオリゴマー、重合開始剤などが挙げられる。アクリル系化合物のモノマーやオリゴマーの例としては、多官能アクリレートが挙げられ、具体的には、(C)多官能アクリレート化合物と(D)熱重合開始剤、あるいは(C)多官能アクリレート化合物と(E)光重合開始剤を含有させることができる。これらを加えることで、硬化速度を早めることができる。   In addition to the component (A) and the component (B), other components may be added to the coating agent of the present invention as long as the properties of the present invention such as adhesion are not impaired. Examples include monomers and oligomers of acrylic compounds, polymerization initiators, and the like. Examples of monomers and oligomers of acrylic compounds include polyfunctional acrylates. Specifically, (C) a polyfunctional acrylate compound and (D) a thermal polymerization initiator, or (C) a polyfunctional acrylate compound ( E) A photoinitiator can be contained. By adding these, the curing rate can be increased.

前記(C)成分の多官能アクリレート化合物としては、例えば1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストリールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the polyfunctional acrylate compound of the component (C) include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified Di (meth) acrylate phosphate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythri Tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propion oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified Examples include dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.

(D)成分の熱重合開始剤としては、従来公知のもの、例えば各種の有機過酸化物やアゾ化合物などの中から、任意のものを適宜選択して用いることができる。一方、(E)成分の光重合開始剤としては、従来公知のもの、例えばベンゾイン系、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、アントラキノン系、チオキサントン系、ケタール系などの中から、任意のものを適宜選択して用いることができる。   As the thermal polymerization initiator of the component (D), any conventionally known ones such as various organic peroxides and azo compounds can be appropriately selected and used. On the other hand, as the photopolymerization initiator of the component (E), a conventionally known one such as a benzoin type, an acetophenone type, a benzophenone type, an anthraquinone type, a thioxanthone type or a ketal type is appropriately selected. Can be used.

前記多官能アクリレート化合物と熱重合開始剤を含有させる場合、この熱重合開始剤の使用量は、全固形成分に対して、通常0.01〜50質量%程度、好ましくは1〜20質量%である。これらを含有させることにより、本発明のコーティング剤を有機系基材に塗布した後の硬化膜形成を促進させることができる。   When the polyfunctional acrylate compound and the thermal polymerization initiator are contained, the amount of the thermal polymerization initiator used is usually about 0.01 to 50% by mass, preferably 1 to 20% by mass with respect to the total solid components. is there. By containing these, the cured film formation after apply | coating the coating agent of this invention to an organic type base material can be accelerated | stimulated.

また、前記多官能アクリレート化合物と光重合開始剤を含有させる場合、この光重合開始剤の使用量は、全固形成分に対して、通常0.01〜50質量%程度、好ましくは1〜20質量%である。これらを含有させることにより、本発明のコーティング剤を有機系基材に塗布したのち、紫外線を照射することにより、硬化膜をすばやく形成することができる。   Moreover, when the polyfunctional acrylate compound and the photopolymerization initiator are contained, the amount of the photopolymerization initiator used is usually about 0.01 to 50% by mass, preferably 1 to 20% by mass with respect to the total solid components. %. By containing these, after applying the coating agent of this invention to an organic base material, a cured film can be rapidly formed by irradiating an ultraviolet-ray.

本発明のコーティング剤における固形分濃度としては、該コーティング剤が塗工可能な粘度になるような濃度であればよく、特に制限はないが、通常0.01〜50質量%程度、好ましくは0.1〜30質量%である。
[硬化コート層]
本発明の硬化コート層は、前述した本発明のコーティング剤を用いて、有機系基材表面に形成されてなる層である。
The solid content concentration in the coating agent of the present invention is not particularly limited as long as it is a viscosity at which the coating agent can be applied, and is usually about 0.01 to 50% by mass, preferably 0. .1 to 30% by mass.
[Hardened coat layer]
The cured coating layer of the present invention is a layer formed on the surface of the organic base material using the above-described coating agent of the present invention.

前記有機系基材の材質としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4−メチルペンテン−1、ポリブテン−1などのポリオレフィン系樹脂;ポリノルボルネンなどのポリシクロオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリフェニレンサルファイド系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリエチレンサルファイド系樹脂;ポリフェニレンエーテル系樹脂;スチレン系樹脂;アクリル系樹脂;ポリアミド系樹脂;セルロースアセテートなどのセルロース系樹脂;などを挙げることができる。これらの中で、透明性、耐熱性、低吸水性、経済性などの観点から、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂およびポリシクロオレフィン系樹脂が好適である。有機系基材の形状に特に制限はなく、フィルム状、シート状、板状など、いずれであってもよい。   Examples of the organic base material include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, poly-4-methylpentene-1 and polybutene-1, polycycloolefin resins such as polynorbornene, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate. Polyester resin; Polycarbonate resin; Polyphenylene sulfide resin; Polyethersulfone resin; Polyethylene sulfide resin; Polyphenylene ether resin; Styrene resin; Acrylic resin; Polyamide resin; Cellulose resin such as cellulose acetate; Can be mentioned. Among these, acrylic resins, polyester resins, polycarbonate resins, and polycycloolefin resins are preferable from the viewpoints of transparency, heat resistance, low water absorption, economy, and the like. There is no restriction | limiting in particular in the shape of an organic type base material, Any, such as a film form, a sheet form, and plate shape, may be sufficient.

また、前記有機系基材は、その上に設けられる硬化コート層との密着性をさらに向上させるために、所望により、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材の種類に応じて適宜選ばれる。   Moreover, in order to further improve the adhesiveness with the cured coating layer provided on the organic base material, the organic base material can be subjected to a surface treatment by an oxidation method, an unevenness method, or the like, if desired. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment and the like, and examples of the unevenness method include sand blast method and solvent treatment method. Is mentioned. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of substrate.

本発明の硬化コート層は、以下に示す方法により形成することができる。すなわち、前述した本発明のコーティング剤(多官能アクリレート化合物と熱重合開始剤を含んでいてもよい)を用い、前記有機系基材上に、乾燥厚さが、通常0.01〜10μm程度、好ましくは0.02〜3μmになるように、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などの公知の手段により塗膜を形成し、公知の乾燥処理、例えば50〜200℃程度の温度で加熱乾燥処理することにより、本発明の硬化コート層を形成することができる。   The cured coating layer of the present invention can be formed by the following method. That is, using the above-described coating agent of the present invention (which may contain a polyfunctional acrylate compound and a thermal polymerization initiator), the dry thickness is usually about 0.01 to 10 μm on the organic base material. Preferably, a known method such as a dip coating method, a spin coating method, a spray coating method, a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, or a gravure coating method is used so as to be 0.02 to 3 μm. The cured coating layer of the present invention can be formed by forming a coating film by means and performing a known drying treatment, for example, a heat drying treatment at a temperature of about 50 to 200 ° C.

本発明のコーティング剤が、多官能アクリレート化合物と光重合開始剤を含む場合、前記と同様にして、有機系基材上に塗膜を形成し、必要に応じて50〜200℃程度で乾燥処理後、紫外線を照射し、さらに50〜200℃程度の温度でエージングを行うことにより、本発明の硬化コート層を形成することができる。   When the coating agent of the present invention contains a polyfunctional acrylate compound and a photopolymerization initiator, a coating film is formed on the organic base material in the same manner as described above, and is dried at about 50 to 200 ° C. as necessary. Thereafter, the cured coating layer of the present invention can be formed by irradiating with ultraviolet rays and further aging at a temperature of about 50 to 200 ° C.

このようにして形成された本発明の硬化コート層は、有機系基材との密着性に優れている。
[構造体]
本発明の構造体は、有機系基材上に設けられた本発明の硬化コート層を有することを特徴とする。該硬化コート層は、有機系基材との密着性に優れると共に、その上に形成される金属や無機化合物蒸着膜との密着性にも優れている。したがって、本発明の構造体としては、前記硬化コート層上に、物理的気相蒸着法(PDV法)または化学的気相蒸着法(CVD法)により、金属膜および無機化合物膜の中から選ばれる少なくとも1層の薄膜が設けられてなるものが好ましい。なお、前記PDV法には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などがある。
The cured coating layer of the present invention formed in this way is excellent in adhesion with an organic base material.
[Structure]
The structure of the present invention is characterized by having the cured coating layer of the present invention provided on an organic base material. The cured coating layer is excellent in adhesion to an organic base material and also excellent in adhesion to a metal or inorganic compound deposited film formed thereon. Therefore, the structure of the present invention is selected from a metal film and an inorganic compound film on the cured coating layer by physical vapor deposition (PDV method) or chemical vapor deposition (CVD). It is preferable that at least one thin film is provided. The PDV method includes a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and the like.

このような本発明の構造体としては、以下に示すものを挙げることができる。
(1)反射防止フィルム
PDP、CRT、LCDなどのフラットパネルディスプレイにおける画面の反射を防止するための反射防止フィルムとして、基材フィルム上に、本発明の硬化コート層を設けその上に、PVD法やCVD法により、MgFなどの低屈折率薄膜を設けた反射防止フィルム、あるいは屈折率の高い物質(ITO、TiOなど)と屈折率の低い物質(MgF、SiOなど)を交互に積層した反射防止フィルムなどを挙げることができる。
(2)熱線反射フィルム
建物の窓、乗物の窓、あるいは冷蔵、冷凍ショーケースの窓などにおいて、暑さの軽減、省エネルギー化を図る目的で、これらの窓に熱線(赤外線)を反射するために貼付される熱線反射フィルムとして、透明基材フィルム表面に、本発明の硬化コート層を設けその上に、PVD法により、アルミニウム、銀、金などの金属薄膜を設けた熱線反射フィルムなどを挙げることができる。
(3)導電性フィルム
EL素子、LCD素子、太陽電池、抵抗膜方式のタッチパネルなどに用いられ、さらに電磁波遮蔽フィルムや帯電防止性フィルムなどとして用いられる導電性フィルムとして、プラスチックフィルム表面に、本発明の硬化コート層を設けその上に、PVD法やCVD法により、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化カドミウム、ITOなどの金属酸化物や、金、白金、銀、ニッケル、アルミニウム、銅のような金属などの無機系または金属系導電性材料からなる薄膜を設けた導電性フィルムなどを挙げることができる。
(4)光記録材料層が設けられた有機系基材
光記録媒体は、一般に、透光性有機系基材、例えばポリカーボネートやポリメチルメタクリレートなどの基材上に光記録材料層、誘電体層、金属反射層、有機保護層などが順次積層された構造を有しており、また、基材と光記録材料層との間に、誘電体下地層を設ける場合もある。
Examples of the structure of the present invention include the following.
(1) Antireflection film As an antireflection film for preventing screen reflection in flat panel displays such as PDP, CRT, LCD, etc., the cured coating layer of the present invention is provided on a substrate film, and then the PVD method is used. Or CVD method, an antireflection film provided with a low refractive index thin film such as MgF 2 , or a substance having a high refractive index (ITO, TiO 2, etc.) and a substance having a low refractive index (MgF 2 , SiO 2, etc.) alternately A laminated antireflection film can be used.
(2) Heat ray reflective film To reflect heat rays (infrared rays) on building windows, vehicle windows, refrigerated and frozen showcase windows to reduce heat and save energy. Examples of the heat ray reflective film to be applied include a heat ray reflective film in which the cured coating layer of the present invention is provided on the surface of the transparent substrate film and a metal thin film such as aluminum, silver, or gold is provided thereon by the PVD method. Can do.
(3) Conductive film As a conductive film used for EL elements, LCD elements, solar cells, resistive touch panels, etc., and used as an electromagnetic shielding film or antistatic film, the present invention is applied to the surface of a plastic film. A hard coat layer is formed on the metal oxide layer such as indium oxide, tin oxide, zinc oxide, cadmium oxide, ITO, gold, platinum, silver, nickel, aluminum, copper by PVD method or CVD method. Examples thereof include a conductive film provided with a thin film made of an inorganic or metallic conductive material such as a metal.
(4) Organic base material provided with an optical recording material layer An optical recording medium is generally an optical recording material layer, a dielectric layer on a transparent organic base material such as a base material such as polycarbonate or polymethyl methacrylate. In addition, a metal reflective layer, an organic protective layer, and the like are sequentially laminated, and a dielectric base layer may be provided between the base material and the optical recording material layer.

透光性有機系基材表面に、本発明の硬化コート層を設けその上に、PVD法やCVD法により、例えばTb−Fe、Tb−Fe−Co、Dy−Fe−Co、Tb−Dy−Fe−Coなどの無機系の光磁気型記録材料、あるいはTeOx、Te−Ge、Sn−Te−Ge、Bi−Te−Ge、Sb−Te−Ge、Pb−Sn−Te、Tl−In−Seなどの無機系の相変化型記録材料からなる層が設けられた構造体を挙げることができる。   For example, Tb-Fe, Tb-Fe-Co, Dy-Fe-Co, Tb-Dy- are provided on the surface of the light-transmitting organic base material by providing the cured coating layer of the present invention on the surface by PVD or CVD. Inorganic magneto-optical recording material such as Fe—Co, or TeOx, Te—Ge, Sn—Te—Ge, Bi—Te—Ge, Sb—Te—Ge, Pb—Sn—Te, Tl—In—Se Examples thereof include a structure provided with a layer made of an inorganic phase change recording material.

また、前記の光磁気型記録材料または相変化型記録材料からなる層の代わりに、SiN、SiO、SiO、Taなどからなる誘電体下地層が設けられた構造体を挙げることができる。
(5)PDP用近赤外線吸収フィルム
PDPにおいては、近赤外線を発することが知られている。この近赤外線は、コードレスホン、近赤外線リモートコントロール装置を使用するビデオデッキなど、周辺にある電子機器に作用し、正常な動作を阻害するおそれがあり、この近赤外線を極力遮断することが要求される。
Further, a structure in which a dielectric underlayer made of SiN, SiO, SiO 2 , Ta 2 O 5 or the like is provided in place of the layer made of the magneto-optical recording material or the phase change recording material is mentioned. it can.
(5) Near-infrared absorbing film for PDP It is known that PDP emits near-infrared rays. This near-infrared ray may affect peripheral electronic devices such as cordless phones and video decks that use a near-infrared remote control device, and may interfere with normal operation. It is required to block this near-infrared ray as much as possible. .

また、PDPにおいては、電磁波遮断、反射防止機能も要求されるため、一般に表示画面に、(1)電磁波遮断フィルム、(2)近赤外線吸収フィルム及び(3)反射防止フィルムの少なくとも3枚の機能性フィルムを有する前面板を、該反射防止フィルムが、最表面(観察者側)になるように配置する処置が講ぜられている。   In addition, since PDPs also require electromagnetic wave shielding and antireflection functions, generally at least three functions of (1) an electromagnetic wave shielding film, (2) a near infrared ray absorbing film, and (3) an antireflection film are provided on the display screen. Measures are taken in which a front plate having a protective film is disposed such that the antireflection film is the outermost surface (observer side).

前記(2)の近赤外線吸収フィルムとして、透明基材フィルム表面に、本発明の硬化コート層を設けその上に、PVD法やCVD法により、金属系近赤外線吸収剤の薄膜層を形成させた近赤外線吸収フィルムなどを挙げることができる。
また、その他に、反射ミラー、光学レンズ、携帯電話の外装、カメラカバーなども挙げられる。
As the near-infrared absorbing film of (2) above, the cured coating layer of the present invention was provided on the surface of the transparent substrate film, and a thin film layer of a metal-based near infrared absorbing agent was formed thereon by the PVD method or the CVD method. A near-infrared absorption film etc. can be mentioned.
In addition, a reflection mirror, an optical lens, an exterior of a mobile phone, a camera cover, and the like are also included.

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.

なお、各例における諸特性は、以下に示す方法に従って求めた。
(1)密着性
JIS K5400に準拠し、シリカ系薄膜コートアクリル基材及び反射防止膜付きシリカ系薄膜コートアクリル基材表面にロータリーカッターにて1mm角の碁盤目100マスを付け、セロテープ[ニチバン(株)製、登録商標]を圧着させたのち、一気に引き剥がし、その剥離面積より、JIS K5400に準拠して下記点数により薄膜の密着性を評価した。
In addition, the various characteristics in each example were calculated | required according to the method shown below.
(1) Adhesion In accordance with JIS K5400, a silica-based thin film-coated acrylic substrate and a silica-based thin film-coated acrylic substrate with an antireflection film are attached to the surface with a 100 mm square grid with a rotary cutter. (Registered trademark, manufactured by Kogyo Co., Ltd.) was pressure-bonded and peeled off at once. From the peeled area, the adhesion of the thin film was evaluated according to the following score in accordance with JIS K5400.

10点:剥離面積0%、8点:剥離面積5%以内、6点:同5%超〜15%、4点:同15%超〜35%、2点:同35%超〜65%、0点:65%超
(2)ヘイズ値および全光線透過率
JIS K7361に準拠し、濁度計NDH2000[日本電色工業(株)製]を用いて、シリカ系薄膜コートアクリル基材及び反射防止膜付きシリカ系薄膜コートアクリル基材のヘイズ値及び全光線透過率を測定した。
(3)波長600nmにおける透過率
紫外可視近赤外分光光度計「V−670DS」[日本分光(株)製]を用いて、シリカ系薄膜コートアクリル基材の波長600nmにおける透過率を測定した。
(4)耐環境性
反射防止膜付きシリカ系薄膜コートアクリル基材を以下の各条件下で放置後、上記の密着性評価と同様に密着性を評価した。
10 points: peeling area 0%, 8 points: peeling area within 5%, 6 points: above 5% to 15%, 4 points: above 15% to 35%, 2 points: above 35% to 65%, 0 point: Over 65% (2) Haze value and total light transmittance In accordance with JIS K7361, using a turbidimeter NDH2000 [manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.], a silica-based thin film coated acrylic base material and antireflection The haze value and total light transmittance of the silica-based thin film-coated acrylic substrate with film were measured.
(3) Transmittance at a wavelength of 600 nm Using a UV-visible near-infrared spectrophotometer “V-670DS” [manufactured by JASCO Corporation], the transmittance of a silica-based thin film-coated acrylic base material at a wavelength of 600 nm was measured.
(4) Environmental resistance After leaving the silica-based thin film-coated acrylic base material with an antireflection film under the following conditions, the adhesiveness was evaluated in the same manner as the above-mentioned adhesive evaluation.

(ア)耐湿熱試験:60℃、相対湿度90%の条件下で24時間
(イ)長期耐湿熱試験:60℃、相対湿度90%の条件下で500時間
(ウ)低温試験:−20℃の条件下で500時間
(エ)温水試験:60℃に加熱したイオン交換水中に4時間浸漬
なお、この耐環境性は、密着性が6点以上のものについて行った。
実施例1
(1)コーティング液の調製
3−メタクロキシプロピルトリメトキシシラン(MPTMS)16.25gとメチルトリメトキシシラン(MTMS)3.81gをMeOH 38.39gに加えて30℃で15分間撹拌した後、0.1モル/L硝酸1.17gと蒸留水8.93gとMeOH 16.45gの混合溶液を添加して30℃で24時間撹拌を行って加水分解・重縮合し、ポリオルガノシロキサンゾル アとした。
(A) Moisture and heat resistance test: 24 hours under conditions of 60 ° C. and 90% relative humidity (a) Long-term moisture and heat resistance test: 500 hours under conditions of 60 ° C. and 90% relative humidity (c) Low temperature test: −20 ° C. (D) Warm water test: immersed in ion-exchanged water heated to 60 ° C. for 4 hours. This environmental resistance was evaluated for those having adhesion of 6 points or more.
Example 1
(1) Preparation of coating solution 16.25 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (MPTMS) and 3.81 g of methyltrimethoxysilane (MTMS) were added to 38.39 g of MeOH and stirred at 30 ° C. for 15 minutes. .1 mol / L nitric acid 1.17 g, distilled water 8.93 g and MeOH 16.45 g mixed solution was added and stirred at 30 ° C. for 24 hours for hydrolysis and polycondensation to obtain a polyorganosiloxane sol. .

MPTMS:MTMSモル比は70:30であり、ポリオルガノシロキサンゾル アの固形分濃度は16質量%であった。   The MPTMS: MTMS molar ratio was 70:30, and the solid content concentration of the polyorganosiloxane sol was 16% by mass.

一方、メチルイソブチルケトン(MIBK)47.81gにメタクリル酸メチル(MMA)23.91g、MPTMS 3.01gを加え、これにMIBK 10.04gと2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.23gの混合溶液を添加、撹拌して均一溶液とした。この溶液を撹拌しながら60℃で30時間反応をさせることによりアクリル系有機高分子化合物を得た。これにMIBKを94.47g加えてアクリル系有機高分子化合物溶液とした。   On the other hand, methyl methacrylate (MMA) 23.91 g and MPTMS 3.01 g were added to methyl isobutyl ketone (MIBK) 47.81 g, and MIBK 10.04 g and 2,2′-azobisisobutyronitrile (AIBN) were added thereto. 0.23 g of the mixed solution was added and stirred to obtain a uniform solution. The acrylic organic polymer compound was obtained by making this solution react at 60 degreeC for 30 hours, stirring. To this, 94.47 g of MIBK was added to obtain an acrylic organic polymer compound solution.

MPTMS:MMAモル比は5:95であり、アクリル系有機高分子化合物溶液の固形分濃度は15質量%であった。   The MPTMS: MMA molar ratio was 5:95, and the solid content concentration of the acrylic organic polymer compound solution was 15% by mass.

次に、MIBK 34.31gに上記アクリル系有機高分子化合物溶液 2.83gを加え、更にプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)23.95g、ポリオルガノシロキサンゾル ア 23.91gの順に添加し、固形成分濃度5質量%のコーティング液を調製した。   Next, 2.83 g of the above-mentioned acrylic organic polymer compound solution is added to 34.31 g of MIBK, and further, 23.95 g of propylene glycol monomethyl ether (PGM) and 23.91 g of polyorganosiloxane sol are added in this order. A 5 mass% coating solution was prepared.

ポリオルガノシロキサンゾル ア:アクリル系有機高分子化合物溶液の固形分質量比は90:10であった。
(2)シリカ系薄膜作製および反射防止膜の蒸着
アクリル基材のアクリライト(50mm×50mm、t=2mm、三菱レイヨン社製)を、MeOHで5分間の超音波洗浄を行った後、この基材上にスピンコート法(600rpm×30秒)により上記コーティング液を塗布した。120℃で1.5分間の予備加熱を行い、90℃、で18時間のエージングを行った。得られたシリカ系薄膜表面にTiO、SiOの順に真空蒸着(シンクロン製BMC−1050型蒸着装置、中心波長550nm、非加熱)により、厚さ0.15μmの反射防止膜を形成した。
(3)特性評価
上記のように作製したシリカ系薄膜コートアクリル基材及び反射防止膜付きシリカ系薄膜コートアクリル基材において、密着性、ヘイズ値、全光線透過率、透過率(波長600nm)、耐環境性を評価した。その結果、シリカ系薄膜コートアクリル基材の密着性は8点と良好であり、ヘイズ値は0.2%、全光線透過率は92.5%と透明であった。このときの波長600nmにおける透過率は92.5%であり、アクリル基材のみの92.5%と同程度であった。反射防止膜付きシリカ系薄膜コートアクリル基材の密着性は8点と良好であり、ヘイズ値は0.2%、全光線透過率は94.9%と透明であった。また、耐湿熱試験後の密着性は8点と良好であった。
The solid content mass ratio of the polyorganosiloxane sol: acrylic organic polymer compound solution was 90:10.
(2) Preparation of silica-based thin film and vapor deposition of antireflection film After acrylite (50 mm × 50 mm, t = 2 mm, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) of an acrylic substrate was subjected to ultrasonic cleaning for 5 minutes with MeOH, this base The coating solution was applied onto the material by spin coating (600 rpm × 30 seconds). Preheating was performed at 120 ° C. for 1.5 minutes, and aging was performed at 90 ° C. for 18 hours. An antireflection film having a thickness of 0.15 μm was formed on the surface of the obtained silica-based thin film by vacuum deposition of TiO 2 and SiO 2 in this order (SYNCRON BMC-1050 type deposition apparatus, center wavelength 550 nm, non-heated).
(3) Characteristic evaluation In the silica-based thin film-coated acrylic base and the silica-based thin film-coated acrylic base with antireflection film prepared as described above, adhesion, haze value, total light transmittance, transmittance (wavelength 600 nm), Environmental resistance was evaluated. As a result, the adhesion of the silica-based thin film-coated acrylic base was as good as 8 points, the haze value was 0.2%, and the total light transmittance was 92.5%, which was transparent. At this time, the transmittance at a wavelength of 600 nm was 92.5%, which was about the same as 92.5% of the acrylic base material alone. The adhesion of the silica-based thin film-coated acrylic base material with the antireflection film was as good as 8 points, the haze value was 0.2%, and the total light transmittance was 94.9% and transparent. Further, the adhesion after the wet heat resistance test was as good as 8 points.

また、シリカ系薄膜コートアクリル基材の耐環境性を評価した。その結果、長期耐湿熱試験、低温試験、温水試験後の密着性はそれぞれ8点、8点、8点および10点と良好であった。   In addition, the environmental resistance of the silica-based thin film-coated acrylic base material was evaluated. As a result, the adhesion after the long-term moist heat resistance test, the low temperature test, and the hot water test was 8 points, 8 points, 8 points, and 10 points, respectively.

表1にコーティング液の組成を、表2に特性評価結果を示す。
実施例2〜4
表1に示す組成で各コーティング液を調製した以外は、実施例1と同様に行った。表2に特性評価結果を示す。
実施例5
コーティング液を調製する際にPGM、MIBKの代わりにシクロヘキサノール(CH)29.13g、ジアセトンアルコール(DAA)29.13gを用いた以外は、実施例1と同様に行った。
Table 1 shows the composition of the coating solution, and Table 2 shows the results of characteristic evaluation.
Examples 2-4
The same procedure as in Example 1 was performed except that each coating solution was prepared with the composition shown in Table 1. Table 2 shows the characteristic evaluation results.
Example 5
The same procedure as in Example 1 was performed except that 29.13 g of cyclohexanol (CH) and 29.13 g of diacetone alcohol (DAA) were used instead of PGM and MIBK when preparing the coating solution.

表1にコーティング液の組成を、表2に特性評価結果を示す。
実施例6
アクリライト上にコーティング液を塗布する際にスプレーコート法で行った以外は、実施例5と同様に行った。
Table 1 shows the composition of the coating solution, and Table 2 shows the results of characteristic evaluation.
Example 6
The same procedure as in Example 5 was performed except that the coating liquid was applied on the acrylite by a spray coating method.

表1にコーティング液の組成を、表2に特性評価結果を示す。
実施例7
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(APTMS)16.43gとMTMS 4.09gをMeOH 37.56gに加えて30℃で15分間撹拌した後、0.1モル/L硝酸 1.25gと蒸留水 9.58gとMeOH 16.10gの混合溶液を添加して30℃で24時間撹拌を行って加水分解・重縮合し、ポリオルガノシロキサンゾル イとした。このポリオルガノシロキサンゾル イをポリオルガノシロキサンゾル アの代わりに用いた以外、実施例1と同様に行った。
Table 1 shows the composition of the coating solution, and Table 2 shows the results of characteristic evaluation.
Example 7
After adding 16.43 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (APTMS) and 4.009 g of MTMS to 37.56 g of MeOH and stirring at 30 ° C. for 15 minutes, 1.25 g of 0.1 mol / L nitric acid and distilled water 9 A mixed solution of .58 g and 16.10 g of MeOH was added and stirred at 30 ° C. for 24 hours for hydrolysis and polycondensation to obtain a polyorganosiloxane slurry. The same procedure as in Example 1 was conducted except that this polyorganosiloxane slurry was used in place of the polyorganosiloxane slurry.

APTMS:MTMSモル比は70:30であり、ポリオルガノシロキサンゾル イの固形分濃度は16質量%であった。   The APTMS: MTMS molar ratio was 70:30, and the solid content concentration of the polyorganosiloxane slurry was 16% by mass.

表1にコーティング液の組成を、表2に特性評価結果を示す。
実施例8
MIBK 34.04gにアクリル系有機高分子化合物溶液 2.83gを加え、これにPGM 34.04g、ポリオルガノシロキサンゾル イ 11.95gを添加した。更に、多官能アクリレート(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート系)として「KAYARAD DPHA」(日本化薬(株)製)1.91g、熱重合開始剤として2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)0.21gを加えてコーティング液を調製した。これ以外は実施例1と同様に行った。
Table 1 shows the composition of the coating solution, and Table 2 shows the results of characteristic evaluation.
Example 8
2.83 g of an acrylic organic polymer compound solution was added to 34.04 g of MIBK, and 34.04 g of PGM and 11.95 g of polyorganosiloxane sol were added thereto. Furthermore, 1.91 g of “KAYARAD DPHA” (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a polyfunctional acrylate (dipentaerythritol hexaacrylate), and 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4) as a thermal polymerization initiator -Dimethylvaleronitrile) 0.21 g was added to prepare a coating solution. Except this, the same procedure as in Example 1 was performed.

ポリオルガノシロキサンゾル イ:アクリル系有機高分子化合物溶液の固形分質量比は50:50であった。   The solid content mass ratio of the polyorganosiloxane sol A: acrylic organic polymer compound solution was 50:50.

表1にコーティング液の組成を、表2に特性評価結果を示す。
実施例9
MIBK 34.04gにアクリル系有機高分子化合物溶液 2.83gを加え、これにPGM 34.04g、ポリオルガノシロキサンゾル イ 11.95gを添加した。更に、多官能アクリレートとして「KAYARAD DPHA」(日本化薬(株)製)1.91g、光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン0.21gを加えてコーティング液を調製した。このコーティング液をスピンコート法によりアクリライト上に塗布後、紫外線照射(照度:約60mW/cm)を行い、最後に90℃で1時間のエージングを行った。これ以外は実施例1と同様に行った。
Table 1 shows the composition of the coating solution, and Table 2 shows the results of characteristic evaluation.
Example 9
2.83 g of an acrylic organic polymer compound solution was added to 34.04 g of MIBK, and 34.04 g of PGM and 11.95 g of polyorganosiloxane sol were added thereto. Furthermore, 1.91 g of “KAYARAD DPHA” (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a polyfunctional acrylate and 0.21 g of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone as a photopolymerization initiator were added to prepare a coating solution. This coating solution was applied onto acrylite by spin coating, then irradiated with ultraviolet rays (illuminance: about 60 mW / cm 2 ), and finally aged at 90 ° C. for 1 hour. Except this, the same procedure as in Example 1 was performed.

表1にコーティング液の組成を、表2に特性評価結果を示す。
比較例1
実施例1において、アクリライト上にコーティング液を塗布せずに、アクリライト上に直接、反射防止膜を蒸着した。
Table 1 shows the composition of the coating solution, and Table 2 shows the results of characteristic evaluation.
Comparative Example 1
In Example 1, an antireflection film was deposited directly on acrylite without applying a coating solution on acrylite.

表2に特性評価結果を示す。
比較例2
MIBK 37.15gにPGM 21.29g、ポリオルガノシロキサンゾル ア 26.56gの順に添加し、固形成分濃度5質量%のコーティング液を調製した。これ以外は実施例1と同様に行った。
Table 2 shows the characteristic evaluation results.
Comparative Example 2
A coating liquid having a solid component concentration of 5% by mass was prepared by adding 21.29 g of PGM and 26.56 g of polyorganosiloxane sol to 37.15 g of MIBK. Except this, the same procedure as in Example 1 was performed.

表1にコーティング液の組成を、表2に特性評価結果を示す。
比較例3
MIBK 8.81gにアクリル系有機高分子化合物溶液 28.33g、PGM 47.86gの順に添加し、固形成分濃度5質量%のコーティング液を調製した。これ以外は実施例1と同様に行った。
Table 1 shows the composition of the coating solution, and Table 2 shows the results of characteristic evaluation.
Comparative Example 3
To 8.81 g of MIBK, 28.33 g of an acrylic organic polymer compound solution and 47.86 g of PGM were added in this order to prepare a coating solution having a solid component concentration of 5% by mass. Except this, the same procedure as in Example 1 was performed.

表1にコーティング液の組成を、表2に特性評価結果を示す。
比較例4
MPTMS 16.25gと2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.32g、MeOH 38.06gを70℃で2時間撹拌を行ってMPTMSのメタクロキシプロピル基の重合を行った。その後、MTMS 3.81gを加えて30℃で15分間撹拌した後、0.1モル/L硝酸 1.17gと蒸留水 8.93gとMeOH 16.45gの混合液を添加した。これを30℃で24時間撹拌を行って加水分解・重縮合し、ポリオルガノシロキサンゾル ウとした。このポリオルガノシロキサンゾル ウをポリオルガノシロキサンゾル アの代わりに用いた以外、実施例1と同様に行った。
Table 1 shows the composition of the coating solution, and Table 2 shows the results of characteristic evaluation.
Comparative Example 4
16.25 g of MPTMS, 0.32 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), and 38.06 g of MeOH were stirred at 70 ° C. for 2 hours to polymerize the methacryloxypropyl group of MPTMS. Thereafter, 3.81 g of MTMS was added and stirred at 30 ° C. for 15 minutes, and then a mixed solution of 1.17 g of 0.1 mol / L nitric acid, 8.93 g of distilled water and 16.45 g of MeOH was added. This was stirred at 30 ° C. for 24 hours to undergo hydrolysis and polycondensation to obtain a polyorganosiloxane sol. The same procedure as in Example 1 was conducted except that this polyorganosiloxane sol was used instead of the polyorganosiloxane sol.

表1にコーティング液の組成を、表2に特性評価結果を示す。   Table 1 shows the composition of the coating solution, and Table 2 shows the results of characteristic evaluation.

Figure 2008201922
[注]
1)実施例8:コーティング液中に、多官能アクリレート「KAYARAD DPHA」および熱重合開始剤を含有。
Figure 2008201922
[note]
1) Example 8: The polyfunctional acrylate “KAYARAD DPHA” and a thermal polymerization initiator are contained in the coating solution.

2)実施例9:コーティング液中に、多官能アクリレート「KAYARAD DPHA」および光重合開始剤を含有。   2) Example 9: The multifunctional acrylate “KAYARAD DPHA” and a photopolymerization initiator are contained in the coating solution.

Figure 2008201922
[注]
1)実施例6:コーティング液をスプレー法にて塗布する。その他の例は、いずれもスピンコート法による塗布である。
Figure 2008201922
[note]
1) Example 6: A coating solution is applied by a spray method. Other examples are all applied by spin coating.

本発明のコーティング剤は、有機系基材と金属や無機化合物蒸着膜との密着性を向上させるために、それらの間に介在させるコート層を形成するためのものであって、有機系基材上に、PVD法やCVD法により、反射防止膜、熱線反射膜、導電性膜、その他の機能膜などの形成に、好適に用いられる。   The coating agent of the present invention is for forming a coating layer interposed between an organic base material and a metal or inorganic compound vapor-deposited film in order to improve the adhesion. Furthermore, it is suitably used for forming an antireflection film, a heat ray reflective film, a conductive film, other functional films, etc. by PVD method or CVD method.

Claims (14)

有機系基材と、該基材上に形成される金属系蒸着膜との間に設けられる中間層を形成するためのコーティング剤であって、
(A)(a−1)一般式(I)
Figure 2008201922
(式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数1〜6のアルキレン基、RおよびRは、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、nは0〜2の整数を示し、Rが複数ある場合には、複数のRはたがいに同一でも異なっていてもよく、ORが複数ある場合には、複数のORはたがいに同一でも異なっていてもよい。)
で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物と、(a−2)一般式(II)
Si(OR4−m …(II)
(式中、Rは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基またはビニル基、Rは炭素数1〜10のアルキル基、mは0〜3の整数を示し、Rが複数ある場合には、複数のRはたがいに同一でも異なっていてもよく、ORが複数ある場合には、複数のORはたがいに同一でも異なっていてもよい。)
で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物とを、加水分解・縮合して得られたポリオルガノシロキサンゾル、および(B)アクリル系有機高分子化合物を含むことを特徴とするコーティング剤。
A coating agent for forming an intermediate layer provided between an organic base material and a metal-based vapor deposition film formed on the base material,
(A) (a-1) General formula (I)
Figure 2008201922
Wherein R is a hydrogen atom or a methyl group, A is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, R 1 and R 2 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 2. shown, when R 1 is plural, a plurality of R 1 may be the same with or different from each other, if the OR 2 there is a plurality, the plurality of OR 2 may be the same with or different from each other. )
And a partial hydrolyzate thereof, (a-2) general formula (II)
R 3 m Si (OR 4 ) 4-m (II)
(In the formula, R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aralkyl group or vinyl group having 7 to 10 carbon atoms, and R 4 is an alkyl having 1 to 10 carbon atoms. group, m represents an integer of 0 to 3, when there are a plurality of R 3, a plurality of R 3 may be the same with or different from each other, if the OR 4 there is a plurality, the plurality of OR 4 is They may be the same or different.)
A coating agent comprising: a polyorganosiloxane sol obtained by hydrolyzing and condensing a silane compound represented by the above or a partially hydrolyzed product thereof; and (B) an acrylic organic polymer compound.
(A)成分と(B)成分とを、固形分質量比95:5〜5:95の割合で含む請求項1に記載のコーティング剤。   The coating agent of Claim 1 which contains (A) component and (B) component in the ratio of solid content mass ratio 95: 5-5: 95. (A)成分のポリオルガノシロキサンゾルにおける、原料の(a−1)成分と(a−2)成分とのモル比が99:1〜60:40である請求項1または2に記載のコーティング剤。   The coating agent according to claim 1 or 2, wherein in the polyorganosiloxane sol as the component (A), the molar ratio of the component (a-1) to the component (a-2) is 99: 1 to 60:40. . 一般式(I)で表されるシラン化合物が、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび/または3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランである請求項1〜3のいずれか1項に記載のコーティング剤。   The coating agent according to any one of claims 1 to 3, wherein the silane compound represented by the general formula (I) is 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and / or 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. 一般式(II)で表されるシラン化合物が、メチルトリメトキシシランである請求項1〜4のいずれか1項に記載のコーティング剤。   The coating agent according to any one of claims 1 to 4, wherein the silane compound represented by the general formula (II) is methyltrimethoxysilane. (B)成分のアクリル系有機高分子化合物が、(b−1)分子中に加水分解により金属酸化物と結合し得る金属含有基を有するアクリル系単量体と、(b−2)金属を含まないアクリル系単量体とを共重合させて得られたものである請求項1〜5のいずれか1項に記載のコーティング剤。   (B) component acrylic organic polymer compound (b-1) an acrylic monomer having a metal-containing group capable of binding to a metal oxide by hydrolysis in the molecule, and (b-2) a metal. The coating agent according to any one of claims 1 to 5, which is obtained by copolymerizing an acrylic monomer not contained. (b−1)成分のアクリル系単量体が、一般式(I)
Figure 2008201922
(式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数1〜6のアルキレン基、RおよびRは、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、nは0〜2の整数を示し、Rが複数ある場合には、複数のRはたがいに同一でも異なっていてもよく、ORが複数ある場合には、複数のORはたがいに同一でも異なっていてもよい。)
で表されるシラン化合物またはその部分加水分解物である請求項6に記載のコーティング剤。
The acrylic monomer as component (b-1) is represented by the general formula (I)
Figure 2008201922
Wherein R is a hydrogen atom or a methyl group, A is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, R 1 and R 2 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 2. shown, when R 1 is plural, a plurality of R 1 may be the same with or different from each other, if the OR 2 there is a plurality, the plurality of OR 2 may be the same with or different from each other. )
The coating agent of Claim 6 which is a silane compound represented by these, or its partial hydrolyzate.
(b−2)成分のアクリル系単量体が、一般式(III)
Figure 2008201922
(式中、Rは水素原子またはメチル基、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を示す。)
で表される化合物である請求項6または7に記載のコーティング剤。
The acrylic monomer as the component (b-2) is represented by the general formula (III)
Figure 2008201922
(In the formula, R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
The coating agent of Claim 6 or 7 which is a compound represented by these.
(b−1)成分のアクリル系単量体が、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび/または3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランである請求項7または8に記載のコーティング剤。   The coating agent according to claim 7 or 8, wherein the acrylic monomer as component (b-1) is 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and / or 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. (B)成分のアクリル系有機高分子化合物が、(b−1)成分のアクリル系単量体と、(b−2)成分のアクリル系単量体とを、モル比1:99〜15:85の割合で共重合させて得られたものである請求項6〜9のいずれか1項に記載のコーティング剤。   The (B) component acrylic organic polymer compound comprises a (b-1) component acrylic monomer and a (b-2) component acrylic monomer in a molar ratio of 1:99 to 15: The coating agent according to any one of claims 6 to 9, which is obtained by copolymerization at a ratio of 85. 請求項1〜10のいずれか1項に記載のコーティング剤を用いて、有機系基材表面に形成されたことを特徴とする硬化コート層。   A cured coating layer formed on the surface of an organic base material using the coating agent according to any one of claims 1 to 10. 厚さが0.01〜10μmである請求項11に記載の硬化コート層。   The cured coat layer according to claim 11, having a thickness of 0.01 to 10 μm. 請求項11または12に記載の硬化コート層を有することを特徴とする構造体。   A structure having the cured coat layer according to claim 11. 硬化コート層上に、物理的気相蒸着法または化学的気相蒸着法により、金属膜および無機化合物膜の中から選ばれる少なくとも1層の薄膜が設けられてなる請求項13に記載の構造体。   14. The structure according to claim 13, wherein at least one thin film selected from a metal film and an inorganic compound film is provided on the cured coat layer by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. .
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