JPS6226310B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6226310B2
JPS6226310B2 JP54114098A JP11409879A JPS6226310B2 JP S6226310 B2 JPS6226310 B2 JP S6226310B2 JP 54114098 A JP54114098 A JP 54114098A JP 11409879 A JP11409879 A JP 11409879A JP S6226310 B2 JPS6226310 B2 JP S6226310B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
layer
thickness
film
transparent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54114098A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5638251A (en
Inventor
Toshio Nishihara
Toshiaki Yatabe
Masato Sugyama
Chuichi Tsutada
Masao Suzuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP11409879A priority Critical patent/JPS5638251A/en
Publication of JPS5638251A publication Critical patent/JPS5638251A/en
Publication of JPS6226310B2 publication Critical patent/JPS6226310B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は選択光透過性積層体に関し、更に触し
くは、可視光透過率並びに太陽エネルギー透過率
が高く、且つ耐スクラツチ性の優れた選択光透過
性積層体に関する。 選択光透過性積層体は、例えば可視光に対して
透明で赤外光に対して反射能を有するものなどが
透明断熱膜として利用されている。かかる性能を
有する積層体は太陽エネルギー集熱器、温水器、
グリーンハウス、建築物の窓、冷凍、冷蔵シヨー
ケース、車輌・航空機の窓等の利用が考えられ、
太陽エネルギーの利用及びエネルギー放散の防止
をはかる透明断熱窓としての機能が今後益々重要
となつてくる。 かかる目的を達成する為に、均質で高性能の選
択光透過性積層体が、工業的に安価、大量に供給
されることが切望されている。 従来、上記の如き性能を有する膜(積層体)と
しては、 1 金、銀、銅、アルミ等の金属薄膜 2 金、銀、銅、アルミニウム等の金属薄膜と、
他の要素との組合わせにより、ある波長領域に
おける透明性を改善したもの。 3 酸化インジウム、酸化スズ、ヨウ化銅等の化
合物半導体膜が知られている。 特に上記2の構成体の代表的なものは、金属薄
膜層を透明高屈折率薄膜層ではさんだ積層体であ
つて、例えば真空蒸着、反応性蒸着、化学コーテ
イング法又はスパツタリング法で形成された
Bi2O2/Au/Bi2O3、ZnS/Ag/ZnS又はTiO2
Ag/TiO2等の積層体が提案されている。 しかし、該選択光透過性を有する積層体を透明
断面窓として使用する場合は、可視光透過性や赤
外光反射能といつた本来の性能だけでなく耐摩耗
性や耐久性(耐光性・耐熱性)といつた実用性能
も要求される。ところが、一般に上記の如く極め
て薄い金属薄膜や金属酸化物薄膜を積層したもの
は耐摩耗性に於いて不十分である場合が多く、例
えば複層ガラス内に使用する場合においても、施
工時において、コーテイング面に指先がふれるこ
とにより、変色あるいは、スクラツチキズが生じ
やすく、就中直接外部にさらされる場合には保護
層を設ける必要がある。 しかしながら、高分子透明保護膜をこれらの該
選択透過性薄膜に積層した時、適切な条件が選ば
れていない時は可視光透過率及び太陽エネルギー
透過率が約10%も低下することがわかつた。札幌
の南向きの二重窓に該選択透過性薄膜を適用した
場合、暖房の省エネルギー計算において、丸陽エ
ネルギーの透過率が1%向上すれば、省エネルギ
ー量が窓面積1m2あたり40円/m2年増すという結
果が得られている。したがつて、ガラス窓の面積
が10m2の建物において、太陽エネルギー透過率が
約10%低下することは、省エネルギー量が4000
円/年も損することを意味する。又、可視光透過
率が減少することは、居住者に心理的圧迫感をも
たらし、窓としての機能を減退させる。 本発明者らは、太陽エネルギー透過率及び可視
光透過率が減少することなく、選択光透過性薄膜
層に高分子保護膜層に設ける方法について、検討
したところ、金属薄膜層の膜厚に対して、高分子
保護膜との膜厚をある特定の範囲に限定すること
により、可視光透過率及び太陽エネルギー透過率
が減少することなく、また耐摩耗性等が向上した
積層体が得られることを見出し本発明に到達し
た。 すなわち本発明は、 1 透明な成形物基板の少なくとも片面に、1又
は2の高屈接率誘電体薄膜層と金属薄膜層とが
積層され、さらにその上に高分子透明保護層が
積層された選択光透過性を有する積層体であつ
て、当該高分子透明保護層の膜厚d(μm)
が、金属薄膜層の膜厚l(Å)に対して次式(1)
〜(3)を満足するものであることを特徴とする被
覆された積層体である。 (1) 35≦l<130において 0.05<d<9 (2) 130l<180において 0.05<d<−0.052l+9.76 (3) 180l<300において 0.05<d<0.4 金属薄膜層の膜厚に関していえば、膜厚が35Å
未満では、金属が連続的にデポジツトせず島状構
造をとり、熱線反射能が不十分になり、300Å以
上では、金属層の厚さがあつすぎて可視光透過率
が40%以下となり実用に供しえない。 本発明に於て用いられる選択光透過性積層体の
ベースとなる透明な成形物基板としては、例えば
ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレン
ナフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレ
ン樹脂、ポリプロピレン樹脂、その他の樹脂の成
型物があげられる。 これらの成型物は板状、シート状、フイルム
状、等の任意の型に成型されており、またその目
的に応じ着色又は無着色の透明のものが選ばれ
る。ただし加工性の面よりシート状、フイルム
状、板状のものが、中でもフイルム状のものが生
産性の面より特に好ましい。更に二軸配向したポ
リエチレンテレフタレートフイルムが透明性、フ
イルムの強度、寸法安定性、積層体との接着性な
どの点より好ましい。 又ポリプロピレンフイルムは、その赤外線吸収
率が小さいという点で好ましいものの一つであ
る。 本発明に用いられる高屈折率誘電体薄膜層とし
ては、例えば二酸化チタン、酸化チタン、酸化ビ
スマス、硫化亜鉛、酸化錫および酸化インジウム
等からなる薄膜層を挙げることができる。 高屈折率誘電体薄膜層は可視光に対して1.6以
上、好ましくは1.8以上の屈折率を有し、可視光
透過率80%以上、好ましくは90%以上であるが効
果的であり、その膜厚は50〜600Å、好ましくは
120〜400Åである。 これらの薄膜層はスパツタリング、イオンプレ
ーテイング、真空蒸着又は化学コーテイングでも
設けることができる。化学コーテイングの例とし
て、例えばアルキルチタネートを主成分とする溶
質の有機溶液を塗工することにより、酸化チタン
薄膜層を設けることができる。アルキルチタネー
トの膜形成の条件を調節することにより、該薄膜
層中に0.1〜10重量%のアルキル基を残存させた
ものは金属層又は、有機質フイルムとの接着性が
向上し、巾広い波長領域にわたつて透明性もすぐ
れた選択光透過性フイルムを与えるので特に好ま
しい。 高屈折率誘電体薄膜層は、透明成形物基板と金
属薄膜層との間に設けても良いし、あるいは金属
薄膜層と高分子透明保護層の間に設けることがで
きる。又、高屈折率誘電体薄膜層で金属薄膜層を
はさんでも良い。 本発明に用いられる選択光透過性フイルムを構
成する金属薄膜層の材料としては、銀、金、銅お
よびこれらの合金あるいは混合物あるいは多層積
層物が用いられる。 特に、好ましい金属薄膜層としては、銀と銅
の合金層、銀と金との合金層、金層、金と銀
の合金層であり、膜厚はいずれも35〜300Åであ
る。これら合金層は、耐久性の点で好ましいもの
の例である。 金属薄膜層を形成する方法としては、例えば真
空蒸着法、カソードスパツタリング法、プラズマ
溶射法、気相メツキ法、化学メツキ法、電気メツ
キ法およびそれらの組合せのいずれでも可能であ
るが、とりわけ、真空蒸着法は蒸着が効率よく行
なわれるため、又、スパツタリング法は金属薄膜
の組成の時間的変動を小さくできる点で有利であ
る。 高分子透明保護層に用いる素材としては、例え
ばポリ(メタ)アクリレート系塗料;飽和ポリエ
ステル系塗料;エチレン−酢酸ビニル共重合体系
塗料;ポリスチレン系塗料;ポリビニルホルマー
ルあるいはポリビニルブチラール系塗料;ポリ塩
化ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体或い
は塩化ビニル−塩化ビニリデン等の塩化ビニル系
塗料;アルコール溶性ナイロン;ポリエチレン或
いはポリプロピレン等のポリオレフイン等が例示
される。特に2−エチルヘキシルアルコールやブ
チルアルコールなどの高級脂肪族アルコールの
(メタ)アクリル酸エステルから主としてなるポ
リ(メタ)アクリレート系塗料;エチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール等の線状或いは分枝状の脂肪族ジオー
ルとアジピン酸や、セバチン酸等の脂肪族ジカル
ボン酸或いはε−オキシカプロン酸等から主とし
て、或る飽和ポリエステル樹脂系塗料;エチレン
−酢酸ビニル共重合系塗料;アクリロニトリル−
スチレン共重合体;ポリスチレン;脂肪族ポリア
ミド共重合体からなるアルコール可溶性ナイロ
ン、アクリルニトリル、メタアクリルニトリル、
ポリプロピレンポリエチレン等が、好適に用いら
れる。 又特に耐スクラツチ性が要求される用途に対し
ては高分子透明膜としては、多官能ポリ(メタ)
アクリレート系塗料やジエチレングリコールビス
アリルカーボネート等の三次元架橋膜;メラミン
樹脂系塗料等の熱硬化性樹脂塗料を加熱硬化して
得られる三次元架橋膜等が挙げられる。 一般に金属薄膜層と誘電体層の積層体における
可視光透過率、太陽エネルギー透過率等は、積層
体の個々の成分の光学特性、すなわち、屈折率、
吸収率の波長依存性が知られているならば、理論
的には公知の方法に基づき計算することができ
る。ところが実際に計算したものに基づき、作製
したサンプルは、計算による予想値とは異なる事
がわかつた。その大きな理由の一つとしては、基
板に高分子フイルムを使う限り、その表面均一性
には限度があり、したがつて、その上に積層され
た膜厚は、マクロスコピツクには一定であるが、
ミクロスコピツクには膜厚が異なるためであろう
と予想している。したがつて、単なる計算では、
好ましい膜厚を予想することはできず、実際にサ
ンプルを種々の条件で検討することによつて、好
ましい積層体を得ることができる。 本発明に関していえば、金属層膜厚と高分子透
明保護膜が、一定条件を満たした時のみ、太陽エ
ネルギー透過率が低下することなく、耐スクラツ
チ性の向上した選択光透過膜が得られることがわ
かつた。 即ち、前記の如く金属薄膜層の膜厚をl(Å)
としたとき、高分子透明保護層の膜厚d(μm)
が以下の式(1)〜(3)を満足することである。 (1) 35≦l<130においては 0.05<d<9 (2) 130l<180においては 0.05<d<−0.052l+9.76 (3) 180l<300においては 0.05<d<0.5 しかしながら、高分子透明保護層の膜厚d(μ
m)が0.4〜1.5の範囲にあつては金属層及び高屈
折率誘電体薄膜層の種類によつては干渉稿を発生
する場合があるので、用いる材質に応じて、注意
深く設ける必要がある。以上に述べたごとく、保
護層を適切に設けることにより、太陽エネルギー
透過率も増加し、且つ耐スクラツチ性も向上した
選択光透過性膜を得ることができる。 かくして得られた積層体は、透明断熱膜として
複層窓内に施工、あるいは、一重窓に貼付する、
あるいはロール状のカーテンとして窓の内側にぶ
らさげる等により、建物窓の断熱性を高めること
ができる。又冷凍、冷蔵シヨーケース等の開口部
あるいは窓に適用することにより、省エネルギー
を得ることができる。 例えば4面ガラスのシヨーケースに適用する
と、約20%の省エネルギー効果が得られる。 本発明の積層体は、施工時及び使用時において
も、スクラツチきずが少く、かつ太陽エネルギー
透過率が低くならないという点ですぐれたもので
ある。 以下、本発明のより具体的な説明を実施例で示
す。なお、太陽エネルギー透過率は、文献ムー
ン・ピー;ジヤーナル オブ フランクリン イ
ンステイチユート(Moon、P.、J.Franklin Inst.
)vol.203 583(1940)の太陽スペクトルの重み
を用いて計算した。 薄膜中の元素組成及び膜厚は、けい光X線分析
法(理学電機ケイ光X線分析装置使用)により定
量して求めた。尚膜厚の大きなものに関しては、
安立電機製デジタル電子マイクロメーター
(K351A型)により測定した。 耐スクラツチ性は、クロツクメーターテスト法
でなされた。クロツクメータ(東洋精機製)の摩
擦面に市販のガーゼを用い、500g/cm2の荷重を
かけて、サンプル表面を往復摩耗させ、金属層が
摩耗するようになるまでの往復回数を求めた。 実施例1及び比較例1 光透過率86%、膜厚25μmの二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフイルムに高屈折率誘電体薄
膜層として、膜厚172Åの酸化チタン層、さらに
その上に金属薄膜層として銀、銅(構成比銀/銅
=92/8)の合金薄膜を設けた。この上にさらに
高屈折率誘電体薄膜層として、膜厚117Åの酸化
チタン層を設けた。金属薄膜層の膜厚は、280
Å、208Å、162Å、131Å、80Å、30Å、と変え
た。これらのサンプルにさらに高分子透明保護層
として、ポリメタアクリルニトリルの膜厚を種々
に変えて作成した。 尚酸化チタン層は、テトラブチルチタネートの
加水分解により設けた。金属薄膜層は、圧力5×
10-3Torr中で、スパツタリング法によりもうけ
た。得られたサンプルの太陽エネルギー透過率を
測定し、結果を表−1に示す。 又高分子透明保護層のないサンプルのクロツク
メーターの往復回数は1〜2回であつたが、高分
子透明保護層が0.1μついたものは、クロツクメ
ーターの往復回数は10〜14回と1桁向上した。さ
らに高分子透明保護層が2μついたものは、3000
回〜4000回というすぐれた値を示した。
The present invention relates to a selective light transmitting laminate, and more particularly to a selective light transmitting laminate having high visible light transmittance, high solar energy transmittance, and excellent scratch resistance. As the selective light transmitting laminate, for example, one that is transparent to visible light and reflective to infrared light is used as a transparent heat insulating film. Laminated bodies with such performance can be used in solar energy collectors, water heaters,
Possible uses include greenhouses, building windows, refrigeration and refrigerated cases, vehicle and aircraft windows, etc.
The function of transparent insulating windows that utilize solar energy and prevent energy dissipation will become increasingly important in the future. In order to achieve this objective, it is strongly desired that homogeneous, high-performance selective light transmitting laminates be industrially available at low cost and in large quantities. Conventionally, films (laminates) having the above-mentioned performance include: 1. A metal thin film of gold, silver, copper, aluminum, etc. 2. A metal thin film of gold, silver, copper, aluminum, etc.;
Improved transparency in a certain wavelength range by combining with other elements. 3 Compound semiconductor films made of indium oxide, tin oxide, copper iodide, etc. are known. In particular, a typical structure of the above 2 is a laminate in which a metal thin film layer is sandwiched between transparent high refractive index thin film layers, and is formed by, for example, vacuum evaporation, reactive evaporation, chemical coating method, or sputtering method.
Bi 2 O 2 /Au/Bi 2 O 3 , ZnS/Ag/ZnS or TiO 2 /
Laminated bodies such as Ag/TiO 2 have been proposed. However, when using a laminate with selective light transmittance as a transparent cross-sectional window, it is important not only to have the inherent performance such as visible light transmittance and infrared light reflectivity, but also to have abrasion resistance and durability (light resistance, Practical performance such as heat resistance) is also required. However, in general, laminated extremely thin metal films or metal oxide thin films as described above often have insufficient wear resistance, and even when used in double-glazed glass, for example, during construction, Touching the coated surface with your fingertips tends to cause discoloration or scratches, and especially when it is directly exposed to the outside, it is necessary to provide a protective layer. However, when a transparent polymeric protective film was laminated onto these selectively permeable thin films, it was found that the visible light transmittance and solar energy transmittance decreased by about 10% unless appropriate conditions were selected. . When the selectively permeable thin film is applied to south-facing double windows in Sapporo, in energy saving calculations for heating, if the transmittance of Maruyo Energy increases by 1%, the energy savings will be 40 yen/m2 per 1m2 of window area. The results show an increase of 2 years. Therefore, in a building with a glass window area of 10 m2 , a decrease in solar energy transmittance of about 10% means an energy saving of 4000 m2.
This means that yen/year will also be lost. In addition, a decrease in visible light transmittance causes a psychological pressure on residents and reduces the window's function. The present inventors investigated a method of providing a selective light transmitting thin film layer on a polymer protective film layer without reducing solar energy transmittance and visible light transmittance, and found that the thickness of the metal thin film layer By limiting the thickness of the polymer protective film to a certain range, a laminate with improved wear resistance, etc. can be obtained without reducing visible light transmittance and solar energy transmittance. This discovery led to the present invention. That is, the present invention has the following features: 1. One or two high refractive index dielectric thin film layers and metal thin film layers are laminated on at least one side of a transparent molded substrate, and a polymer transparent protective layer is further laminated thereon. It is a laminate having selective light transmittance, and the film thickness d (μm) of the polymer transparent protective layer
However, for the thickness l (Å) of the metal thin film layer, the following formula (1)
This is a coated laminate characterized by satisfying (3). (1) At 35≦l<130, 0.05<d<9 (2) At 130l<180, 0.05<d<-0.052l+9.76 (3) At 180l<300, 0.05<d<0.4 Regarding the thickness of the metal thin film layer. For example, the film thickness is 35Å
If it is less than 300 Å, the metal will not be deposited continuously and will take an island-like structure, resulting in insufficient heat ray reflection ability. If it is more than 300 Å, the thickness of the metal layer will be too thick and the visible light transmittance will be less than 40%, making it impractical. I can't offer it. Examples of the transparent molded substrate that serves as the base of the selectively transparent laminate used in the present invention include polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, and acrylic resin. , polyamide resin, polyethylene resin, polypropylene resin, and molded products of other resins. These molded products can be molded into any shape such as a plate, sheet, or film, and colored or uncolored transparent ones are selected depending on the purpose. However, sheet-like, film-like, and plate-like materials are preferable from the viewpoint of processability, and among them, film-like materials are particularly preferable from the viewpoint of productivity. Further, a biaxially oriented polyethylene terephthalate film is preferable from the viewpoints of transparency, film strength, dimensional stability, adhesiveness with a laminate, and the like. Moreover, polypropylene film is one of the preferable films since its infrared absorption rate is low. Examples of the high refractive index dielectric thin film layer used in the present invention include thin film layers made of titanium dioxide, titanium oxide, bismuth oxide, zinc sulfide, tin oxide, indium oxide, and the like. The high refractive index dielectric thin film layer has a refractive index of 1.6 or more, preferably 1.8 or more with respect to visible light, and a visible light transmittance of 80% or more, preferably 90% or more. Thickness is 50-600Å, preferably
It is 120-400 Å. These thin film layers can also be applied by sputtering, ion plating, vacuum deposition or chemical coating. As an example of a chemical coating, a thin layer of titanium oxide can be provided, for example by applying an organic solution of a solute based on an alkyl titanate. By adjusting the conditions for alkyl titanate film formation, those in which 0.1 to 10% by weight of alkyl groups remain in the thin film layer have improved adhesion with metal layers or organic films, and can be used in a wide wavelength range. This is particularly preferred since it provides a selectively transparent film with excellent transparency throughout the film. The high refractive index dielectric thin film layer may be provided between the transparent molded substrate and the metal thin film layer, or between the metal thin film layer and the polymer transparent protective layer. Alternatively, a metal thin film layer may be sandwiched between high refractive index dielectric thin film layers. Silver, gold, copper, alloys or mixtures thereof, or multilayer laminates are used as materials for the metal thin film layer constituting the selectively transparent film used in the present invention. Particularly preferable metal thin film layers include a silver-copper alloy layer, a silver-gold alloy layer, a gold layer, and a gold-silver alloy layer, all of which have a thickness of 35 to 300 Å. These alloy layers are preferred examples in terms of durability. Examples of methods for forming the metal thin film layer include vacuum evaporation, cathode sputtering, plasma spraying, vapor phase plating, chemical plating, electroplating, and combinations thereof. The vacuum evaporation method is advantageous in that vapor deposition is performed efficiently, and the sputtering method is advantageous in that temporal fluctuations in the composition of the metal thin film can be reduced. Materials used for the polymeric transparent protective layer include, for example, poly(meth)acrylate paints; saturated polyester paints; ethylene-vinyl acetate copolymer paints; polystyrene paints; polyvinyl formal or polyvinyl butyral paints; polyvinyl chloride; Examples include vinyl chloride paints such as vinyl acetate-vinyl chloride copolymer or vinyl chloride-vinylidene chloride; alcohol-soluble nylon; and polyolefins such as polyethylene or polypropylene. In particular, poly(meth)acrylate paints mainly composed of (meth)acrylic acid esters of higher aliphatic alcohols such as 2-ethylhexyl alcohol and butyl alcohol; linear or branched paints such as ethylene glycol, tetramethylene glycol, neopentyl glycol, etc. Mainly from aliphatic diols such as adipic acid, aliphatic dicarboxylic acids such as sebacic acid, or ε-oxycaproic acid, certain saturated polyester resin paints; ethylene-vinyl acetate copolymer paints; acrylonitrile-
Styrene copolymer; polystyrene; alcohol-soluble nylon made of aliphatic polyamide copolymer, acrylonitrile, methacrylonitrile,
Polypropylene polyethylene and the like are preferably used. In addition, for applications that require particularly scratch resistance, polyfunctional poly(meth) is used as a transparent polymer film.
Examples include three-dimensional crosslinked films such as acrylate paints and diethylene glycol bisallyl carbonate; three-dimensional crosslinked films obtained by heating and curing thermosetting resin paints such as melamine resin paints. Generally, the visible light transmittance, solar energy transmittance, etc. of a laminate of metal thin film layers and dielectric layers are determined by the optical properties of the individual components of the laminate, such as the refractive index,
If the wavelength dependence of the absorption rate is known, it can theoretically be calculated based on a known method. However, based on the actual calculations, it was found that the prepared samples differed from the predicted values. One of the major reasons for this is that as long as a polymer film is used as a substrate, there is a limit to its surface uniformity, and therefore the thickness of the film laminated on it is constant from a macroscopic perspective. but,
We predict that this is due to the difference in film thickness in microscopy. Therefore, by simple calculation,
It is not possible to predict the preferred film thickness, and a preferred laminate can be obtained by actually examining samples under various conditions. Regarding the present invention, only when the thickness of the metal layer and the transparent polymeric protective film satisfy certain conditions can a selective light transmitting film with improved scratch resistance be obtained without decreasing solar energy transmittance. I understood. That is, as mentioned above, the thickness of the metal thin film layer is set to l (Å).
When, the film thickness d (μm) of the polymer transparent protective layer is
satisfies the following equations (1) to (3). (1) For 35≦l<130, 0.05<d<9 (2) For 130l<180, 0.05<d<-0.052l+9.76 (3) For 180l<300, 0.05<d<0.5 However, polymer transparent Protective layer thickness d(μ
When m) is in the range of 0.4 to 1.5, interference patterns may occur depending on the type of metal layer and high refractive index dielectric thin film layer, so it is necessary to carefully provide the interference pattern depending on the material used. As described above, by appropriately providing a protective layer, it is possible to obtain a selectively transparent film with increased solar energy transmittance and improved scratch resistance. The thus obtained laminate can be applied as a transparent heat insulating film inside a multi-layer window or attached to a single-pane window.
Alternatively, the heat insulation properties of building windows can be improved by hanging them on the inside of windows as rolled curtains. Furthermore, energy saving can be achieved by applying it to the openings or windows of refrigerator and refrigerator cases. For example, when applied to a four-sided glass case, an energy saving effect of approximately 20% can be achieved. The laminate of the present invention is excellent in that there are few scratches and the solar energy transmittance does not decrease during construction and use. Hereinafter, a more specific explanation of the present invention will be shown in Examples. The solar energy transmittance is calculated from the literature Moon, P., Journal of Franklin Institute (Moon, P., J.Franklin Inst.
) vol.203 583 (1940). Calculated using the solar spectrum weights. The elemental composition and film thickness in the thin film were determined by quantitative determination using a fluorescent X-ray analysis method (using a Rigaku fluorescent X-ray analyzer). Regarding thick films,
Measured using a digital electronic micrometer (K351A type) manufactured by Anritsu Electric. Scratch resistance was determined using the clock meter test method. Commercially available gauze was used on the friction surface of a clock meter (manufactured by Toyo Seiki), and a load of 500 g/cm 2 was applied to cause the sample surface to wear back and forth, and the number of back and forth cycles until the metal layer became worn was determined. Example 1 and Comparative Example 1 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a light transmittance of 86% and a film thickness of 25 μm, a titanium oxide layer with a film thickness of 172 Å as a high refractive index dielectric thin film layer, and a silver thin film layer on top of the titanium oxide layer with a film thickness of 172 Å. , an alloy thin film of copper (composition ratio silver/copper = 92/8) was provided. On top of this, a titanium oxide layer with a thickness of 117 Å was further provided as a high refractive index dielectric thin film layer. The thickness of the metal thin film layer is 280
Å, 208Å, 162Å, 131Å, 80Å, 30Å. These samples were further made with polymethacrylonitrile having various thicknesses as transparent polymer protective layers. The titanium oxide layer was provided by hydrolyzing tetrabutyl titanate. The metal thin film layer has a pressure of 5×
Produced by sputtering method at 10 -3 Torr. The solar energy transmittance of the obtained sample was measured and the results are shown in Table-1. In addition, the number of times the clock meter was reciprocated for the sample without the polymer transparent protective layer was 1 to 2 times, but the number of times the clock meter was reciprocated was 10 to 14 times for the sample with a 0.1 μm transparent polymer protective layer. improved by one digit. Furthermore, the one with 2μ of polymer transparent protective layer is 3000
It showed an excellent value of ~4000 times.

【表】 実施例 2 光透過率86%、膜厚25μmの二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフイルムに、金属薄膜層とし
て、金を蒸着により設けた。 金の膜厚は、44Å、57Å、58Å、94Å、156
Å、196Åと変えた。 この上に高屈折率誘電体層として、テトラブチ
ルチタネートを加水分解して得たTiO2膜を150Å
の厚さで設けた。さらにこの上に高分子透明保護
層として、ポリアクリルニトリルの膜厚を種々変
えて、コーテイングした。 実施例1と同様にテストして得られた結果を表
−2に示す。
[Table] Example 2 Gold was provided as a metal thin film layer by vapor deposition on a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a light transmittance of 86% and a film thickness of 25 μm. Gold film thickness is 44 Å, 57 Å, 58 Å, 94 Å, 156
Å, changed to 196Å. On top of this, a TiO 2 film obtained by hydrolyzing tetrabutyl titanate is deposited as a high refractive index dielectric layer with a thickness of 150 Å.
The thickness was set at . Furthermore, polyacrylonitrile was coated with various thicknesses as a polymer transparent protective layer on top of this. Table 2 shows the results obtained by testing in the same manner as in Example 1.

【表】【table】

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 透明な成形物基板の少なくとも片面に、1又
は2の高屈接率誘電体薄膜層と金属薄膜層とが積
層され、さらにその上に高分子透明保護層が積層
された選択光透過性を有する積層体であつて、当
該高分子透明保護層の膜厚d(μm)が、金属薄
膜層の膜厚l(Å)に対して次式(1)〜(3)を満足す
るものであることを特徴とする被覆された積層
体。 (1) 35≦l<130において 0.05<d<9 (2) 130l<180において 0.05<d<−0.052l+9.76 (3) 180l<300において 0.05<d<0.4
[Claims] 1. One or two high refractive index dielectric thin film layers and metal thin film layers are laminated on at least one side of a transparent molded substrate, and a polymer transparent protective layer is further laminated thereon. The film thickness d (μm) of the polymer transparent protective layer is expressed by the following formulas (1) to (3) with respect to the film thickness l (Å) of the metal thin film layer. A coated laminate characterized in that it satisfies the following. (1) At 35≦l<130, 0.05<d<9 (2) At 130l<180, 0.05<d<-0.052l+9.76 (3) At 180l<300, 0.05<d<0.4
JP11409879A 1979-09-07 1979-09-07 Coated laminate Granted JPS5638251A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11409879A JPS5638251A (en) 1979-09-07 1979-09-07 Coated laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11409879A JPS5638251A (en) 1979-09-07 1979-09-07 Coated laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5638251A JPS5638251A (en) 1981-04-13
JPS6226310B2 true JPS6226310B2 (en) 1987-06-08

Family

ID=14629057

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11409879A Granted JPS5638251A (en) 1979-09-07 1979-09-07 Coated laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5638251A (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4533605A (en) * 1980-09-09 1985-08-06 Westinghouse Electric Corp. Article such as jewelry or a wristwatch component having composite multi-film protective coating
US4517217A (en) * 1980-09-09 1985-05-14 Westinghouse Electric Corp. Protective coating means for articles such as gold-plated jewelry and wristwatch components
US4495254A (en) * 1981-05-18 1985-01-22 Westinghouse Electric Corp. Protectively-coated gold-plated article of jewelry or wristwatch component
JPS58157678A (en) * 1982-03-13 1983-09-19 Murata Mach Ltd Cop carrying system in automatic winder
US4565719A (en) * 1982-10-08 1986-01-21 Optical Coating Laboratory, Inc. Energy control window film systems and methods for manufacturing the same
JPS61107534U (en) * 1984-12-20 1986-07-08
JPH0351145Y2 (en) * 1985-06-07 1991-10-31

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53128798A (en) * 1977-04-15 1978-11-10 Teijin Ltd Method of forming transparent electroconductive coating

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53128798A (en) * 1977-04-15 1978-11-10 Teijin Ltd Method of forming transparent electroconductive coating

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5638251A (en) 1981-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0049083B1 (en) Laminated film
US4639069A (en) Optical laminar structure
JP6346952B2 (en) Optical film exhibiting improved light-to-solar gain heat ratio
CN106575005B (en) Infra Red reflective films
US20060057399A1 (en) Infra-red reflecting layered structure
JPS5944993B2 (en) laminate
EP0035906A2 (en) Selectively light-transmitting laminated structure
EP2089743A1 (en) A solar control film
WO2016117436A1 (en) Multilayer laminated circuit board
JPS6226310B2 (en)
JPS6036940B2 (en) Film formation method
JPS6151762B2 (en)
JPS61167546A (en) Laminated film
KR102176232B1 (en) Window film
JPH01279202A (en) Reflecting body
KR102063062B1 (en) Infrared ray-reflecting film, and fittings comprising the same
JPS6134384B2 (en)
JPH05162227A (en) Reflector
JP2895080B2 (en) Reflector
JPS6059147B2 (en) laminate
JPH06191906A (en) Laminated glass
JPH0116671B2 (en)
JPS6210183B2 (en)
JP5895089B1 (en) Heat ray shielding laminate and window glass using the laminate
JPH0431859B2 (en)