KR102063062B1 - Infrared ray-reflecting film, and fittings comprising the same - Google Patents
Infrared ray-reflecting film, and fittings comprising the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR102063062B1 KR102063062B1 KR1020170016276A KR20170016276A KR102063062B1 KR 102063062 B1 KR102063062 B1 KR 102063062B1 KR 1020170016276 A KR1020170016276 A KR 1020170016276A KR 20170016276 A KR20170016276 A KR 20170016276A KR 102063062 B1 KR102063062 B1 KR 102063062B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- layer
- metal
- metal oxide
- reflecting film
- metal layer
- Prior art date
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 148
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 148
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 103
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 103
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 271
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 59
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 5
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 4
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
Abstract
본 출원은 적외선 반사 필름에 관한 것이다. 본 출원의 적외선 반사 필름은 금속층과 금속산화물층에 포함하고, 층 간 적층 순서 외에, 각 층의 굴절률, 열팽창 계수, 및/또는 두께 등을 조절하여 고기능을 구현할 수 있다.The present application relates to an infrared reflecting film. The infrared reflecting film of the present application is included in the metal layer and the metal oxide layer, and in addition to the stacking order between the layers, it is possible to implement a high function by adjusting the refractive index, thermal expansion coefficient, and / or thickness of each layer.
Description
본 출원은 적외선 반사 필름, 및 이를 포함하는 창호에 관한 것이다.The present application relates to an infrared reflecting film, and to a window comprising the same.
윈도우 필름 중 솔라컨트롤 필름은 적외선 차단 방식에 따라 흡수형 필름과 반사형 필름으로 구별할 수 있다. 이 중, 반사형 솔라 컨트롤 필름은 금속산화물층과 금속층이 교대로 적층된 구조로 형성되는 것이 일반적이며, 필름 본연의 적외선 차단 기능 외에도 경도 개선이나 오염 방지 등을 위해 교대로 적층된 층 사이에는 별도의 층을 포함하기도 한다. 그러나 적층되는 층의 개수만큼이나 다양한 원인으로 인해, 층간 계면에서의 부착력 저하와 박리 문제, 내구성 저하문제, 그리고 필름의 오염과 변색 문제가 발생하고 있다.Among the window films, the solar control film may be classified into an absorption type film and a reflective film according to an infrared ray blocking method. Among these, the reflective solar control film is generally formed in a structure in which a metal oxide layer and a metal layer are alternately stacked, and in addition to the infrared blocking function of the film, a separate layer is alternately stacked for improving hardness or preventing contamination. It may also include layers of. However, due to various causes as many as the number of layers to be stacked, problems of adhesion and peeling at the interlayer interface, a problem of deterioration of durability, and a problem of contamination and discoloration of the film are generated.
본 출원의 일 목적은, 고차열, 고단열, 및 고투과성을 갖는 고기능의 적외선 반사 필름을 제공하는 것이다.One object of the present application is to provide a high-performance infrared reflecting film having high thermal insulation, high thermal insulation, and high transparency.
본 출원의 다른 목적은, 고기능이면서도 내오염성과 내구성이 우수한 적외선 반사 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present application is to provide an infrared reflecting film having high functionality and excellent stain resistance and durability.
본 출원의 또 다른 목적은 고기능의 적외선 반사 필름을 포함하는 창호를 제공하는 것이다.Another object of the present application is to provide a window comprising a high-performance infrared reflecting film.
본 출원의 상기 목적 및 기타 그 밖의 목적은, 하기 상세히 설명되는 본 출원에 의해 모두 해결될 수 있다.The above and other objects of the present application can all be solved by the present application described in detail below.
본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 적외선 반사 필름에 관한 것이다. 구체적으로, 본 출원은, 가시광에 대한 투과성을 갖지만, 적외선에 대해서는 반사 또는 차단 기능을 수행하는 적외선 반사 필름에 관한 것이다.In one example of the present application, the present application relates to an infrared reflecting film. Specifically, the present application relates to an infrared reflecting film having transparency to visible light but performing a reflection or blocking function with respect to infrared rays.
본 출원에서 특별히 다르게 정의하지 않는 이상, 가시광은 예를 들어 380 nm 내지 780 nm 파장 범위의 광을, 보다 구체적으로는 550 nm 파장의 광을 의미할 수 있다. 또한, 본 출원에서 적외선은, 상기 가시광보다 긴 파장의 광을 의미할 수 있으며, 예를 들어 780 nm 내지 2,500 nm 파장 범위의 근적외선과 2.5 ㎛ 내지 25 ㎛ 파장 범위의 원적외선을 포괄하는 의미로 사용될 수 있다. 하기 구성을 갖는 본 출원의 적외선 필름은 근적외선과 원적외선을 모두 차단할 수 있다.Unless specifically defined otherwise in the present application, the visible light may refer to, for example, light in a wavelength range of 380 nm to 780 nm, and more specifically, light of 550 nm wavelength. In addition, infrared rays in the present application may mean light of a wavelength longer than the visible light, for example, may be used to encompass near infrared rays in the wavelength range of 780 nm to 2,500 nm and far infrared rays in the wavelength range of 2.5 μm to 25 μm. have. Infrared film of the present application having the following configuration can block both near infrared and far infrared.
또한, 본 출원에서, 층간 적층 위치와 관련하여 사용되는 「상」 또는 「상에」라는 용어는, 어떤 구성이 다른 구성 바로 위에 형성되는 경우뿐만 아니라 이들 구성들 사이에 제3의 구성이 개재되는 경우까지 포함하는 것을 의미한다.In addition, in the present application, the term "phase" or "phase" used in connection with the interlayer lamination position means that a third configuration is interposed between these configurations as well as when a configuration is formed directly on top of another configuration. It means to include until.
본 출원의 적외선 필름은, 기재층, 금속층 및 복수의 금속산화물층을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 본 출원의 적외선 필름은 기재층; 제1 금속산화물층 및 금속층을 포함하는 제1 적층체; 및 굴절률이 상이한 복수의 금속산화물층을 포함하는 제2 적층체를 포함할 수 있다. 상기와 같이 금속층과 금속산화물층이 적층된 구조는 적외선 필름에 고차열 및 고단열 기능을 부여할 수 있다.The infrared film of the present application may include a base layer, a metal layer, and a plurality of metal oxide layers. More specifically, the infrared film of the present application is a base layer; A first laminate comprising a first metal oxide layer and a metal layer; And a second laminate including a plurality of metal oxide layers having different refractive indices. The structure in which the metal layer and the metal oxide layer are stacked as described above may impart high thermal insulation and high thermal insulation to the infrared film.
본 출원의 적외선 반사 필름은, 기재층 상에, 제1 적층체 및 제2 적층체가 순서대로 마련된 구성을 가질 수 있다. 이때, 제2 적층체에 포함되는 복수의 금속산화물층 중 가장 굴절률이 큰 금속산화물층이 제1 적층체에 인접하여, 즉 제1 적층체 상에 마련될 수 있다. 제2 적층체에 포함되는 금속산화물층의 개수는 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 상기 금속산화물층은 제2 금속산화물층 및 제3 금속산화물층, 즉 2개의 금속산화물층을 포함할 수 있다.The infrared reflecting film of this application may have the structure in which the 1st laminated body and the 2nd laminated body were provided in order on the base material layer. In this case, a metal oxide layer having the largest refractive index among the plurality of metal oxide layers included in the second laminate may be provided adjacent to the first laminate, that is, on the first laminate. The number of metal oxide layers included in the second laminate is not particularly limited. For example, the metal oxide layer may include a second metal oxide layer and a third metal oxide layer, that is, two metal oxide layers. .
투광성을 가질 경우, 기재층에 사용 가능한 재료의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 상기 기재층에는 가시광에 대한 투과율이 70% 이상인 유리 또는 수지 필름이 사용될 수 있다. 하나의 예시에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르 술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리오레핀계수지, (메타)아크릴레이트계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리 비닐 알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지 또는 폴리페닐렌 황화물계 수지 등이 수지 필름으로 사용될 수 있다.When it has light transmittance, the kind of material which can be used for a base material layer is not specifically limited. For example, a glass or resin film having a transmittance of 70% or more for visible light may be used for the substrate layer. In one example, polyester resins such as polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polybutylene terephthalate resin, acetate resin, polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyimide resin, polyolefin Counting paper, (meth) acrylate resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate resin or polyphenylene sulfide resin may be used as the resin film.
특별히 제한되지 않으나, 상기 기재층은 예를 들어, 5 ㎛ 이상, 10 ㎛ 이상, 20 ㎛ 이상, 또는 30 ㎛ 이상의 두께를 가질 수 있으며, 상기 두께의 상한은 200 ㎛ 또는 150 ㎛ 일 수 있다.Although not particularly limited, the base layer may have a thickness of, for example, 5 μm or more, 10 μm or more, 20 μm or more, or 30 μm or more, and the upper limit of the thickness may be 200 μm or 150 μm.
하나의 예시에서, 상기 제1 적층체는 제1 금속산화물층 상에 금속층이 마련된 적층체일 수 있다. 이때, 제1 금속산화물층과 금속층 사이에는 별도의 층이 마련될 수도 있고, 제1 금속산화물층의 일면과 금속층의 일면이 서로 직접 맞닿아 있을 수도 있다.In one example, the first laminate may be a laminate in which a metal layer is provided on the first metal oxide layer. In this case, a separate layer may be provided between the first metal oxide layer and the metal layer, and one surface of the first metal oxide layer and one surface of the metal layer may directly contact each other.
금속층은 금속 성분을 주성분으로 하는 층을 의미할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 금속층은, 티타늄(Ti), 은(Ag), 백금(Pt), 금(Au), 구리(Cu), 크롬(Cr), 알루미늄(Al), 팔라듐(Pd) 및 니켈(Ni) 중에서 선택되는 1 이상의 금속 성분을 포함할 수 있다. 금속층의 성분과 관련하여, 「주성분」이라 함은, 금속층에 포함되는 금속의 총 함량 중 주성분인 금속의 함량이 약 80 중량% 내지 100 중량% 이하인 경우를 의미할 수 있다. 따라서, 2종 이상의 금속성분이 금속층에 포함되는 경우, 주성분 금속 외에 나머지 금속의 함량은 상기 범위를 갖는 주성분의 함량을 제외한 만큼 포함될 수 있다. 상기 나열된 금속 외의 금속 성분, 예를 들어, 주석(sn)을 포함하는 경우, 필름의 광학 특성뿐 아니라 차열 또는 단열능이 저하되거나 내염수성이 저하되는 등, 필름의 내구성이 악화될 수 있다.The metal layer may mean a layer containing a metal component as a main component. More specifically, the metal layer is titanium (Ti), silver (Ag), platinum (Pt), gold (Au), copper (Cu), chromium (Cr), aluminum (Al), palladium (Pd) and nickel ( Ni) may include one or more metal components selected from. In relation to the components of the metal layer, the “main component” may mean a case where the content of the metal, which is the main component, of the total content of the metal included in the metal layer is about 80 wt% to 100 wt% or less. Therefore, when two or more kinds of metal components are included in the metal layer, the content of the remaining metal in addition to the main component metal may be included as long as the content of the main component having the above range is excluded. When a metal component other than the metals listed above is included, for example, tin (sn), the durability of the film may be deteriorated, such as not only the optical properties of the film but also the heat shielding or heat insulating ability is lowered or the salt water resistance is lowered.
상기 금속층을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 통상의 증착 방식이나 습식 코팅 방식이 사용될 수 있다. 증착시 공정조건은 특별히 제한되지 않으며, 당업자에 의해 적절한 조건이 선택되어 금속층이 마련될 수 있다.The method of forming the metal layer is not particularly limited, and for example, a conventional deposition method or a wet coating method may be used. Process conditions during deposition are not particularly limited, and appropriate conditions may be selected by a person skilled in the art to provide a metal layer.
하나의 예시에서, 상기 금속층은 복수의 하위 금속층을 포함할 수 있다. 상기 하위 금속층은 상기 나열된 것과 동일한 금속성분 중에서 1 이상을 포함하도록 구성될 수 있는데, 각 하위 금속층이 갖는 구체적인 금속 성분은 동일 또는 상이할 수 있다. 금속층이 복수층으로 형성되는 경우, 복수의 금속층 중 상기 기재층에 인접한 금속층은 고차열 및 고단열 기능을 적외선 반사 필름에 부여할 수 있고, 그 외의 금속층은 적외선 반사 필름의 내구성 개선에 기여할 수 있다.In one example, the metal layer may include a plurality of sub metal layers. The lower metal layer may be configured to include one or more of the same metal components as those listed above, and the specific metal components of each lower metal layer may be the same or different. When the metal layer is formed of a plurality of layers, the metal layer adjacent to the base layer among the plurality of metal layers may impart high heat shielding and high thermal insulation functions to the infrared reflecting film, and the other metal layer may contribute to improving durability of the infrared reflecting film. .
하나의 예시에서, 상기 제1 적층체에 포함되는 금속층은 2개의 금속층, 즉 제1 금속층과 제2 금속층을 포함할 수 있다. 본 출원에서, 제1 금속층은, 제2 금속층 보다 기재 측에 더 가깝도록 마련된 금속층을 의미할 수 있다. 이때, 상기 2개의 금속층은, 상기 나열된 금속 성분 중 동일한 금속 성분을 포함하거나 서로 다른 금속 성분을 각각 포함하도록 구성될 수 있다. 또한, 상기 제2 금속층은 상기 제1 금속층 상에 마련될 수 있다.In one example, the metal layer included in the first laminate may include two metal layers, that is, the first metal layer and the second metal layer. In the present application, the first metal layer may mean a metal layer provided closer to the substrate side than the second metal layer. In this case, the two metal layers may be configured to include the same metal component or different metal components from each of the metal components listed above. In addition, the second metal layer may be provided on the first metal layer.
또 하나의 예시에서, 상기 제1 금속층의 일면과 상기 제2 금속층의 일면은 서로 집적 접하도록 마련될 수 있다. 따라서, 본 출원의 적외선 필름은 기재층 상에, 순서대로 제1 금속산화물층, 제1금속층 및 제2 금속층이 적층된 구조를 가질 수 있다. 상기 적층 구조와 관련하여, 예를 들어, 2개의 금속산화물층 사이에 1개의 금속층만이 개재된다면, 하나의 금속층 상에 제2 적층체에 포함되는 금속산화물층을 형성하는 과정에서 금속층이 산소에 노출되면서 산화될 수 있다. 이러한 금속층의 산화는 금속층 본연의 기능을 상실케하고, 층간 계면 접착력의 감소나 변색과 같은 내구성 불량을 야기할 수 있다. 따라서, 본 출원의 적외선 반사 필름은, 상기 제1 금속층 상에 제2 금속층이 직접 마련되고, 상기 제2 금속층 상에 제2 적층체를 구성하는 금속산화물층이 마련되는 구조를 가질 수 있으며, 이를 통해 적외선 반사 필름에 고차열, 고단열 및 고내구성을 동시에 부여할 수 있다. In another example, one surface of the first metal layer and one surface of the second metal layer may be provided to be in contact with each other. Therefore, the infrared film of the present application may have a structure in which the first metal oxide layer, the first metal layer, and the second metal layer are sequentially stacked on the base layer. In relation to the laminated structure, for example, if only one metal layer is interposed between two metal oxide layers, the metal layer may be formed in oxygen in the process of forming a metal oxide layer included in the second laminate on one metal layer. Can be oxidized on exposure. Oxidation of such a metal layer may cause the metal layer to lose its original function and cause a failure in durability such as a decrease in interfacial adhesion between layers and discoloration. Therefore, the infrared reflecting film of the present application may have a structure in which a second metal layer is directly provided on the first metal layer, and a metal oxide layer constituting the second laminate is provided on the second metal layer. Through this, the infrared reflecting film can be given high thermal insulation, high thermal insulation and high durability at the same time.
하나의 예시에서, 상기 제1 금속층 및 제2 금속층은 서로 다른 금속 성분을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 제1 금속산화물층 상에 마련되는 제1 금속층은 은(Ag)을 주성분으로 포함할 수 있고, 제2 금속층은 은(Ag) 외의 다른 성분을 주성분으로 포함할 수 있다.In one example, the first metal layer and the second metal layer may include different metal components. More specifically, the first metal layer provided on the first metal oxide layer may include silver (Ag) as a main component, and the second metal layer may include other components other than silver (Ag) as a main component.
하나의 예시에서, 제2 금속층은, 제1 금속층과 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion: CTE)가 상이하도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 제2 금속층의 열팽창 계수는 제1 금속층의 열팽창 계수보다 작도록 마련될 수 있다. 본 출원에서 각 층이 갖는 열팽창계수란, 각 층이 주성분으로 포함하는 성분이 갖는 열팽창 계수와 동일한 의미로 사용될 수 있다. 주성분의 열팽창 계수는 열기계 분석기(Thermo Mechanical Analyzer, TMA)에 의해 측정될 수 있다. 상기와 같은 금속층 간 열팽창 계수의 크기 차이는, 금속 성분을 적절히 선택하여 제어될 수 있다. 예를 들어, 제1 금속층이 은(Ag)을 주성분으로 포함할 경우, 상기 은(Ag)을 주성분으로 하는 제1 금속층 보다 낮은 열팽창 계수를 갖도록 제2 금속층의 주성분이 선택될 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 제2 금속층에는 티타늄(Ti)이 주성분으로 사용될 수 있으나, 특별히 제한되는 것은 아니다. 상기와 같이 층간 열팽창계수가 조절될 경우, 열팽창에 의해 필름에 가해지는 스트레스가 완화되고, 필름의 내구성이 개선될 수 있다.In one example, the second metal layer may be configured such that the first metal layer is different from the coefficient of thermal expansion (CTE). Specifically, the thermal expansion coefficient of the second metal layer may be provided to be smaller than the thermal expansion coefficient of the first metal layer. In the present application, the thermal expansion coefficient of each layer may be used as the same meaning as the thermal expansion coefficient of the component included in each layer as a main component. The coefficient of thermal expansion of the principal component can be measured by a thermomechanical analyzer (TMA). The size difference of the thermal expansion coefficient between the metal layers as described above can be controlled by appropriately selecting a metal component. For example, when the first metal layer includes silver (Ag) as a main component, the main component of the second metal layer may be selected to have a lower coefficient of thermal expansion than the first metal layer containing silver (Ag) as a main component. In one example, the second metal layer may be titanium (Ti) as a main component, but is not particularly limited. When the interlayer thermal expansion coefficient is adjusted as described above, the stress applied to the film by thermal expansion can be alleviated, and the durability of the film can be improved.
상기 하위 금속층은 1 nm 내지 50 nm 범위의 두께를 가질 수 있다. 하나의 예시에서, 금속층이 제1 및 제2 금속층을 포함하는 경우, 상기 제1 금속층은, 제2 금속층의 두께보다 더 큰 두께를 가질 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제1 금속층의 두께가 5 nm 내지 30 nm 범위인 경우, 제2 금속층은 5 nm 미만, 또는 3 nm 이하의 두께를 가질 수 있다. 상기 언급한 바와 같이, 제2 금속층은 제1 금속층의 열화를 방지하고 층간 계면 접착력을 개선할 수 있으나, 제2 금속층의 두께가 제1 금속층의 두께보다 두껍거나 상기 범위를 초과할 경우 적외선 반사 필름의 투과도가 저하될 수 있고, 제2 금속층의 두께가 상기 범위 미만일 경우에는 제1 금속층의 열화를 방지하는 효과가 적기 때문에 염수에 의해 적외선 반사 필름의 방사율이 저하되는 등 제2 금속층이 그 기능을 제대로 수행할 수 없다. 방사율은 필름의 내구성을 판단하는 척도로서, 하기에 언급되는 바와 같이, 10% NaCl 용액에 필름을 7일간 침지한 후, 침지 전과 침지 후의 방사율을 비교함으로써 측정될 수 있다. 방사율 값이 크게 증가한다는 것은, 염수에 의해 제1 금속층이 손상되었다는 것을 의미한다.The lower metal layer may have a thickness in the range of 1 nm to 50 nm. In one example, when the metal layer includes the first and second metal layers, the first metal layer may have a thickness greater than the thickness of the second metal layer. More specifically, when the thickness of the first metal layer is in the range of 5 nm to 30 nm, the second metal layer may have a thickness of less than 5 nm, or 3 nm or less. As mentioned above, the second metal layer may prevent deterioration of the first metal layer and improve interlayer interfacial adhesion, but the infrared reflecting film when the thickness of the second metal layer is thicker than or exceeds the range of the first metal layer. The transmittance of the second metal layer may be lowered, and when the thickness of the second metal layer is less than the above range, the second metal layer may reduce the emissivity of the infrared reflecting film due to brine. Can't do it properly. Emissivity is a measure of the durability of a film and can be measured by immersing the film in 10% NaCl solution for 7 days and then comparing the emissivity before and after immersion, as mentioned below. A significant increase in emissivity value means that the first metal layer is damaged by brine.
하나의 예시에서, 상기 금속층 및/또는 상기 하위 금속층이 갖는 가시광에 대한 굴절률은 0.1 내지 1.5 범위일 수 있다. 이때, 각 하위 금속층이 갖는 굴절률은 서로 동일하거나 상이할 수 있다. 상기 굴절률을 갖는 금속층과 하기 설명되는 구성의 금속산화물층이 사용되는 경우, 가시광에 대한 높은 투과율과 적외선에 대한 낮은 투과율이 적외선 반사 필름에 부여될 수 있다. 한편, 굴절률은, 금속층의 증착 두께나 층 형성시의 결정화 정도 등에 따라 변화될 수 있다.In one example, the refractive index for the visible light of the metal layer and / or the lower metal layer may range from 0.1 to 1.5. In this case, the refractive indexes of the lower metal layers may be the same or different from each other. When the metal layer having the refractive index and the metal oxide layer having the configuration described below are used, a high transmittance for visible light and a low transmittance for infrared light can be imparted to the infrared reflecting film. On the other hand, the refractive index may vary depending on the deposition thickness of the metal layer, the degree of crystallization at the time of layer formation, and the like.
상기 제1 적층체는 제1 금속산화물층을 포함할 수 있다. 상기 제1 금속산화물층은 기재층과 상기 제1 적층체의 금속층 사이에 마련될 수 있다. 이처럼, 금속층 일면 상에 금속산화물층을 마련함으로써, 광에 대한 파장 선택성을 필름에 부여할 수 있다. The first laminate may include a first metal oxide layer. The first metal oxide layer may be provided between the base layer and the metal layer of the first laminate. As such, by providing the metal oxide layer on one surface of the metal layer, wavelength selectivity to light can be imparted to the film.
본 출원에서, 금속산화물층은 금속산화물을 주성분으로 하는 층을 의미할 수 있다. 예를 들어, 금속산화물층은, 안티몬(Sb), 바륨(Ba), 갈륨(Ga), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 인듐(In), 란티늄(La), 마그네슘(Mg), 셀렌(Se), 규소(Si), 탄탈(Ta), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 이트륨(Y), 아연(Zn), 및 주석(Sn)을 포함하는 군으로부터 선택된 1 종 이상 금속의 산화물을 포함할 수 있다. 하나의 예시에서, 금속산화물층은 상기 금속의 산화물만으로 이루어진 순수 금속산화물층이거나, 상기 금속의 산화물 중 1 이상의 금속 산화물이 차지하는 중량비가 80% 내지 100%인 층일 수도 있다. 특별히 제한되지 않으나, 본 출원에서, 금속산화물층 각각은 5 nm 내지 300 nm 범위의 두께를 가질 수 있다. 상기 두께 범위 내에서 적절한 광 투과율과 굴절률을 확보할 수 있다.In the present application, the metal oxide layer may mean a layer mainly composed of metal oxides. For example, the metal oxide layer may include antimony (Sb), barium (Ba), gallium (Ga), germanium (Ge), hafnium (Hf), indium (In), lanthanum (La), magnesium (Mg), At least one metal selected from the group consisting of selenium (Se), silicon (Si), tantalum (Ta), titanium (Ti), vanadium (V), yttrium (Y), zinc (Zn), and tin (Sn) It may include an oxide of. In one example, the metal oxide layer may be a pure metal oxide layer consisting of only the oxide of the metal, or may be a layer having a weight ratio of 80% to 100% of one or more metal oxides among the oxides of the metal. Although not particularly limited, in the present application, each of the metal oxide layers may have a thickness in the range of 5 nm to 300 nm. It is possible to secure an appropriate light transmittance and refractive index within the thickness range.
상기 금속산화물층을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 통상의 증착 방식이 사용될 수 있다. 증착시 공정조건은 특별히 제한되지 않으며, 당업자에 의해 적절한 조건이 선택되어 금속산화물층이 마련될 수 있다.The method for forming the metal oxide layer is not particularly limited, and for example, a conventional deposition method may be used. Process conditions during deposition are not particularly limited, and appropriate conditions may be selected by a person skilled in the art to provide a metal oxide layer.
본 출원의 적외선 반사 필름은, 제2 적층체를 포함한다. 제2 적층체는 제2 금속산화물층 및 제3 금속산화물층을 포함하며, 상기 제2 적층체에 포함되는 각 금속산화물층의 가시광 굴절률은 서로 상이하게 마련될 수 있다. 본 출원에서 제2 금속산화물층은 적외선 반사 필름의 적층 구조 중 제3 금속산화물층 보다 기재 측에 더 가깝도록 마련된 금속산화물층을 의미할 수 있다. 따라서, 본 출원의 적외선 필름은 기재층 상에, 순서대로 제1 적층체, 제2 금속산화물층 및 제3 금속산화물층이 적층된 구조를 가질 수 있다.The infrared reflecting film of this application contains a 2nd laminated body. The second laminate may include a second metal oxide layer and a third metal oxide layer, and the visible light refractive indexes of the metal oxide layers included in the second laminate may be different from each other. In the present application, the second metal oxide layer may mean a metal oxide layer provided closer to the substrate side than the third metal oxide layer in the laminated structure of the infrared reflecting film. Therefore, the infrared film of the present application may have a structure in which the first laminate, the second metal oxide layer, and the third metal oxide layer are sequentially stacked on the base layer.
하나의 예시에서, 상기 제2 금속산화물층의 일면과 제3 금속산화물층의 일면은 직접 맞닿아 있을 수 있다. 이 경우 상기 제2 금속산화물층에 포함되는 금속산화물과 제3 금속산화물층에 포함되는 금속산화물의 종류는 동일하거나 서로 상이할 수 있다. 또한, 상기 금속산화물층 각각이 2 이상의 성분을 포함할 경우, 제2 금속산화물층과 제3 금속산화물층은 서로 다른 조성비를 가질 수 있다.In one example, one surface of the second metal oxide layer and one surface of the third metal oxide layer may directly contact. In this case, the type of metal oxide included in the second metal oxide layer and the metal oxide included in the third metal oxide layer may be the same or different from each other. In addition, when each of the metal oxide layers includes two or more components, the second metal oxide layer and the third metal oxide layer may have different composition ratios.
하나의 예시에서, 상기 제1 적층체 및 제2 적층체에 포함되는 금속산화물층은 1.5 내지 3.0 범위의 가시광 굴절률을 가질 수 있다. 이때, 상기 금속산화물층은 서로 다른 가시광 굴절률을 가질 수 있다. 예를 들어, 제2 적층체에 포함된 금속산화물층 중에서, 제1 적층체의 금속층과 인접한 제2 금속산화물층의 굴절률이, 제1 금속산화물층이나 제3 금속산화물층의 굴절률보다 더 큰 값을 가질 수 있다. 상기와 같은 구성을 취함으로써, 필름의 파장별 광 선택 특성이 개선되고 고투과성의 필름이 제공될 수 있다.In one example, the metal oxide layer included in the first laminate and the second laminate may have a visible light refractive index in the range of 1.5 to 3.0. In this case, the metal oxide layer may have a different visible light refractive index. For example, among the metal oxide layers included in the second laminate, the refractive index of the second metal oxide layer adjacent to the metal layer of the first laminate is greater than the refractive index of the first metal oxide layer or the third metal oxide layer. Can have By taking the above configuration, the wavelength-specific light selection characteristics of the film can be improved and a highly transparent film can be provided.
하나의 예시에서, 금속층과 금속산화물층의 열팽창 계수는 서로 상이할 수 있다. 예를 들어, 제1 적층체에 포함되는 금속층은, 제1 또는 제2 적층체에 포함되는 금속산화물층 보다 더 높은 열팽창 계수를 갖도록 마련될 수 있다. 구체적으로, 제1 적층체에 포함되는 제2 금속층은, 제1 또는 제2 적층체에 포함되는 금속산화물층 보다 큰 값의 열팽창계수를 가질 수 있다. 이러한 경우에도, 제2 금속층의 열팽창 계수는 제1 금속층의 그것보다 낮은 값을 가질 수 있다. 상기와 같이, 인접하는 층간 열팽창계수가 제어될 경우, 외부 광이나 온도 등과 같은 환경 변화에 따른 계면 스트레스가 완화되어 필름의 내구성이 개선될 수 있다.In one example, the thermal expansion coefficients of the metal layer and the metal oxide layer may be different from each other. For example, the metal layer included in the first laminate may be provided to have a higher coefficient of thermal expansion than the metal oxide layer included in the first or second laminate. Specifically, the second metal layer included in the first laminate may have a coefficient of thermal expansion greater than that of the metal oxide layer included in the first or second laminate. Even in this case, the thermal expansion coefficient of the second metal layer may have a lower value than that of the first metal layer. As described above, when the inter-layer coefficient of thermal expansion is controlled, interfacial stress due to environmental changes such as external light or temperature may be alleviated, thereby improving durability of the film.
하나의 예시에서, 본 출원의 적외선 반사 필름은 하드코팅층을 추가로 포함할 수 있다. 상기 하드코팅층은 기재층과 제1 금속산화물층 사이에 마련될 수 있으며, 하드코팅층을 포함함으로써 반사 필름의 내구성이 개선될 수 있다.In one example, the infrared reflecting film of the present application may further include a hard coating layer. The hard coating layer may be provided between the base layer and the first metal oxide layer, and the durability of the reflective film may be improved by including the hard coating layer.
상기 하드코팅층은 수지 조성물의 경화층으로서, 투명성을 갖는 층일 수 있다. 예를 들어, 하드코팅층은 아크릴계 수지나 (메타)아크릴레이트 단량체 또는 그 중합물을 갖는 조성물을 경화시켜 얻어진 층일 수 있다. 상기 조성물은 실리카(silica), 지르코니아(zirconia) 또는 알루미나(alumina) 등과 같은 무기입자를 추가로 포함할 수 있다. 구성 간 함량이나 사용 가능한 무기입자의 직경은 특별히 제한되지 않는다.The hard coat layer may be a layer having transparency as a cured layer of a resin composition. For example, the hard coat layer may be a layer obtained by curing a composition having an acrylic resin, a (meth) acrylate monomer or a polymer thereof. The composition may further include inorganic particles such as silica, zirconia or alumina. The content between the components and the diameter of the inorganic particles that can be used are not particularly limited.
또 하나의 예시에서, 본 출원의 적외선 반사 필름은 오버코팅층을 추가로 포함할 수 있다. 상기 오버코팅층은, 기재층의 반대면, 즉 제2 적층체의 바깥쪽 일면에 마련될 수 있다. 상기 오버코팅층의 구성은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 상기 하드코팅층과 동일한 유기 조성물 및/또는 유·무기 함유 조성물이 사용될 수 있다. In another example, the infrared reflecting film of the present application may further include an overcoating layer. The overcoating layer may be provided on an opposite surface of the substrate layer, that is, on an outer surface of the second laminate. The configuration of the overcoat layer is not particularly limited, and for example, the same organic composition and / or organic / inorganic containing composition as the hard coat layer may be used.
하나의 예시에서, 본 출원의 적외선 반사 필름은, 제1 적층체와 제2 적층체 사이에, 금속산화물층과 금속층의 적층체를 1개 이상 추가로 포함할 수 있다. 상기 추가되는 적층체는, 상기 제1 적층체와 마찬가지로, 1 이상의 금속산화물층과 1 이상의 금속층이 서로 적층된 구성을 가질 수 있다. 금속층 또는 금속산화물층이 갖는 물리적 성질이나 그 밖의 구성은 상기 언급된 바와 동일하다. 또한, 추가되는 적층체에 포함되는 금속산화물층의 굴절률은, 제2 적층체에 포함되는 금속산화물층 중 제1 적층체에 가장 인접하도록 마련된 금속산화물층의 굴절률보다 낮게 마련될 수 있다.In one example, the infrared reflecting film of the present application may further include one or more laminates of the metal oxide layer and the metal layer between the first laminate and the second laminate. The additional laminate may have a configuration in which at least one metal oxide layer and at least one metal layer are stacked on each other, similarly to the first laminate. The physical properties and other configurations of the metal layer or the metal oxide layer are the same as those mentioned above. In addition, the refractive index of the metal oxide layer included in the added laminate may be lower than the refractive index of the metal oxide layer disposed to be closest to the first laminate among the metal oxide layers included in the second laminate.
본 출원 적외선 반사 필름의 용도는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 본 출원에 관한 다른 일례에서, 상기 적외선 반사 필름은 창호(fittings)에 사용될 수 있다. 창호란, 건물 내부를 외부와 차단시키기 위해 벽이나 출입구 등의 개구부에 설치되는 각종의 창(window)이나 문(door)을 의미할 수 있으며, 구체적인 구성은 특별히 제한되지 않는다. The use of the present application infrared reflecting film is not particularly limited. For example, in another example of the present application, the infrared reflecting film can be used for fittings. The windows and doors may mean various windows or doors installed in openings such as walls or entrances to block the interior of the building from the outside, and the specific configuration is not particularly limited.
본 출원의 일례에 따르면, 고차열, 고단열, 및 고투과성을 갖고, 동시에 내오염성과 내구성이 우수한 적외선 반사 필름 및 이를 포함하는 창호가 제공될 수 있다.According to an example of the present application, an infrared reflecting film having high thermal insulation, high thermal insulation, and high permeability, and at the same time excellent in stain resistance and durability, and a window including the same may be provided.
도 1은 본 출원에 관한 하나의 예시에 따른 적외선 반사 필름을 개략적으로 도시한 것이다.1 schematically illustrates an infrared reflecting film according to one example of the present application.
이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 출원의 점착 편광판을 상세히 설명한다. 그러나 본 출원의 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the adhesive polarizing plate of the present application will be described in detail through Examples and Comparative Examples. However, the scope of the present application is not limited by the following examples.
본 실시예 및 비교예에서의 물성은 하기 방식으로 평가하였다.Physical properties in this Example and Comparative Example were evaluated in the following manner.
* 열관류율 : KS L 2016 규격에 따라 측정하였다. * Thermal permeability : measured according to KS L 2016 standard.
* 차폐계수: KS L 2016 규격에 따라 측정하였다. * Shielding coefficient: measured according to KS L 2016 standard.
* 투과도: KS L 2016 / KS L 2514 규격에 따라 측정하였다. * Permeability: measured according to KS L 2016 / KS L 2514 standard.
* 염수 침지 후 방사율 변화: KS L 2514 규격에 따라 측정하였다. * Change in emissivity after saline immersion : measured according to KS L 2514 standard.
* 내염수성: NaCl 10% 용액에 하기 제조된 필름을 7일간 침지한 후, 변색 방사율 변화 및/또는 박리가 나타나는 지를 확인하고, 하기 기준에 따라 그 정도를 구분하였다. * Salt water resistance: After immersing the film prepared below in
- 변색 및 방사율 변화가 없는 경우: o-If there is no change of color or emissivity: o
- 변색은 크지 않지만 방사율 변화가 0.2 이상인 경우: △-When discoloration is not large but emissivity change is 0.2 or more: △
- 변색 및 박리가 일어난 경우: X-If discoloration or peeling occurs: X
실시예Example 1 One
50 ㎛ 두께의 PET 기재 상에, 2 ㎛ 두께의 하드코팅층을 형성하고, 그 위에 제1 금속산화물층을 형성하였다. 하드코팅층은 다관능 (메타)아크릴레이트 단량체에 Silica 무기입자를 포함하는 조성물을 바 코터로 도포한 후 80 ℃로 건조하고, 질소 분위기 하에서 초고압 수은 램프를 사용 적산 광량 600 mJ/cm2 로 자외선 경화시켜 마련한 유-무기 하이브리드층이다. 금속산화물층은, DC Sputter 방식을 이용하여 1.5 W/cm2 및 3 mTorr 조건에서 30 nm 두께의 ZnO 층으로 형성되었다. 상기 제1 금속산화물층 상에 DC sputter 방식을 이용하여 1.5 W/cm2 및 3 mTorr 의 조건에서 Ag 금속층을 15 nm 두께로 증착하고, 상기 금속층 상에는 제 2 금속층으로서 Ti 층이 2 nm 두께로 마련되었다. 상기 제2 금속층 역시 DC sputter 방식을 이용하여 1.5 W/cm2 및 3mTorr의 조건으로 증착되었다. 이후, 1.5 W/cm2 및 3 mTorr 의 조건에서 제 2 금속 산화물층으로서의 NbOx 층을 10 nm 두께로 제 2 금속층 상에 형성하고, 동일 조건의 DC sputter 방식을 통해 상기 제2 금속산화물층 상에 제3 금속산화물층인 ZnO 층을 20 nm 두께로 증착하였다. 마지막으로, 제2 금속 산화물층 상에, 50 nm 두께의 오버코팅층을 형성하여 광학 필름을 제조하였다. 오버코팅층은 다관능 (메타)아크릴레이트 단량체와 Silica 무기입자를 포함하는 고형분 100중량부에 제 2 금속 산화물층과의 부착력 향상을 위한 인산 에스테르 화합물(미원, 상품명 MIRAMER SC1400) 0.5 중량부 첨가하여 제조된 오버코팅 용액을, 바 코터로 도포한 후 80 ℃로 건조하고, 질소 분위기 하에서 초고압 수은 램프를 사용 적산 광량 400 mJ/cm2 로 자외선 경화시켜 마련한 유-무기 하이브리드층이다. On the 50 μm thick PET substrate, a 2 μm thick hard coat layer was formed, and a first metal oxide layer was formed thereon. The hard coating layer is a polyfunctional (meth) acrylate monomer coated with a composition containing the silica inorganic particles with a bar coater and dried at 80 ℃, using an ultra-high pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere UV cured at a cumulative light amount 600 mJ / cm 2 It is an organic-inorganic hybrid layer prepared. The metal oxide layer was formed of a 30 nm thick ZnO layer at 1.5 W / cm 2 and 3 mTorr conditions using a DC Sputter method. The Ag metal layer is deposited to a thickness of 15 nm on the first metal oxide layer by using a DC sputter method at 1.5 W / cm 2 and 3 mTorr, and the Ti layer is provided on the metal layer as a second metal layer with a thickness of 2 nm. It became. The second metal layer was also deposited under the conditions of 1.5 W / cm 2 and 3 mTorr using a DC sputter method. Thereafter, an NbOx layer as a second metal oxide layer was formed on the second metal layer at a thickness of 10 nm under the conditions of 1.5 W / cm 2 and 3 mTorr, and on the second metal oxide layer through the DC sputter method under the same conditions. A ZnO layer, which is a third metal oxide layer, was deposited to a thickness of 20 nm. Finally, an overcoat layer having a thickness of 50 nm was formed on the second metal oxide layer to prepare an optical film. The overcoating layer is prepared by adding 0.5 parts by weight of a phosphate ester compound (MIWER, MIRAMER SC1400) for improving adhesion with a second metal oxide layer to 100 parts by weight of a solid containing polyfunctional (meth) acrylate monomer and Silica inorganic particles. It is an organic-inorganic hybrid layer prepared by applying the prepared overcoating solution to a bar coater, drying at 80 ° C., and UV curing under a nitrogen atmosphere with a cumulative amount of light of 400 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere.
한편, 제조된 필름에서, Ellipsometer에 의해 각 층별로 측정된 가시광 굴절률은 제2 금속산화물층이 2.5, 제3 금속산화물층이 1.7이었다. 한편, 제1 금속층, 제2 금속층, 및 제2 금속산화물층 순으로 열팽창 계수가 감소되도록 마련된 것을 확인하였다.On the other hand, in the produced film, the visible light refractive index measured by each layer by the Ellipsometer was 2.5 for the second metal oxide layer, 1.7 for the third metal oxide layer. On the other hand, it was confirmed that the coefficient of thermal expansion was reduced in order of the first metal layer, the second metal layer, and the second metal oxide layer.
제조된 필름에 대하여, 상기 언급된 방법으로 물성을 측정하고, 그 결과를 표 1에 기재하였다. For the produced film, physical properties were measured by the above-mentioned method, and the results are shown in Table 1.
비교예Comparative example 1 One
제2 금속층의 두께를 5 nm로 형성한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법과 구성으로 적외선 반사 필름을 제조하였다.An infrared reflecting film was manufactured in the same manner and in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the second metal layer was 5 nm.
비교예Comparative example 2 2
제2 금속층이 Sn을 포함하도록 구성된 것을 제외하고, 실시예1과 동일한 방법과 구성으로 적외선 반사 필름을 제조하였다.An infrared reflecting film was manufactured in the same manner and structure as in Example 1, except that the second metal layer was configured to include Sn.
비교예Comparative example 3 3
제2 금속층의 두께를 0.5 nm 로 형성한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법과 구성으로 적외선 반사 필름을 제조하였다.An infrared reflecting film was manufactured in the same manner and in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the second metal layer was 0.5 nm.
비교예Comparative example 4 4
제2 금속산화물층과 제3 금속산화물층의 적층 위치가 서로 변경된 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법과 구성으로 적외선 반사 필름을 제조하였다.An infrared reflecting film was manufactured in the same manner and in the same manner as in Example 1, except that the stacking positions of the second metal oxide layer and the third metal oxide layer were changed from each other.
비교예Comparative example 5 5
제2 금속산화물층을 포함하지 않도록 마련된 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법과 구성으로 적외선 반사 필름을 제조하였다.An infrared reflecting film was manufactured in the same manner and in the same manner as in Example 1, except that the second metal oxide layer was not included.
[표 1]TABLE 1
상기 [표 1]로부터, 본 출원 실시예에 따른 적외선 필름만이 70% 이상의 가시광 투과도를 확보하면서도, 열관류율, 차폐계수와 같은 내구성 관련 인자가 우수하게 나타남을 알 수 있다. 또한, 본 출원의 필름은 계면 접착력이 우수하기 때문에, 방사율 변화가 적고 내염수성이 우수하다는 것을 확인할 수 있다. 반면에, 제2 금속층의 두께가 두꺼운 비교예 1에서는 저하된 투과도를, 확인할 수 있고, 본 출원과 상이한 금속이 제2 금속층에 사용된 비교예 2에서는 투과도와 내염수성이 모두 저하된 것을 확인할 수 있다. 또한, 제2 금속층의 두께가 너무 얇게 선택된 비교예 3에서는 내염수 개선 효과가 없을 확인할 수 있다. 한편, 본 출원 제2 적층체의 구성을 만족하지 못 하는 비교예 4 및 5 역시 낮은 투과도를 보이고 있다.From Table 1, it can be seen that only the infrared film according to the embodiment of the present application secures visible light transmittance of 70% or more, and the durability-related factors such as heat permeability and shielding coefficient are excellent. In addition, since the film of the present application is excellent in interfacial adhesion, it can be confirmed that the change in emissivity is small and the salt water resistance is excellent. On the other hand, in Comparative Example 1, in which the thickness of the second metal layer is thick, reduced transmittance can be confirmed, and in Comparative Example 2 in which a metal different from the present application is used in the second metal layer, both transmittance and salt water resistance were decreased. have. In addition, in Comparative Example 3 in which the thickness of the second metal layer is selected too thin, it can be confirmed that there is no effect of improving saline. On the other hand, Comparative Examples 4 and 5, which do not satisfy the configuration of the second laminate of the present application, also exhibit low transmittance.
10: 기재층
20: 하드코팅층
30: 제1금속산화물층
40: 제1 금속층
50: 제2 금속층
60: 제2금속산화물층
70: 제3 금속산화물층10: base material layer
20: hard coating layer
30: first metal oxide layer
40: first metal layer
50: second metal layer
60: second metal oxide layer
70: third metal oxide layer
Claims (20)
상기 기재층 상에 마련되고, 제1 금속산화물층 및 금속층을 포함하는 제1 적층체; 및
상기 제1 적층체 상에 마련되고, 제 2 금속산화물층 및 제 3 금속산화물층을 포함하는 제2 적층체;
를 갖는 적외선 반사 필름이고,
상기 제 2 금속 산화물층의 가시광 굴절률은 상기 제 3 금속 산화물층의 가시광 굴절률 보다 큰 값을 가지며,
상기 제2 적층체에 포함되는 금속산화물층 중 가시광 굴절률이 큰 상기 제 2 금속산화물층이 제1 적층체에 인접하여 마련되고,
상기 금속층은 서로 다른 금속을 포함하는 제 1 금속층 및 제 2 금속층을 포함하고, 상기 제 1 금속층 상에 상기 제 2 금속층이 마련되고,
상기 제 2 금속층의 열팽창계수는 제 1 금속층의 열팽창 계수보다 작으며,
상기 제 2 금속층의 열팽창계수는 상기 제 2 적층체에 포함되는 제2 및 제 3 금속산화물층의 열팽창계수 보다 크도록 마련되는 적외선 반사 필름.
Base layer;
A first laminate provided on the substrate layer and including a first metal oxide layer and a metal layer; And
A second laminate provided on the first laminate, the second laminate comprising a second metal oxide layer and a third metal oxide layer;
Infrared reflective film having
The visible light refractive index of the second metal oxide layer has a value larger than the visible light refractive index of the third metal oxide layer,
Among the metal oxide layers included in the second laminate, the second metal oxide layer having a high visible light refractive index is provided adjacent to the first laminate,
The metal layer includes a first metal layer and a second metal layer including different metals, and the second metal layer is provided on the first metal layer,
The thermal expansion coefficient of the second metal layer is smaller than the thermal expansion coefficient of the first metal layer,
And a thermal expansion coefficient of the second metal layer is greater than a thermal expansion coefficient of the second and third metal oxide layers included in the second laminate.
The infrared reflecting film of claim 1, wherein the first laminate is provided such that the metal layer is positioned on the first metal oxide layer.
The metal layer of claim 3, wherein the metal layer is titanium (Ti), silver (Ag), platinum (Pt), gold (Au), copper (Cu), chromium (Cr), aluminum (Al), palladium (Pd), and nickel. An infrared reflecting film containing at least one metal selected from (Ni).
The infrared reflecting film of claim 1, wherein one surface of the first metal layer and one surface of the second metal layer are directly in contact with each other.
The infrared reflecting film of claim 1, wherein the second metal layer is formed to have a thickness smaller than that of the first metal layer.
The infrared reflecting film of claim 7, wherein the first metal layer has a thickness in a range of 5 nm to 30 nm, and the second metal layer has a thickness in a range of 1 nm or more and less than 5 nm.
The infrared reflecting film of claim 1, wherein the visible light refractive indices of the first metal layer and the second metal layer each range from 0.1 to 1.5.
The method of claim 1, wherein the first to third metal oxide layers are antimony (Sb), barium (Ba), gallium (Ga), germanium (Ge), hafnium (Hf), indium (In), and lanthanum (La). ), Including magnesium (Mg), selenium (Se), silicon (Si), tantalum (Ta), titanium (Ti), vanadium (V), yttrium (Y), zinc (Zn), and tin (Sn) An infrared reflecting film comprising an oxide of at least one metal selected from the group.
The infrared reflecting film of claim 1, wherein visible light refractive indices of the first metal oxide layer, the second metal oxide layer, and the third metal oxide layer are in the range of 1.5 to 3.0, respectively.
The infrared reflecting film of claim 1, wherein each of the first to third metal oxide layers has a thickness ranging from 10 nm to 300 nm.
The infrared reflecting film of claim 1, wherein the substrate layer has a visible light transmittance of 70% or more and has a thickness in a range of 5 μm to 200 μm.
The method of claim 1, wherein the thickness of the first metal oxide layer is in the range of 10 nm to 300 nm, the thickness of the second metal oxide layer is in the range of 10 nm to 300 nm, the thickness of the third metal oxide layer is 20 Infrared reflective film in the range of nm to 300 nm.
The infrared reflecting film of claim 1, further comprising a hard coating layer provided between the base layer and the first metal oxide layer.
The infrared reflecting film of claim 1, further comprising an overcoating layer provided on the second laminate.
The infrared reflecting film of claim 1, wherein the infrared reflecting film further comprises a stack of a metal oxide layer and a metal layer between the first stack and the second stack.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170016276A KR102063062B1 (en) | 2017-02-06 | 2017-02-06 | Infrared ray-reflecting film, and fittings comprising the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170016276A KR102063062B1 (en) | 2017-02-06 | 2017-02-06 | Infrared ray-reflecting film, and fittings comprising the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20180091299A KR20180091299A (en) | 2018-08-16 |
| KR102063062B1 true KR102063062B1 (en) | 2020-01-07 |
Family
ID=63443385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020170016276A KR102063062B1 (en) | 2017-02-06 | 2017-02-06 | Infrared ray-reflecting film, and fittings comprising the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102063062B1 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102382552B1 (en) * | 2018-09-20 | 2022-04-04 | 주식회사 엘지화학 | Window film |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012027287A (en) | 2010-07-24 | 2012-02-09 | Konica Minolta Holdings Inc | Near-infrared reflection film and near-infrared reflector having the same |
| WO2013105527A1 (en) | 2012-01-11 | 2013-07-18 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | Infrared shielding film |
| US20130215501A1 (en) | 2010-10-27 | 2013-08-22 | Konica Minolta , Inc. | Near-infrared reflective film, method for producing same, and near-infrared reflector provided with near-infrared reflective film |
| WO2015104981A1 (en) | 2014-01-09 | 2015-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | Infrared-reflecting film, method for producing infrared-reflecting film, and method for producing laminated glass |
| JP2015166141A (en) | 2014-03-03 | 2015-09-24 | 日東電工株式会社 | Infrared reflection substrate and method for producing the same |
| JP2016038420A (en) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 日東電工株式会社 | Infrared reflection substrate |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5859476B2 (en) * | 2013-04-11 | 2016-02-10 | 日東電工株式会社 | Infrared reflective film |
-
2017
- 2017-02-06 KR KR1020170016276A patent/KR102063062B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012027287A (en) | 2010-07-24 | 2012-02-09 | Konica Minolta Holdings Inc | Near-infrared reflection film and near-infrared reflector having the same |
| US20130215501A1 (en) | 2010-10-27 | 2013-08-22 | Konica Minolta , Inc. | Near-infrared reflective film, method for producing same, and near-infrared reflector provided with near-infrared reflective film |
| WO2013105527A1 (en) | 2012-01-11 | 2013-07-18 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | Infrared shielding film |
| WO2015104981A1 (en) | 2014-01-09 | 2015-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | Infrared-reflecting film, method for producing infrared-reflecting film, and method for producing laminated glass |
| JP2015166141A (en) | 2014-03-03 | 2015-09-24 | 日東電工株式会社 | Infrared reflection substrate and method for producing the same |
| JP2016038420A (en) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 日東電工株式会社 | Infrared reflection substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20180091299A (en) | 2018-08-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5705963B2 (en) | Solar control coating with discontinuous metal layer | |
| KR101739563B1 (en) | Solar control coatings providing increased absorption or tint | |
| KR101920621B1 (en) | Optical film exhibiting improved light to solar gain heat ratio | |
| US10479724B2 (en) | Coated article having a protective coating containing silicon nitride and/or silicon oxynitride | |
| CN116002990A (en) | Solar control coatings with improved solar control properties | |
| US9309149B2 (en) | Systems, methods, and apparatus for production coatings of low-emissivity glass | |
| KR102042404B1 (en) | Infra-red control optical film | |
| US11161780B2 (en) | Functional building material for windows and doors | |
| KR20170010392A (en) | Substrate equipped with a multilayer comprising a partial metal film, glazing unit, use and process | |
| KR20170010393A (en) | Substrate equipped with a multilayer comprising partial metal films, glazing unit, use and process | |
| CN107921745B (en) | Infrared reflective film | |
| US20160077255A1 (en) | Optical film including an infrared absorption layer | |
| JP2018517938A (en) | Solar control film | |
| JP2017030348A (en) | Laminate film and heat ray reflection material | |
| KR102017268B1 (en) | Optical film and method for producing the same | |
| TWI585196B (en) | Solar control films, an assembly comprising the same and methods for producing the same | |
| US9505652B2 (en) | Low-emissivity transparent laminate and building material containing the same | |
| KR102063062B1 (en) | Infrared ray-reflecting film, and fittings comprising the same | |
| KR102176232B1 (en) | Window film | |
| RU2737153C1 (en) | Sun-protective coating for multilayered glazing | |
| KR20170010809A (en) | Substrate equipped with a multilayer comprising a partial metal film, glazing unit, use and process | |
| JPS6226310B2 (en) | ||
| KR20180045996A (en) | Multilayered amorphous silicon-indium-oxide structure for low emissivity and manufacturing method thereof | |
| KR20160039339A (en) | Transparent conductive film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |