JPS62233913A - 遅延線 - Google Patents

遅延線

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Publication number
JPS62233913A
JPS62233913A JP7726286A JP7726286A JPS62233913A JP S62233913 A JPS62233913 A JP S62233913A JP 7726286 A JP7726286 A JP 7726286A JP 7726286 A JP7726286 A JP 7726286A JP S62233913 A JPS62233913 A JP S62233913A
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JP
Japan
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conductor pattern
substrate
delay line
hole
face
Prior art date
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Pending
Application number
JP7726286A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Tsuruta
賢一 鶴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toko Inc
Original Assignee
Toko Inc
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Publication date
Application filed by Toko Inc filed Critical Toko Inc
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Publication of JPS62233913A publication Critical patent/JPS62233913A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、数ピコ秒から数ナノ秒の短い遅延時間を得る
ための遅延線の構造に関する。
〔従来技術とその問題点〕
数ピコ秒から数ナノ秒の短い遅延時間を得るための遅延
線は、電子計算機および計測器の分野に用途が広がりつ
つある。
しかしコイルやコンデンサを接続して構成される従来の
遅延線は、形状が大きくなるし、周波数特性も悪く、高
速を必要とするこの種の分野には不向きである。又、回
路素子間の接続部分が長くなり回路定数へ影響するので
、短い遅延時間を正確に設定することが難しい。痛論、
組立て時の個別の回路素子の取付作業は、価格の面で除
くことが望ましい。
〔目的〕
本発明の目的は、誘電体基板に形成する導体パターンに
より、インダクタンスと容量を得ることにより、回路素
子を用いることなく遅延線を構成することにある。そし
て従来の遅延線の欠点を一挙に解決すると共に、特に正
確な遅延時間の設定を可能にすることにある。
〔問題点を解決するための技術手段〕
本発明の遅延線は、誘電体の表面と裏面にスルーホール
を介して直列接続する渦巻き状の導体パターンを形成し
てあり、該表面と裏面の導体パターンに対向して分布容
量を得るためのアース用の導体パターンを基板の厚み方
向の異なる位置に別々に形成してあることを特徴とする
〔実施例] 以下本発明の遅延線の実施例を示す第1図と第2図を参
照しながら説明する。第1図は斜視図、第2図は分解斜
視図である。
本発明の遅延線は、■、2.3で図示されている3個の
誘電体基板を積層して全体を構成する。
最上部の基板lの上面には、インダクタンスを得るため
の渦巻き状の導体パターン4、導体パターン5を形成し
である。導体パターン4.5の中央部には、夫々スルー
ホール9.10を設け、外側の端にはスルーホール11
.12を設けである。
又、スルーホール11とスルーホール12間の位置に、
スルーホール13がある。
これらのスルーホールは、内部に導体を形成してあり、
積層した後に基板1と他の基板の導体パターン間の所望
の接続、および他の基板の導体パターンの導出を行える
ようにしてある。従って、積層時に位置が一致して1個
のスルーホールを形成する他の基板のスルーホールは、
同一符号を付与しである。
中央の基板2の上面には、基板lの導体パターン4、導
体パターン5に対向して分布容量を得るためのアース用
の導体パターン6を、はぼ全面に形成しである。又、基
板2の下面には透視した形状が、導体パターン6と全く
同じ導体パターン16を形成しである。導体パターン1
6は、第3図だけに図示しである。導体パターン6と下
面の導体パターン16のスルーホール9.10の並ぶ方
向に沿って、切除部15を設けである。導体パターン6
と4体パターン16は、スルーホール13を介して遅延
線の表面と裏面に導出される。
最下部の基板3の下面には、透視して図示しであるよう
に、インダクタンスを得るための2個の渦巻き状の導体
パターン7、導体パターン8を形成してあり、中央部に
はスルーホール9とスルーホール10を設けである。導
体パターン7.8の外側の端は互いに接続している。
基板1.2.3が積層されて第1図のような遅延線全体
が構成され、L形の外部端子14がスルーホール11.
12.13に挿入されて接続される。スルーホール11
、スルーホール12、スルーホール13は夫々入力端子
、出力端子、アース端子の役割をする。
なお誘電体基板に導体パターンやスルーホールを形成し
て積層する技術は、ガラスエポキシ樹脂を用いて多層プ
リント基板を形成する公知の技術を用いればよい。誘電
体基板としてガラスエポキシ樹脂の他に、セラミックや
テフロン等のプラスチック材を用いてもよい。
第3図は、第1図の遅延線の等価回路図である。
遅延線の表面の導体パターン4はスルーホール9を介し
て裏面の導体パターン7に接続し、導体パターン7は導
体パターン8に接続し、導体パターン8はスルーホール
10を介して表面の導体パターン5に接続する。全ての
導体パターンが直列接続するが、表面と裏面間で隣接し
て接続する導体パターン、例えば薄体パターン4と導体
パターン7間では電流方向が逆になり、結合を弱めるよ
うにしてある。このことにより、遅延信号の波形の乱れ
を防ぐことができる。又、導体パターン6の切除部15
により、リターン電流が遮断され、インダクタンスの減
少を防ぐことができる。
第4図は、本発明の遅延線の他の実施例を示す分解平面
図である。
最上部の基板20の上面には、インダクタンスを得るた
めの21乃至23までの3個の渦巻き状の導体パターン
を形成してあり、導体パターン22、導体パターン23
は外側の端で接続している。
基板20には、24乃至30までの符号を付与しである
7個のスルーホールを設けてあり、積層した後に基板2
0と他の基板の導体パターン間の所望の接続および他の
基板の導体パターンの導出を行えるようにしてある。最
初の実施例と同様に、積層時に位置が一致して1個のス
ルーホールを形成する他の基板のスルーホールは、同一
符号を付与しである。
中央の基板31の上面には、渦巻き状の導体パターン2
1.22.23と対向して分布容量を得るためのアース
用の導体パターン32をほぼ全面に形成しである。導体
パターン32は、スルーホール24.25.26の並ぶ
方向にそって切除部33を設けてあり、リターン電流を
防ぐようにしてある。切除部33は切除部15とは異な
り、部分的に接続している。図示されていないが、裏面
にも最下部の基板34の導体パターンと対向して分布容
量を得るための、導体パターン32と同じ形状の導体パ
ターンを設けである。この2゛個のアース用の導体パタ
ーンは、スルーホール28とスルーホール29により積
層後の遅延線の表面と裏面、つまり基板20の上面と基
板34の下面に導出される。
最下部の基板34の下面には、透視して図示しであるよ
うに、インダクタンスを得るための35乃至37の3個
の渦巻き状の温体パターンを形成しである。導体パター
ン35と導体パターン36は外側の端で接続する。
このように形成された基板20.31.34は、最初の
実施例と同じようにして積層して遅延線が構成されてい
る。表面と裏面の渦巻き状の導体パターンは、全て直列
接続している。表面の導体パターン21と裏面の導体パ
ターン35は渦巻きの中央部のスルーホール24、導体
パターン22と導体パターン36はスルーホール25.
1体パターン23と1体パターン37はスルーホール2
6により夫々接続している。スルーホール27が入力端
子、スルーホール30が出力端子、スルーホール2日、
29がアース端子の役割を夫々行い、外部端子の接続が
行われる。
なおいずれの実施例においても、表面と裏面間で隣接し
て接続する渦巻き状の導体パターンの電流方向は互いに
逆になっているが、設計によっては同方向になる場合も
ある。又、遅延線の表面と裏面は保護のために誘電体や
合成樹脂で被う場合もある。入力端子、出力端子、アー
ス端子の4出は、スルーホールを用いないで基板の側面
から導出する手段もあり、実施例に限定する必要はない
〔効果〕
以上述べたように本発明の遅延線は、誘電体基板の表面
と裏面にインダクタンスを得るための導体パターンを形
成し、夫々の面の導体パターンに対向するアース用の導
体パターンを基板の厚み方向の異なる位置に形成しであ
る。そして回路素子を用いることなく、遅延線が構成さ
れている。表面の導体パターンで得られる分布容量は、
最上部の基板の厚みによって設定され、裏面の導体パタ
ーンで得られる分布容量は、最下部の基板の厚みによっ
て設定される。分布容量の調節が、表面部分と裏面部分
で別々に行えるので設計時に全体の分布容量の調節を細
かくでき、調節範囲も広がる。
又遅延線の回路の接続は、主にスルーホールで行われる
ので回路定数への影響はほとんど除かれる。
しかも、中央の基板の厚みを調節することにより、積層
された基板の全体の厚みを分布容量の値に影響されるこ
となく一定にできる利点もある。渦巻き状の導体パター
ン間の電磁気的な結合を、表面と裏面の4体バクーンの
電流の方向により調節して、遅延信号の歪を除くことも
できる。痛論、回路素子の取付作業は不要である。
このようにして、短い時間の遅延信号を正確に得ること
のできる遅延線を安価に提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の遅延線の実施例を示す斜視図、第2
図は分解斜視図、第3図は等価回路図、第4図は本発明
の遅延線の他の実施例を示す分解平面図である。 1.2.3:誘電体基板  4.5.6.7.8:導体
パターン  9.10.11..12.13ニスルーホ
ール  14:外部端子  15:切除部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)誘電体基板の表面と裏面にスルーホールを介して
    直列接続する渦巻き状の導体パターンを形成してあり、
    該表面と裏面の導体パターンに対向して分布容量を得る
    ためのアース用の導体パターンを基板の厚み方向の異な
    る位置に別々に形成してあることを特徴とする遅延線。
  2. (2)スルーホールを介して基板の表面と裏面間で隣接
    して接続する渦巻き状の導体パターンの電流方向は、互
    いに反対方向にしてある特許請求の範囲第1項の遅延線
JP7726286A 1986-04-03 1986-04-03 遅延線 Pending JPS62233913A (ja)

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JP7726286A JPS62233913A (ja) 1986-04-03 1986-04-03 遅延線

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JP7726286A JPS62233913A (ja) 1986-04-03 1986-04-03 遅延線

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JPS62233913A true JPS62233913A (ja) 1987-10-14

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JP7726286A Pending JPS62233913A (ja) 1986-04-03 1986-04-03 遅延線

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6198619B1 (en) 1998-04-24 2001-03-06 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Capacitor network

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58220513A (ja) * 1982-06-16 1983-12-22 Murata Mfg Co Ltd 電子部品
JPS6042917A (ja) * 1983-08-19 1985-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd フィルタ装置

Patent Citations (2)

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