JPS62229992A - Multilayer printed interconnection board - Google Patents

Multilayer printed interconnection board

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Publication number
JPS62229992A
JPS62229992A JP7302486A JP7302486A JPS62229992A JP S62229992 A JPS62229992 A JP S62229992A JP 7302486 A JP7302486 A JP 7302486A JP 7302486 A JP7302486 A JP 7302486A JP S62229992 A JPS62229992 A JP S62229992A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating layer
multilayer printed
layer
epoxy
resistance
Prior art date
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Pending
Application number
JP7302486A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
雅之 斉藤
洋 大平
唯人 長澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Marcon Electronics Co Ltd
Toshiba Corp
Original Assignee
Marcon Electronics Co Ltd
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Marcon Electronics Co Ltd, Toshiba Corp filed Critical Marcon Electronics Co Ltd
Priority to JP7302486A priority Critical patent/JPS62229992A/en
Publication of JPS62229992A publication Critical patent/JPS62229992A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、電子機器に使用される多層印刷配線基板に係
わり、特に11間絶縁材料の改良をはかった多層印刷配
線基板に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a multilayer printed wiring board used in electronic equipment, and in particular to a multilayer printed wiring board with an improved insulating material between elements. Regarding.

(従来の技術) 近年、電子回路基板は高密度化の要求から、様々な多層
化が行われている。中でもセラミック基板上の印刷多層
化においては、例えばガラス誘電体を絶縁層として用い
たものがある。この構成を第5図に示す。ここで、51
はセラミック基板、52.53.54は導体、55はR
uO2系印刷抵抗体、56はガラスXjffi体、57
は部品、58はオーバコートである。
(Prior Art) In recent years, electronic circuit boards have been multilayered in various ways due to the demand for higher density. Among these, in printing multilayers on ceramic substrates, for example, glass dielectrics are used as insulating layers. This configuration is shown in FIG. Here, 51
is a ceramic substrate, 52, 53, 54 is a conductor, 55 is R
uO2-based printed resistor, 56 is glass Xjffi body, 57
58 is a part, and 58 is an overcoat.

この構成の場合は、ガラス誘電体56の焼成行程におい
て600〜1000[’C3の高温処理を必要とするた
め、RLJO2系印刷抵抗体55の1氏抗値が変化して
しまう。その結果としてRuO2系印刷抵抗体55のト
リミングがオーバコート58の形成後のプロセスとなっ
てくるため、印刷抵抗体上への多層化は不可能であり、
実装密度は低いものであった。また、Aa/Pd系導体
52゜54間でのマイグレーションにも問題があった。
In the case of this configuration, since a high temperature treatment of 600 to 1000['C3] is required in the firing process of the glass dielectric 56, the 1 temperature resistance value of the RLJO2 printed resistor 55 changes. As a result, trimming of the RuO2-based printed resistor 55 becomes a process after the overcoat 58 is formed, so multilayering on the printed resistor is impossible.
The packaging density was low. There was also a problem with migration between the Aa/Pd conductors 52 and 54.

上記の欠点に対して、第1導体及び抵抗層を高温焼成厚
膜ペーストで形成し樹脂絶縁層を介し、同じく樹脂系ペ
ーストを用いて回路構成するという提案(特開昭60−
160687号)もなされているが、ここで用いる樹脂
は主にエポキシ樹脂であり、これはマイグレーション及
び絶縁の耐湿劣化が問題となっていた。一方、絶縁性能
が優れている熱硬化型1−2ポリブタジエン樹脂は、層
間の絶縁体として好的な材料であるがセラミック基材と
の接着性に乏しいという欠点を有していた。
In order to solve the above drawbacks, a proposal was made to form the first conductor and the resistance layer using a thick film paste fired at high temperature, and construct the circuit using the same resin-based paste via a resin insulating layer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1986-1999).
No. 160687), but the resin used here is mainly an epoxy resin, which has problems with migration and deterioration of the moisture resistance of the insulation. On the other hand, thermosetting 1-2 polybutadiene resin, which has excellent insulation performance, is a suitable material as an interlayer insulator, but has the drawback of poor adhesion to ceramic substrates.

(発明が解決しようとする問題点) このように従来、絶縁層の材料としてガラスlff1体
を用いたものは、その焼成の際にRLI02系印刷抵抗
体の抵抗値変化が生じると云う問題があった。また、絶
縁層の材料としてエポキシ樹脂等を用いた場合、マイグ
レーション及び絶縁層の耐湿劣化、更にはセラミック基
材との接着性に乏しい等の問題を招いた。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the past, when a single glass lff was used as the material for the insulating layer, there was a problem that the resistance value of the RLI02 series printed resistor changed during firing. Ta. Furthermore, when an epoxy resin or the like is used as the material for the insulating layer, problems such as migration and deterioration of the moisture resistance of the insulating layer and poor adhesion to the ceramic base material are caused.

本発明は上記事情を考慮してなされたもので、その目的
とするところは、RuO2系印刷抵抗体の抵抗値変化及
びマイグレーションの発生を防止でき、且つ絶縁層とセ
ラミック基材との接着性を良好なものとすることができ
、実用性に優れた多層印刷配線基板を提供することにあ
る。
The present invention was made in consideration of the above circumstances, and its purpose is to prevent changes in resistance value and migration of RuO2-based printed resistors, and to improve the adhesion between the insulating layer and the ceramic base material. It is an object of the present invention to provide a multilayer printed wiring board that can be made in good condition and has excellent practicality.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明の骨子は、配線層間の絶縁層の材n選択により、
上記目的を達成することにある。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The gist of the present invention is that by selecting the material n of the insulating layer between the wiring layers,
The aim is to achieve the above objectives.

即ち本発明は、セラミック基材上に厚膜導電ペースト及
び抵抗体ペーストにより第1の配線層を形成したのら、
コンタクトホールを有する絶縁層を形成し、次いで該絶
縁層上に第2の配ll1層を形成し、且つ第1及び第2
の配線層を電気的接続する多層印刷配線基板において、
前記絶縁層の材料としてエポキシ変性ポリブタジェン樹
脂を用いるようにし−たものである。
That is, in the present invention, after forming a first wiring layer using a thick film conductive paste and a resistor paste on a ceramic base material,
forming an insulating layer having a contact hole, then forming a second interconnection layer on the insulating layer;
In a multilayer printed wiring board that electrically connects the wiring layers of
Epoxy-modified polybutadiene resin is used as the material for the insulating layer.

(作用) 上記の構成であれば、ガラス誘電体等に比して焼成温度
の低い樹脂材料を絶縁層として用いることにより、該樹
脂材料を焼成する際にRuO2系印刷抵抗体の抵抗層が
変化する等の不都合は生じない。また、エポキシ変性ポ
リブタジェン樹脂は、セラミックとの接着性が良好であ
るから、絶縁層とセラミック基材との接着を良好なもの
とすることが可能となる。
(Function) With the above configuration, by using a resin material whose firing temperature is lower than that of a glass dielectric material etc. as an insulating layer, the resistance layer of the RuO2-based printed resistor changes when the resin material is fired. There will be no inconvenience caused. Furthermore, since the epoxy-modified polybutadiene resin has good adhesion to ceramics, it is possible to achieve good adhesion between the insulating layer and the ceramic base material.

(実施例) まず、実施例を説明する前に、本発明の基本原理につい
て説明する。
(Example) First, before describing an example, the basic principle of the present invention will be explained.

本発明者等は、従来の多層印刷配線基板の欠点であった
焼成の繰返し行程におけるRLIQ2系印刷抵抗体の抵
抗値変化を防ぐために、比較的焼成湿度の低い樹脂系ペ
ーストに着眼し、各種評価試験を行った。その結果、樹
脂材料にエポキシ変性ポリブタジェン樹脂を使用するこ
とにより、セラミック基材との密着性が優れ、且つマイ
グレーションを含む電気的性能が良い多層構造を見出し
た。
The present inventors focused on a resin-based paste with relatively low firing humidity in order to prevent changes in the resistance value of RLIQ2-based printed resistors during repeated firing steps, which was a drawback of conventional multilayer printed wiring boards, and conducted various evaluations. The test was conducted. As a result, by using an epoxy-modified polybutadiene resin as the resin material, a multilayer structure with excellent adhesion to the ceramic base material and good electrical performance including migration was found.

本発明について図面を参照して、更に詳しく説明する。The present invention will be explained in more detail with reference to the drawings.

第1図に本発明に係わる多層印刷配線板の構成図を示す
。図中11はアルミナ基板、12゜16.17は導体層
、13はRuO2系印刷抵抗体、14.15は絶縁層、
18は部品である。
FIG. 1 shows a configuration diagram of a multilayer printed wiring board according to the present invention. In the figure, 11 is an alumina substrate, 12° 16.17 is a conductor layer, 13 is a RuO2 printed resistor, 14.15 is an insulating layer,
18 is a part.

第is体J112はAa/PdJ9[111パターンで
あり、第1の配線層を形成する第1導体Ji12及びR
uO2系印刷抵抗体13は、いずれも800〜900 
[’C]の高温中にて焼成されたものである。
The is body J112 has an Aa/PdJ9[111 pattern, and the first conductors Ji12 and R forming the first wiring layer
All of the uO2-based printed resistors 13 are 800 to 900
It was fired at a high temperature of ['C].

コンタクトホールを有する樹脂組nw114は、エポキ
シ変性ポリブタジェン樹脂を主成分とするものである。
The resin assembly nw114 having the contact hole is mainly composed of epoxy-modified polybutadiene resin.

ここで、エポキシ変性ポリブタジェン樹脂が本発明の目
的に対して他の絶縁樹脂材料よりも優れていることは、
以下の実験により実証した。
Here, the epoxy modified polybutadiene resin is superior to other insulating resin materials for the purpose of the present invention.
This was demonstrated through the following experiment.

まず、第2図に示す如く、アルミナ基板21上に絶縁層
としての有機高分子体層22.23を形成し、さらにこ
の上にCu1f極24を形成した。
First, as shown in FIG. 2, organic polymer layers 22 and 23 were formed as insulating layers on an alumina substrate 21, and a Cu1f electrode 24 was further formed thereon.

使用した有機高分子体12.13の構成を下記第1表に
示す。
The compositions of the organic polymers 12 and 13 used are shown in Table 1 below.

第  1  表 このような試料をPCT (121℃、 2ati )
中に放置し、20H140H後の絶縁抵抗の測定を行っ
た。その結果を第3図に示す。この図からAの構成のも
のは103 [Ωαコ程度の絶縁抵抗の低下が見られる
が、それでも固有抵抗にして10!3[Ωax ]以上
であり、十分実用可能な値である。また、Bの構成にす
ることにより、絶縁抵抗の低下が102 [Ωcrtt
 ]以下になる。これに対し、Dの構成のものは10日
 [Ωca]、Eの構成のものは10 [ΩcIR1の
低下が見られ、実用上支障となるものであった。また、
Cの構成のものはBの構成のものど同梯であるが、アル
ミナ基板21との接着性が悪く、絶縁層として望ましく
なかった。
Table 1 PCT of such samples (121°C, 2ati)
The insulation resistance was measured after 20H and 140H. The results are shown in FIG. As can be seen from this figure, although a decrease in insulation resistance of about 103[Ωα] can be seen in the structure A, the specific resistance is still more than 10!3 [Ωax], which is a sufficiently practical value. In addition, by adopting the configuration B, the insulation resistance decreases by 102 [Ωcrtt
] or less. On the other hand, a decrease in IR1 of 10 days [Ωca] was observed in the case of the configuration D, and a decrease in IR1 of 10 days [Ωca] was observed in the case of the configuration E, which was a problem in practical use. Also,
Although the configuration C had the same level as the configuration B, it had poor adhesion to the alumina substrate 21 and was not desirable as an insulating layer.

その他にも、マイグレーション試験においてもA、Bの
構成のものは顕著に良かった。試料として第1図の構成
のものを用い、第2層目の導体16にパターン間0.5
 [am]の2本のCu導体を形成し、この導体間に1
0[V]の電圧を加え、PCT(121℃、 2#lm
 )中1’408通電試験を行った。その結果、有機高
分子体層(絶縁層)としてエポキシ変性ポリブタジェン
樹脂を用いたものは、マイグレーションの発生は215
0であった。また、熱硬化型1−2ポリブタジエン樹脂
では0150であり、またエポキシについては4515
0、ポリイミドについては50150のマイグレーショ
ンの発生が見られた。
In addition, configurations A and B performed significantly better in migration tests as well. Using the structure shown in Figure 1 as a sample, the pattern spacing of the second layer conductor 16 is 0.5.
Two Cu conductors of [am] are formed, and 1
Apply a voltage of 0 [V], PCT (121℃, 2#lm
) Medium 1'408 current conduction test was conducted. As a result, when using epoxy-modified polybutadiene resin as the organic polymer layer (insulating layer), migration occurred at 215%.
It was 0. Also, for thermosetting 1-2 polybutadiene resin, it is 0150, and for epoxy, it is 4515.
For polyimide, occurrence of migration of 50,150 was observed.

この実験から考えられることは、エポキシ、ポリイミド
に関しては、これらの樹脂が分子中に親水基を多く持っ
ているため水を吸収しやすく、それが絶縁抵抗の低下及
びマイグレーションの発生の原因となっている。これに
対し、エポキシ変性ポリブタジェン樹脂には、この親水
基がかなり少ない。さらに、熱硬化型1−2ポリブタジ
エン樹脂には親木基が無いために、この差が顕著に表わ
れたものと思われる。しかし、熱硬化型1−2ポリブタ
ジエン樹脂は耐水性に非常に優れた性質を持っているが
、セラミックスとの接着性が悪く、単独で用いるとクラ
ックとか、剥がれが生じ実用的ではない。そこで、エポ
キシ変性ポリブタジェン樹脂は、耐水性も従来のエポキ
シ、ポリイミドなどに比較すると優れており、またセラ
ミックとのMIW力も良いことから本発明に用いた。こ
こで、エポキシ変性ポリブタジェン樹脂と熱硬化型1−
2ポリブタジエン樹脂との複合もしくは組合せにより用
いることにより、さらに耐水性が良くなること明確であ
る。
What can be considered from this experiment is that epoxy and polyimide resins have many hydrophilic groups in their molecules, so they easily absorb water, which causes a decrease in insulation resistance and the occurrence of migration. There is. In contrast, epoxy-modified polybutadiene resin has considerably fewer hydrophilic groups. Furthermore, it is thought that this difference was noticeable because the thermosetting 1-2 polybutadiene resin does not have parent wood groups. However, although thermosetting 1-2 polybutadiene resin has excellent water resistance, it has poor adhesion to ceramics, and when used alone, it causes cracks and peeling, making it impractical. Therefore, epoxy-modified polybutadiene resin was used in the present invention because it has superior water resistance compared to conventional epoxy, polyimide, etc., and also has good MIW strength with ceramics. Here, epoxy modified polybutadiene resin and thermosetting 1-
It is clear that water resistance is further improved by using it in combination or in combination with 2-polybutadiene resin.

次いで、第2の導体層は、有機金属と金属フィラー、例
えばQu粉末、へ〇粉末等を主成分とするペーストを用
いた印刷、またはメッキ、例えば、CU等を無電解メッ
キにて有機高分子体層上に形成したのちエツチングにて
パターンを形成する方法、その他にも蒸着、転写法など
によってパターンを形成してもよい。この中でも印刷法
は、作業性もよくドライで製造できるので好ましい。
Next, the second conductor layer is formed by printing or plating using a paste mainly composed of an organic metal and a metal filler such as Qu powder or He〇 powder, etc., or by electroless plating of CU, etc. The pattern may be formed by forming the pattern on the body layer and then etching it, or by vapor deposition, transfer method, or the like. Among these, the printing method is preferable because it has good workability and can be manufactured in a dry manner.

次いで、多層化を増やしていく場合には、有機高分子体
層と第2の導体層の作成条件を繰返していけばよい。こ
こで、最上部層に必要に応じてカーボン抵抗体などの低
温硬化型の抵抗体を付けても本発明の趣旨からはずれな
い。
Next, when increasing the number of layers, the conditions for forming the organic polymer layer and the second conductor layer may be repeated. Here, a low-temperature curing resistor such as a carbon resistor may be added to the top layer as necessary without departing from the spirit of the present invention.

以下、本発明の詳細を図示の実施例によって説明する。Hereinafter, details of the present invention will be explained with reference to illustrated embodiments.

〈実施例1〉 前記第1図の構成において、基板11としてアルミナ9
6%基板(50,8MX 50.8#l X O,83
5try )を用い、その表面にトリクレン脱帽洗浄を
行った。
<Example 1> In the configuration shown in FIG. 1, alumina 9 is used as the substrate 11.
6% substrate (50.8MX 50.8#l X O,83
The surface was subjected to trichlene cleaning using 5try).

その後、Ac+/Pdペースト(昭栄化学(株)製D 
−4344)によりスクリーン印刷を行い、次いで12
0[℃]で5分乾燥後、大気中850[℃]にて焼成を
行い、第1導体層12を形成した。
After that, Ac+/Pd paste (D manufactured by Shoei Kagaku Co., Ltd.)
-4344) and then 12
After drying at 0 [°C] for 5 minutes, baking was performed at 850 [°C] in the atmosphere to form the first conductor layer 12.

次いで、RLJQz系抵抗ペースト(昭栄化学(株)製
R−5000シリーズ)を用い、スクリーン印刷を行い
、120[℃]で15分乾燥後、大気中850[’C]
にて焼成を行い、Ru Q 2系印刷抵抗体13を形成
した。
Next, screen printing was performed using RLJQz-based resistance paste (R-5000 series manufactured by Shoei Kagaku Co., Ltd.), and after drying at 120 [°C] for 15 minutes, it was dried at 850 ['C] in the air.
The Ru Q 2-based printed resistor 13 was formed by firing.

次いで、エポキシ変性ポリブタジェン樹脂(日本曹達(
株)製E P −1054)を主成分とする下記第2表
の組成のものを配合し、3本ロールにてペースト状にな
るまで混練した。
Next, epoxy-modified polybutadiene resin (Nippon Soda)
Co., Ltd. (EP-1054) having the composition shown in Table 2 below was blended and kneaded with three rolls until it became a paste.

第  2  表 次いで、このペーストに印刷直前にイミダゾール系硬化
剤を5[%]配合し、スクリーン印刷を行い、150 
[℃]にて15分乾燥後、窒素雰囲気中350[’C]
にて焼成を行い、コンタクトホールを有する絶縁!!1
4を形成した。
Table 2 Next, 5% of an imidazole curing agent was added to this paste immediately before printing, and screen printing was performed.
After drying at [°C] for 15 minutes, dry at 350 ['C] in a nitrogen atmosphere.
Insulation that is fired and has contact holes! ! 1
4 was formed.

その後、CUペースト(東芝ケミカル(株)製CT−2
21)によりスクリーン印刷を行い、120 [℃]で
10分乾燥後、窒素雰囲気350[”C]にて焼成を行
い、第2導体層16を形成した。次いで、上記と同様に
して、第2の絶縁層15及び第3導体層17を形成し、
多層印刷配線基板を作成した。
After that, CU paste (CT-2 manufactured by Toshiba Chemical Corporation)
21), and after drying at 120 [°C] for 10 minutes, baking was performed in a nitrogen atmosphere of 350 ["C] to form the second conductor layer 16. Then, in the same manner as above, the second conductor layer 16 was formed. forming an insulating layer 15 and a third conductor layer 17;
A multilayer printed wiring board was created.

ここで、作成した多層印刷配線基板のRu0z系印刷低
印刷抵抗時の抵抗値と、各350[”C]の焼成プロセ
スにおける抵抗値の変化を第4図(a)〜(C)に示す
。この図から判るように、抵抗値の変化は0.6[%]
以下であった。また、PCT(121℃、2atm)中
40 H後の絶縁抵抗の低下は初期値に対して3桁に止
まり、実用上支障はなかった。また、マイグレーション
発生に関しては、PCT(121℃、 2atta )
中10[V]通電試験を40H行ったところ、試料数5
0個中2151!Jのマイグレーションの発生であった
が、従来のエポキシ或いはポリイミド等の樹脂と比較す
ると穫めて少ない発生率であった。
Here, FIGS. 4(a) to (C) show the resistance value of the produced multilayer printed wiring board when RuOz-based printing was performed with low printing resistance, and the change in resistance value during the firing process of 350["C]. As you can see from this figure, the change in resistance value is 0.6%
It was below. Further, the decrease in insulation resistance after 40 hours in PCT (121° C., 2 atm) was only three digits compared to the initial value, and there was no practical problem. Regarding migration occurrence, PCT (121℃, 2atta)
When conducting a medium 10 [V] current test for 40 hours, the number of samples was 5.
2151 out of 0! However, compared to conventional resins such as epoxy or polyimide, the incidence was significantly lower.

く実1例2〉 第1図中の絶縁層の第1導体12の上を実施例1と同様
のエポキシ変性ポリブタジェン樹脂を用い、第2導体1
6の下を熱硬化型1−2ポリブタジエン樹脂(日本a達
(株)製B −3000)を主成分とする組成のものを
配合し、3本ロールペースト状になるまで混練したペー
ストを用いて絶縁層14.15を形成し、実施例1と同
様の多層印刷配線基板を作成した。
Example 1 Example 2> Using the same epoxy-modified polybutadiene resin as in Example 1, cover the first conductor 12 of the insulating layer in FIG.
The bottom part of 6 was mixed with a composition mainly composed of thermosetting 1-2 polybutadiene resin (B-3000 manufactured by Nippon A-Datsu Co., Ltd.) and kneaded until it became a three-roll paste. Insulating layers 14 and 15 were formed to produce a multilayer printed wiring board similar to that of Example 1.

ここでのRLJ Q z未印刷抵抗体13の抵抗値の変
化は0.6[%]であった。また、PCT(121℃、
 2atm )中40H後の絶11抵抗の低下は初期値
に対して2桁に止ま゛す、実用上支障はなかった。また
、マイグレーション発生に関しては、PCT(121℃
、 2atm ) 10 [Vコ通電試験を408行っ
たところ、試料数50個中0150個のマイグレーショ
ンの発生であり良好であった。
The change in resistance value of the RLJ Qz unprinted resistor 13 here was 0.6%. In addition, PCT (121℃,
The decrease in the absolute resistance after 40 hours in 2 atm) remained at two digits compared to the initial value, and there was no practical problem. In addition, regarding the occurrence of migration, PCT (121℃
, 2atm) 10 [408 V current conduction tests were performed, and 0.150 migrations occurred out of 50 samples, which was good.

く比較例1〉 第1図中の絶縁11114.15にガラス誘電体ペース
ト(昭栄化学(株)製G −5232>を用いた実施例
1と同様の多層印刷配線基板を作成した。ここで、ガラ
ス誘電体の乾燥は150[’C]15分の後、焼成は8
50[’C]大気中にて行った。
Comparative Example 1 A multilayer printed wiring board similar to Example 1 was prepared using glass dielectric paste (G-5232 manufactured by Shoei Kagaku Co., Ltd.) for the insulation 11114.15 in FIG. 1. Here, The glass dielectric was dried at 150 ['C] for 15 minutes, and then fired at 8
It was carried out in the atmosphere at 50['C].

この後、RuO2系印刷抵抗体形成時の抵抗値と850
[’C]の焼成プロセスにおける抵抗値の変化は±50
[%]前後であり、実用上支障となるものであった。
After this, the resistance value when forming the RuO2-based printed resistor and 850
The change in resistance value during the firing process of ['C] is ±50
[%], which was a practical problem.

く比較例2〉 第1図中の絶縁層14.15にエポキシ樹脂系絶縁樹脂
(アサヒ化(研) !IIccR−5064) ヲff
Jい実施例1と同様の多層印刷配線基板を作成した。
Comparative Example 2> Epoxy resin-based insulating resin (Asahi Chemical !IIccR-5064) was used for the insulating layers 14 and 15 in Figure 1.
A multilayer printed wiring board similar to that of Example 1 was prepared.

ここで、エポキシの硬化は150[’C]にて20分行
った。
Here, the epoxy was cured at 150['C] for 20 minutes.

この後、RL+−02系印刷抵抗体の形成時の抵抗値と
350[’C]プロセス後の変化は0.6U%コ以下と
良好であったが、PCT(121℃、2atl )中4
0H後の絶縁抵抗の低下は初期値に対して8桁以上低下
した。また、マイグレーションの発生に関しては、PC
T(121℃、2atm)10[1通電試展を408行
ったところ、試料数50111に対して45150vI
Aにマイグレーションが発生し、実用上支障となるもの
であった。
After this, the resistance value during formation of the RL+-02 series printed resistor and the change after the 350['C] process were good, being less than 0.6U%;
The reduction in insulation resistance after 0H was more than 8 orders of magnitude lower than the initial value. In addition, regarding the occurrence of migration,
T (121℃, 2atm) 10[1 energization test was performed 408 times, and the number of samples was 45150vI for 50111 samples.
Migration occurred in A, which caused a practical problem.

[発明の効果] 以上詳述したように本発明によれば、 RuQz系印刷低印刷抵抗体セスによる抵抗値の変化を
極めて少なくすることができ、且つ耐湿性の向上及びマ
イグレーションの発生防止をはかり得る。しかも、絶縁
層とセラミック基材との接着性を良くすることができる
。このため、高密度実装可能な信頼性の^い厚膜多層印
刷配!基板を提供することができる。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the present invention, it is possible to extremely reduce the change in resistance value due to the RuQz-based printed low printed resistor process, and also to improve moisture resistance and prevent the occurrence of migration. obtain. Moreover, the adhesion between the insulating layer and the ceramic base material can be improved. For this reason, a reliable thick-film multilayer printing arrangement that allows high-density mounting! A substrate can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係わる多層印刷配線基板基板の概略構
成を示す断面図、第2図は絶縁層の耐湿試験用サンプル
の構成を示す断面図、第3図はIP!縁抵抗抵抗時変化
を示す特性図、第4図は温度プロセスによるRuO2系
印刷低抗体の抵抗変化率を示す特性図、第5図は従来の
高温焼成型ガラス誘電体を用いた多層印刷配線基板の概
略構成を示す断面図である。 11・・・アルミナ基板(セラミック基材)、12゜1
6.17・・・導体、13・・・RLJO2系印刷抵抗
体、14.15・・・絶縁層、18・・・部品。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図 In    208   40H(時間)−。 第3図
FIG. 1 is a sectional view showing the schematic structure of a multilayer printed wiring board according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing the structure of a sample for moisture resistance testing of an insulating layer, and FIG. 3 is an IP! A characteristic diagram showing the change in edge resistance resistance over time. Figure 4 is a characteristic diagram showing the resistance change rate of RuO2-based printed low antibody due to temperature process. Figure 5 is a multilayer printed wiring board using a conventional high temperature fired glass dielectric. FIG. 11...Alumina substrate (ceramic base material), 12゜1
6.17...Conductor, 13...RLJO2-based printed resistor, 14.15...Insulating layer, 18...Component. Applicant's representative Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 2 In 208 40H (hours) -. Figure 3

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)セラミック基材上に厚膜ペースト及び抵抗ペース
トにより第1の配線層を形成したのち、コンタクトホー
ルを有する絶縁層を形成し、次いで該絶縁層上に第2の
配線層を形成し、且つ第1及び第2の配線層を電気的に
接続する多層印刷配線基板において、前記絶縁層にエポ
キシ変性ポリブタジエン樹脂を用いたことを特徴とする
多層印刷配線基板。
(1) After forming a first wiring layer using thick film paste and resistance paste on a ceramic base material, forming an insulating layer having contact holes, and then forming a second wiring layer on the insulating layer, A multilayer printed wiring board electrically connecting first and second wiring layers, characterized in that the insulating layer is made of epoxy-modified polybutadiene resin.
(2)前記絶縁層として、エポキシ変性ポリブタジエン
樹脂と熱硬化型1−2ポリブタジエン樹脂との複合また
は組合せた樹脂を用いたことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の多層印刷配線基板。
(2) The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein a composite or combination of an epoxy-modified polybutadiene resin and a thermosetting 1-2 polybutadiene resin is used as the insulating layer.
(3)前記第1の配線層以外の導体層として、有機高分
子体と金属フィラーとを主成分とするペーストを用いた
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の多層印刷
配線基板。
(3) The multilayer printed wiring board according to claim 1, characterized in that a paste containing an organic polymer and a metal filler as main components is used as the conductor layer other than the first wiring layer. .
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