JPS622253B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS622253B2
JPS622253B2 JP11458582A JP11458582A JPS622253B2 JP S622253 B2 JPS622253 B2 JP S622253B2 JP 11458582 A JP11458582 A JP 11458582A JP 11458582 A JP11458582 A JP 11458582A JP S622253 B2 JPS622253 B2 JP S622253B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arm
sample
stylus
parallel
test device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP11458582A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS593340A (ja
Inventor
Seiichi Uchimura
Shuji Ueda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP11458582A priority Critical patent/JPS593340A/ja
Publication of JPS593340A publication Critical patent/JPS593340A/ja
Publication of JPS622253B2 publication Critical patent/JPS622253B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N3/00Investigating strength properties of solid materials by application of mechanical stress
    • G01N3/40Investigating hardness or rebound hardness
    • G01N3/42Investigating hardness or rebound hardness by performing impressions under a steady load by indentors, e.g. sphere, pyramid
    • G01N3/46Investigating hardness or rebound hardness by performing impressions under a steady load by indentors, e.g. sphere, pyramid the indentors performing a scratching movement

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガラス、フエライトなどの硬脆材料を
スタイラスにより引つかき、その材料の特性、加
工性を高精度に測定する試験装置に係るものであ
る。
一般に、VTR用のヘツドにはフエライトが使
用されているが、その加工精度はサブミクロンオ
ーダーが要求されており、この要求を満足させる
には、その材料の加工性を、モデル化させた状態
で試験し、この試験により、正確な実験数値を
得、この数値から最適な加工条件を設定すること
が可能である。この方法のひとつとして引つかき
試験があるが、従来の引つかき試験装置について
第1図、第2図により説明する。
1は後述する試料台2と共に矢印方向Bに運動
するテーブルであり、2は前述テーブル1上に設
けられた試料Aをのせる試料台、3は試料面を引
つかくスタイラス、4は後述分銅を受ける分銅
皿、5は試料Aに任意の荷重を設定する分銅であ
る。6は支点となるクロスバネで、アーム7を空
中に吊り下げられており、8はバランスウエイト
で、回転させることによりアーム7の全体のバラ
ンスを調整する。9は抵抗を検出する一対のひず
みゲージ、7aは平行板ばねである。この構成に
より、まず分銅5をのせない状態でアーム7の水
平バランス調整を、バランスウエイト8を回して
前後に移動させて行なう。この時の水平の確認は
目測で行なう。次に試料台2に試料Aを固定しア
ーム7を下げてスタイラス3を試料面に接触させ
た後、任意の分銅5をのせ、スタイラス3に荷重
を加えテーブル1を矢印方向Bにスライドさせ
る。その時スタイラス3が試料面を任意の荷重で
引つかく状態(第2図)になり、この時のスタイ
ラスの受ける抵抗により平行板ばね7aがひず
み、そのひずみ量をひずみゲージ9により検出す
る。
しかしながら上記のような従来の構成では、ア
ーム水平確認が目測で行なわれており、スタイラ
スが試料面に垂直になつているかどうかの確認が
できず、又、支点はクロスばねを利用しているが
この方法であれば支点が接触方式であるため、摩
擦による感度ムラと温度変化や外力による支点の
変動が生じるという欠点があつた。更にテーブル
のスライド部はボールベアリングが使用されてい
るが、微小な引つかき試験をする場合はベアリン
グ精度や摩耗による変動が大きく影響し、又、ス
タイラスをセツトする場合、アームがフリーなた
め試料にスタイラスが衝突し先端を破損する懸念
があつた。
本発明は上記欠点を解消するものであり、支点
およびテーブルのスライド部に静圧気体軸受を用
いることにより、テーブルの剛性、精度および支
点の感度を向上させることに目的がある。更に非
接触変位センサを用いることにより水平バランス
精度の向上、及びメカニカルストツパの設置によ
りスタイラスの衝突を防止することを目的とす
る。
以下本発明の一実施例について第3図により説
明する。第3図において、10はエア吸入口22
からエアーを供給され静圧気体軸受となり矢印C
方向にスライドするテーブル、11はテーブル1
0の上に位置し試料台13をXY方向に移動させ
るXYメカニカルステージである。12は11の
上に位置し試料台13を360度回転させる回転微
動ステージ、14はアーム17の一端に試料面A
に垂直に支持されたスタイラスである。15はス
タイラス14の真上に設けられた分銅皿、16は
分銅、17は一方にスタイラス、他方に19バラ
ンスウエイトを有するアームである。17aは試
料面に対し垂直に設けられた一対の平行板ばね、
18はアーム17のバランスウエイト19の上に
位置し、アーム上下移動の際アームが揺動するの
を防止するメカニカルストツパ、19はアームの
一端に位置し、アームのバランスを調整するバラ
ンスウエイト、20はアームを中心で支持する静
圧気体軸受を用いた支点である。21は支点を支
持する支点ホルダー、22aは支点ヘエアーを送
るエアー吸入口、23はアームを試料に近づける
Z軸微動ステージである。24はZ軸微動ステー
ジ23の調整つまみ、25は平行板ばね17aに
取付けられた2対のひずみゲージ、26はアーム
のスタイラス側に位置しアームと直角に取付けら
れた非接触変位センサーでアーム17のバランス
を検出する。
以上のように構成された引つかき試験装置につ
いて以下その動作を説明する。
静圧気体軸受になつたテーブル10の上に1
1,12があり試料台13に試料Aを固定後、試
料台13を任意の測定位置に11,12で移動さ
せる。ここで試料Aの固定は真空チヤツクにより
行ない、水平バランス調整は19を回して前後さ
せることにより、又、水平確認は前述非接触変位
センサ26で行なうものである。アーム17のバ
ランス調整後、次に調整つまみ24を回してスタ
イラスを試料に近づけて行くが、その時平衡バラ
ンスがくずれアームが上下に揺動しスタイラスが
試料に衝突するのを防止するため前述のごとくメ
カニカルストツパ18を調整してスタイラス14
が試料Aに衝突しない様に設定する。次に分銅皿
15に任意の分銅16をのせ試料にスタイラスを
接触させてから、ストツパ18をはずし、アーム
をフリー状態にする。スタイラスに荷重がかかつ
た状態でテーブル10を移動させ試料面をスタイ
ラスにより引つかく。この時スタイラスが受ける
抵抗を平行板ばねにはりつけたひずみゲージ25
によりひずみ量として検出する。
従つてアームの支点は静圧気体軸受であるため
支点の運動摩擦が空気抵抗のみとなるため、従来
のクロスバネ方式にくらべ、はるかに高感度とな
る。又テーブルも静圧気体軸受であるため送りの
際の抵抗、振動、摩耗がなく高精度な引つかき試
験が可能となる。又、引つかき試験においては試
料にスタイラスが垂直に接触することが条件であ
るが従来の目視による感応的な調整から非接触変
位センサを使用することにより正確にこの条件を
満足させることができる。さらにメカニカルスト
ツパを設けることによりスタイラスが試料に衝突
し先端が破損する事故も絶滅できる。
以上のように、本発明は、支点やテーブルのス
ライド部に静圧気体軸受を採用することにより歪
ゲージの感度及び測定精度を向上させるととも
に、非接触変位センサを用いることにより目視に
よる感応的な作業をなくし、スタイラスを試料に
垂直に位置させるという条件を満足させ、又メカ
ニカルストツパによりスタイラス先端の破損もな
くすことが可能で、その実用的効果は大なるもの
がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の引つかき試験装置の斜視図、第
2図は同装置による引つかき試験の状態を示した
試料およびスタイラスの斜視図、第3図は本発明
の一実施例における引つかき試験装置の斜視図で
ある。 7……アーム、8……バランスウエイト、10
……テーブル、14……スタイラス、18……メ
カニカルストツパ、20……支点、23……Z軸
微動ステージ、26……非接触変位センサ部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 試料に圧接可能で、かつ試料の面に垂直に保
    持されたスタイラスと、このスタイラスを保持し
    抵抗を検出する機能を有し、かつ板面が各々試料
    面に垂直に設けられ、相互に平行に取りつけられ
    た一対の平行板ばねを有するアームと、このアー
    ムの略中心で、アームを水平に支持する静圧気体
    軸受部と、スタイラスを試料の面に垂直に接触さ
    せるためにアームを水平に調整するアームの一端
    に設けられたバランスウエイトと、前記アームの
    水平状態を検出するアームの一端に設けられた非
    接触変位センサ部と、アーム全体を下げてスタイ
    ラスを試料面に近づけるスライド部と、試料台を
    平行板ばねと直角にスライドさせるための静圧気
    体軸受のテーブルとを備えた引つかき試験装置。 2 前記アーム近傍に、スタイラスを試料面へ近
    づける際、アームがゆれてスタイラスが試料に衝
    突するのを防ぐためのメカニカルストツパ部を設
    けた特許請求の範囲第1項記載の引つかき試験装
    置。
JP11458582A 1982-06-30 1982-06-30 引つかき試験装置 Granted JPS593340A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11458582A JPS593340A (ja) 1982-06-30 1982-06-30 引つかき試験装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11458582A JPS593340A (ja) 1982-06-30 1982-06-30 引つかき試験装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS593340A JPS593340A (ja) 1984-01-10
JPS622253B2 true JPS622253B2 (ja) 1987-01-19

Family

ID=14641527

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11458582A Granted JPS593340A (ja) 1982-06-30 1982-06-30 引つかき試験装置

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6381239U (ja) * 1986-11-15 1988-05-28
JP2602905Y2 (ja) * 1991-03-18 2000-02-07 株式会社ブリヂストン 反発弾性試験装置
CN105628527B (zh) * 2016-03-28 2018-07-31 西南交通大学 一种用于划痕试验仪器的自平衡可替换式刮头

Also Published As

Publication number Publication date
JPS593340A (ja) 1984-01-10

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