JPS62219316A - 磁気記録体 - Google Patents
磁気記録体Info
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- JPS62219316A JPS62219316A JP61062704A JP6270486A JPS62219316A JP S62219316 A JPS62219316 A JP S62219316A JP 61062704 A JP61062704 A JP 61062704A JP 6270486 A JP6270486 A JP 6270486A JP S62219316 A JPS62219316 A JP S62219316A
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Classifications
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- G11—INFORMATION STORAGE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は磁気ディスク装置などの磁気記録再生装置に
おいて、信号の記録媒体として用いる磁気記録体に関す
るものである。
おいて、信号の記録媒体として用いる磁気記録体に関す
るものである。
第２図は特開昭５９−４７９２６号公報に示された従来
の磁気記録体を示す断面図であり、図において、１はア
ルミ合金シートなどからなる基板、２はこの基板１上に
形成されたニッケルーリンの下地メッキ膜、６は信号を
記録するためのコバルト−リンまたはコバルト−ニッケ
ルーリンの磁性膜、４は磁性膜６を腐蝕から防ぐ、ニッ
ケルーリンの保護膜、５はヘッドとの潤滑性を良くする
ために塗布されたフッ化炭素系の保護膜である。
の磁気記録体を示す断面図であり、図において、１はア
ルミ合金シートなどからなる基板、２はこの基板１上に
形成されたニッケルーリンの下地メッキ膜、６は信号を
記録するためのコバルト−リンまたはコバルト−ニッケ
ルーリンの磁性膜、４は磁性膜６を腐蝕から防ぐ、ニッ
ケルーリンの保護膜、５はヘッドとの潤滑性を良くする
ために塗布されたフッ化炭素系の保護膜である。
次に動作について説明する。かかる磁気記録体は、保護
膜５に摺接するヘッドにより、磁性膜６に対する各種デ
ータ信号の記録および予め磁性膜６に記録したデータ信
号の読出しが行われる。この際、保護膜５はヘッドとの
潤滑性を良好に保ち、しかも磁性膜を耐蝕保護するよう
に作用する。
膜５に摺接するヘッドにより、磁性膜６に対する各種デ
ータ信号の記録および予め磁性膜６に記録したデータ信
号の読出しが行われる。この際、保護膜５はヘッドとの
潤滑性を良好に保ち、しかも磁性膜を耐蝕保護するよう
に作用する。
従来の磁気記録体は以上のように構成されているので、
磁性膜６上に保護膜４およびその上の保護膜５を設けな
ければならず、これらの２重の膜４．５が磁気記録体の
厚みを必然的に大きくするほか、上記保護膜５による長
期に亘る耐蝕保護が不十分で、信頼性に欠けるなどの問
題点があった。
磁性膜６上に保護膜４およびその上の保護膜５を設けな
ければならず、これらの２重の膜４．５が磁気記録体の
厚みを必然的に大きくするほか、上記保護膜５による長
期に亘る耐蝕保護が不十分で、信頼性に欠けるなどの問
題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、磁性膜に対する耐蝕保護を長期に亘って可能
にする保護膜を持った磁気記録体を得ることを目的とす
る。
たもので、磁性膜に対する耐蝕保護を長期に亘って可能
にする保護膜を持った磁気記録体を得ることを目的とす
る。
この発明にかかる磁気記録体は、磁性膜を被う保護膜を
、ニツケル−タングステン−ホウ素の３元合金によって
形成し、必要に応じその３元合金の薄膜を無電解メッキ
法によって得るようにしたものである。
、ニツケル−タングステン−ホウ素の３元合金によって
形成し、必要に応じその３元合金の薄膜を無電解メッキ
法によって得るようにしたものである。
この発明における保護膜は従来のニッケルーリンからな
る保護膜に比らべて、磁性膜の磁気特性を劣化）せるこ
となく、耐蝕効果を増強し、磁性膜のＷｄをより確実な
ものとするように作用する。
る保護膜に比らべて、磁性膜の磁気特性を劣化）せるこ
となく、耐蝕効果を増強し、磁性膜のＷｄをより確実な
ものとするように作用する。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、１は基板、２は下地メッキ膜、６は磁性膜
で、これらは従来のものと同様の方法で作られる。４Ａ
Ｕニツケル−タングステン−ホウ素の３元合金を、無電
解メッキ法によって還元析出させた保護膜である。
図において、１は基板、２は下地メッキ膜、６は磁性膜
で、これらは従来のものと同様の方法で作られる。４Ａ
Ｕニツケル−タングステン−ホウ素の３元合金を、無電
解メッキ法によって還元析出させた保護膜である。
この保護膜４Ａは磁性膜３を有する基板１を、温度６０
〜８０℃、めっき時間３〜４分間、硫酸ニッケルが２０
１１７１．タングステン酸ナトリウムが４０９／ｌ、水
酸化ホウ素ナトリウム１０１１／ｌ。
〜８０℃、めっき時間３〜４分間、硫酸ニッケルが２０
１１７１．タングステン酸ナトリウムが４０９／ｌ、水
酸化ホウ素ナトリウム１０１１／ｌ。
アンモニア２ｃｃ／Ｊの槽内で無電解でメッキ浴させる
ことによシ、その磁性膜３上に０．０５〜０．１ミクロ
ンの被膜に形成される。
ことによシ、その磁性膜３上に０．０５〜０．１ミクロ
ンの被膜に形成される。
次に作用について説明する。
上記のようにして得られた磁気記録体について、従来法
による保護膜４との耐蝕性能を、温度６０℃、湿度９０
％の条件下で、２０日間放置して相対比較すると、次の
ようであった。すなわち、従来のニッケルーりンの保護
膜４では、変色および腐蝕が著るしく、磁気ｌｌ″ｒＪ
′４″では初期保磁石５０エルステッドから４２０エル
ステツドに低下し、残留磁束密度が１１０００ガウスか
ら９２００ガウスに低下したのに対し、この発明のニツ
ケル−タングステン−ホウ素の保護膜４Ａは変色が全く
生じず、磁気特性の劣化も全く生じないことが確認され
た。このように、この発明の磁気記録体は保護膜４Ａの
上記のような効果によって、その耐用期間（寿命）が著
るしく向上し、商品としての信頼性、市場性がより高ま
るという利点が得られる。
による保護膜４との耐蝕性能を、温度６０℃、湿度９０
％の条件下で、２０日間放置して相対比較すると、次の
ようであった。すなわち、従来のニッケルーりンの保護
膜４では、変色および腐蝕が著るしく、磁気ｌｌ″ｒＪ
′４″では初期保磁石５０エルステッドから４２０エル
ステツドに低下し、残留磁束密度が１１０００ガウスか
ら９２００ガウスに低下したのに対し、この発明のニツ
ケル−タングステン−ホウ素の保護膜４Ａは変色が全く
生じず、磁気特性の劣化も全く生じないことが確認され
た。このように、この発明の磁気記録体は保護膜４Ａの
上記のような効果によって、その耐用期間（寿命）が著
るしく向上し、商品としての信頼性、市場性がより高ま
るという利点が得られる。
なお、上記の保護膜４Ａはあらゆる種類の磁性膜の保護
に利用できる。ま九、上記保護膜４Ａは無電界メッキ法
以外の方法で形成することも可能である。なお、ニツケ
ル−タングステン−ホウ素の３元合金は非磁性体である
ため、磁性膜６の下地メッキ膜として用いることもでき
る。
に利用できる。ま九、上記保護膜４Ａは無電界メッキ法
以外の方法で形成することも可能である。なお、ニツケ
ル−タングステン−ホウ素の３元合金は非磁性体である
ため、磁性膜６の下地メッキ膜として用いることもでき
る。
以上のように、この発明によれば、磁性膜の表面に設け
る保護膜を所定の配合量としたニツケル−タングステン
−ホウ素の三元合金の被膜としたので、耐蝕性を著しく
向上させた磁気記録体が得ちれる効果−Ｉ！ＩＥあるへ
る保護膜を所定の配合量としたニツケル−タングステン
−ホウ素の三元合金の被膜としたので、耐蝕性を著しく
向上させた磁気記録体が得ちれる効果−Ｉ！ＩＥあるへ
第１図はこの発明の一実施例による磁気記録体の−Ｎを
示す断面図、ｗＪ２図は従来の磁気記録体の一部を示す
断面図である。 １は基板、３は磁性膜、４Ａは保護膜。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 特許出願人 三菱電機株式会社 第１■ 第２図 手続補正書（自発） ６１．６．１７ 昭和 年 月 日
示す断面図、ｗＪ２図は従来の磁気記録体の一部を示す
断面図である。 １は基板、３は磁性膜、４Ａは保護膜。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 特許出願人 三菱電機株式会社 第１■ 第２図 手続補正書（自発） ６１．６．１７ 昭和 年 月 日
Claims (3)
- （１）基体上に設けられた磁性膜の上に保護膜を有する
磁気記録体において、上記保護膜がニツケル−タングス
テン−ホウ素の三元合金からなることを特徴とする磁気
記録体。 - （２）磁性膜がコバルトを含有した磁性金属材料からな
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記
録体。 - （３）保護膜が無電解メツキ法により磁性膜上に形成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
磁気記録体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61062704A JPS62219316A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 磁気記録体 |
| US06/936,450 US4759996A (en) | 1986-03-20 | 1986-12-01 | Magnetic recording medium |
| DE19873704075 DE3704075A1 (de) | 1986-03-20 | 1987-02-10 | Magnetischer aufzeichnungstraeger |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61062704A JPS62219316A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 磁気記録体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62219316A true JPS62219316A (ja) | 1987-09-26 |
Family
ID=13207965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61062704A Pending JPS62219316A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 磁気記録体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4759996A (ja) |
| JP (1) | JPS62219316A (ja) |
| DE (1) | DE3704075A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5153044A (en) * | 1987-02-25 | 1992-10-06 | Komag, Inc. | Magnetic disk for longitudinal recording comprising an amorphous intermediate layer |
| US5736263A (en) * | 1995-02-08 | 1998-04-07 | Kao Corporation | Magnetic recording medium comprising successive magnetic metallic films of iron, nickel, and cobalt deposited on a substrate |
| JP4023408B2 (ja) | 2003-02-04 | 2007-12-19 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 垂直磁気記録媒体用基板、垂直磁気記録媒体及びそれらの製造方法 |
| US20150201515A1 (en) * | 2014-01-13 | 2015-07-16 | Rf Micro Devices, Inc. | Surface finish for conductive features on substrates |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4814241B1 (ja) * | 1969-08-06 | 1973-05-04 | ||
| US4019910A (en) * | 1974-05-24 | 1977-04-26 | The Richardson Chemical Company | Electroless nickel polyalloy plating baths |
| JPS5255603A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-07 | Nec Corp | Magnetic memory element and production of same |
| US4152487A (en) * | 1976-12-17 | 1979-05-01 | Nippon Electric Co., Ltd. | Magnetic record member |
| US4224381A (en) * | 1978-10-19 | 1980-09-23 | Poly Disc Systems, Inc. | Abrasion resistant magnetic record members |
| JPS5647926A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-30 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5737737A (en) * | 1980-08-15 | 1982-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP61062704A patent/JPS62219316A/ja active Pending
- 1986-12-01 US US06/936,450 patent/US4759996A/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-02-10 DE DE19873704075 patent/DE3704075A1/de active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4759996A (en) | 1988-07-26 |
| DE3704075C2 (ja) | 1989-03-09 |
| DE3704075A1 (de) | 1987-11-26 |
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