JPS62219223A - Thin metallic film type magnetic recording medium - Google Patents

Thin metallic film type magnetic recording medium

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JPS62219223A
JPS62219223A JP5941586A JP5941586A JPS62219223A JP S62219223 A JPS62219223 A JP S62219223A JP 5941586 A JP5941586 A JP 5941586A JP 5941586 A JP5941586 A JP 5941586A JP S62219223 A JPS62219223 A JP S62219223A
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JP
Japan
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protective layer
alloy
layer
magnetic
recording medium
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Application number
JP5941586A
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Japanese (ja)
Inventor
Fumio Kishi
岸 文夫
Takayuki Yagi
隆行 八木
Kumiko Kameyama
亀山 久美子
Kenji Suzuki
謙二 鈴木
Hirotsugu Takagi
高木 博嗣
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To improve corrosion resistance while maintaining durability by providing a protective layer formed by oxidizing a Co-Al alloy on a magnetic Co alloy layer. CONSTITUTION:This recording medium has a nonmagnetic substrate 1, the magnetic layer 2 consisting of a Co alloy film, and the protective layer 3 formed by partially oxidizing the Co-Al alloy. The quantity of Al atoms contained in the protective layer 3 is adequately 5-35% as the ratio of the number of Al atoms per the total number of Co atoms and Al atoms and is further preferably 20-35%. The thickness of the protective layer 3 is adequately 30-300Angstrom and the more preferable range is 50-100Angstrom . The effect of protection is not enough if the thickness is <=30Angstrom . Recording and reproducing characteristics are deteriorated by a spacing loss if the thickness exceeds 300Angstrom .

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、耐久性および耐蝕性に優れた金属薄膜型磁気
記録媒体に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a metal thin film magnetic recording medium that has excellent durability and corrosion resistance.

[従来の技術] 近年、磁気記録の高密度化に対する要求が強くなってき
ており、様々な研究開発が進められている。金属?;i
膜の磁性層を用いる方式もこの一つである。またその中
で特に垂直磁化膜を用いる方式は、高密度になるほど自
己減磁がゼロに近づくため、高密度化に適した方式と考
えられている。
[Prior Art] In recent years, there has been a strong demand for higher density magnetic recording, and various research and development efforts are underway. metal? ;i
One of these methods is a method using a magnetic layer of a film. Among these, the method using a perpendicularly magnetized film is considered to be a method suitable for increasing the density because self-demagnetization approaches zero as the density increases.

この金属薄膜型磁気記録媒体に用いられる磁性層の材料
としては、主としてGo、 Go−Ni、 Go−P。
The materials for the magnetic layer used in this metal thin film magnetic recording medium are mainly Go, Go-Ni, and Go-P.

Go−Ni−P、 Co−Cr、 Go−V、 (:o
−No、 Go−Pt、 Go−W。
Go-Ni-P, Co-Cr, Go-V, (:o
-No, Go-Pt, Go-W.

Go−Or−Pd、 Co−Cr−Ha、 Go−Cr
−Rh等Coを主成分とする合金が研究されている。こ
のような金属の磁性層をもつ磁気記録媒体が有する大き
な問題の一つは、磁性層と磁気ヘッドが直接接触すると
両者にキズが発生するなど、耐摩耗性が著しく欠けてい
ることであった。
Go-Or-Pd, Co-Cr-Ha, Go-Cr
Co-based alloys such as -Rh are being studied. One of the major problems with magnetic recording media with such metal magnetic layers is that they lack a significant amount of wear resistance, with direct contact between the magnetic layer and the magnetic head causing scratches on both. .

この問題は、磁気記録媒体としての信頼性にかかわる重
要な問題であるが、この問題を解決する方法として、従
来から脂肪酸、高級脂肪酸、オキシ脂肪酸、脂肪酸アミ
ド、脂肪酸エステル、脂肪族アルコール、金属セッケン
等を表面に塗布することが行なわれてきた。しかしなが
ら上記の方法ではトップコート層の厚みを均一にするこ
とがむずかしく、その効果が使用するにつれて低下し。
This problem is an important problem related to the reliability of magnetic recording media, but conventional methods for solving this problem include using fatty acids, higher fatty acids, oxyfatty acids, fatty acid amides, fatty acid esters, fatty alcohols, and metal soaps. etc. have been applied to the surface. However, with the above method, it is difficult to make the thickness of the top coat layer uniform, and its effectiveness deteriorates as it is used.

耐久性がない為に満足すべきものではなかった。It was not satisfactory because it lacked durability.

この点を改良する方法としてco酸化物の保護層を形成
することが行なわれている。成膜の手段としては蒸着法
(例えば特開昭5Ei−137528号、特開昭80−
191425号等参照)、反応スパッタリング法(例え
ば4.+j開閉59−193538号、特開昭130−
501322号参照)によるものなどが提案されている
As a method to improve this point, forming a protective layer of cobalt oxide has been carried out. As a means of film formation, vapor deposition method (for example, JP-A-5Ei-137528, JP-A-80-
191425, etc.), reactive sputtering method (e.g. 4.
501322) has been proposed.

しかしながら上記の保護層は耐蝕性の点で問題があり、
例えば高温多湿の条件下に放置した後に記録・再生を行
なうと、再生信号の低下、欠落が生ずる。この耐蝕性自
体は、酸化の程度を強くすることでかなり向上するが、
この場合耐久性が劣化してしまい1両方の性能を両立さ
せることができない。この点が実用上大きな問題となっ
ている。
However, the above protective layer has problems in terms of corrosion resistance.
For example, if recording or reproduction is performed after being left under high temperature and high humidity conditions, the reproduction signal may be degraded or missing. This corrosion resistance itself can be improved considerably by increasing the degree of oxidation, but
In this case, the durability deteriorates and it is not possible to achieve both performances. This point poses a major problem in practice.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明は、上述した従来技術の問題点を除去し、耐久性
と耐蝕性がともに優れた金属薄膜型磁気記録媒体を提供
することを目的とする。
[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to eliminate the above-mentioned problems of the prior art and provide a metal thin film magnetic recording medium that has excellent durability and corrosion resistance.

[問題点を解決するための手段および作用]本発明は、
非磁性基体の少なくとも一方の面に、Coを1成分とす
る合金よりなる磁性層と、その上にCo−Al!合金の
酸化物よりなる保護層とを有することを特徴とする金属
薄膜型磁気記録媒体であり、これにより前記目的を達成
するものである。
[Means and effects for solving the problems] The present invention has the following features:
A magnetic layer made of an alloy containing Co as one component is provided on at least one surface of the nonmagnetic substrate, and a Co-Al! The present invention is a metal thin film type magnetic recording medium characterized by having a protective layer made of an oxide of an alloy, thereby achieving the above object.

第1図に本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の基本的な構
成を示す、lは非磁性基体、2はGo合金膜よりなる磁
性層、3はCo−AR合金を部分的に酸化してなる保護
層である。lの非磁性基体としては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミ
ド等から成るプラスチックフィルムあるいはステンレス
、アルミニウム、ガラス等を用いることができる。2の
磁性層の材料としては、Co、 Co−Cr、 Go−
V、 Go−No。
FIG. 1 shows the basic structure of the metal thin film magnetic recording medium of the present invention. l is a non-magnetic substrate, 2 is a magnetic layer made of a Go alloy film, and 3 is a partially oxidized Co-AR alloy. It is a protective layer. As the nonmagnetic substrate 1, a plastic film made of polyethylene terephthalate, polyimide, polycarbonate, polyamide, etc., stainless steel, aluminum, glass, etc. can be used. Materials for the magnetic layer 2 include Co, Co-Cr, Go-
V, Go-No.

Co−W、 Go−P、 Go−Ni、 Go−Pt、
 Go−Xi−ρ、 Go−Cr−Ru。
Co-W, Go-P, Go-Ni, Go-Pt,
Go-Xi-ρ, Go-Cr-Ru.

Go−Cr−Rh、 Go−Cr−Mo等の合金を用い
ることができる。
Alloys such as Go-Cr-Rh and Go-Cr-Mo can be used.

このほかに、本発明の金属薄膜型磁気記録媒体には例え
ば基体と磁性層との間に付着力向上や表面粗度の制御を
目的とした中間層、垂直ヘッドを用いる場合に有効な高
透磁率層などを設けてもよい。また酸化物の保護層上に
潤滑層として脂肪酸、高級脂肪酸、オキシ脂肪酸、脂肪
酸アミド、脂肪酸エステル、脂肪族アルコール、金属セ
ッケン等の被膜を設けてもよい。さらに基体裏面に潤滑
または帯電防止のための層を設けることも可能である。
In addition, the metal thin film magnetic recording medium of the present invention includes, for example, an intermediate layer between the substrate and the magnetic layer for the purpose of improving adhesion and controlling surface roughness, and a high permeability layer that is effective when using a perpendicular head. A magnetic layer or the like may be provided. Further, a coating of fatty acid, higher fatty acid, oxyfatty acid, fatty acid amide, fatty acid ester, aliphatic alcohol, metal soap, etc. may be provided as a lubricating layer on the oxide protective layer. Furthermore, it is also possible to provide a layer for lubrication or antistatic purposes on the back surface of the substrate.

加えて基体の両面に磁性層、保護層等を設ける構造も可
能である。
In addition, a structure in which magnetic layers, protective layers, etc. are provided on both sides of the substrate is also possible.

保護層の持つべき性質として、ヘッド材料との擬着を起
こしにくく、従って滑性の良いことと同時に下層のCo
系合金磁性層と強く付若し、はかれにくいものでなくく
てならない。
The properties that the protective layer should have are that it does not easily adhere to the head material, and therefore has good lubricity, and at the same time, it protects the underlying Co.
It must be strongly adhered to the alloy magnetic layer and must not be difficult to peel off.

Go主体の酸化物が保護層として優れるのは、CO3O
4(スピネル構造)の形のときに固体潤滑性があり1表
面凝若性の減少の寄ケが大きいためである。ところが、
完全に酸化された保護層の場合1m性層との界面でり、
c、p、構造の金属相と酸化物相(主にCO3O4:ス
ピネル構造)が接しており、両者の結晶格子が整合しに
くいために居間の結合が弱く、ヘッドとの摺動により保
護層がはがれやすい。従って耐久性のよい保護層を得る
には、保護層中に若干の金属相が残存していることが好
ましく、この残存した金属相が磁性層との付着力の向上
を担っているものと推定される。
The Go-based oxide is excellent as a protective layer for CO3O.
4 (spinel structure) has solid lubricity, and the decrease in surface cohesiveness is largely affected. However,
In the case of a completely oxidized protective layer, at the interface with the 1m layer,
The metal phase and oxide phase (mainly CO3O4: spinel structure) of the c, p, structure are in contact with each other, and the crystal lattice of the two is difficult to match, so the bond between the two is weak, and the protective layer is damaged by sliding with the head. Easy to peel off. Therefore, in order to obtain a durable protective layer, it is preferable that some metal phase remains in the protective layer, and it is presumed that this remaining metal phase is responsible for improving the adhesion with the magnetic layer. be done.

腐蝕はこの金属相が酸化されることにより生ずる。これ
に対して本発明では、金属相がGo−AI!合金であり
、 Co単体よりも耐蝕性が高いため金属相が残存して
も耐蝕効果が得られるものである。
Corrosion is caused by oxidation of this metallic phase. In contrast, in the present invention, the metal phase is Go-AI! It is an alloy and has higher corrosion resistance than Co alone, so even if the metal phase remains, the corrosion resistance effect can be obtained.

なお、Ai)の含有量が過多になると耐久性が低下する
。この原因としては、金属相内で、b、c、c、構造の
Go−AI!規則格子の相が支配的となり、磁性層との
界面での結合力が低下すること、又は表面付近で微量の
Ai’203相が生ずることなどが考えられる。
Note that if the content of Ai) is excessive, the durability will decrease. The reason for this is that Go-AI! of the b, c, c structure within the metal phase! It is conceivable that the ordered lattice phase becomes dominant and the bonding force at the interface with the magnetic layer decreases, or that a small amount of Ai'203 phase is generated near the surface.

以上の検討の結果として、保護層に含まれるAP原子の
量としては、 Go原子とi原子の総数に対するAj)
原子数の比率として5〜35%が好適であり、さらに望
ましくは20〜35%である。
As a result of the above consideration, the amount of AP atoms contained in the protective layer is Aj) relative to the total number of Go atoms and i atoms.
The ratio of the number of atoms is preferably 5 to 35%, more preferably 20 to 35%.

また、保護層の厚さは種々検討の結果30〜300Aが
好適であり、一層好ましい範囲は50〜100Aである
。30A以下では保護効果が充分でなく、また300A
を越えるとスペーシングロスのため記録再生特性が劣化
する。
Further, as a result of various studies, the thickness of the protective layer is preferably 30 to 300A, and a more preferable range is 50 to 100A. Below 30A, the protective effect is not sufficient;
If it exceeds this, the recording and reproducing characteristics will deteriorate due to spacing loss.

本発明はCO系合金磁性膜一般に応用できる技術である
が、磁性層(大方晶系)のC軸が媒体面に対して垂直な
方向に配向している場合の方が、無配向または斜配向の
場合に比べて保護層が多少薄い場合でも耐久性が比較的
良い傾向があった。これは磁性層と保護層内の金属相の
間の結晶学的な整合性のとりやすさに差があるためであ
ろう、近年研究の盛んなGo−Or等、 Ca系垂直磁
化1漠はC軸が媒体面に垂直方向であり、本発明はとり
わけCo系合金垂直磁気記録媒体に有効である。特に垂
直磁気記録媒体をリングヘッドとの組み合わせで用いる
場合、面内磁気記録方式に比しスペーシングロスが大で
あり、磁性層と磁気ヘッドとのより良好な密着が必要で
あるとの報告がなされており(第9回日本応用磁気学会
学術講演概要集P、100 ’) 、本発明はその高密
度記録性とあいまってfFjい保護膜を要する垂直磁気
記録媒体において、著しい効能を発揮する。
Although the present invention is a technology that can be applied to CO-based alloy magnetic films in general, it is better to use non-oriented or obliquely-oriented magnetic layers when the C-axis of the magnetic layer (macrogonal system) is oriented in a direction perpendicular to the medium surface. Even when the protective layer was somewhat thinner, the durability tended to be relatively good. This is probably due to the difference in the ease of achieving crystallographic consistency between the magnetic layer and the metal phase in the protective layer. The C-axis is perpendicular to the medium surface, and the present invention is particularly effective for Co-based alloy perpendicular magnetic recording media. In particular, it has been reported that when a perpendicular magnetic recording medium is used in combination with a ring head, the spacing loss is greater than in the longitudinal magnetic recording method, and better adhesion between the magnetic layer and the magnetic head is required. (The 9th Japanese Society of Applied Magnetics, Academic Lecture Summary Collection P, 100'), and the present invention, combined with its high-density recording property, exhibits remarkable effectiveness in perpendicular magnetic recording media that require fFj protective films.

また、近年の研究開発の技術的動向によれば、Go合金
金属磁性層は真空蒸着法、スパッタリング法等、真空中
における物理蒸着プロセスによる形成が一般に高品質の
磁性膜を得やすい。たとえばCo−X1合金膜の様に面
内磁化膜の場合、その抗磁力を高めるため斜め蒸着と同
時に酸素導入蒸着の技術が用いられることが多く、その
時に表面酸化層もつくられる(たとえば特開昭58−4
1439号)。
Furthermore, according to recent technical trends in research and development, it is generally easier to obtain a high-quality magnetic film when the Go alloy metal magnetic layer is formed by a physical vapor deposition process in a vacuum, such as a vacuum evaporation method or a sputtering method. For example, in the case of an in-plane magnetized film such as a Co-X1 alloy film, in order to increase its coercive force, an oxygen-introducing evaporation technique is often used at the same time as oblique evaporation, and a surface oxide layer is also created at that time (for example, Showa 58-4
No. 1439).

この際磁性体内部まで酸化が若干おこるので、最表面を
強く酸化しようとすると実際には磁性層内部も酸化し、
Bgの低下をもたらして記録再生特性が低下する(たと
えば特開昭Go−191425号)。対象とする記録密
度が比較的低い面内記録媒体では、この方法は充分な実
用性を持ちうるものであり、本発明はたとえば上記公開
公報に開示された成膜方法で表面層形成にあずかる蒸気
流にARを含む金属の蒸気流を合流させる様な形態で実
現できる。一方、CO系垂直磁化膜では使用される記録
密度の高さのためにスペーシングロスは極力減らす必要
があり、本発明実施例の形成方法にて開示される様に磁
性膜と酸化膜の形成工程とが分離される方が有利である
At this time, some oxidation occurs to the inside of the magnetic material, so if you try to strongly oxidize the outermost surface, the inside of the magnetic layer will actually be oxidized.
This results in a decrease in Bg, resulting in a decrease in recording and reproducing characteristics (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 191425). For in-plane recording media with relatively low recording densities, this method can have sufficient practicality, and the present invention provides, for example, the film forming method disclosed in the above-mentioned publication, in which vapor that participates in the formation of a surface layer is used. It can be realized in such a manner that a vapor flow of a metal containing AR is merged with a vapor flow of a metal containing AR. On the other hand, due to the high recording density used in the CO-based perpendicular magnetization film, it is necessary to reduce spacing loss as much as possible. It is advantageous if the steps are separated.

本発明は薄く、かつ耐久性、耐摩耗性に富み、また磁性
層の磁気特性を損ねることなく、かつ耐蝕性の良好な酸
化保護膜を提供するものであり、その点からも高記録密
度、短波長領域で使用される垂直記録媒体に好適に使用
されうるちのである。
The present invention provides a thin oxidation protective film that is highly durable and wear-resistant, does not impair the magnetic properties of the magnetic layer, and has good corrosion resistance. It can be suitably used in perpendicular recording media used in the short wavelength region.

[実施例] 以下、実施例に基づいて説明する。なお、ここでは保護
層の厚さは実施例、比較例とも約10OAとした場合の
結果である。
[Example] Hereinafter, description will be given based on an example. Note that the results here are obtained when the thickness of the protective layer was approximately 10 OA in both Examples and Comparative Examples.

実施例1 非磁性基体として厚さ10JLmのポリイミド樹脂フィ
ルムを用いて、この上に厚さ0.4ルーのCo−Cr合
金膜を連続蒸着して長尺のサンプルを得た。
Example 1 A polyimide resin film with a thickness of 10 JLm was used as a nonmagnetic substrate, and a Co-Cr alloy film with a thickness of 0.4 lu was continuously deposited thereon to obtain a long sample.

このサンプル上にCa−/j)酸化膜の保護層を第2図
に示した装置により反応スパッタリング法で形成した。
A protective layer of Ca-/j) oxide film was formed on this sample by a reactive sputtering method using the apparatus shown in FIG.

4は真空槽、5は排気装置、6はGo−AP合金ターゲ
ントであり、外部の高周波電源に接続されている。あら
かじめ真空蒸着法によりCo−Cr合金層をポリイミド
フィルム上に形成しであるサンプルフィルム7は巻出し
ロール8から中間フリーローラー9.駆動キャン10、
再び中間フリーローラー9を経て巻取りロール11に達
する。12は防着板、13は酸素導入パイプ、14はア
ルゴン導入パイプである。
4 is a vacuum chamber, 5 is an exhaust device, and 6 is a Go-AP alloy target, which is connected to an external high-frequency power source. A sample film 7, in which a Co-Cr alloy layer was previously formed on a polyimide film by vacuum evaporation, was transferred from an unwinding roll 8 to an intermediate free roller 9. drive can 10,
It passes through the intermediate free roller 9 again and reaches the winding roll 11. 12 is an adhesion prevention plate, 13 is an oxygen introduction pipe, and 14 is an argon introduction pipe.

成膜時の到達圧力は3 X 104Pa以下、Arガス
圧は0.30Pa、酸素導入量は8 cc/分、単位面
積あたりの投入電力は4 W/c+a2 である。この
とき堆積速度は約20A/秒で、サンプルフィルムの駆
動速度は15cm/分である。
The ultimate pressure during film formation was 3 x 104 Pa or less, the Ar gas pressure was 0.30 Pa, the amount of oxygen introduced was 8 cc/min, and the input power per unit area was 4 W/c+a2. At this time, the deposition rate was about 20 A/sec, and the sample film driving rate was 15 cm/min.

実施例2 厚す12 p−mのポリエチレンテレフタレートフ、f
ルムの基体上に厚さ0.4 ルmのGo−Ni−P合金
層をメッキ法によって形成した後、実施例1と同様にし
てGo−Ai)合金の酸化物保護層を形成した。
Example 2 Polyethylene terephthalate 12 pm thick, f
After forming a Go--Ni--P alloy layer with a thickness of 0.4 lum on the substrate of the lume by plating, a Go--Ai) alloy oxide protective layer was formed in the same manner as in Example 1.

実施例3 実施例1と同様の基体上に、厚さ0.4411のGo−
Pt合金層を真空蒸着法によって形成した後、実施例1
と同様にCo−Al!酸化膜の保護層を形成した。
Example 3 On the same substrate as in Example 1, a Go-
After forming the Pt alloy layer by vacuum evaporation method, Example 1
Similarly, Co-Al! A protective layer of oxide film was formed.

実施例4 実施例1と同様の基体上に、実施例1と同様のCo−C
r合金層を設け、第3図に示した装置によりGo−AP
酸化膜の保護層を真空蒸着法により形成した。
Example 4 The same Co-C as in Example 1 was deposited on the same substrate as in Example 1.
After forming the r alloy layer, Go-AP is applied using the apparatus shown in Fig. 3.
A protective layer of oxide film was formed by vacuum evaporation.

全体の構造は第2図の装置とほぼ同じであり。The overall structure is almost the same as the device shown in FIG.

不図示の導入パイプにより酸素を真空槽内に導入する。Oxygen is introduced into the vacuum chamber through an introduction pipe (not shown).

真空槽の一部を隔壁15によって仕切り、その内部をも
う一つの排気装置16によって排気している。この小部
屋の中に電子銃17が設置されており、これから射出さ
れる電子ビームによりルツボ18内のGo−AP合金ペ
レット19を加熱する。隔壁を設ける目的は、この内部
を高真空に保つことにより酸素流入による電子銃の損傷
を防ぐためである。
A part of the vacuum chamber is partitioned by a partition wall 15, and the inside thereof is evacuated by another exhaust device 16. An electron gun 17 is installed in this small room, and the Go-AP alloy pellets 19 in the crucible 18 are heated by the electron beam emitted from it. The purpose of providing the partition wall is to maintain the interior at a high vacuum to prevent damage to the electron gun due to oxygen inflow.

到達圧力は5 X 1(15Pa以下、酸素導入量は1
2cc/分、堆積速度は約500A/秒、サンプルフィ
ルムの送り速度は3.5m/分である。
The ultimate pressure is 5 x 1 (15 Pa or less, the amount of oxygen introduced is 1
2 cc/min, the deposition rate is about 500 A/sec, and the sample film feed rate is 3.5 m/min.

実施例5 実施例1と同様の基体上に同様のGo−Cr合金層を形
成した後、同じ装置でGo−AI!合金の層を形成し、
この表面を第4図に示した装置によりプラズマ酸化する
ことにより保護層を形成した。電極20の間に生じた酸
素プラズマ中をサンプルを通過させ、プラズマ酸化を行
う。
Example 5 After forming a similar Go-Cr alloy layer on the same substrate as in Example 1, Go-AI! forming a layer of alloy,
This surface was subjected to plasma oxidation using the apparatus shown in FIG. 4 to form a protective layer. The sample is passed through oxygen plasma generated between the electrodes 20 to perform plasma oxidation.

条件は真空度0.30Pa、酸素分圧0.08Pa、投
入電力300W、サンプルフィルムの送り速度は40c
m/分である。
The conditions are vacuum degree 0.30 Pa, oxygen partial pressure 0.08 Pa, input power 300 W, and sample film feeding speed 40 c.
m/min.

比較例1〜5 保護層にARを含まずGO酸化物とした他は実施例1〜
5と同様に作製されたサンプルをそれぞれ比較例1〜5
とした。
Comparative Examples 1 to 5 Examples 1 to 5 except that the protective layer did not contain AR and was made of GO oxide
Samples prepared in the same manner as in Comparative Examples 1 to 5
And so.

比較例6.7 保護層としてAJ40%含有のCo−Af酸化物とした
他は実施例1および実施例4と同様に作製されたサンプ
ルをそれぞれ比較例6,7とした。
Comparative Example 6.7 Comparative Examples 6 and 7 were samples prepared in the same manner as in Example 1 and Example 4, except that a Co--Af oxide containing 40% AJ was used as the protective layer.

第1表は上記実施例および比較例について、保護層のA
j)含有量、#久性および#触性試験の結果を示したも
のである。ただし、AI!含有量は保護層に含まれる金
属(すなわちGo+Ai))原子数に対するAR’fX
子数の比率を示す。
Table 1 shows the A of the protective layer for the above Examples and Comparative Examples.
j) Results of content, durability and tactility tests are shown. However, AI! The content is AR'fX with respect to the number of metal (i.e. Go+Ai) atoms contained in the protective layer.
Indicates the ratio of the number of children.

耐久性試験は上記実施例および比較例のサンプルを8m
II幅に裁断し、テープ状にした後、市販の8 mmV
TRデツキを用いて行った。方法は、テストパターンを
記録した後くり返し再生を行い、ヘッド出力およびドロ
ップアウト数のパス回数による変化を調べた。耐久性の
判定基準は次のとおりである。くり返し再生100パス
目の出力の低下が初期の出力に対して3dB以内をA、
3dB以上をB、また、100パスに達する前にドロッ
プアウトの数が200個/分を越えたものはCとした。
Durability tests were carried out on the samples of the above examples and comparative examples for 8 m.
After cutting into II width and making it into a tape, commercially available 8 mmV
This was done using a TR deck. The method involved recording a test pattern and repeatedly playing it back to examine changes in head output and number of dropouts depending on the number of passes. The criteria for determining durability are as follows. If the output decreases on the 100th pass of repeated playback is within 3 dB of the initial output, A,
3 dB or more was rated B, and a case where the number of dropouts exceeded 200 per minute before reaching 100 passes was rated C.

なお、ドロップアウトの数え方は平均出力より18dB
以上の出力低下が15g秒以上続いたときに1個と数え
た。
In addition, the method of counting dropout is 18dB from the average output.
It was counted as one piece when the above decrease in output continued for 15g seconds or more.

耐蝕性試験は上記と同様に作製したサンプルテープを5
0°C1湿度70%の恒温恒湿槽内に50時間放置した
後、上記と同様のデツキで記録、再生を試みた。その際
全く支障のないものをA、放置中に最外周になっていた
部分30cm程度でドロップアウトの増加が見られたが
他は支障がなかったものをB、テープ全体にわたって正
常な出力の得られない部分がくり返し現われるものをC
1正常に記録再生できる部分がテープ全長の20%以上
となったものをDとした。
Corrosion resistance test was performed using sample tape prepared in the same manner as above.
After leaving it in a constant temperature and humidity chamber at 0° C. and 70% humidity for 50 hours, recording and playback were attempted using the same deck as above. A indicates that there was no problem at all, and B indicates that there was an increase in dropouts in the outermost 30cm portion of the tape while the tape was left unused, but no other problems occurred.B indicates that normal output was obtained over the entire tape. C refers to the parts that appear repeatedly.
1. A tape in which the portion that can be recorded and reproduced normally was 20% or more of the total length of the tape was designated as D.

第  1  表 第2表は同じく耐久性、耐蝕性の試験結果を示す。ただ
し、この場合のサンプルは、前記実施例および比較例に
おいて、同じ材質で厚みが略50pmのフィルムを基体
として用いてディスク状に整形されたもので、50kB
PIのシグナルを記録・再生したものである。
Tables 1 and 2 also show the test results for durability and corrosion resistance. However, the sample in this case was formed into a disk shape using the same material and approximately 50 pm thick film as the substrate in the above-mentioned Examples and Comparative Examples, and had a 50 kB thickness.
This is a recording and reproduction of the PI signal.

耐久性の判定基準は100万パス走行後の出力の低下が
初期出力に比べて3dB以内をA、3dB以上をB、安
定した再生出力の得られなくなったものをCとした。
The criteria for determining durability are A if the output decreases after 1 million passes within 3 dB compared to the initial output, B if it is 3 dB or more, and C if stable playback output cannot be obtained.

耐蝕性の判定基準は、上述と同様の条件に放置した後記
録再生を試み、支障のないものをA、出力の欠落が生じ
るものをB、安定した出力の得られないものをCとした
The criteria for determining corrosion resistance were as follows: After being left under the same conditions as described above, recording and reproducing were attempted, and those with no problems were rated A, those with output loss were rated B, and those with no stable output were rated C.

第  2  表 [発明の効果] 以上説明したように、CO系合金磁性層上にCo−Aj
l’合金を酸化してなる保護層を設けることにより、従
来の保護層を設ける場合と比べて同等以上の耐久性を維
持しながら、耐蝕性を格段に向上させることができた。
Table 2 [Effects of the Invention] As explained above, Co-Aj on the CO-based alloy magnetic layer
By providing a protective layer formed by oxidizing the l' alloy, it was possible to significantly improve the corrosion resistance while maintaining durability equivalent to or higher than in the case of providing a conventional protective layer.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の金IA薄膜型磁気記録媒体の基本的な
構成を示す概念図、第2図は保護層の形成に用いた高周
波スパッタリング装置の概略図、第3図は同じく保護層
の形成に用いた真空蒸着装置、第4図は保護層の酸化に
用いたプラズマ酸化装置である。 l:非磁性基体、2:Co系合金磁性層、3:Ca−A
R酸化物保護層、4:真空槽、5:排気装置、6:Co
−Aj)合金タープ−/ )、7:サンプルテープ、8
:a出しロール、9:中間フリーローラー、10:駆動
キャン、ll:巻取りロール、12:防着板、 13:酸素導入パイプ、 l4:アルゴン導入パイプ、15:tE4壁、16:排
気装置、17=電子銃、18ニルツボ、19:Co−A
R合金ペレント、20:電極、21:コンデンサー、2
2:高周波電源、23:アース。
Figure 1 is a conceptual diagram showing the basic structure of the gold IA thin film magnetic recording medium of the present invention, Figure 2 is a schematic diagram of the high frequency sputtering apparatus used to form the protective layer, and Figure 3 is a schematic diagram of the high frequency sputtering apparatus used to form the protective layer. The vacuum evaporation device used for the formation, and FIG. 4 shows the plasma oxidation device used to oxidize the protective layer. 1: Non-magnetic substrate, 2: Co-based alloy magnetic layer, 3: Ca-A
R oxide protective layer, 4: Vacuum chamber, 5: Exhaust device, 6: Co
-Aj) Alloy tarp-/), 7: Sample tape, 8
: a release roll, 9: intermediate free roller, 10: drive can, ll: take-up roll, 12: adhesion prevention plate, 13: oxygen introduction pipe, l4: argon introduction pipe, 15: tE4 wall, 16: exhaust device, 17 = electron gun, 18 nil acupuncture point, 19: Co-A
R alloy pellet, 20: electrode, 21: capacitor, 2
2: High frequency power supply, 23: Earth.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)非磁性基体の少なくとも一方の面に、Coを主成
分とする合金よりなる磁性層と、その上にCo−Al合
金の酸化物よりなる保護層とを有することを特徴とする
金属薄膜型磁気記録媒体。
(1) A metal thin film characterized by having a magnetic layer made of an alloy containing Co as a main component on at least one surface of a nonmagnetic substrate, and a protective layer made of an oxide of a Co-Al alloy thereon. type magnetic recording medium.
(2)磁性層が媒体の面に対して垂直な方向に磁化が並
ぶように異方性を付与されたものである特許請求の範囲
第1項記載の金属薄膜型磁気記録媒体。
(2) The metal thin film type magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic layer is provided with anisotropy so that the magnetization is aligned in a direction perpendicular to the plane of the medium.
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