JPS62218547A - 転写層の形成方法 - Google Patents
転写層の形成方法Info
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- JPS62218547A JPS62218547A JP61060411A JP6041186A JPS62218547A JP S62218547 A JPS62218547 A JP S62218547A JP 61060411 A JP61060411 A JP 61060411A JP 6041186 A JP6041186 A JP 6041186A JP S62218547 A JPS62218547 A JP S62218547A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
- C23C4/185—Separation of the coating from the substrate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は転写層の形成方法に関する。詳しくは本発明は
母型上に溶射材料を溶射することによって転写層を形成
する方法の改良に関する。
母型上に溶射材料を溶射することによって転写層を形成
する方法の改良に関する。
母型上に皮膜形成性の溶射材料を溶射することによって
転写層を形成することは知られている。これは例えば金
型内面の製作等に利用される。得られた転写層がその使
用目的に対して必要な強度を有しない場合、該転写層は
その裏面への裏打ち材料の適用、例えば金属の鋳込み等
によって補強される。
転写層を形成することは知られている。これは例えば金
型内面の製作等に利用される。得られた転写層がその使
用目的に対して必要な強度を有しない場合、該転写層は
その裏面への裏打ち材料の適用、例えば金属の鋳込み等
によって補強される。
上記転写層がいかなる用途に使用されるにせよ、それは
母型上の凹凸を忠実に写し取ったものであることが要求
される。従来の技術はこの点において十分に溝足し得る
ものとは言い難い。
母型上の凹凸を忠実に写し取ったものであることが要求
される。従来の技術はこの点において十分に溝足し得る
ものとは言い難い。
即ち転写層の形成時に転写層の母型からの剥離及び変形
という現象があυ、転写層の忠実性が損われる。上記の
転写層の剥離・変形の程度は溶射材料の種類、溶射材料
と母型との組合せ等に依存するが、特に溶射材料の物性
に大きく依存する。即ち一般に溶射材料の融点が高い程
、また硬度が高い程、剥離・変形の程度が大きくなる傾
向にある。
という現象があυ、転写層の忠実性が損われる。上記の
転写層の剥離・変形の程度は溶射材料の種類、溶射材料
と母型との組合せ等に依存するが、特に溶射材料の物性
に大きく依存する。即ち一般に溶射材料の融点が高い程
、また硬度が高い程、剥離・変形の程度が大きくなる傾
向にある。
かかる好ましくない現象の原因は熱歪にあるものと考え
られ、その解決策として母型及び溶射皮膜を低温度に保
持する工夫がなされてきた。
られ、その解決策として母型及び溶射皮膜を低温度に保
持する工夫がなされてきた。
しかしかかる工夫によっても問題点の解決は必ずしも十
分なものではない。またかかる低温度法の現実的な適用
対象は低融点ないし低硬度の溶射材料に限られ、高融点
又は高硬度の溶射材料への適用は困難である。
分なものではない。またかかる低温度法の現実的な適用
対象は低融点ないし低硬度の溶射材料に限られ、高融点
又は高硬度の溶射材料への適用は困難である。
他方、上記転写層を例えば金型内面として使用する場合
などには特に耐久性が要求される。
などには特に耐久性が要求される。
そのためには高硬度又は高融点の溶射材料を使用するこ
とが必要であり、このような溶射材料を使用して満足な
転写層を形成する方法が特に強く求められていた。
とが必要であり、このような溶射材料を使用して満足な
転写層を形成する方法が特に強く求められていた。
本発明者は上記従来技術の問題点を解決し、満足な転写
層を形成する方法について鋭意検討を重ねた結果、本発
明に到達した。
層を形成する方法について鋭意検討を重ねた結果、本発
明に到達した。
即ち本発明の要旨は、母型上に溶射材料を溶射すること
によって転写層を形成するに当り、溶射によって形成さ
れた溶射皮膜の全体を上記溶射に使用している溶射火炎
とは別の加熱源によって加熱しながら上記溶射材料の溶
射を行なうことを特徴とする転写層の形成方法、に存す
る。
によって転写層を形成するに当り、溶射によって形成さ
れた溶射皮膜の全体を上記溶射に使用している溶射火炎
とは別の加熱源によって加熱しながら上記溶射材料の溶
射を行なうことを特徴とする転写層の形成方法、に存す
る。
以下、本発明について詳細に説明する。
まず本発明の基礎となっている考察について説明する。
溶射によって転写層を形成する際、溶射された溶射材料
は被溶射面である母型の表面に付着して溶射皮膜を形成
する。その場合、溶射材料の熱エネルギーは母型に移行
し、母型の温度の上昇を招く。一方、溶射材料により形
成された皮膜の表面は外気ＶＣ＠されて熱エネルギーを
失ない、温奪が低下する。従って、母型表面に接する皮
膜の裏面と外気に接する皮膜の表面とは温度差を持つこ
ととなり、低温側、即ち皮膜の表面側の収縮が大きく、
表面側への皮膜の反り上シ、即ち母型から皮膜が剥離し
変形する現象が発生し、皮膜の形成が不可能となるもの
と考えられる。
は被溶射面である母型の表面に付着して溶射皮膜を形成
する。その場合、溶射材料の熱エネルギーは母型に移行
し、母型の温度の上昇を招く。一方、溶射材料により形
成された皮膜の表面は外気ＶＣ＠されて熱エネルギーを
失ない、温奪が低下する。従って、母型表面に接する皮
膜の裏面と外気に接する皮膜の表面とは温度差を持つこ
ととなり、低温側、即ち皮膜の表面側の収縮が大きく、
表面側への皮膜の反り上シ、即ち母型から皮膜が剥離し
変形する現象が発生し、皮膜の形成が不可能となるもの
と考えられる。
そこで本発明者はこの剥離・変形の現象を防止するには
溶射皮膜の表裏の温度差を小さくすることが有効であろ
うと考えて本発明に到達したのである。
溶射皮膜の表裏の温度差を小さくすることが有効であろ
うと考えて本発明に到達したのである。
本発明方法に使用される母型の材質は特に限定されるも
のではなく、例えば木材、合成樹脂、石膏、セラミック
ス、鋳物砂等が挙げられるが、具体的には使用する溶射
材料との組合せ、母型表面に求められるきめこまかさ等
を考慮して適切な材質が選択される。例えば高硬度又は
高融点の溶射材料が用いられる場合には溶射温度も高く
なるので、例えば石膏、セラミックス、鋳物砂等の耐熱
性材料が使用される。
のではなく、例えば木材、合成樹脂、石膏、セラミック
ス、鋳物砂等が挙げられるが、具体的には使用する溶射
材料との組合せ、母型表面に求められるきめこまかさ等
を考慮して適切な材質が選択される。例えば高硬度又は
高融点の溶射材料が用いられる場合には溶射温度も高く
なるので、例えば石膏、セラミックス、鋳物砂等の耐熱
性材料が使用される。
４一
本発明方法における溶射材料としては母型の被溶射面上
で皮膜を形成し得る種々の材料が使用され、例えばＺｎ
系合金、Ｎ１−Ｃｕ系合金、Ｎ１−Ｃｒ系合金、Ｎｉ−
Ｃｒ−Ｃｏ系合金、ステンレス鋼等の金属； ＳＳＯ，
、Ａ Ｉ、０．、ＭｇＯ、ＺｒＯ２等のセラミックス；
或いはこれらの混合物等が挙げられる。具体的には得ら
れた転写層の用途に応じて適切な材質が選択される。例
えば前記のように耐久性の転写層が必要とされる場合に
は１例えばＮ １−Ｃｒ系合金、Ｎ１−Ｃｒ−Ｃｏ系合
金、ステンレス鋼、各種セラミックス等の高硬度又は高
融点の溶射材料が使用される。
で皮膜を形成し得る種々の材料が使用され、例えばＺｎ
系合金、Ｎ１−Ｃｕ系合金、Ｎ１−Ｃｒ系合金、Ｎｉ−
Ｃｒ−Ｃｏ系合金、ステンレス鋼等の金属； ＳＳＯ，
、Ａ Ｉ、０．、ＭｇＯ、ＺｒＯ２等のセラミックス；
或いはこれらの混合物等が挙げられる。具体的には得ら
れた転写層の用途に応じて適切な材質が選択される。例
えば前記のように耐久性の転写層が必要とされる場合に
は１例えばＮ １−Ｃｒ系合金、Ｎ１−Ｃｒ−Ｃｏ系合
金、ステンレス鋼、各種セラミックス等の高硬度又は高
融点の溶射材料が使用される。
本発明方法に従う溶射材料の溶射方法は特に限定されず
、通常用いられている種々の溶射方面に衝突させて付着
させる方法が採用される。
、通常用いられている種々の溶射方面に衝突させて付着
させる方法が採用される。
さて本発明は上記溶射に際して、溶射によって形成され
た溶射皮膜の全体を加熱し続けることを特徴とする。こ
の際、溶射材料を溶射しつつある溶射火炎自体も、無論
、溶射皮膜を加熱しているわけであるが、溶射火炎は適
当な速度で被溶射面上を移動していくものであるから、
これのみでは溶射皮膜の全体を加熱し続けることはでき
ない。従って上記溶射皮膜の加熱は溶射に使用しつつあ
る溶射火炎とは別の加熱源を使用して行なう必要がある
。
た溶射皮膜の全体を加熱し続けることを特徴とする。こ
の際、溶射材料を溶射しつつある溶射火炎自体も、無論
、溶射皮膜を加熱しているわけであるが、溶射火炎は適
当な速度で被溶射面上を移動していくものであるから、
これのみでは溶射皮膜の全体を加熱し続けることはでき
ない。従って上記溶射皮膜の加熱は溶射に使用しつつあ
る溶射火炎とは別の加熱源を使用して行なう必要がある
。
上記加熱源の種類は特に限定されず、例えばガスバーナ
ー、電気加熱器等が挙げられる。
ー、電気加熱器等が挙げられる。
上記溶射皮膜の加熱は前述の通り溶射皮膜の表裏の温度
差が出来るだけ小さくなるように行なわれる。該温度差
を支配する因子としては母型材質及び溶射材料の物性、
溶射火炎の温度及び熱供給速度等があり、また該温度差
が溶射皮膜の剥離・変形に与える影響の程度も溶射皮膜
の物性及び溶射皮膜と母型表面との親和性等の因子に依
存する。従って必要な加熱の程度を一律に特定すること
はできないが、一般的には溶射材料の融点（ないし流動
点）を目安にするのがよい。即ち溶射皮膜を溶融流動さ
せない範囲でできるだけ溶射材料の融点に近い温度まで
加熱するのが好ましい。必要な加熱温度の下限も上記の
通りの事情で一律には言えないが、概略の目安を述べれ
ば、融点ｌθ００℃程度の溶射材料に対しては約ｔｏｏ
ｃ以上、融点７０θＣ程度の溶射材料に対しては約ｕｏ
ｏｃ以上、また融点５ｏｏｃ程度の溶射材料に対しては
約３θＯｃ以上に強熱することによって、通常満足な結
果を得ることができる。
差が出来るだけ小さくなるように行なわれる。該温度差
を支配する因子としては母型材質及び溶射材料の物性、
溶射火炎の温度及び熱供給速度等があり、また該温度差
が溶射皮膜の剥離・変形に与える影響の程度も溶射皮膜
の物性及び溶射皮膜と母型表面との親和性等の因子に依
存する。従って必要な加熱の程度を一律に特定すること
はできないが、一般的には溶射材料の融点（ないし流動
点）を目安にするのがよい。即ち溶射皮膜を溶融流動さ
せない範囲でできるだけ溶射材料の融点に近い温度まで
加熱するのが好ましい。必要な加熱温度の下限も上記の
通りの事情で一律には言えないが、概略の目安を述べれ
ば、融点ｌθ００℃程度の溶射材料に対しては約ｔｏｏ
ｃ以上、融点７０θＣ程度の溶射材料に対しては約ｕｏ
ｏｃ以上、また融点５ｏｏｃ程度の溶射材料に対しては
約３θＯｃ以上に強熱することによって、通常満足な結
果を得ることができる。
なお本発明方法においては上記溶射皮膜の全体の加熱に
加えて母型の被溶射面の加熱を行なうと一般に忠実性の
よシ良好な転写層を得ることができる。そのためには溶
射に際して母型の被溶射面の全体を加熱し続けてもよい
が、被溶射面の各部分について溶射材料が溶射される時
点で加熱がなされていれば十分である。従って。
加えて母型の被溶射面の加熱を行なうと一般に忠実性の
よシ良好な転写層を得ることができる。そのためには溶
射に際して母型の被溶射面の全体を加熱し続けてもよい
が、被溶射面の各部分について溶射材料が溶射される時
点で加熱がなされていれば十分である。従って。
母型の被溶射面のうち少なくとも溶射直前の部分を加熱
することによって十分良好な効果を得ることができる。
することによって十分良好な効果を得ることができる。
この被溶射面の加熱に使用する加熱源及び適当な加熱の
程度は前記溶射皮膜−ツー の全体の加熱の場合と同様であるが、加熱の程度は後者
の場合より多少弱くても通常、十分な効果が得られる。
程度は前記溶射皮膜−ツー の全体の加熱の場合と同様であるが、加熱の程度は後者
の場合より多少弱くても通常、十分な効果が得られる。
かかる被溶射面の加熱によってより良好な転写層が得ら
れる理由は、恐らく上記加熱によって被溶射面と溶射材
料との温度差が減少し、その結果、高温溶射材料の被溶
射面上での急激な冷却及び急激な収縮に基づく被溶射面
と溶射皮膜との間の親和性の低下が多少とも緩和される
ためであろうと推定される。かかる被溶射面の加熱によ
る転写層の忠実性の改善効果は一般に溶射温度がより高
い場合程、顕著であるので、高融点又は高硬度の溶射材
料を使用して溶射を行なう場合には上記被溶射面の加熱
を併せ行なうのが特に好ましい。
れる理由は、恐らく上記加熱によって被溶射面と溶射材
料との温度差が減少し、その結果、高温溶射材料の被溶
射面上での急激な冷却及び急激な収縮に基づく被溶射面
と溶射皮膜との間の親和性の低下が多少とも緩和される
ためであろうと推定される。かかる被溶射面の加熱によ
る転写層の忠実性の改善効果は一般に溶射温度がより高
い場合程、顕著であるので、高融点又は高硬度の溶射材
料を使用して溶射を行なう場合には上記被溶射面の加熱
を併せ行なうのが特に好ましい。
上記のようにして溶射を終了した後も、溶射皮膜が急速
に冷却すると皮膜に亀裂が入ることがあるので、適度な
加熱を続行するなどして皮膜がゆるやかに冷却するよう
にするのが好ましい。
に冷却すると皮膜に亀裂が入ることがあるので、適度な
加熱を続行するなどして皮膜がゆるやかに冷却するよう
にするのが好ましい。
−日 −
〔実施例〕
次に本発明の具体的態様を実施例によって更に詳細に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例によって限定されるものではない。
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例によって限定されるものではない。
実施例１
石膏で作成した母型の表面に融点約１０００℃、硬度ｕ
Ｂ 約コＳＯの特性を有するＮ １−Ｃｒ合金を溶射
して転写層を作成した。その際、溶射前にガスバーナー
で母型を約７０θ℃に加熱しておき、溶射中も引続いて
母型表面と溶射皮膜とを加熱した。溶射完了後、バーナ
ー加熱を順次減少させて徐冷を行なった。石膏を除去し
た結果、溶射中の剥離もなく、冷却後の歪も少ない転写
層が得られた。
Ｂ 約コＳＯの特性を有するＮ １−Ｃｒ合金を溶射
して転写層を作成した。その際、溶射前にガスバーナー
で母型を約７０θ℃に加熱しておき、溶射中も引続いて
母型表面と溶射皮膜とを加熱した。溶射完了後、バーナ
ー加熱を順次減少させて徐冷を行なった。石膏を除去し
た結果、溶射中の剥離もなく、冷却後の歪も少ない転写
層が得られた。
本発明方法により溶射によって転写層を形成する際の溶
射皮膜の剥離・変形が有効に防止されるので、忠実性の
高い転写層を得ることができる。特に本発明方法により
、高硬度、高融点材料を用いた機械的特性の優れた転写
層の作成が可能と成ね、例えば従来の転写層作成技術で
作成された転写層を使った金型の問題であった耐久性を
大幅に改善することができる。
射皮膜の剥離・変形が有効に防止されるので、忠実性の
高い転写層を得ることができる。特に本発明方法により
、高硬度、高融点材料を用いた機械的特性の優れた転写
層の作成が可能と成ね、例えば従来の転写層作成技術で
作成された転写層を使った金型の問題であった耐久性を
大幅に改善することができる。
特許出願人 菱化軽金属工業株式会社代 理 人
弁理士 長谷用 −ほか７名
弁理士 長谷用 −ほか７名
Claims (2)
- （１）母型上に溶射材料を溶射することによって転写層
を形成するに当り、溶射によって形成された溶射皮膜の
全体を上記溶射に使用している溶射火炎とは別の加熱源
によって加熱しながら上記溶射材料の溶射を行なうこと
を特徴とする転写層の形成方法。 - （２）特許請求の範囲第１項に記載の転写層の形成方法
において、さらに母型の被溶射面のうち少なくとも溶射
直前の部分を上記溶射火炎とは別の加熱源によって加熱
しながら上記溶射を行なうことを特徴とするもの。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61060411A JPS62218547A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 転写層の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61060411A JPS62218547A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 転写層の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62218547A true JPS62218547A (ja) | 1987-09-25 |
Family
ID=13141407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61060411A Pending JPS62218547A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 転写層の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62218547A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10039488A1 (de) * | 2000-08-08 | 2002-02-28 | Bubel Axel | Verfahren - Metallische, thermisch gespritzte Schichten auf Naturstein, Tonwaren, Sanitär- und Tischkeramik und Gipsformen zum Verschleißschutz und Oberflächenveredelung |
-
1986
- 1986-03-18 JP JP61060411A patent/JPS62218547A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10039488A1 (de) * | 2000-08-08 | 2002-02-28 | Bubel Axel | Verfahren - Metallische, thermisch gespritzte Schichten auf Naturstein, Tonwaren, Sanitär- und Tischkeramik und Gipsformen zum Verschleißschutz und Oberflächenveredelung |
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