JPS6221152A - Processing method for photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Processing method for photosensitive lithographic printing plate

Info

Publication number
JPS6221152A
JPS6221152A JP16083885A JP16083885A JPS6221152A JP S6221152 A JPS6221152 A JP S6221152A JP 16083885 A JP16083885 A JP 16083885A JP 16083885 A JP16083885 A JP 16083885A JP S6221152 A JPS6221152 A JP S6221152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
lithographic printing
plates
desensitizing
printing plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16083885A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Nakai
英之 中井
Masabumi Uehara
正文 上原
Minoru Kiyono
清野 実
Atsuo Komeno
米野 淳夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP16083885A priority Critical patent/JPS6221152A/en
Publication of JPS6221152A publication Critical patent/JPS6221152A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3078Processing different kinds of plates, e.g. negative and positive plates, in the same machine

Abstract

PURPOSE:To process negative and positive type photosensitive lithographic printing plates (PS plate) by using the same automatic developing machine by supplying a developing soln. to be exclusively used for the PS plates of both types and to be cyclically used to the surfaces of the photosensitive lithographic printing plates to develop the plates then supplying an unused desensitizing liquid to the plate surfaces to desensitize the plates surfaces. CONSTITUTION:A common development process zone of the automatic developing machine for both the negative type PS plate and positive type PS plate is used for a developing process tank for the PS plates in the stage of cyclically using the developing soln. for negative and developing soln. for positive. A selector valve is provided to a recovering route for the used developing soln. so that the developing solns. for negative and positive are returned to the respective original storage tanks. The resulted lithographic printing plate in then subjected to the desensitization process. The desensitization process is intended to desensitize the non-image part and to protect the image part and non-image part. The desensitization processing soln. to be used for the desensitization process essentially consists of a hydrophilic high polymer and the unused desensitization processing soln. is required to be supplied onto the developed lithographic printing plate at every process. The used desensitization processing soln. is recovered and is subjected to a waste liquid treatment.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は感光性平版印刷版の処理方法に関し、より詳し
くは現像工程と不感脂化工程の間に水洗工程を含まない
ネガ型感光性平版印刷版及び/又はポジ型感光性平版印
刷版の処理方法に関する。
Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application 1] The present invention relates to a method for processing a photosensitive lithographic printing plate, and more specifically to a method for processing a photosensitive lithographic printing plate that does not include a water washing step between the development step and the desensitization step. The present invention relates to a method for processing a printing plate and/or a positive photosensitive lithographic printing plate.

[従来の技術1 一台の自動現像機を用いてネガ型感光性平版印刷版(以
下単にネガ型28版という)及びポジ型感光性平版印刷
版(以下単にボン型PS版という)を処理しようとする
と28版の型に応じてその都度現像液の交換を行うこと
が必要となり、作業の能率が昔しく低下するという問題
が生ずる。この対策として実開昭54−151401号
公報にはネガ型23版用現像液及びポジ型PS版用現像
液をそれぞれ専用の貯蔵槽に貯蔵し、28版の現像処理
の際その28版に対応する現像液を供給して現像し、現
像後水洗して印刷版を得る方法が開示されている。
[Conventional technology 1 Let's process a negative photosensitive lithographic printing plate (hereinafter simply referred to as negative 28 plate) and a positive photosensitive lithographic printing plate (hereinafter simply referred to as Bonn type PS plate) using one automatic processor. In this case, it becomes necessary to replace the developing solution each time depending on the type of 28 plates, which causes the problem that the efficiency of the work decreases as before. As a countermeasure to this, Japanese Utility Model Application No. 54-151401 discloses that a developing solution for the negative 23rd plate and a developing solution for the positive PS plate are each stored in dedicated storage tanks, and when the 28th plate is developed, the developer is used for the 28th plate. A method is disclosed in which a printing plate is obtained by supplying a developer solution, performing development, and washing with water after development.

しかしながら、現像後水洗を行うことは水の浪費につな
がり、また排水による環境汚染の問題等もあって好まし
いものではない。更に水洗後の28版は版面を保護する
ため不感脂化処理(〃ム引きともいう)を行う必要があ
って能率が悪く、得られる印刷版のインキ着肉性が良く
ないなどの問題があった。
However, washing with water after development leads to waste of water and also causes problems of environmental pollution due to wastewater, which is not preferable. Furthermore, the 28th plate after washing with water needs to be subjected to a desensitizing process (also called mulching) to protect the plate surface, which is inefficient and has problems such as poor ink receptivity of the resulting printing plate. Ta.

水洗工程を省いた現像処理としては特開昭54−800
2号公報に28版を現像処理した後直ちに不感脂化処理
する方法が開示されている。この方法では現像ゾーンを
通過してきた28版に不感脂化液をノズルから供給して
いるが、余分の液は回収して循環再使用するため28版
に付着した現像液等が不惑脂化液中に徐々に持ち込まれ
液を疲労させるため、不感脂化液をしばしば交換しなけ
ればならなかった。
JP-A-54-800 is a development process that eliminates the water washing process.
No. 2 discloses a method in which a 28th plate is desensitized immediately after development. In this method, a desensitizing solution is supplied from a nozzle to the 28th plate that has passed through the development zone, but since the excess liquid is collected and recycled for reuse, the developing solution attached to the 28th plate is removed from the desensitized solution. The desensitizing fluid had to be replaced frequently because it was gradually carried inside and fatigued the fluid.

ネ〃型PS版及び、ポジ型18版を並行的に処理するこ
とができ、かつ水洗処理を伴わない28版の処理方法は
今まで例がな(その開発は実用±極めで望ましいもので
あるが、本発明者等の検討によれば前記の二つの方法の
組み合わせ、即ちネ〃用、ポジ用の現像液をそれぞれ別
個の貯蔵槽に貯蔵し現像処理待処理する28版の型に応
じて供給して現像処理を行い、続いて水洗することなく
そのまま不感脂化処理を行った場合どちらか一方の型の
28版を単独に処理した場合に比べ不感脂化液の疲労が
着しく増大し液の交換を更に頻繁に行わなければならな
いことが明らかになった。またこうして得られた印刷版
は画像部の感脂性が低く、非画像部の不感脂化が不十分
となって地汚れが出やすくなって品質の良いものは得ら
れなかった。
The method of processing the 28th plate that can process the negative type PS plate and the positive type 18th plate in parallel and does not involve water washing has never been seen before (its development is extremely desirable for practical use). However, according to the studies of the present inventors, a combination of the above two methods, i.e., depending on the 28-plate mold, in which the negative and positive developers are stored in separate storage tanks and subjected to development processing. When supplied, developed, and then desensitized without washing with water, fatigue of the desensitizing solution increases significantly compared to when 28 plates of either type are processed alone. It became clear that the liquid had to be replaced more frequently.Also, the printing plate obtained in this way had low oil sensitivity in the image area, and the non-image area was insufficiently desensitized, resulting in scumming. It became easy to get it and I couldn't get anything of good quality.

本発明の目的は同一の自動現像機を用いてネガ、型18
版及びポジ両型の28版を並行的に処理することができ
、かつ廃水を生じる事のない28版の処理方法を提供す
ることにある。
The object of the present invention is to produce negatives, molds 18 and 18 using the same automatic processor.
To provide a method for processing 28 plates, which can process both plates and positive plates in parallel and does not generate waste water.

本発明の他の目的はネ〃型PS版及び、ポジ両型の28
版を良好な状態で不感脂化処理し、画像部の感脂性を低
下させることなく非画像部を十分に不感脂化することの
でさる28版の処理方法を提供することにある。また本
発明の他の目的は不感脂化液の交換にまつわる作業の煩
雑性を改善した28版の処理方法を提供することにある
Another object of the present invention is to produce a negative type PS plate and a positive type 28
To provide a method for processing a 28-plate by desensitizing the plate in good condition and sufficiently desensitizing the non-image area without reducing the oil sensitivity of the image area. Another object of the present invention is to provide a 28-plate processing method that improves the complexity of the work involved in replacing the desensitizing solution.

[問題点を解決するための手段1 本発明者等は前記の問題点を解決すべく鋭意研究の結果
、自動現像機を用いてネ〃型及び/*たはポジ型の感光
性平版印刷版を自動的に搬送し、該自動現像機の現像ゾ
ーンにおいて、処理される感光性平版印刷版の型に応じ
て、それぞれ別個の現像液貯蔵槽に貯えらえ循環使用さ
れるネガ型、又はポジ型感光性平版印刷版用専用現像液
を感光性平版印刷版面に供給して現像処理し、次いで該
版面に未使用の不感脂化液を供給して不感脂化処理を行
うことを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法によっ
て前記の目的を達成し得ることを見出だした。
[Means for Solving the Problems 1] As a result of intensive research to solve the above-mentioned problems, the present inventors have developed a negative type and/* or positive type photosensitive lithographic printing plate using an automatic developing machine. Depending on the type of photosensitive lithographic printing plate to be processed, negative type or positive type is stored and circulated in separate developer storage tanks in the development zone of the automatic processor. It is characterized by supplying a special developer for photosensitive lithographic printing plates to the surface of the photosensitive lithographic printing plate for development processing, and then supplying an unused desensitizing solution to the plate surface for desensitizing processing. It has been found that the above objects can be achieved by a method of processing photosensitive lithographic printing plates.

以下本発明を具体的に説明する。The present invention will be specifically explained below.

本発明において対象とされる28版は、光照射によって
溶解性の変化する感光層が支持体上に塗布されているも
の、または電子写真方式等によって画像機レノスト層を
設は得る溶解性層が支持体上に設けられているものであ
る。
The 28th plate targeted by the present invention is one in which a photosensitive layer whose solubility changes by light irradiation is coated on a support, or a soluble layer in which an imager renost layer can be set by an electrophotographic method or the like. It is provided on a support.

前記の28版に使用される支持体としては、紙、プラス
チックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンなど)ラミネート紙、アルミニウム(アルミニ
ウム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金属の板、二
酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンポ
リプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタ゛
−ルなどのようなプラスチックスのフィルム、上記のご
とき金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプ
ラスチックフィルム、アル・ミニラムもしくはクローム
メッキが施された銅版などがあげられ、こ・れらのうち
特に、アルミニウムおよびアルミニウム被覆された複合
支持体が好ましい。
Supports used for the above 28 editions include paper, plastics (e.g. polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), laminated paper, aluminum (including aluminum alloys), metal plates such as zinc, copper, etc., diacetic acid. Films of plastics such as cellulose, cellulose triacetate, cellulose propionate, polyethylene terephthalate, polyethylene polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc., paper or plastic films laminated or vapor-deposited with metals such as those mentioned above, aluminum minilam. Alternatively, a copper plate plated with chrome may be mentioned, and among these, aluminum and a composite support coated with aluminum are particularly preferable.

また、アルミニウム材の表面は、保水性を高め、感光層
との密着性を向上させる目的で粗面化処理されているこ
とが望ましい。
Further, the surface of the aluminum material is preferably roughened for the purpose of increasing water retention and improving adhesion with the photosensitive layer.

粗面化方法としては、一般に公知のブラシ研摩法、ボー
ル研摩法、電解エツチング、化学的エツチング、液体ホ
ーニング、サンドブラスト等の方法及びこれらの組合せ
があげられ、好ましくはブラシ研摩法、電解エツチング
、化学的エツチングおよび液体ホーニングがあげられ、
これらのうちで、特に電解エツチングの使用を含む粗面
化方法が好ましい。
Examples of surface roughening methods include generally known methods such as brush polishing, ball polishing, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, sandblasting, etc., and combinations thereof, preferably brush polishing, electrolytic etching, and chemical etching. These include target etching and liquid honing.
Among these, surface roughening methods involving the use of electrolytic etching are particularly preferred.

また、電解エツチングの際に用いられる電解浴としては
、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水溶液あるいは
有機溶剤を含む水性溶液が用いら。
The electrolytic bath used in electrolytic etching may be an aqueous solution containing an acid, an alkali, or a salt thereof, or an aqueous solution containing an organic solvent.

れ、これらのうちで特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を
含む電解液が好ましい。
Of these, particularly preferred are electrolytic solutions containing hydrochloric acid, nitric acid, or salts thereof.

さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム板は、必要
に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット処理
される。
Further, the roughened aluminum plate is desmutted with an acid or alkali aqueous solution, if necessary.

こうして得られたアルミニウム板は、陽極酸化処理され
ることが望ましく、特に好ましくは、硫酸またはリン酸
を含む溶で処理する方法があげられる。
It is desirable that the aluminum plate thus obtained be anodized, particularly preferably treated with a solution containing sulfuric acid or phosphoric acid.

またさらに必要に応じて、封孔処理、その他弗化ジルコ
ニウム酸カリウム水溶液への浸漬などによる表面処理を
行うことができる。
Furthermore, if necessary, a sealing treatment and other surface treatments such as immersion in a potassium fluorozirconate aqueous solution can be performed.

本発明に使用される28版の感光性組成物は必須成分と
して感光性物質を含んでおり、感光性物質として、露光
またはその後の現像処理により、その物理的、化学的性
質が変化するもので、例えば露光により現像液に対する
溶解性に差が生じるもの、露光の前後で分子間の接着力
に差が生じるもの、露光またはその後の現像処理により
水および油に対する親和性に差が生じるもの、更に電子
写真方式により画像部を形成できるもの等が使用できる
The 28th edition photosensitive composition used in the present invention contains a photosensitive substance as an essential component, and the physical and chemical properties of the photosensitive substance do not change upon exposure or subsequent development treatment. For example, there are differences in solubility in developing solutions due to exposure, differences in intermolecular adhesive strength before and after exposure, differences in affinity for water and oil due to exposure or subsequent development, and A material that can form an image area by electrophotography can be used.

感光性物質の代表的なものとしては、例えば感光性ジア
ゾ化合物、感光性アジド化合物、エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物、酸触媒で重合を起こすエポキシ化
合物、酸で分解するC−〇−C−基を有する化合物等が
あげられる。
Typical photosensitive substances include, for example, photosensitive diazo compounds, photosensitive azide compounds, compounds with ethylenically unsaturated double bonds, epoxy compounds that polymerize with acid catalysts, and C-〇- that decomposes with acids. Examples include compounds having a C-group.

感光性ジアゾ化合物としては、露光によりアルカリ可溶
性に変化するポジ型のものとして0−キノンノアノド化
合物、露光により溶解性が減少するネガ型のものとして
芳香族ジアゾニウム塩等があげられる。
Examples of photosensitive diazo compounds include 0-quinonenoanodo compounds, which are positive types that change to be alkali-soluble when exposed to light, and aromatic diazonium salts, which are negative types, whose solubility decreases when exposed to light.

0−キノンジアジド化合物の具体例としては、例えば特
開昭47−5303号、同48−63802号、同48
−63803号、同49−38701号、同56−IQ
44号、同56−1045号。
Specific examples of 0-quinonediazide compounds include, for example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, and JP-A-48.
-63803, 49-38701, 56-IQ
No. 44, No. 56-1045.

特公昭41−11222号、同43−28403号、同
45−9610号。
Special Publication No. 41-11222, No. 43-28403, No. 45-9610.

同49−17481号の各公報、米国特許第2,797
,213号同第3,046.120号、同3,188,
210号、同3,454.400号。
Publications No. 49-17481, U.S. Patent No. 2,797
, 213, No. 3,046.120, No. 3,188,
No. 210, No. 3,454.400.

同3,544,323号、同3,573,917号、同
第3,674.495号。
No. 3,544,323, No. 3,573,917, No. 3,674.495.

同第3,785,825号、英国特許第1,277.6
02号、同第1.251,345号、同第1,267.
005号、同第1 、329 、888号、同第1 、
330 、932号、ドイツ特許第854,890号な
どの各明細書中に記載されているものをあげることがで
き、これらの化合物を単独あるいは組合せて感光成分と
して用いた28版に対して本発明を好ましく適用するこ
とができる。
No. 3,785,825, British Patent No. 1,277.6
No. 02, No. 1.251,345, No. 1,267.
No. 005, No. 1, No. 329, No. 888, No. 1,
330, 932, German Patent No. 854,890, etc., and the present invention applies to the 28th edition in which these compounds were used alone or in combination as photosensitive components. can be preferably applied.

これらの感光成分には芳香族ヒドロキン化合物のO−キ
ノンジ7ジドスルホン酸エステルまたは〇−キノンジ7
ノドカルボン酸エステル、および芳香族アミノ化合物の
0−キノンジアジドスルホン酸または0−キノンジアジ
ドカルボン酸アミドが包含され、また、これら0−キノ
ンジアット化合物を単独で使用したもの、およびアルカ
リ可溶性樹脂と混合し、この混合物を感光層として設け
たものが包含される。
These photosensitive components include O-quinone di7didosulfonic acid ester of aromatic hydroquine compound or 0-quinone di7
Nodocarboxylic acid esters, and 0-quinonediazide sulfonic acid or 0-quinonediazidecarboxylic acid amide of aromatic amino compounds are included, and these 0-quinonediat compounds are used alone, and mixed with an alkali-soluble resin, and this mixture is used. It includes those provided with as a photosensitive layer.

アルカリ可溶性樹脂には、ノボラック型7エ/−ル樹脂
が含まれ、具体的には、フェノールホルムアルデヒド樹
脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂フェノールクレゾ
ール混合ホルムアルデヒド樹脂、クレゾールキシレノー
ル混合ホルムアルデヒド樹脂などが含まれる。
Alkali-soluble resins include novolac type 7-el resins, and specifically include phenol formaldehyde resins, cresol formaldehyde resins, phenol-cresol mixed formaldehyde resins, cresol xylenol mixed formaldehyde resins, and the like.

更に特開昭50−125806号公報に記載されている
様に、上記のようなフェノール樹脂と共に、tert−
ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数
3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはクレ
ゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用したもの
も適用できる。
Furthermore, as described in JP-A-50-125806, tert-
A combination of a phenol substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, such as butylphenol formaldehyde resin, or a condensate of cresol and formaldehyde can also be used.

0−キノンジ7ジド化合物を感光成分とする感光層には
、必要に応じて更に染料、可塑剤、プリントアウト性能
を与える成分などの添加剤を加えることができる。
If necessary, additives such as dyes, plasticizers, and components imparting printout performance can be added to the photosensitive layer containing the 0-quinone di7dide compound as a photosensitive component.

0−キノンジアジド化合物を感光成分とする感光層の単
位面積当たりの量は少なくとも約0.5〜7g/ m 
2の範囲について本発明を適用でさる。
The amount per unit area of the photosensitive layer containing the 0-quinonediazide compound as a photosensitive component is at least about 0.5 to 7 g/m
The present invention can be applied to the following ranges.

本発明の方法を適用するポジ型25版の画像露光は特に
変える必要はなく常法に従えばよい。
There is no particular need to change the image exposure of the positive type 25 plate to which the method of the present invention is applied, and a conventional method may be used.

ネガ型感光屑の感光成分の代表的なものはジアゾ化合物
であり、例えば、ジアゾニウム塩及び/又はp−ジアゾ
フェニル7ミンとホルムフルデヒドとの縮合物であるジ
アゾ樹脂、特公昭52−7364゜号公報に記載されて
いる p−ノ7ゾノフェニルナミンの7二/−ル塩また
はフルオロカプリン酸塩等、特公昭49−48001号
公報に記載されでいる3−メトキシジ7二二ルアミンー
4−ジアゾニウムクロライ1/、!:4−ニトロノフェ
ニルアミンとホルムアルデヒドとの共重縮合物の有機溶
媒可溶性塩からなるジアゾ樹脂、p−ジアゾジフェニル
アミンとホルムアルデルヒトとの縮合物の2−メトキシ
−4−ヒドロキシ−5ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩
、p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの
縮合物のテトラフルオロホウ酸塩、ヘキサフルオロリン
酸塩等が挙げられる。
Typical photosensitive components of negative photosensitive scraps are diazo compounds, such as diazo resins, which are condensates of diazonium salts and/or p-diazophenyl 7mine, and formfuldehyde; 72/-l salt or fluorocaprate of p-no7zonophenylnamine described in Japanese Patent Publication No. 49-48001, 3-methoxydi72nylamine-4-diazonium described in Japanese Patent Publication No. 49-48001 Kurorai 1/,! : Diazo resin consisting of an organic solvent soluble salt of a copolycondensate of 4-nitronophenylamine and formaldehyde, 2-methoxy-4-hydroxy-5benzoylbenzenesulfone of a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde Examples include acid salts, tetrafluoroborates of condensates of p-diazodiphenylamine and formaldehyde, hexafluorophosphates, and the like.

これらを感光成分とするネγ型PS版に対しても本発明
を好ましく適用できる。
The present invention can also be preferably applied to a negative type PS plate containing these as photosensitive components.

これらのジアゾ化合物を単独で使用したもののほかに感
光層の物性を向上させるため、種々の樹脂と混合しても
ちいたものに対しても本発明を適用できる。
In addition to those using these diazo compounds alone, the present invention can also be applied to those used in combination with various resins in order to improve the physical properties of the photosensitive layer.

かかる樹脂としては、シェラツク、ポリビニルアルコー
ルの誘導体等のほか特開昭50−118802号公報中
に記載されている側鎖にアルコール性水酸基を有する共
重合体、特開昭55−155355号公報中に記載され
ているフェノール性水酸基を側鎖に持、つ共重合体が挙
げられる。
Examples of such resins include shellac, derivatives of polyvinyl alcohol, copolymers having an alcoholic hydroxyl group in the side chain described in JP-A-50-118802, and copolymers having an alcoholic hydroxyl group in the side chain described in JP-A-55-155355. Examples include copolymers having the described phenolic hydroxyl groups in their side chains.

これらの樹脂には下記一般式で示される構遺単゛位を少
なくとも50重量%を含む共重合体、一般式     
 R1 署 −(CH2−C)− COO(CH2CHO)n  H (式中、R,は水素原子またはメチル基を示し、R2は
水素原子、メチル基、エチル基本たはクロルメチル基を
示し、nは1〜10の整数である。)及び、芳香族水酸
基を有する単量体単位を1〜80モル%、ならびにアク
リル酸エステル及び/又はメタクリル酸エステル単量単
位を5〜90モル%有し、10〜200の酸価を持つ高
分子化合物が包含される。
These resins include copolymers containing at least 50% by weight of structural units represented by the following general formula;
R1 sign-(CH2-C)-COO(CH2CHO)n H (wherein, R represents a hydrogen atom or a methyl group, R2 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a chloromethyl group, and n is 1 ) and 1 to 80 mol% of monomer units having an aromatic hydroxyl group, and 5 to 90 mol% of acrylic ester and/or methacrylic ester monomer units, and 10 to 10 mol%. Includes polymer compounds with an acid value of 200.

本発明の処理方法が適用されるネ〃型PS版の感光層に
は更に、染料、可塑剤、プリントアウト性能を与える成
分等の添加量を加えることができる。
The photosensitive layer of the black-type PS plate to which the processing method of the present invention is applied may further contain additives such as dyes, plasticizers, and components imparting printout performance.

上記感光層の単位面積当たりの量は少なくとも0.1〜
7g/m2の範囲について本発明を適用できる。
The amount per unit area of the photosensitive layer is at least 0.1 to
The present invention can be applied to a range of 7 g/m2.

本発明の処理方法で処理するネ〃型PS版の画像露光は
特に変える必要はなく常法に従えばよい。
There is no particular need to change the image exposure of the square type PS plate processed by the processing method of the present invention, and a conventional method may be used.

本発明に用いられる現像液としては水系アルカリ現像液
が好ましく、水系アルカリ現像液のうちジアゾ化合物等
を感光性物質としたネ〃型PS版に対しては、アルカリ
剤、有機溶剤、7ニオン型界面活性剤、亜硫酸塩等で水
を溶媒として含ませたものが用いられる。
As the developer used in the present invention, an aqueous alkaline developer is preferable. Among the aqueous alkaline developers, for a Ne-type PS plate using a diazo compound or the like as a photosensitive substance, an alkaline agent, an organic solvent, a 7-ion type A surfactant, sulfite, etc. containing water as a solvent is used.

アルカリ剤としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナ
トリウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム
、第ニリン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニ
リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモ
ニウムなどのような無機アルカリ剤、モノ、ジ、又はト
リエタノールアミン及び水酸化テトラアルキルアンモニ
ウムのような有機アルカリ剤及び有機珪酸アンモニウム
等が有用である。
Examples of alkaline agents include sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic potassium phosphate, dibasic potassium phosphate, tribasic ammonium phosphate, and dibasic sodium phosphate. Inorganic alkaline agents such as ammonium diphosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, etc., organic alkaline agents such as mono-, di-, or triethanolamine and tetraalkylammonium hydroxide; Ammonium silicate and the like are useful.

アルカリ剤の現像液組成物中における含有量は00OS
〜20重量パーセントの範囲で用いるのが好適であり、
より好ましくは0.1〜10重量パーセントである。
The content of alkaline agent in the developer composition is 00OS
It is suitable to use in the range of ~20% by weight,
More preferably, it is 0.1 to 10 weight percent.

有機溶剤としてはエチレングリフールモノフェニルエー
テル、ベンジルアルコール、n−プロピルアルコール等
が有用である。
Useful organic solvents include ethylene glyfur monophenyl ether, benzyl alcohol, and n-propyl alcohol.

有機溶剤の現像液組成物中における含有量としては0.
5〜15重量パーセントが好適であり、より好ましい範
囲としては1〜5重量パーセントである。
The content of the organic solvent in the developer composition is 0.
A range of 5 to 15 weight percent is preferred, with a more preferred range of 1 to 5 weight percent.

アニオン型界面活性剤としては、高級アルコール(Cs
 −C22)硫酸エステル塩類[例えば、ラウリルアル
コールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコー
ルサルフェートのナトリウム塩、うウリルアルコールサ
ルフェートのアンモニウム塩、rTeepol B−8
1J(商品名・シェル化学製)、第二ナトリウムアルキ
ルサルフェートなど]、脂肪族アルコールリン酸エステ
ル塩類(例えば、七チルアルコールリン酸エステルのナ
トリウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸塩類(
例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、シナ
フタリンジスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベン
ゼンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキルアミド
のスルホ酸塩類 (例えば、C+ 7)1aiCONCH2CH2SOJ
aなど)、二塩基CH。
As anionic surfactants, higher alcohols (Cs
-C22) Sulfuric ester salts [e.g., sodium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of uryl alcohol sulfate, rTeepol B-8
1J (trade name, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.), disodium alkyl sulfate, etc.], aliphatic alcohol phosphate ester salts (e.g., sodium salt of heptyl alcohol phosphate ester, etc.), alkylaryl sulfonates (
(e.g., sodium salt of dodecylbenzenesulfonic acid, sodium salt of isopropylnaphthalenesulfonic acid, sodium salt of sinapthaline disulfonic acid, sodium salt of metanitrobenzenesulfonic acid, etc.), sulfonic acid salts of alkylamides (e.g., C+ 7) 1aiCONCH2CH2SOJ
a), dibasic CH.

性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウ
ムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスル
ホコハク酸シヘキシルエステルなど)がある。これらの
中で特にスルホン酸塩類が好適に用いられる。
There are sulfonic acid salts of fatty acid esters (for example, sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sodium sulfosuccinate cyhexyl ester, etc.). Among these, sulfonate salts are particularly preferably used.

亜硫酸塩としては、水溶液で水不溶性ノアゾ樹脂を溶解
する働きを有し、特に疎水性樹脂と組合せた感光層から
成る88版の現像において、製造後長期間経過した版材
でも汚れのない印刷版を作ることが出来る。
Sulfite has the function of dissolving water-insoluble noazo resin in an aqueous solution, and in particular, in the development of 88 plates consisting of a photosensitive layer combined with a hydrophobic resin, printing plates that do not stain even after a long period of time have passed since manufacture. can be made.

亜硫酸塩としてはナトリウム、カリウム、リチウムのご
ときアルカリ金属および、マグネシウムのごときアルカ
リ土類金属塩等が有用である。
Useful sulfites include alkali metal salts such as sodium, potassium, and lithium, and alkaline earth metal salts such as magnesium.

他方、0−キノンジアジド化合物を含む感光層を有する
ポジ型18版に対しては上記アルカリ剤を0゜1〜30
重量パーセント、好ましくは0.5〜20重量パーセン
ト含有した水溶液が用いられ通常PI(9〜13の範囲
で用いられる。
On the other hand, for a positive type 18 plate having a photosensitive layer containing an 0-quinonediazide compound, the above alkaline agent was added at 0°1 to 30°C.
An aqueous solution containing PI (in the range of 9 to 13) is used, preferably 0.5 to 20 weight percent.

このような現像液には更に現像性能を高めるために以下
の様な添加剤を加えることができる。例えば、特開昭5
8−75152号公報記載のN acl、KCIKBr
等の中性塩、特開昭58−190952号公報記載のE
DTA、NTA等のキレート剤、特開昭59−1213
36号公報記載の[C0(NI+3 )@ ]CL’3
、CoCl2・61120等の錯体、特開昭50−51
324号公報記載のフルキルナフタレンスルホン酸ソー
ダ、N−テトラデシル−N1N−ジヒドaキシエチルベ
タイン等の7ニオン又は両性界面活性剤、米国特許第4
374920号明細書記載のテトラメチルデシンジオー
ル等の非イオン性界面活性剤、特開昭55−95946
号公報記載のp−ジメチルアミノメチルポリスチレンの
メチルクロライド4級化物等のカテオニックボリマー、
特開昭56−142528号公報記載のビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロライドとアクリル酸ソーグ
の共重合体等の両性高分子電解質、特開昭57−192
952号公報記載の亜硫酸ソーダ等の還元性無機塩、特
開昭58−59444号公報記載の塩化リチウム等の無
fi +7チウム化合物、特公昭50−34442号公
報記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特
開昭59−75255号公報記載のSi、 Ti等を含
む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241号公報
記載の有機はう素化合物、ヨーロッパ特許第10101
0号明細書記載カテトラアルキルアンモニウムオキサイ
ド等の4級アンモニウム塩、ベンノルアルコールエチレ
ングリコールモノフェニルエーテル等の有機溶剤等があ
げられる。
The following additives can be added to such a developer in order to further improve the developing performance. For example, JP-A-5
Nacl, KCIKBr described in Publication No. 8-75152
Neutral salts such as E described in JP-A-58-190952
Chelating agents such as DTA and NTA, JP-A-59-1213
[C0(NI+3)@]CL'3 described in Publication No. 36
, complexes such as CoCl2.61120, JP-A-50-51
7-ionic or amphoteric surfactants such as sodium flukylnaphthalene sulfonate and N-tetradecyl-N1N-dihydra-xyethylbetaine described in US Pat. No. 324, US Pat.
Nonionic surfactants such as tetramethyldecynediol described in No. 374920, JP-A-55-95946
Cathonic polymers such as methyl chloride quaternized product of p-dimethylaminomethyl polystyrene described in the publication,
Ampholytic polymer electrolyte such as copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and acrylic acid Sorg described in JP-A-56-142528, JP-A-57-192
Reducing inorganic salts such as sodium sulfite described in Japanese Patent Publication No. 952, non-fi +7 tium compounds such as lithium chloride described in Japanese Patent Publication No. 58-59444, organic lithium such as lithium benzoate described in Japanese Patent Publication No. 50-34442. Compounds, organometallic surfactants containing Si, Ti, etc. described in JP-A No. 59-75255, organic boron compounds described in JP-A-59-84241, European Patent No. 10101
Examples include quaternary ammonium salts such as catetraalkylammonium oxide described in the specification of No. 0, and organic solvents such as benol alcohol ethylene glycol monophenyl ether.

上記のような現像液で、画像露光された88版を現像す
る方法としては従来公知の種々の方法が可能である。具
体的には画像露光された88版の感光層に対して多数の
ノズルから現像液を噴射する方法、現像液が湿潤された
スポンジで当該28版の感光層を拭う方法、当該28版
の感光層の表面に現像液をローラーで塗布する方法など
が挙げられる。
Various conventionally known methods can be used to develop the image-exposed 88 plate using the developer described above. Specifically, a method of spraying a developer from a number of nozzles onto the image-exposed photosensitive layer of the 88th plate, a method of wiping the photosensitive layer of the 28th plate with a sponge moistened with a developer, and a method of exposing the 28th plate to light. Examples include a method of applying a developer to the surface of the layer using a roller.

またこのようにして88版の感光層に現像液が施された
後、感光層の表面をブラシなどで軽く擦ることもできる
。現像条件は、上記の現像方法に応じて適宜決定すれば
よい。
Further, after the developer is applied to the photosensitive layer of the 88 plate in this manner, the surface of the photosensitive layer can be lightly rubbed with a brush or the like. The developing conditions may be appropriately determined depending on the above-mentioned developing method.

現像液は、前述したネガ用現像液およびポジ用現像液を
自動現像機内の各々の経路を循環させて循環再使用する
。この時、88版の現像処理槽はネガ型PS版およびポ
ジ型18版共に自動現像機の共通の現像処理ゾーンを使
用する。具体的にはネガ用現像液およびポジ用現像液を
各々専用の現像液貯′iIL槽に貯蔵し、現像処理する
88版がネガ型PS版の場合には、共通の現像処理ゾー
ンへネガ用現像液を供給し、ポジ型18版の場合には共
通の現像処理ゾーンヘボジ用現像液を供給する。使用さ
れた現像液の回収経路には切換弁と設はネガ用、ポジ用
の現像液はそれぞれ元の貯蔵槽に還流するようにすれば
よい。
The developing solution is reused by circulating the aforementioned negative developing solution and positive developing solution through respective paths within the automatic developing machine. At this time, the developing processing tank for the 88th plate uses a common developing processing zone of the automatic processor for both the negative PS plate and the positive 18th plate. Specifically, the developer for negatives and the developer for positives are stored in dedicated developer storage 'iIL tanks, and if the 88 plate to be developed is a negative PS plate, the developer for negatives is stored in a common development processing zone. A developing solution is supplied, and in the case of a positive type 18 plate, a developing solution for a common development processing zone is supplied. A switching valve may be installed in the recovery path of the used developer so that the negative and positive developer can be returned to their original storage tanks.

前記のような処理工程の例としては、例えば実開昭54
−151401号公報に記載の方法が挙げられる。
As an example of the above-mentioned treatment process, for example,
The method described in JP-A-151401 can be mentioned.

本発明においては処理する13版の型に応じて現像液を
切換えるため13版の品種を識別する必要がある。
In the present invention, it is necessary to identify the type of the 13th plate in order to switch the developer depending on the type of the 13th plate to be processed.

現像処理する13版の品種の識別法には人為的に行う方
法あるいは自動的に行う方法がある。人為的に行う方法
には例えばボタン操作により識別する方法が挙げられる
。自動的に行う方法には、例えば光学的に感光層の光学
的濃度を測定し識別する方法あるいは感光層の分光吸収
を測定する方法、あるいは電気的に感光層のインピーダ
ンスを測定する方法、あるいは磁気カードなどのメモリ
素子に記憶させた信号を読み取らせる方法、あるいはバ
ーコードに記憶させた信号を読み取らせる方法などが挙
げられる。
There are two methods for identifying the type of 13th plate to be developed: an artificial method or an automatic method. Examples of the artificial method include a method of identifying by button operation. Automatic methods include, for example, optically measuring and identifying the optical density of the photosensitive layer or measuring the spectral absorption of the photosensitive layer, or electrically measuring the impedance of the photosensitive layer, or magnetically determining the optical density of the photosensitive layer. Examples include a method of reading a signal stored in a memory element such as a card, or a method of reading a signal stored in a bar code.

またさらにこれらの13版の現像処理あるいは空気中の
炭酸ガスの吸収などによる現像液の疲労に応じて現像補
充液を補充してもよい。現像補充液は従来公知の種々の
もの、現像補充液補充方法は従来公知の種々の方法が可
能である。
Further, the developer replenisher may be replenished in response to exhaustion of the developer due to development processing of these 13 plates or absorption of carbon dioxide gas in the air. Various conventionally known developer replenishers can be used, and various conventionally known methods can be used to replenish the developer replenisher.

このようにして現像されて得られた平版印刷版はスクィ
ーズして、版面上の現像液の量が少なくなる様にするこ
とが好ましく、スクイーズされた後に残在する平版印刷
版の版面上の現像液の量は1(h(17m2以下である
ことが好ましい。
It is preferable to squeeze the lithographic printing plate obtained by developing in this way so that the amount of developer on the plate surface is reduced, and the development on the surface of the lithographic printing plate that remains after being squeezed is preferable. The amount of liquid is preferably 1 h (17 m2 or less).

得られた平版印刷版は次に不感脂化処理される。The resulting lithographic printing plate is then desensitized.

不感脂化処理は非画像部の不感脂化や画像部および非画
像部の保護などの目的を有する。
The desensitizing treatment has the purpose of desensitizing the non-image area and protecting the image area and the non-image area.

不惑脂化処理に使用される不感脂化処理液は親水性高分
子を主成分として成り、親水性高分子としては皮膜形成
能のある水溶性樹脂が好ましく、例えばデキストリン、
アラビアガム、例えばアルギン酸ナトリウムのようなア
ルギン酸塩、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、メチルセルロースなどの水溶性セル
ロース類、ポリビニルアルコール、ポリビニルビクリト
ン、ポリアクリルアミド、アクリルアミド単位を含む水
溶性共重合体、ビニルメチルエーテルと無水マレイン酸
との共重合体、酢酸ビニルと無水マレイン酸との共重合
体などが挙げられる。これらの内、特に好ましいらのは
アラビアガム、デキストリン、ポリビニルピロリドン、
カルボキンメチルセルロース、ポリビニルアルコールで
ありテキストリンが最も好ましいゆこれらの水溶性高分
子化合物は単独または2種類以上組合わせて使用できる
。水溶性高分子化合物の濃度は広範囲のにわたって変化
し得るが、一般的には不感脂処理液の総重量に対して5
〜40重量%、好ましくは10〜30重量%の範囲で使
用される。
The desensitization treatment liquid used in the desensitization treatment is mainly composed of a hydrophilic polymer, and the hydrophilic polymer is preferably a water-soluble resin with film-forming ability, such as dextrin,
gum arabic, alginates such as sodium alginate, water-soluble celluloses such as carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl vicritone, polyacrylamide, water-soluble copolymers containing acrylamide units, vinyl methyl ether and Examples include a copolymer with maleic anhydride, a copolymer with vinyl acetate and maleic anhydride, and the like. Among these, particularly preferred are gum arabic, dextrin, polyvinylpyrrolidone,
Carboquine methyl cellulose, polyvinyl alcohol, and textrin are most preferred. These water-soluble polymer compounds can be used alone or in combination of two or more. The concentration of the water-soluble polymer compound can vary over a wide range, but is generally 5% by weight based on the total weight of the desensitizing solution.
-40% by weight, preferably 10-30% by weight.

また不感脂化処理には親油性物質を含有させることが好
ましい。親油性物質としては、画像部の感脂性の低下を
防止するものであればどの様なものでも構わないが、好
ましい親油性物質としては、平版印刷用インクのベヒク
ルとして使用される親油性樹脂がある。具体的にはフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂t−メチルフェノールホルムアルデヒド樹脂な
どの7ボラツク型フエノール樹脂、フェノールとキシレ
ンをホルムアルデヒドで縮合させたキシレン樹脂、フェ
ノールとメシチレンとホルムアルデヒドで縮合させた樹
脂、ポリヒドロキシスチレン、70ム化ポリヒドロキシ
スチレン、カシニー樹脂、スチレンと無水マレイン酸の
共重合体の部分エステル化物、メラミン樹脂、アルキド
樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ロジン、例え
ば水添加ロジン、ロジンエステルなどの変性ロジン、例
えばギルツナイトなどの石油樹脂などを挙げることがで
きる。これらの内、好ましいものはノボラック型フェノ
ール樹脂、キシレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ブ
ロム化ポリヒドロキシスチレン、カシュー樹脂であり、
特に分子量が約300〜約20000のものが好ましい
、他の好ましい親油性物質には、例えばオレイン酸、ラ
ウリン酸、吉草酸、/ニル酸、カプリン酸、ミスチリン
酸、パルミチン酸などのような炭素数5〜25の有機力
ルボン酸、ひまし油などが含まれる。これらの親油性物
質は単独または2以上組合わせて使用することができ、
その濃度には特に制限はないが、約0.1〜約10重量
%の範囲で使用することが一般的である。これらの親油
性物質は例えば不感脂化処理液中に、微細な固体粒子状
で分散含有させたり、適当な溶剤に溶解させた状態で乳
化分散させたりして用いることができる。
Further, it is preferable to include a lipophilic substance in the desensitization treatment. Any lipophilic substance may be used as long as it prevents a decrease in the oil sensitivity of the image area, but preferred lipophilic substances include lipophilic resins used as vehicles for lithographic printing inks. be. Specifically, phenol formaldehyde resins, cresol formaldehyde resins, 7-volume phenolic resins such as t-methylphenol formaldehyde resins, xylene resins made by condensing phenol and xylene with formaldehyde, resins made by condensing phenol, mesitylene, and formaldehyde, and polyhydroxy resins. Modifications of styrene, 70% polyhydroxystyrene, Cassiny resin, partially esterified copolymers of styrene and maleic anhydride, melamine resins, alkyd resins, polyester resins, epoxy resins, rosins, such as water-added rosins, rosin esters, etc. Examples include rosins, petroleum resins such as giltnite, and the like. Among these, preferred are novolac type phenolic resin, xylene resin, polyhydroxystyrene, brominated polyhydroxystyrene, and cashew resin,
Other preferred lipophilic substances, particularly those with a molecular weight of about 300 to about 20,000, include those having carbon numbers such as oleic acid, lauric acid, valeric acid, /nilic acid, capric acid, mystylic acid, palmitic acid, etc. 5 to 25 organic carboxylic acids, castor oil, etc. These lipophilic substances can be used alone or in combination of two or more,
There is no particular limit to its concentration, but it is generally used in a range of about 0.1 to about 10% by weight. These lipophilic substances can be used, for example, by being dispersed in the desensitizing treatment liquid in the form of fine solid particles, or by being dissolved in an appropriate solvent and emulsified and dispersed.

また不感脂化処理液中には酸を含有させることができる
。含有させる酸には、例えば燐酸、ピロ燐酸、ポリ燐酸
、第1燐酸す) 17ウム、硼酸、塩酸、硫酸、硝酸な
どの無機酸、例えばこはく酸、蓚酸、くえん酸、マレイ
ン酸、乳酸、9−)ルエンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸などの有機酸が使用でき、これらは単独または2以
上組合わせて使用される。これらの中でも特に燐酸およ
びこはく酸は平版印刷版の非画像部を不感脂化する作用
を有しているので好ましい。酸の使用量は、不感脂化処
理液のpHが酸性域となる様な量で使用することが好ま
しい。より好ましいのはpHが約1〜5の範囲になる様
な量で使用することである。
Further, an acid can be contained in the desensitizing treatment liquid. The acids to be contained include, for example, phosphoric acid, pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid, monophosphoric acid (17 um), inorganic acids such as boric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid, such as succinic acid, oxalic acid, citric acid, maleic acid, lactic acid, -) Organic acids such as luenesulfonic acid and benzenesulfonic acid can be used, and these can be used alone or in combination of two or more. Among these, phosphoric acid and succinic acid are particularly preferred since they have the effect of desensitizing the non-image areas of the lithographic printing plate. The amount of acid to be used is preferably such that the pH of the desensitizing treatment solution is in the acidic range. More preferably, it is used in an amount such that the pH is in the range of about 1-5.

また、上記の燐酸またはこはく酸の不惑脂化作用を活用
したい場合には、不感脂化処理液の総重量に対して約0
.1〜約10重量%の範囲で使用することが好ましい。
In addition, if you want to take advantage of the desensitizing effect of phosphoric acid or succinic acid, approximately 0%
.. Preferably, it is used in a range of 1 to about 10% by weight.

また、不感脂化処理液には、界面活性側を含有させるこ
とができる。界面活性剤には種々のものを使用すること
ができ、例えばポリオキシエチレン7ルキルエ−テル キルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ビリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸
エステル類などの非イオン界面活性剤、例えば脂肪酸塩
類、アルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ノフ
ルキルスルホこはく酸エステル塩類、フルキル燐酸エス
テル塩類、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポ
リオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩類などの7ニ
オン界面活性剤、例えばアルキル7ミン塩類、第4級ア
ンモニウム塩類、ポリオキシエチレンフルキルアミン塩
類などのカチオン界面活性剤、および例えばアルキルベ
タインなどのベタイン系界面活性剤に代表される両性界
面活性剤を例示することができる。界面活性剤は不感脂
化処理液の総重量に対して約0.01〜約5重量%の範
囲で使用することが好ましい。
Further, the desensitizing treatment liquid can contain a surfactant. Various surfactants can be used, such as polyoxyethylene 7-alkyl ether kyl phenyl ethers, polyoxyethylene fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, bilioxyethylene sorbitan fatty acid esters, and glycerin fatty acids. Nonionic surfactants such as esters, such as fatty acid salts, alkyl sulfate ester salts, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, nofurkyl sulfosuccinate ester salts, furkyl phosphate ester salts, naphthalene sulfonic acid formalin condensates, polyoxy 7-ionic surfactants such as ethylene alkyl sulfate salts, cationic surfactants such as alkyl 7-mine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene furkylamine salts, and betaine surfactants such as alkyl betaines. Representative amphoteric surfactants can be exemplified. The surfactant is preferably used in an amount of about 0.01 to about 5% by weight based on the total weight of the desensitizing solution.

また不感脂化処理液には湿潤剤を含有させることができ
る。これにより不感脂此処J!li液が平版印刷版の版
面へ適度に拡がる特性を付与できる。かかる湿潤剤の好
ましいものは多価アルコールであり、好ましい具体例と
しては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチ
レングリコール、ベンタンジオール、ヘキシレングリコ
ール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコ
ール、グリセリン、ソルビトール、ペンタエリスリトー
ルなどが挙げられる。湿潤剤は不感脂化処理液の総重量
に対して約0.1〜約5重量%の範囲で使用することが
好ましい。
Further, the desensitizing treatment liquid can contain a wetting agent. Due to this, insensible fat here J! It is possible to impart the characteristic that the Li liquid spreads appropriately over the plate surface of the lithographic printing plate. Preferred such wetting agents are polyhydric alcohols, and preferred specific examples include ethylene glycol, diethylene glycol,
Examples include triethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, bentanediol, hexylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, glycerin, sorbitol, and pentaerythritol. The wetting agent is preferably used in an amount of about 0.1 to about 5% by weight based on the total weight of the desensitizing solution.

また不感脂化処理液には、水溶性塩を含有させておくこ
とができる.好ましい水溶性塩にはアルカリ金属塩およ
びアンモニウム塩が含まれ、特に好ましいものには酢酸
、モリブデン酸、硼酸、硝酸、硫酸、燐酸、およびポリ
燐酸のような酸の水溶性アルカリ金属塩お上び7ンモニ
9ム塩が含まれる。具体的には酢酸アンモニウム、酢酸
ナトリウム、酢酸カリウム、モリブテン酸ナトリウム、
モリブデン酸カリウム、硼酸ナトリッム、硼酸アンモニ
ウム、硝酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、
第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸カ
リウム、第三燐酸カリウム、第三燐酸アンモニウム、ポ
リ燐酸ナトリトゥムなどが挙げられる。かかる水溶性塩
は、単独または2以上組合わせて使用することがでさ、
不惑脂化処理液の総重量に対して約0.01〜約重i5
%の範囲で使用することが好ましい。
Furthermore, the desensitization treatment solution may contain a water-soluble salt. Preferred water-soluble salts include alkali metal salts and ammonium salts, and particularly preferred are water-soluble alkali metal salts and ammonium salts of acids such as acetic acid, molybdic acid, boric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and polyphosphoric acid. Contains 7 mm and 9 mm salt. Specifically, ammonium acetate, sodium acetate, potassium acetate, sodium molybutate,
Potassium molybdate, sodium borate, ammonium borate, lithium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate,
Examples include dibasic sodium phosphate, tribasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, tribasic potassium phosphate, tribasic ammonium phosphate, and sodium polyphosphate. Such water-soluble salts can be used alone or in combination of two or more,
About 0.01 to about weight i5 based on the total weight of the unfattening treatment liquid
It is preferable to use it in the range of %.

本発明の不感脂化処理方法においては、処理のはたびご
とに未使用の不感脂化処理を現偉済め平版印刷版上に供
給することが必要である。処理Qたびごとに未使用の不
感脂化処理液が供給されるためその不感脂効果には且つ
一定であり、常に良好な印刷版を得ることができる。ま
た使用済みの不惑脂化処理液は回収して廃液処理を行え
ばよく、従来のように常に不感脂化処理の疲労に注意し
、随時その交換を行うというような煩雑な作業は不要と
することができる。
In the desensitization method of the present invention, it is necessary to supply unused desensitization onto the currently cleaned lithographic printing plate each time the process is carried out. Since an unused desensitizing liquid is supplied every time the treatment Q is carried out, the desensitizing effect is constant and a good printing plate can always be obtained. In addition, the used desensitizing solution can be collected and disposed of as waste, eliminating the need for the complicated work of constantly paying attention to desensitizing treatment fatigue and replacing it as needed. be able to.

ここで未使用の不感脂化処理とは平版印刷版の不感脂化
処理に使用していない不感脂化処理液のことをいう。
Here, the unused desensitization treatment refers to a desensitization treatment liquid that has not been used for desensitization treatment of a lithographic printing plate.

未使用の不感脂化処理液を28版上に供給する際、未使
用の液と共に一度使用した不感脂化処理を未使用の不感
脂化処理液の効果を低下しない範囲内において一部並行
して供給しても良い。供給する不感脂化処理液の一部に
一度使用した不感脂化処理液を使用する方法には、例え
ば不感脂処理液供給ノズルが複数ある場合、ある特定の
ノズルからは未使用の不感脂処理液を供給し、残りの特
定のノズルからは一度使用した不感脂化処理を供給する
方法などが挙げられるが平版印刷版上に供給する不惑脂
化処理液すべてに、未使用の不感脂化処理液を使用する
ことが最も好ましい。
When supplying an unused desensitizing solution onto the 28th plate, the previously used desensitizing solution is partially parallelized with the unused desensitizing solution within a range that does not reduce the effectiveness of the unused desensitizing solution. It may also be supplied. For example, when there are multiple desensitizing liquid supply nozzles, unused desensitizing liquid is used as part of the desensitizing liquid to be supplied. One method is to supply the unused desensitizing solution to the remaining specific nozzles, but all the unused desensitizing solution supplied onto the lithographic printing plate is supplied with unused desensitizing solution. Most preferably, a liquid is used.

平版印刷板上に不感脂化処理液を供給する方法には例え
ばノズルやシャワーパイプなどから不感脂化処理液を噴
射あるいは滴下する方法、不感脂化処理液が湿潤された
スポンジなどで18版の版面を拭う方法、平版印刷版の
版面に不感脂化処理液をローラーなどで塗布する方法、
細い間隙に不感脂化処理液をためておきその中に平版印
刷版を通過させることにより供給する方法不感脂化処理
液供給部材に表面張力により竿状に垂れ下がる不感脂化
理後に平版印刷版を接触させ供給する方法、あるいは筒
状の物に不感脂化処理液を貯めておき、該筒状の物の側
面に細い間隙を作り、その間隙に平版印刷版を通過させ
ることにより、供給する方法などが挙げられる。
Examples of methods for supplying the desensitizing liquid onto the lithographic printing plate include spraying or dropping the desensitizing liquid from a nozzle or shower pipe, and applying the desensitizing liquid onto the lithographic printing plate using a sponge moistened with the desensitizing liquid. A method of wiping the plate surface, a method of applying a desensitizing treatment liquid to the plate surface of a lithographic printing plate using a roller, etc.
A method of supplying the desensitizing liquid by storing it in a narrow gap and passing the lithographic printing plate through it.The lithographic printing plate after desensitizing hangs down in a rod shape from the desensitizing liquid supply member due to surface tension. A method of supplying by contact, or a method of supplying by storing the desensitizing treatment liquid in a cylindrical object, creating a narrow gap on the side of the cylindrical object, and passing the lithographic printing plate through the gap. Examples include.

また前記不感脂化処理液の供給方法は、1つの方法のみ
を用いてもよいし、2つ以上の方法を組み合わせて用い
てもよい。
Further, as the method for supplying the desensitizing treatment liquid, only one method may be used, or two or more methods may be used in combination.

また前記供給手段により供給した不感脂処理液が版面上
で不均一な状態の時には、均一になるような手段を設け
てやることもできる。具体的には例えば平版印刷版の移
送方向に向かって、漸次平版印刷版移送路に近接する不
感脂化処理液拡散板を設け、平版印刷版上にノズルなど
から供給された不感脂化処理液が延伸される。ようにす
る手段などが挙げられる。該拡散板は柔軟なシート状物
でも、硬質な板状物でもよい。
Further, when the desensitizer treatment liquid supplied by the supply means is not uniform on the plate surface, a means may be provided to make it uniform. Specifically, for example, a desensitizing liquid diffusion plate is provided that gradually approaches the lithographic printing plate transport path in the direction of transport of the lithographic printing plate, and the desensitizing liquid is supplied onto the lithographic printing plate from a nozzle or the like. is stretched. Examples include means to do so. The diffusion plate may be a flexible sheet-like material or a hard plate-like material.

また、このようにして平版印刷版の版面に、不感脂化処
理液を供給した後あるいは供給しながら、平版印刷版の
版面を擦り部材などで軽く擦ることが好ましい。擦り部
材で擦る具体的方法には例えばローラー状の擦り部材を
回転することにより擦る方法、あるいは平版状の擦り部
材を回転することにより擦る方法あるいは平版状の擦り
部材を前後お上り/あるいは左右に移動させることによ
り擦る方法あるいはローラー状の擦り部材あるいは平版
状の擦り部材を回転しながら前後および/あるいは左右
に移動させることにより擦る方法などが挙げられる。尚
これらの擦り部材は複数個組み合わせて使用しても良い
。これらの擦り部材にはブラシあるいはスポンジあるい
は布などを一例として挙げることができる。
Further, after or while supplying the desensitizing treatment liquid to the plate surface of the lithographic printing plate in this manner, it is preferable to lightly rub the plate surface of the lithographic printing plate with a rubbing member or the like. Specific methods of rubbing with a rubbing member include, for example, a method of rubbing by rotating a roller-shaped rubbing member, a method of rubbing by rotating a flat-plate-shaped rubbing member, or a method of rubbing by rotating a flat-plate-shaped rubbing member, or a method of rubbing by rotating a flat-plate-shaped rubbing member, or a method of rubbing by rotating a flat-plate-shaped rubbing member. Examples include a method of rubbing by moving a rubbing member, and a method of rubbing by moving a roller-shaped rubbing member or a planar-shaped rubbing member back and forth and/or left and right while rotating. Note that a plurality of these rubbing members may be used in combination. Examples of these rubbing members include brushes, sponges, and cloth.

また前記の不感脂処理液供給手段と擦り部材とは一体化
されていても良い0例えば擦り部材が円盤状のブラシで
あり、不感脂化処理液供給手段がノズルである場合、円
盤状ブラシの回転軸の中心にノズルを配置することもで
きる。
Further, the desensitizing liquid supply means and the rubbing member may be integrated. For example, if the rubbing member is a disk-shaped brush and the desensitizing liquid supply means is a nozzle, the desensitizing liquid supply means and the rubbing member may be integrated. It is also possible to arrange the nozzle at the center of the rotation axis.

また本発明においては、ネガ型平版印刷版およびポジ型
平版印刷版に対して共通の不感脂化処理液を供給しても
よいし、各々専用の不感脂化処理液を供給してもよい。
Further, in the present invention, a common desensitizing treatment liquid may be supplied to the negative planographic printing plate and the positive planographic printing plate, or a desensitization treatment liquid exclusively for each may be supplied.

ネガ型平版印刷版およびポジ型平版印刷版に対する最良
の不感脂化処理液が異なる場合は、各々専用の不感脂化
処理液を対応する版に供給することが好ましい。
If the best desensitizing treatment liquid for a negative planographic printing plate and a positive planographic printing plate is different, it is preferable to supply a dedicated desensitization treatment liquid to the corresponding plate.

前記手段により供給する不感脂化処理液の量は平版印刷
版の大きさや種類にかがわらず処理のたびに常に一定の
量をあるいは処理する平版印刷版の面積に対応する量を
あるいは、処理する平版印刷版の長手あるいは中手の長
さに比例する量を用いる。
The amount of the desensitizing treatment liquid supplied by the above means is always a constant amount for each treatment regardless of the size and type of the lithographic printing plate, or an amount corresponding to the area of the lithographic printing plate to be treated, or an amount corresponding to the area of the lithographic printing plate to be treated. Use an amount proportional to the length of the length or center of the lithographic printing plate.

前述した不感脂処理液の量は1版あたQ10mQ/版〜
1000+u/版の範囲が好ましく、より好ましくは2
0m!l/版〜200J/版の範囲である。
The amount of the above-mentioned insensitizing oil treatment liquid per plate is Q10mQ/plate ~
The range is preferably 1000+u/plate, more preferably 2
0m! The range is from 1/plate to 200J/plate.

また不感脂化処理した後に、平版印刷版の版面に塗布さ
れている不感脂化処理液の塗布量は乾燥塗布重量で0.
1g/+2−1.5g/+2が好ましい。
Further, after the desensitization treatment, the coating amount of the desensitization treatment liquid applied to the plate surface of the lithographic printing plate is 0.00% by dry coating weight.
1 g/+2-1.5 g/+2 is preferred.

以下、実施例で本発明を更に具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例 す7トキノン1,2−ノアシト−5−スルホニルクロラ
イドとレゾルシン−ベンズアルデヒドエステル化物(特
開昭56−1044号公報の実施例−1に記載のもの)
3重量部、クレゾールノボラック樹脂、9重量部および
ビクトリア・ピュア・ブルー・BOH(保土谷化学工業
株式会社製染料)0.12重量部をメチルセロソルブ1
00重量部に溶解し感光液を**した.厚さ0.3mm
の砂目立てしたアルミニウム板を硫酸中で陽極酸化し、
約2.5g/m2の酸化皮膜をつくり、よく洗浄した後
乾燥し、その上に上記感光液を塗布乾燥し約2.5g/
1112の感光層を有するポジ型ps版を得た。
Example 7 Toquinone 1,2-noacyto-5-sulfonyl chloride and resorcinol-benzaldehyde ester (described in Example 1 of JP-A-56-1044)
3 parts by weight, cresol novolac resin, 9 parts by weight, and 0.12 parts by weight of Victoria Pure Blue BOH (dye manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.) to 1 part by weight of methyl cellosolve.
00 parts by weight to make a photosensitive liquid. Thickness 0.3mm
A grained aluminum plate is anodized in sulfuric acid,
An oxide film of about 2.5 g/m2 was created, washed thoroughly and dried, and the above photosensitive solution was applied and dried to form an oxide film of about 2.5 g/m2.
A positive PS plate having 1112 photosensitive layers was obtained.

またパラヒドロキシ7ニニルメタクリルアミド、アクリ
ロニトリル、エチル7クリレート、及びメタアクリル酸
の共重合体(モル比は上記の順に、8、5:24:60
.5ニア)           5.0重量部Pージ
アゾノフェニルアミンとパラホルムアルデヒド縮合物の
へキサフルオロリン酸塩 0、5重量部 ビアトリアピュアーブルーBOH(保止ケ谷化学工業(
株)製)0.1重量部 をメチルセロソルブ100重量部に溶解調製した感光液
を用意した.次に厚さ0.24曽Iの砂目立てしたアル
ミニウム板を硫酸中で陽極酸化し、約2g/112酸化
皮膜をつくり、よく洗浄した後、珪酸す) 17ウム水
溶液に浸漬し、充分水洗後、乾燥することにより得られ
た、支持体上に上記組成の感光液を塗布乾燥し、約1.
8g/m2の感光層を有するネガ型18版を得た.この
ようにして得られたポジ型およびネガ型28版を100
3X 800mmの大きさに裁断したものを多数枚用意
した。
In addition, a copolymer of parahydroxy 7-ninyl methacrylamide, acrylonitrile, ethyl 7-acrylate, and methacrylic acid (molar ratio is 8, 5:24:60 in the above order)
.. 5.0 parts by weight Hexafluorophosphate of P-diazonophenylamine and paraformaldehyde condensate 0.5 parts by weight Viatria Pure Blue BOH (Hodokaya Chemical Industry Co., Ltd.)
A photosensitive solution was prepared by dissolving 0.1 part by weight of methyl cellosolve (manufactured by Co., Ltd.) in 100 parts by weight of methyl cellosolve. Next, a grained aluminum plate with a thickness of 0.24mm was anodized in sulfuric acid to form an oxide film of approximately 2g/112, washed thoroughly, and then silicate.) It was immersed in a 17um aqueous solution and rinsed thoroughly with water. A photosensitive solution having the above composition was coated on the support obtained by drying and dried, and about 1.
A negative type 18 plate having a photosensitive layer of 8 g/m2 was obtained. 100 copies of the 28 positive and negative plates obtained in this way
A large number of sheets cut to a size of 3 x 800 mm were prepared.

次にボン型28版を透明陽画を通して80co+の距離
から2に−のメタルハライドランプを用いて60秒問露
光した。また、ネガ型28版には、透明陰画を通して同
じ条件で30秒間露光した。
Next, the Bonmold 28 plate was exposed through a transparence for 60 seconds from a distance of 80 CO+ using a 2 to - metal halide lamp. In addition, the negative type 28 plate was exposed for 30 seconds under the same conditions through a transparent negative.

一方、ポジ型PS版用現像液および現像補充液としてケ
イ酸カリウム水溶a(SiOz含量26重量%、K.0
含113重量%)、水酸化カリウム水溶Q (48重量
%水溶液)および純水を用いてSiO□とに20とのモ
ル比率(( Si02) /( K2O) )が1.7
8でに20のモル濃度が3.90モル/Qの現像液およ
びケイ酸分とカリウムのモル比率( SiO2/に20
 )が0.88、K2Oのモル濃度が7.78モル/Q
の現像補充液を調製した。
On the other hand, potassium silicate aqueous solution a (SiOz content 26% by weight, K.0
Using potassium hydroxide aqueous Q (48 wt% aqueous solution) and pure water, the molar ratio of SiO□ to 20 ((Si02)/(K2O)) was 1.7.
A developing solution with a molar concentration of 3.90 mol/Q and a molar ratio of silicic acid and potassium (SiO2/20
) is 0.88, and the molar concentration of K2O is 7.78 mol/Q.
A developer replenisher was prepared.

さらにネガ型PS版用現像液として以下の組成のものを
用意した。
Furthermore, a developer having the following composition was prepared as a developer for a negative PS plate.

エチレングリコールモノフェニルエーテル40重量部 ノエタノールアミン       10重量部n−ブチ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム12重量部 消泡剤(SN−5512東レシリコーン(株)社製)0
、05重量部 水                 937重量部別
に第1図に示す自動現像機を用意した第1図において1
は現像処理槽、2は搬送ローラ、3は絞りローラ、4は
受ローラ、5はブラシローラ、6はポジ用現像液貯蔵槽
、6′はポジ用現像補充液用貯蔵槽、7はポジ用シャワ
ーパイプ、8はポジ現像液用ポンプ、8′はポジ用現像
補充液用ポンプ、9はネガ用現像液貯蔵槽、10はネガ
用シャワーパイプ、11はネガ現像液用ポンプ、12は
流路切換弁である。13は不感脂化処理槽、14はブラ
シ受台、15は円盤状のブラシで回転しながら中手方向
に移動する。16は廃液貯蔵槽、17および19は不感
脂化処理液用ポンプ、18および20不患脂化処理液用
貯蔵槽である。21は処理する18版の品種を識別する
光反射センサーであり、22はその品種情報によりポン
プの作動お上り流路切換弁の制御をする、制御装置であ
る。
Ethylene glycol monophenyl ether 40 parts by weight Noethanolamine 10 parts by weight Sodium n-butylnaphthalenesulfonate 12 parts Antifoaming agent (SN-5512 manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.) 0
, 05 parts by weight Water 937 parts by weight In Fig. 1, the automatic developing machine shown in Fig. 1 was prepared.
is a development processing tank, 2 is a transport roller, 3 is a squeezing roller, 4 is a receiving roller, 5 is a brush roller, 6 is a positive developer storage tank, 6' is a positive developer replenisher storage tank, 7 is a positive developer storage tank Shower pipe, 8 is a positive developer pump, 8' is a positive developer replenisher pump, 9 is a negative developer storage tank, 10 is a negative shower pipe, 11 is a negative developer pump, 12 is a flow path It is a switching valve. 13 is a desensitization treatment tank, 14 is a brush holder, and 15 is a disk-shaped brush that rotates and moves in the medial direction. 16 is a waste liquid storage tank, 17 and 19 are pumps for desensitizing processing liquid, and 18 and 20 are storage tanks for desensitizing processing liquid. Reference numeral 21 is a light reflection sensor that identifies the type of 18th edition to be processed, and 22 is a control device that controls the operating flow path switching valve of the pump based on the type information.

実施例1 前記ネガ用現像液およびポジ用現像液を前記自。Example 1 The negative developing solution and the positive developing solution are as described above.

動現像槻の対応する現像液貯蔵槽にそれぞれ40立づつ
仕込み、また前記現像補充液を現像補充液貯蔵槽に30
Q仕゛込んだ。また下記組成の不感脂化処理液(^)不
感脂化処理液貯蔵槽18に25Q仕込んだ。
Pour 40 developer replenishers into the corresponding developer storage tanks of the dynamic developer, and add 30 developer replenishers into the developer replenisher storage tanks.
Q is included. Further, a desensitizing treatment liquid (^) having the following composition was charged into the desensitization treatment liquid storage tank 18 in a quantity of 25Q.

アラビアガム         4重量部デキストリン
          16〃85%リン酸      
     0.3〃クエン酸            
2496%水酸化ナトリウム     0.1〃水  
                    100〃ジ
ラウリルスルホこはく酸ナトリウム 2 〃 ポリオキシエチレンノニフェニルエーテル1 〃 ソルビタン脂肪酸エステル   1 〃ジオクチル7ゼ
レート     2 〃オレイン酸         
 1 〃まな、さらに下記組成の不感脂化処理液(B)
を不感脂化処理液貯蔵槽20に259仕込んだ。
Gum arabic 4 parts by weight Dextrin 16 85% phosphoric acid
0.3 Citric acid
2496% sodium hydroxide 0.1 water
100 Sodium dilauryl sulfosuccinate 2 Polyoxyethylene noniphenyl ether 1 Sorbitan fatty acid ester 1 Dioctyl 7 gelate 2 Oleic acid
1 Mana, and a desensitizing treatment liquid (B) with the following composition:
A total of 259 of these were charged into the desensitization treatment liquid storage tank 20.

デキストリン          200重量部メチル
セルロース       5  〃イソプロピルナフタ
レンスルホン酸ソーグ6  〃 アラビアガム         1  〃リン酸   
           0.6〃水         
             784  〃また現像液の
温度はネガ用およびポジ用共に25℃に保ち、現像時間
は40秒になるようにした。
Dextrin 200 parts by weight Methyl cellulose 5 Isopropylnaphthalene sulfonic acid Sorg 6 Gum arabic 1 Phosphoric acid
0.6 water
784 In addition, the temperature of the developer was kept at 25° C. for both negative and positive samples, and the development time was set to 40 seconds.

またポジ用現像補充液は1版の現像処理の度毎に21論
見補充し、現像処理とは無関係に1時間につき35mQ
IW4合で補充するようにした。
In addition, the positive developer replenisher is replenished every time one plate is developed, and is 35mQ per hour regardless of the development process.
It is now replenished at IW4.

不感脂化処理液(^)はポジ型平版印刷版の不感脂化処
理に用い、不惑脂化処理液CB)はネガ型平版印刷版の
不感脂化処理に用いた。
The desensitizing treatment liquid (^) was used to desensitize positive-working planographic printing plates, and the desensitizing treatment liquid CB) was used to desensitize negative-working planographic printing plates.

また不感脂化処理液は(^)および(B)とも1版の不
感脂化処理の度毎に80mQを平版印刷版の版面上に供
給する−ようにした。これらのネガ用あるいはポジ用の
現像液、不感脂化処理液(^)あるいは(B)の選択は
、光反射センサー21の品種情報をもとに制御装置22
で行うようにした。さらに制御装置22で現像液供給ポ
ンプ8,11.不感脂化処理液供給ポンプ17.19.
現像補充液用ポンプ8′の作動の制御および切換弁口1
2の切換えの制御を行うようにした。
In addition, 80 mQ of the desensitizing solution (^) and (B) was supplied onto the surface of the lithographic printing plate each time one plate was desensitized. The selection of these negative or positive developing solutions, desensitizing processing solutions (^) or (B) is made by the control device 22 based on the type information of the light reflection sensor 21.
I decided to do it with Further, the control device 22 controls the developer supply pumps 8, 11. Desensitizing liquid supply pump 17.19.
Control and switching valve port 1 for the operation of the developer replenisher pump 8'
2 switching is controlled.

このようにして前記露光済みのネガ型28版およびポジ
版PS版を順不同で250版づつ合計500版処理した
。但し100,200,300,400,500版目に
はポジ型28版を処理し、99,199,299,39
9,499.版目にはネガ型28版を処理するようにし
た。これらの100版目ごとに処理した冬が型平版印刷
版およびポジ型平版印刷版合計10版を印刷機にかけて
印刷したところ、画像部のインキ着肉性はよ<10版と
もすべて15枚以内で完全にインキが紙に転写された。
In this way, the 28 exposed negative plates and the positive PS plates were processed in random order for a total of 500 plates, 250 plates each. However, for the 100th, 200th, 300th, 400th, and 500th editions, positive type 28th edition is processed, and 99th, 199th, 299th, 39th edition is processed.
9,499. The printing plate was processed using a negative type 28 plate. When a total of 10 winter-type lithographic printing plates and positive-type lithographic printing plates processed for each 100th edition were printed on a printing press, the ink receptivity in the image area was within 15 sheets for all 10 editions. The ink was completely transferred to the paper.

また非画像部の不感脂化作用を損うことがなく、地汚れ
は全く生じず、優れた印刷物を得ることができた。
Furthermore, the desensitizing effect of the non-image area was not impaired, and no scumming occurred at all, making it possible to obtain excellent printed matter.

実施例2 不感脂化処理液(B)のみを用いて実施例1と同様に処
理した。すなわち処理する23版がネガ型あるいはポジ
型であるにががわらず、不感脂化処理液貯m槽20に仕
込んだ不感脂化処理(B)のみを平版印刷版の針面に供
給するようにした。供給量やその他の条件をすべて実施
例1と同様にしてネガ型28版およびポジ型28版を順
不同で250版づつ合計500版処理したところ、実施
例1と同様の結果が得られた。
Example 2 A treatment was carried out in the same manner as in Example 1 using only the desensitizing treatment liquid (B). That is, irrespective of whether the 23 plate to be processed is a negative type or a positive type, only the desensitizing treatment (B) charged in the desensitizing treatment liquid storage tank 20 is supplied to the needle surface of the lithographic printing plate. did. When the supply amount and other conditions were all the same as in Example 1, 28 negative plates and 28 positive plates were processed in random order, 250 plates each for a total of 500 plates, and the same results as in Example 1 were obtained.

比較例 第1図に示した自動現像機の不感脂化処理部に用いた装
置の代わりに第2図に示した不感脂処理装置を付設した
自動現像機を用いて実施例2と同様に処理した。第2図
において23は不感脂化処理槽、24は不感脂化処理液
貯蔵槽である。第2図に示した不感脂化処理装置は不感
脂化処理液を循環再使用するものであり、版面上への供
給シャワーパイプにより行なわれる。また不感脂化処理
液の供給量はIOQ/lll1nで行った。このように
して実施例2で用いた不感脂化処理液(B)を不感脂化
処理液貯蔵槽24に409仕込んだ。現像処理部および
現像処理条件は実施例2と同様にした。このようにして
実施例2と同様にネガ型28版およびポジ型28版を順
不同で150版づつ合計300版処理した。その後、3
00版目に処理したポジ型平版印刷版を印刷機に。
Comparative Example Processing was carried out in the same manner as in Example 2 using an automatic processor equipped with the desensitizer processing device shown in FIG. 2 instead of the device used in the desensitization processing section of the automatic processor shown in FIG. did. In FIG. 2, 23 is a desensitizing tank, and 24 is a desensitizing liquid storage tank. The desensitization processing apparatus shown in FIG. 2 circulates and reuses the desensitization processing liquid, and this is carried out by a shower pipe that supplies the desensitization processing liquid onto the printing plate. Further, the supply amount of the desensitizing treatment liquid was set at IOQ/lll1n. In this manner, the desensitizing liquid (B) used in Example 2 was charged into the desensitizing liquid storage tank 24 in 409 minutes. The development processing section and development processing conditions were the same as in Example 2. In this way, as in Example 2, 28 negative plates and 28 positive plates were processed in random order, 150 plates each, for a total of 300 plates. After that, 3
The positive planographic printing plate processed on the 00th plate is put into the printing machine.

かけて印刷したところ非画像部に地汚れが生じ実用に耐
えられなかった。
When it was printed over a wide range of colors, scumming occurred in the non-image area, making it unusable for practical use.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の方法により、同一の自動現像機によってネ〃、
ポジ両タイプの15版を任意に混合処理し、廃水を発生
することなく、良質の印刷版を安定に得ることが可能と
なった。
By the method of the present invention, by the same automatic processor,
By arbitrarily mixing 15 plates of both positive and negative types, it has become possible to stably obtain high-quality printing plates without generating waste water.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は前記本発明の実施例に用いた自動現像機の概要
図、第2図は比較例に用いた自動現像機の不感脂化処理
部の概要図である。 出願人  小西六写真工業株式会社 六2°侶
FIG. 1 is a schematic diagram of the automatic developing machine used in the embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram of the desensitization processing section of the automatic developing machine used in the comparative example. Applicant: Konishi Roku Photo Industry Co., Ltd. Roku2°

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 自動現像機を用いてネガ型感光性平版印刷版及び/また
はポジ型の感光性平版印刷版を自動的に搬送し、該自動
現像機の現像ゾーンにおいて、処理される感光性平版印
刷版の型に応じて、それぞれ別個の現像液貯蔵槽に貯え
らえ循環使用されるネガ型、又はポジ型感光性平版印刷
版用専用現像液を感光性平版印刷版面に供給して現像処
理し、次いで該版面に未使用の不感脂化液を供給して不
感脂化処理を行うことを特徴とする感光性平版印刷版の
処理方法。
A negative-working photosensitive lithographic printing plate and/or a positive-working photosensitive lithographic printing plate are automatically conveyed using an automatic developing machine, and in the development zone of the automatic developing machine, the pattern of the photosensitive lithographic printing plate to be processed is A special developer for negative or positive photosensitive lithographic printing plates, which is stored in separate developer storage tanks and used for circulation, is supplied to the photosensitive lithographic printing plate surface for development processing, and then A method for processing a photosensitive lithographic printing plate, characterized in that desensitization treatment is performed by supplying an unused desensitization liquid to the plate surface.
JP16083885A 1985-07-19 1985-07-19 Processing method for photosensitive lithographic printing plate Pending JPS6221152A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16083885A JPS6221152A (en) 1985-07-19 1985-07-19 Processing method for photosensitive lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16083885A JPS6221152A (en) 1985-07-19 1985-07-19 Processing method for photosensitive lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6221152A true JPS6221152A (en) 1987-01-29

Family

ID=15723502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16083885A Pending JPS6221152A (en) 1985-07-19 1985-07-19 Processing method for photosensitive lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6221152A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8859757B2 (en) 2010-06-18 2014-10-14 Daicel Corporation Separating agent for optical isomers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8859757B2 (en) 2010-06-18 2014-10-14 Daicel Corporation Separating agent for optical isomers

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4885230A (en) Burn-in gumming composition for offset printing plates
JPS648819B2 (en)
JPH0570815B2 (en)
US4837131A (en) Developing method for photosensitive material
US3634086A (en) Solvent development of light-sensitive diazo layers
JPS62159148A (en) Developing solution composition for photosensitive lithographic plate and developing method
JPS6236673A (en) Method for processing photosensitive lithographic printing plate
JPS6221152A (en) Processing method for photosensitive lithographic printing plate
JPS6273271A (en) Processing method for photosensitive lithographic printing plate
JPS6223044A (en) Processing method of photosensitive lithographic printing plate
JPS6219858A (en) Treatment of photosensitive lithographic plate
JPS6352600B2 (en)
JPS6238470A (en) Method for processing photosensitive lithographic printing plate
JPS63109442A (en) Method for stably processing negative and positive photosensitive materials in common
JPS6258254A (en) Processing method for photosensitive lithographic plate
JPS6255658A (en) Processing method for photosensitive lithographic printing plate
JPH0616172B2 (en) Method for treating photosensitive lithographic printing plate with improved development stability
JPS62131263A (en) Composition of developing solution for photosensitive lithographic printing plate and its developing method
JPS6236672A (en) Method for processing photosensitive lithographic printing plate
JPS6235362A (en) Method for processing photosensitive lithographic printing plate
JPS648820B2 (en)
JPS6234165A (en) Processing method for photosensitive lithographic press plate
JPH0256233B2 (en)
JPS62125357A (en) Developing solution composition and developing method for photosensitive lithographic printing plate
JPS6278558A (en) Method of processing photosensitive planographic form plate