JPS6223044A - Processing method of photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Processing method of photosensitive lithographic printing plate

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Publication number
JPS6223044A
JPS6223044A JP16246685A JP16246685A JPS6223044A JP S6223044 A JPS6223044 A JP S6223044A JP 16246685 A JP16246685 A JP 16246685A JP 16246685 A JP16246685 A JP 16246685A JP S6223044 A JPS6223044 A JP S6223044A
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JP
Japan
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plate
negative
positive
developer
lithographic printing
Prior art date
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Pending
Application number
JP16246685A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Nakai
英之 中井
Masabumi Uehara
正文 上原
Minoru Kiyono
清野 実
Atsuo Komeno
米野 淳夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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Publication of JPS6223044A publication Critical patent/JPS6223044A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3078Processing different kinds of plates, e.g. negative and positive plates, in the same machine

Abstract

PURPOSE:To process a negative and a positive type photosensitive lithographic printing plate (PS plate) in parallel by using the same automatic developing machine and to produce no waste liquid by using a liquid developer correspond ing to the type of the PS plate and a dedicated desensitization for each type. CONSTITUTION:A light reflection sensor 18 discriminates between a positive and a negative PS plate to select a positive developer supply pump 8 or negative developer supply pump 11 through a control part 19 and also switch a flow passage changeover valve 12. Then when th PS plate is the positive type, the positive developer in a positive developer storage tank 6, etc., circulates through a developer processing tank 1 to develop the positive PS plate and when the PS plate is the negative type, the plate is developed with the negative developer in a negative developer storage rank 9. Then, the plate is not washed and processed in a desensitization processing tank 13 with dedicated desensitization from a positive desensitization storage tank 15 or negative desensitization tank 17. Consequently, the negative and positive type PS plates are processed in parallel by the same automatic developing machine, and the dedicated is used, so there is no decrease in processing ability and no waste liquid is produced.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は感光性平版印刷版の処理方法に関し、より詳し
くは現像工程と不感脂化工程の間に水洗工程を含まない
ネガ型感光性平版印刷版及び/又はボッ型感光性平版印
刷版の処理方法に関する。
Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application 1] The present invention relates to a method for processing a photosensitive lithographic printing plate, and more specifically to a method for processing a photosensitive lithographic printing plate that does not include a water washing step between the development step and the desensitization step. The present invention relates to a method for processing a printing plate and/or a photosensitive lithographic printing plate.

[従来の技術J 一台の自動現像機を用いてネガ型感光性平版印刷版(以
下単にネ〃型PS版という)及びボン型感光性平版印刷
版(以下単にボン型PS版という)を処理しようとする
と28版の型に応じてその都度現像液の交換を行うこと
が必要となり、作業の能率が者しく低下するという問題
が生ずる。この対策として実開昭54−151401号
公報にはネガ型PS版用現像液及びポジ型PS版用現像
液をそれぞれ専用の貯蔵槽に貯蔵し、28版の現像処理
の際その28版に対応する現像液を供給して現像し、現
像後水洗して印刷版を得る方法が開示されている。
[Prior art J] A single automatic processor is used to process negative-type photosensitive lithographic printing plates (hereinafter simply referred to as negative-type PS plates) and bond-type photosensitive lithographic printing plates (hereinafter simply referred to as bond-type PS plates). If this were to be done, it would be necessary to replace the developer each time depending on the type of 28 plates, resulting in a problem that the efficiency of the work would be significantly reduced. As a countermeasure to this, Japanese Utility Model Application No. 54-151401 discloses that a developer for a negative PS plate and a developer for a positive PS plate are stored in dedicated storage tanks, so that when the 28th plate is developed, it can be used for the 28th plate. A method is disclosed in which a printing plate is obtained by supplying a developer solution, performing development, and washing with water after development.

しかしながら、現像後水洗を行うことは水の浪費につな
がり、また排水による環境汚染の問題等もあって好まし
いものではない、更に水洗後の28版は版面を保護する
ため不感脂化処J!I!(fJpム引きともいう)を行
う必要があって能率が悪く、得られる印刷版のインキ着
肉性が良くないなどの問題があった。
However, washing with water after development leads to wastage of water and is not preferable as it also causes problems of environmental pollution due to drainage water.Furthermore, the 28th plate after washing with water is subjected to a desensitizing process to protect the plate surface. I! (also referred to as fJpm), which is inefficient and has problems such as poor ink receptivity of the resulting printing plate.

水洗工程を省いた現像処理としては特開昭54−800
2号公報に28版を現像処理した後直ちに不感脂化処理
する方法が開示されている。この方法では現像ゾーンを
通過してきた28版に不感脂化理化液をノズルから供給
しているが、余分の液は回収して循環再使用するため2
8版に付着した現像液等が不感脂化処理液中に徐々に持
ち込まれ液を疲労させるため、不感脂此処F!!液をし
ばしば交換しなければならなかった。
JP-A-54-800 is a development process that eliminates the water washing process.
No. 2 discloses a method in which a 28th plate is desensitized immediately after development. In this method, a desensitizing chemical liquid is supplied from a nozzle to the 28 plates that have passed through the development zone, but the excess liquid is collected and recycled for reuse.
The developer, etc. adhering to the 8th plate is gradually carried into the desensitizing solution and fatigues the solution. ! The fluid had to be changed frequently.

〔発明が解決しようとする問題点1 ネ〃型PS版及び、ポジ型28版を並行的に処理するこ
とができ、かつ水洗処理を伴わない28版の処理方法は
今まで例がなくその開発は実用上極めて望ましいもので
あるが、本発明者等の検討によれば前記の二つの方法の
組み合わせ、即ちネガ用、ポジ用の現像液をそれぞれ別
個の貯m槽に貯蔵し現像処理待処理する28版の型に応
じて供給して現像処理を行い、続いて水洗することなく
そのまま不感脂化処理を行った場合どちらか一方の型の
28版を単独に処理した場合に比べ不感脂化処理液の疲
労が著しく増大し液の交換を更に頻繁に行わなければな
らないことが明らかになった。またこうして得られた印
刷版は画像部の感脂性が低く、非画像部の不感脂化が不
十分となって地汚れが出やすくなって品質の良いものは
得られなかった。
[Problem to be solved by the invention 1: A method for processing 28 plates that can process a negative PS plate and a positive 28 plate in parallel and does not involve washing with water has never been developed before. However, according to the studies of the present inventors, it is possible to combine the above two methods, i.e., store the negative and positive developing solutions in separate storage tanks and wait for development. If the 28-plate type is supplied and developed according to the mold, and then desensitized without washing with water, the desensitization will be greater than when either type of 28-plate is treated alone. It became clear that the fatigue of the processing solution increased significantly and that the solution had to be replaced more frequently. In addition, the printing plate thus obtained had low oil sensitivity in the image area, and the non-image area was insufficiently desensitized and was prone to scumming, making it impossible to obtain a good quality plate.

本発明の目的は同一の自動現像機を用いてネガ、型18
版及びざ)両型の28版を並行的に処理することができ
、かつ廃水を生じる事のない28版の処理方法を提供す
ることにある。
The object of the present invention is to produce negatives, molds 18 and 18 using the same automatic processor.
It is an object of the present invention to provide a method for processing 28 plates, which can process both types of 28 plates in parallel, and which does not generate waste water.

本発明の他の目的はネガ及び28版及び、ポジ両型の2
8版を良好な状態で不感脂化処理し、画像部の感脂性を
低下させることなく非画像部を十分に不感脂化すること
のできる28版の処理方法を提供することにある。また
本発明の他の目的はネガ型Ps版及び、ボッ型28版を
並行的に処理する場合においても不感脂化処理液の処理
能力低下が少なく不感脂化処理液の交換にまつわる作栗
の煩雑性が改善された28版の処理方法を提供すること
にある。
Another object of the present invention is to produce two types of negative and 28 plates and both positive and negative types.
To provide a processing method for a 28th plate, which can desensitize the 8th plate in good condition and sufficiently desensitize the non-image area without reducing the oil sensitivity of the image area. Another object of the present invention is that even when processing a negative Ps plate and a 28-bottom plate in parallel, the processing capacity of the desensitizing solution is minimized and the production process associated with replacing the desensitizing solution is reduced. The purpose of this invention is to provide a method for processing the 28th edition with improved performance.

E問題点を解決するための手段] 本発明者等は前記の問題点を解決すべく鋭意研究の結果
、自動現像機を用いてネガ型及び/またはポジ型の感光
性平版印刷版を自動的に搬送し、該自動現像機の現像ゾ
ーンにおいて、処理される感光性平版印刷版の型に応じ
て、それぞれ別個の現像液貯蔵槽に貯えらえ循環使用さ
れるネガ型、又はポジ型感光性平版印刷版用専用現像液
を感光性平版印刷版面に供給して現像処理し、次いで該
版面に、感光性平版印刷版の型に応じてそれぞれ専用の
不感脂化処理液を循環供給し、前記自動現像機の同一の
不感脂化処理槽において不感脂化処理を行うことを特徴
とする感光性平版印刷版の処理方法によって前記の目的
を達成し得ることを見出だした。
Means for Solving Problem E] As a result of intensive research to solve the above problem, the present inventors have developed a method for automatically producing negative and/or positive photosensitive lithographic printing plates using an automatic developing machine. Depending on the type of photosensitive lithographic printing plate to be processed, a negative-working or positive-working photosensitive material is transported to the developing zone of the automatic processor and stored in a separate developer storage tank for circulation use. A dedicated developer for lithographic printing plates is supplied to the photosensitive lithographic printing plate surface for development processing, and then a dedicated desensitizing treatment solution is circulated to the plate surface according to the type of the photosensitive lithographic printing plate, and the above-mentioned It has been found that the above object can be achieved by a method for processing a photosensitive lithographic printing plate, which is characterized in that desensitization treatment is carried out in the same desensitization treatment tank of an automatic processor.

本発明の方法においてはネガ型PS版用とポジ型18版
用の不感脂化処理液をそれぞれ別個に分離して専用化す
るため、前記のような型の異なる28版に対し同一の不
感脂化処理液を循環使用した時におこる急激な不感脂化
能力の低下は発生せず長時間にわたって安定な不感脂化
処理を行うことができる。
In the method of the present invention, the desensitizing treatment liquid for the negative PS plate and the positive 18 plate are separately separated and dedicated, so the same desensitizing liquid is used for the 28 plates of different types as described above. The desensitizing ability can be stably carried out over a long period of time without the sudden drop in desensitizing ability that occurs when the desensitizing solution is used repeatedly.

以下本発明を具体的に説明する。The present invention will be specifically explained below.

本発明において対象とされる28版は、光照射によって
溶解性の変化する感光層が支持体上に塗布されているも
の、または電子写真方式等によって画像機レジスト層を
設は得る溶解性層が支持体上に設けられているものであ
る。
The 28th plate targeted by the present invention is one in which a photosensitive layer whose solubility changes by light irradiation is coated on a support, or a soluble layer in which an image resist layer can be set by an electrophotographic method or the like. It is provided on a support.

前記の28版に使用される支持体としては、紙、プラス
チックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンなど)ラミネート紙、アルミニウム(アルミニ
ウム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金属の板、二
酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンポ
リプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセター
ルなどのようなプラスチックスのフィルム、上記のごと
き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラ
スチックフィルム、アルミニウムもしくはクロームメッ
キが施された銅版などがあげられ、これらのうち特に、
アルミニウムおよびアルミニウム被覆された複合支搏体
が好まし−・。
Supports used for the above 28 editions include paper, plastics (e.g. polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), laminated paper, aluminum (including aluminum alloys), metal plates such as zinc, copper, etc., diacetic acid. Films of plastics such as cellulose, cellulose triacetate, cellulose propionate, polyethylene terephthalate, polyethylene polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc., paper or plastic films laminated or vapor-deposited with the above metals, aluminum or chrome plated. Among these, in particular,
Aluminum and aluminum-coated composite supports are preferred.

また、アルミニウム材の表面は、保水性を高め、感光層
との密着性を向上させる目的で粗面化処理されているこ
とが望ましい。
Further, the surface of the aluminum material is preferably roughened for the purpose of increasing water retention and improving adhesion with the photosensitive layer.

粗面化方法としては、一般に公知のブラシ研摩法、ボー
ル研摩法、電解エツチング、化学的エツチング、液体ホ
ーニング、サンドブラスト等の方法及びこれらの組合せ
があげられ、好ましくはブラシ研摩法、電解エツチング
、化学的エツチングおよび液体ホーニングがあげられ、
これらのうちで、特に電解エツチングの使用を含む粗面
化方法が好ましい。
Examples of surface roughening methods include generally known methods such as brush polishing, ball polishing, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, sandblasting, etc., and combinations thereof, preferably brush polishing, electrolytic etching, and chemical etching. These include target etching and liquid honing.
Among these, surface roughening methods involving the use of electrolytic etching are particularly preferred.

また、電解エツチングの際に用いられる電解浴としては
、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水溶液あるいは
有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これらのうちで特
に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電解液が好ましい
The electrolytic bath used in electrolytic etching is an aqueous solution containing an acid, an alkali, or a salt thereof, or an aqueous solution containing an organic solvent. Liquid is preferred.

さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム板は、必要
に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット処理
される。
Further, the roughened aluminum plate is desmutted with an acid or alkali aqueous solution, if necessary.

こうして得られたアルミニウム板は、陽極酸化処理され
ることが望ましく、特に好ましくは、硫1!I!または
リン酸を含む溶で処理する方法があげられる。
The aluminum plate thus obtained is desirably anodized, particularly preferably with sulfur 1! I! Another method is treatment with a solution containing phosphoric acid.

またさらに必要に応じて、封孔処理、その他県化ジルコ
ニウム酸カリウム水溶液への浸漬などによる表面処理を
行うことができる。
Furthermore, if necessary, surface treatment such as pore sealing treatment and immersion in an aqueous solution of potassium zirconate can be performed.

本発明に使用されるPS版の感光性組成物は必須成分と
して感光性物質を含んでおり、感光性物質として、露光
またはその後の現像処理により、その物理的、化学的性
質が変化するもので、例えば露光により現像液に対する
溶解性に差が生じるもの、露光の前後で分子間の接着力
に差が生じるもの、露光またはその後の現像処理により
水および油に対する親和性に差が生じるもの、更に電子
写真方式により画像部を形成できるもの等が使用できる
The photosensitive composition of the PS plate used in the present invention contains a photosensitive substance as an essential component, and the physical and chemical properties of the photosensitive substance do not change upon exposure or subsequent development treatment. For example, there are differences in solubility in developing solutions due to exposure, differences in intermolecular adhesive strength before and after exposure, differences in affinity for water and oil due to exposure or subsequent development, and A material that can form an image area by electrophotography can be used.

感光性物質の代表的なものとしでは、例えば感光性ジア
ゾ化合物、感光性アジド化合物、エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物、酸触媒で重合を起こすエポキシ化
合物、酸で分解するC−0−C−基を有する化合物等が
あげられる。
Typical photosensitive substances include, for example, photosensitive diazo compounds, photosensitive azide compounds, compounds with ethylenically unsaturated double bonds, epoxy compounds that polymerize with acid catalysts, and C-0- that decomposes with acids. Examples include compounds having a C-group.

感光性ジアゾ化合物としては、露光によりアルカリ可溶
性に変化するボッ型のものとして0−キノンノアシト化
合物、露光により溶解性が減少するネガ型のものとして
芳香族ジアゾニウム塩等があげられる。
Examples of the photosensitive diazo compound include an 0-quinonenoasite compound which is a bot-type compound that becomes alkali-soluble upon exposure, and an aromatic diazonium salt which is a negative-type compound whose solubility decreases upon exposure.

0−キノンノアシト化合物の具体例としては、例えば特
開昭47−5303号、同48−63802号、同48
−63803号、同49−38701号、同56−10
44号、同56−1045号。
Specific examples of 0-quinonenoasite compounds include, for example, Japanese Patent Application Publication Nos. 47-5303, 48-63802, and 48
-63803, 49-38701, 56-10
No. 44, No. 56-1045.

特公昭41−11222号、同43−28403号、同
45−9610号。
Special Publication No. 41-11222, No. 43-28403, No. 45-9610.

同49−17481号の各公報、米国特許第2,797
,213号同$3,046,120号、同3.188,
210号、同3,454,400号。
Publications No. 49-17481, U.S. Patent No. 2,797
, No. 213, $3,046,120, No. 3.188,
No. 210, No. 3,454,400.

同3,544,323号、同3,573.917号、同
第3,674,495号。
No. 3,544,323, No. 3,573.917, No. 3,674,495.

同第3,785,825号、英国特許第1,277.6
02号、同第1.251,345号、同第1,267.
005号、同第1 、329 、888号、同第1.3
30.932号、ドイツ特許1854 、890号など
の各明細書中に記載されているものをあげることができ
、これらの化合物を単独あるいは組合せて感光成分とし
て用いたPS版に対して本発明を好ましく適用すること
ができる。
No. 3,785,825, British Patent No. 1,277.6
No. 02, No. 1.251,345, No. 1,267.
No. 005, No. 1, No. 329, No. 888, No. 1.3
30.932, German Patent Nos. 1854 and 890, etc., and the present invention can be applied to PS plates using these compounds alone or in combination as photosensitive components. It can be preferably applied.

これらの感光成分には芳香族ヒドロキシ化合物の0−キ
ノンジアットスルホン酸エステルまたは〇−キノンジア
ジドカルボン酸エステル、および芳香族アミノ化合物の
0−キノンジアットスルホン#!!または0−キノンジ
アットカルボン酸アミドが包含され、また、これら 0
−キノンノアノド化合物を単独で使用したもの、および
アルカリ可溶性樹脂と混合し、この混合物を感光層とし
て設けたも゛のが包含される。
These photosensitive components include 0-quinone diat sulfonic acid ester or 0-quinone diazide carboxylic acid ester of an aromatic hydroxy compound, and 0-quinone diat sulfone #! of an aromatic amino compound. ! or 0-quinonediatcarboxylic acid amide, and these 0
It includes those in which the -quinonenoanodo compound is used alone, and those in which it is mixed with an alkali-soluble resin and this mixture is provided as a photosensitive layer.

アルカリ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノール樹脂
が含まれ、具体的には、フェノールホルムアルデヒド樹
脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂フェノールクレゾ
ール混合ホルムアルデヒド樹脂、クレゾールキシレノー
ル混合ホルムアルデヒド樹脂などが含まれる。
The alkali-soluble resin includes a novolac type phenol resin, and specifically includes a phenol formaldehyde resin, a cresol formaldehyde resin, a phenol-cresol mixed formaldehyde resin, a cresol xylenol mixed formaldehyde resin, and the like.

更に特開昭50−125806号公報に記載されている
様に、上記のようなフェノール樹脂と共に、tert−
プチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数
3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはクレ
ゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用したもの
ら適用できる。
Furthermore, as described in JP-A-50-125806, tert-
A combination of a phenol substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, such as butylphenol formaldehyde resin, or a condensate of cresol and formaldehyde can be used.

0−キノンノアノド化合物を感光成分とする感光層には
、必要に応じて更に染料、可塑剤、プリントアウト性能
を与える成分などの添加剤を加えることができる。
If necessary, additives such as dyes, plasticizers, and components imparting printout performance can be added to the photosensitive layer containing the 0-quinonenoanodo compound as a photosensitive component.

0−キノンジ7ノド化合物を感光成分とする感光層の単
位面積当たりの量は少なくとも約0.5〜7g/ 、 
2の範囲について本発明を適用できる。
The amount per unit area of the photosensitive layer containing the 0-quinone di7odo compound as a photosensitive component is at least about 0.5 to 7 g/
The present invention can be applied to the following ranges.

本発明の方法を適用するボッ型18版の画像露光は特に
変える必要はなく常法に従えばよい。
There is no particular need to change the image exposure of the 18th printing plate to which the method of the present invention is applied, and a conventional method may be used.

ネガ型感光層の感光成分の代表的なものはジアゾ化合物
であり、例えば、ジアゾニワム塩及び/又はp−ジアゾ
フェニル7ミンとホルムアルデヒドとの縮合物であるジ
アゾ樹脂、特公昭52−7364号公報に記載されてい
るp−ジアゾジフェニルアミンの7エノール塩またはフ
ルオロカプリン酸塩等、特公昭49−48001号公報
に記載されている3−ノトキシジフエニルアミン−4−
ノアゾニウムクロライドと4−二トロノフェニルアミン
とホルムアルデヒドとの共重縮合物の有機溶媒可溶性塩
からなるジアゾ樹脂、p−ジアゾジフェニル7ミンとホ
ルムアルデルヒトとの縮合物の2−メトキシ−4−ヒト
aキシ−5ベンゾイルベンゼンスルホンate、p−ジ
アゾフェニル7ミンとホルムアルデヒドとの縮合物のテ
トラブルオaホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩等が挙
げられる。
A typical photosensitive component of the negative photosensitive layer is a diazo compound, for example, a diazo resin which is a condensate of diazonium salt and/or p-diazophenyl 7mine and formaldehyde, as described in Japanese Patent Publication No. 7364/1983. 7-enol salt or fluorocaprate of p-diazodiphenylamine described, 3-notoxydiphenylamine-4- described in Japanese Patent Publication No. 49-48001;
Diazo resin consisting of an organic solvent soluble salt of a copolycondensate of noazonium chloride, 4-nitronophenylamine and formaldehyde, 2-methoxy-4- of a condensate of p-diazodiphenyl7mine and formalderhyde Examples include human axy-5 benzoylbenzenesulfonate, tetrafluoro a borate of a condensate of p-diazophenyl 7mine and formaldehyde, and hexafluorophosphate.

これらを感光成分とするネガ型28版に対しても本発明
を好ましく適用できる。
The present invention can also be preferably applied to a negative type 28 plate containing these as photosensitive components.

これらのジアゾ化合物を単独で使用したもののほかに感
光層の物性を向上させるため、種々の樹脂と混合しても
ちいたものに対しても本発明を適用できる。
In addition to those using these diazo compounds alone, the present invention can also be applied to those used in combination with various resins in order to improve the physical properties of the photosensitive layer.

かかる樹脂としては、シェラツク、ポリビニルアルコー
ルの誘導体等のほか特開昭50−118802号公報中
に記載されているI頻にアルコール性水酸基を有する共
重合体、特開昭55−155355号公報中に記載され
ているフェノール性水酸基を1llI頻に持つ共重合体
が挙げられる。
Examples of such resins include shellac, derivatives of polyvinyl alcohol, copolymers often having alcoholic hydroxyl groups as described in JP-A-50-118802, and copolymers often having alcoholic hydroxyl groups as described in JP-A-55-155355. Examples include copolymers having phenolic hydroxyl groups frequently described.

これらの樹脂には下記一般式で示される構造単位を少な
くとも50重量%を含む共重合体、一般式      
R1 督 −(C1,−C) − 曝 C0O−(CH2Cl(O)n −H (式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2は
水素原子、メチル基、エチル基またはクロルメチル基を
示し、11は1〜10の整数である。)及び、芳香族水
酸基を有する単量体単位を1〜80モル%、ならびにア
クリル酸エステル及び/又はメタクリル酸エステル単量
単位を5〜90モル%有し、10〜200の酸価を持つ
高分子化合物が包含される。
These resins include copolymers containing at least 50% by weight of structural units represented by the following general formula;
R1 Director-(C1,-C)-Exposed C0O-(CH2Cl(O)n-H (wherein, R1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R2 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a chloromethyl group) , 11 is an integer of 1 to 10) and 1 to 80 mol% of a monomer unit having an aromatic hydroxyl group, and 5 to 90 mol% of an acrylic ester and/or methacrylic ester monomer unit. However, polymer compounds having an acid value of 10 to 200 are included.

本発明の処理方法が適用されるネガ型23版の感光層に
は更に、染料、可塑剤、プリントアウト性能を与える成
分等の添加量を加えることができる。
The photosensitive layer of the negative 23rd plate to which the processing method of the present invention is applied can further contain additives such as dyes, plasticizers, components that provide printout performance, and the like.

上記感光層のm位面M!!%たりの量はルなくとも0.
1〜7g/m2の範囲について本発明を適用できる。
m-plane M of the photosensitive layer! ! The amount per % is at least 0.
The present invention can be applied to a range of 1 to 7 g/m2.

本発明の処理方法で処理するネガ型28版の画像露光は
特に変える必要はなく常法に従えばよい。
There is no particular need to change the image exposure of the negative 28 plate processed by the processing method of the present invention, and a conventional method may be used.

本発明に用いられる現像液としては水系アルカリ現像液
が好ましく、水系アルカリ現像液のうちジアゾ化合物等
を感光性物質としたネガ型28版に対しては、アルカリ
剤、有機溶剤、アニオン型界面活性剤、亜硫酸塩等で水
を溶媒として含ませたものが用いられる。
The developer used in the present invention is preferably an aqueous alkaline developer. Among the aqueous alkaline developers, for the negative 28 plate which uses a diazo compound or the like as a photosensitive material, alkaline agents, organic solvents, anionic surfactants, etc. Agents, sulfites, etc. impregnated with water as a solvent are used.

アルカリ剤としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナ
トリウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸カリフム
、第ニリン酸カリウム、第三リンN17ンモニウム、第
ニリン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アン
モニウムなどのような無機アルカリ剤、モノ、ジ、又は
トリエタノールアミン及び水酸化テトラフルキルアンモ
ニウムのような有機アルカリ剤及び有機珪酸アンモニウ
ム等が有用である。
Examples of alkaline agents include sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, sodium diphosphate, potassium diphosphate, potassium diphosphate, N17 ammonium tertiary phosphate, and sodium diphosphate. Inorganic alkaline agents such as ammonium diphosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, etc., organic alkaline agents such as mono-, di-, or triethanolamine and tetraflukylammonium hydroxide; Organic ammonium silicates and the like are useful.

アルカリ剤の現像液組成物中における含有量(±0.0
5〜20重量パーセントの範囲で用−るのが好適であり
、より好ましくは0.1〜10重量パーセントである。
Content of alkaline agent in developer composition (±0.0
It is suitable to use it in a range of 5 to 20 weight percent, more preferably 0.1 to 10 weight percent.

有機溶剤としてはエチレングリコールモノ7エ二ルエー
テル、ベンジルアルコール、n−プロピルアルコール等
が有用である。
Ethylene glycol mono-7 enyl ether, benzyl alcohol, n-propyl alcohol, etc. are useful as organic solvents.

有機溶剤の現像液11成物中における含有量としては0
.5〜15重量パーセントが好適であり、より好ましい
範囲としては1〜5重量パーセントである。
The content of organic solvent in developer solution 11 is 0.
.. A range of 5 to 15 weight percent is preferred, with a more preferred range of 1 to 5 weight percent.

アニオン型界面活性剤としては、高級アルコール(Cs
 −C22)硫酸エステル塩jl[[例えば、ラウリル
アルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアル
コールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコー
ルサルフェートのアンモニウム塩、rTeepol B
−81J(商品名・シェル化学製)、11<二fトリウ
ムフルキルサル7ヱートなどl、脂肪族アルコールリン
酸エステル塩類(例えば、セチルアルコールリン酸エス
テルのナトリウム塩など)、アルキルアリールスルホン
酸塩類(例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリ
ウム塩イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム
塩、シナフタリンジスルホン酸のナトリウム塩、メタニ
トロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキ
ルアミドのスルホ酸塩類 (例えば、C1tf13)CONCHzCH*SO3N
aなど)、二塩基CH。
As anionic surfactants, higher alcohols (Cs
-C22) Sulfuric ester salts [[For example, sodium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, rTeepol B
-81J (trade name, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.), 11<2f thorium furkyl sal 7 ethyl, aliphatic alcohol phosphate ester salts (e.g., sodium salt of cetyl alcohol phosphate ester, etc.), alkylaryl sulfonates (e.g., sodium salt of dodecylbenzenesulfonic acid, sodium salt of isopropylnaphthalenesulfonic acid, sodium salt of sinaphthalene disulfonic acid, sodium salt of metanitrobenzenesulfonic acid, etc.), sulfonic acid salts of alkylamides (e.g., C1tf13) CONCHzCH*SO3N
a), dibasic CH.

性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウ
ムスルホフハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスル
ホコハク酸ジヘキシルエステルなど)がある。これらの
中で特にスルホン酸塩類が好適に用いられる。
Examples include sulfonate salts of fatty acid esters (eg, sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sodium sulfosuccinate dihexyl ester, etc.). Among these, sulfonate salts are particularly preferably used.

亜硫酸塩としては、水溶液で水不溶性ジアゾ樹脂を溶解
する憎さを有し、特に疎水性樹脂と組合せた感光層から
成る28版の現像において、製造後長期間経過した版材
でも汚れのない印刷版を作ることが出来る。
Sulfites have the tendency to dissolve water-insoluble diazo resins in aqueous solutions, and are particularly effective in developing 28 plates consisting of a photosensitive layer combined with a hydrophobic resin, resulting in stain-free printing even after a long period of time has passed since manufacture. You can make a version.

亜硫酸塩としではナトリウム、カリウム、リチウムのご
ときアルカリ金属および、マグネシウムのごときアルカ
リ土類金属塩等が有用である。
Useful sulfites include alkali metal salts such as sodium, potassium, and lithium, and alkaline earth metal salts such as magnesium.

他方、O−キ/ンシアジド化合物を含む感光層を有する
ポジ型PS版に対しては上記アルカリ剤を0゜1〜30
重量パーセント、好ましくは0.5〜20重1ノ(−セ
ント含有した水溶液が用いられ通常pH9〜13の範囲
で用いられる。
On the other hand, for a positive PS plate having a photosensitive layer containing an O-quine/cyazide compound, the alkali agent was added at 0°1 to 30°C.
An aqueous solution containing 0.5 to 20% by weight, preferably 0.5 to 20% by weight, is used, and is usually used at a pH in the range of 9 to 13.

このような現像液には更に現像性能を高めるために以下
の様な添加剤を加えることができる。例えば、特開昭5
8−75152号公報記載のNaC11,KCIKBr
等の中性塩、特開昭58−190952号公報記載のE
DTA、NTA等のキレート剤、特開昭59−1213
36号公報記載の[Co(旧’1)1iC12、CoC
j!z ” 611□0等の錯体、特開昭50−513
24号公報記載のフルキルナフタレンスルホン酸ソーダ
、N−テトラデシル−N1N−ノヒドロキシエチルベタ
イン等の7ニオン又は両性界面活性剤、米国特許第43
74920号明細書記載のテトラメチルデシンジオール
等の非イオン性界面活性剤、特開昭55−95946号
公報記載の1)−ツメチルアミノメチルポリスチレンの
メチルクロライド4級化物等のカテオニツクポリマー、
特開昭56−1425289 公報記載のビニルベンジ
ルトリメチルアンモニウムクロライドと7クリル酸ソー
ダの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭57−19
295Z号公報記載の亜硫酸ソーダ等の還元性無機塩、
特開昭58−59444号公報記載の塩化リチウム等の
無機リチウム化合物、特公昭50−34442号公報記
載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特開昭
59−75255号公報記載のSi、 Ti等を含む有
機金属界面活性剤、特開昭59−84241号公報記載
の有機はう素化合物、ヨーロッパ特許第101010号
明細書記載のテトラアルキルアンモニウムオキサイド等
の4級アンモニウム塩、ベンジルアルコールエチレング
リコールモノフェニルエーテル等の有機溶剤等があげら
れる。
The following additives can be added to such a developer in order to further improve the developing performance. For example, JP-A-5
NaC11, KCIKBr described in Publication No. 8-75152
Neutral salts such as E described in JP-A-58-190952
Chelating agents such as DTA and NTA, JP-A-59-1213
[Co (old '1)1iC12, CoC described in Publication No. 36
j! Complexes such as z”611□0, JP-A-50-513
Heptanionic or amphoteric surfactants such as sodium flukylnaphthalene sulfonate and N-tetradecyl-N1N-nohydroxyethylbetaine described in Publication No. 24, U.S. Patent No. 43
Nonionic surfactants such as tetramethyldesynediol described in JP-A-55-95946, cathodic polymers such as methyl chloride quaternized product of 1)-trimethylaminomethylpolystyrene described in JP-A-55-95946;
Ampholytic polymer electrolytes such as copolymers of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium heptacrylate described in JP-A-56-1425289, JP-A-57-19
Reducing inorganic salts such as sodium sulfite described in Publication No. 295Z,
Inorganic lithium compounds such as lithium chloride described in JP-A No. 58-59444, organic lithium compounds such as lithium benzoate described in JP-A-50-34442, Si, Ti, etc. described in JP-A-59-75255. organometallic surfactants containing, organic boron compounds described in JP-A-59-84241, quaternary ammonium salts such as tetraalkylammonium oxides described in European Patent No. 101010, benzyl alcohol ethylene glycol monophenyl Examples include organic solvents such as ether.

上記のような現像液で、画像露光された28版を現像す
る方法としては従来公知の種々の方法が可能である。具
体的には、画像露光された28版の感光層に対して多数
のノズルから現像液を噴射する方法、現像液が湿潤され
たスポンジで当該28版の感光層を拭う方法、当該28
版の感光層の表面に現検液をローラーで塗布する方法な
どが挙げられる。
Various conventionally known methods can be used to develop the image-exposed 28 plate using the developer described above. Specifically, a method of spraying a developer from a number of nozzles onto the image-exposed photosensitive layer of the 28th plate, a method of wiping the photosensitive layer of the 28th plate with a sponge moistened with a developer, and a method of wiping the photosensitive layer of the 28th plate with a sponge moistened with the developer.
Examples include a method of applying a current test solution to the surface of the photosensitive layer of the plate using a roller.

またこのようにして28版の感光層に現7像液が施され
た後、感光層の表面をブラシなどで軽く擦ることもでき
る。現像条件は、上記の現像方法に応じて、適宜決定す
ればよい。
Further, after the developer is applied to the photosensitive layer of the 28th plate in this manner, the surface of the photosensitive layer can be lightly rubbed with a brush or the like. Development conditions may be determined as appropriate depending on the above-mentioned development method.

現像液は、前述したネガ用現像液およびボッ用現像液を
自動現像機内の各々の経路を循環させて循環再使用する
。この時、28版の現像処理はネガ型28版およびポジ
型23版共に自動現像機の共通の現像処理槽を使用して
行われる。具体的にはネガ用現像液およびポジ用現像液
を各々専用の現像液貯蔵槽に貯蔵し現像処理する28版
がネガ型28版の場合には、共通の現像処理ゾーンへネ
ガ用現像液を供給し、ポジ型23版の場合には共通の現
像処理槽ヘボノ用現像液を供給する。使用された現像液
の回収経路には切換弁と設はネガ用、ボッ用の現像液は
それぞれ元の貯蔵槽に還流するようにすればよい。
The developing solution is reused by circulating the above-mentioned negative developing solution and blank developing solution through respective paths within the automatic developing machine. At this time, the development of the 28th plate is carried out using a common developing tank of an automatic developing machine for both the 28th negative plate and the 23rd positive plate. Specifically, if the 28th plate is a negative 28th plate, in which the negative developer and positive developer are stored and developed in dedicated developer storage tanks, the negative developer is stored in a common development processing zone. In the case of a positive type 23 plate, a developer for a common development processing tank is supplied. A switching valve may be installed in the recovery path of the used developer so that the developer for negative and blanks can be returned to their original storage tanks.

前記のような処理工程の例としては、例えば実開昭54
−151401号公報に記載の方法が挙げられる。
As an example of the above-mentioned treatment process, for example,
The method described in JP-A-151401 can be mentioned.

本発明においては処理する28版の型に応じて現像液を
切換えるため28版の品種を識別する必要がある。
In the present invention, it is necessary to identify the type of 28 plates in order to change the developer depending on the type of 28 plates to be processed.

現像処理する28版の品種の識別法には人為的に行う方
法あるいは自動的に行う方法がある。人為的に行う方法
には例えばボタン操作により識別する方法が挙げられる
。自動的に行う方法には、例えば光学的に感光層の光学
的濃度を測定し識別する方法あるいは感光層の分光吸収
を測定する方法、あるいは電気的に感光層のインピーダ
ンスを測定する方法、あるいは磁気カードなどのメモリ
素子に記憶させた信号を読み取らせる方法、あるいはバ
ーコードに記憶させた信号を読み取らせる方法などが挙
げられる。
There are two methods for identifying the type of 28 plates to be developed: an artificial method or an automatic method. Examples of the artificial method include a method of identifying by button operation. Automatic methods include, for example, optically measuring and identifying the optical density of the photosensitive layer or measuring the spectral absorption of the photosensitive layer, or electrically measuring the impedance of the photosensitive layer, or magnetically determining the optical density of the photosensitive layer. Examples include a method of reading a signal stored in a memory element such as a card, or a method of reading a signal stored in a bar code.

またさらにこれらの28版の現像処理あるいは空気中の
炭酸がスの吸収などによる現像液の疲労に応じて現像補
充液を補充してもよい。現像補充液は従来公知の種々の
もの、現像補充液補充方法は従来公知の種々の方法が可
能である。
Furthermore, the developer replenisher may be replenished in response to exhaustion of the developer due to development processing of these 28 plates or absorption of carbon dioxide in the air. Various conventionally known developer replenishers can be used, and various conventionally known methods can be used to replenish the developer replenisher.

このようにして現像されて得られた平版印刷版はスクィ
ーズして、版面上の現像液が量を少なくなる様にするこ
とが好ましく、スクィーズされた後に残在する平版印刷
版の版面上の現像液の量は10 ts Q / +a 
”以下であることが好ましい。
It is preferable to squeeze the lithographic printing plate obtained by developing in this way so that the amount of developer on the plate surface is reduced. The amount of liquid is 10 ts Q/+a
``It is preferable that the following.

得られた平版印刷版は次に不感脂化処理される。The resulting lithographic printing plate is then desensitized.

不感脂化処理は非画像部の不感脂化や画像部および非画
像部の保護などの目的を有する。
The desensitizing treatment has the purpose of desensitizing the non-image area and protecting the image area and the non-image area.

不感脂化処理に使用される不感脂化処理液は親水性高分
子を主成分として成り、親水性高分子としては皮膜形式
能のある水溶性樹脂が好ましく、例えばデキストリン、
アラビアガム、例えばアルギン酸ナトリウムのようなア
ルギン酸塩、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、メチルセルロースなどの水溶性セル
ロース類、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、ポリアクリルアミド、アクリルアミド単位を含む水
溶性共重合体、ビニルメチルエーテルと無水マレイン酸
との共重合体、酢酸ビニルと無水マレイン酸との共重合
体などが挙げられる。これらの内、特に好ましいものは
アラビアガム、デキストリン、ポリビニルピロリドン、
カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコールで
ありデキストリンが最も好ましい。これらの水溶性高分
子化合物は単独または2種類以上組合わせて使用できる
。水溶性高分子化合物の濃度は広範囲のにわたって変化
し得るが、一般的には不感脂処理液の総重量に対して5
〜40重量%、好まし°くは10〜30重量%の範囲で
使用される。
The desensitizing liquid used in the desensitizing process is mainly composed of a hydrophilic polymer, and the hydrophilic polymer is preferably a water-soluble resin with film-forming ability, such as dextrin,
gum arabic, alginates such as sodium alginate, water-soluble celluloses such as carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, methylcellulose, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide, water-soluble copolymers containing acrylamide units, vinyl methyl ether and anhydrous Examples include copolymers with maleic acid, copolymers with vinyl acetate and maleic anhydride, and the like. Among these, particularly preferred are gum arabic, dextrin, polyvinylpyrrolidone,
Carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol and dextrin are most preferred. These water-soluble polymer compounds can be used alone or in combination of two or more. The concentration of the water-soluble polymer compound can vary over a wide range, but is generally 5% by weight based on the total weight of the desensitizing solution.
It is used in an amount of up to 40% by weight, preferably 10 to 30% by weight.

また不感脂化処理には親油性物質を含有することが好ま
しい。親油性物質としては、画像部の感脂性の低下を防
止するものであればどの様ならのでも構わないが、好ま
しい親油性物質としては、平版印刷用インクのベヒクル
として使用される親油性樹脂がある。具体的にはフェノ
ールホルムアルデヒドO(脂、クレゾールホルムアルデ
ヒド01 Jolt、t−ブチル7エ7−ルホルムアル
デヒドIH脂などのノボラック型フェノール樹脂、フェ
ノールとキシレンをホルムアルデヒドで縮合させたキシ
レン樹脂、フェノールとメシチレンとホルムアルデヒド
で縮合させた樹脂、ポリヒドロキシスチンン、ブロム化
ポリヒドロキシスチレン、カシュー拮4脂、スチレンと
無水マレイン酸の共重合体のIts分エステル化物、メ
ラミン樹脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキ
シ樹脂、ロジン、例えば水素添加ロジン、ロジンエステ
ルなどの変性ロジン、例えばギルツナイトなどの石油樹
脂などを挙げることができる。これらの内、好ましいも
のは/ボラック型フェノール樹脂、キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ブロム化ポリヒドロキシスチレン
、カシューrHBけであり、待に分子量が約300〜約
20000のものが好ましい。他の好ましい親油性物質
には例えばオレイン酸、ラウリン酸、吉草酸、7二ル酸
、カプリン酸、ミスチリン酸、バルミチン酸などのよう
な炭素数5〜25の有機カルボン酸、ひまし油などが合
本れる。これらの親油性物質は単独または2以上組合わ
せて使用することができ、その濃度には特に制限はない
が、約0.1〜約lO重量%の範囲で使用することが一
般的はである。これらの親油性物質は例えば不感脂化処
理液中に、微細な固体粒子状で分散含有させたり、適当
な溶剤に溶解させた状態で乳化分散させたりして用(S
ることができる。
Further, it is preferable to contain a lipophilic substance in the desensitization treatment. Any lipophilic substance may be used as long as it prevents a decrease in the oil sensitivity of the image area, but preferred lipophilic substances include lipophilic resins used as vehicles for lithographic printing inks. be. Specifically, novolac type phenol resins such as phenol formaldehyde O (fat, cresol formaldehyde 01 Jolt, t-butyl 7-ethyl formaldehyde IH fat, xylene resin made by condensing phenol and xylene with formaldehyde, phenol, mesitylene and formaldehyde) resin condensed with polyhydroxystyrene, brominated polyhydroxystyrene, cashew ester, esterified product of copolymer of styrene and maleic anhydride, melamine resin, alkyd resin, polyester resin, epoxy resin, rosin For example, hydrogenated rosin, modified rosin such as rosin ester, petroleum resin such as Giltonite, etc. are preferred. Among these, preferred are /borac type phenolic resin, xylene resin, polyhydroxystyrene, brominated polyhydroxy Styrene, cashew RHB, etc., preferably having a molecular weight of about 300 to about 20,000.Other preferred lipophilic substances include oleic acid, lauric acid, valeric acid, hexadialic acid, capric acid, mystylic acid. , organic carboxylic acids having 5 to 25 carbon atoms such as valmitic acid, castor oil, etc. These lipophilic substances can be used alone or in combination of two or more, and there are no particular restrictions on their concentration. However, it is generally used in the range of about 0.1 to about 10% by weight.These lipophilic substances may be dispersed and contained in the desensitizing treatment liquid in the form of fine solid particles. It is used by emulsifying and dispersing it in a suitable solvent (S
can be done.

また不感脂化処理液中には酸を含有させることができる
。含有させる酸には、例えば燐酸、ピロ燐酸、ポリ燐酸
、第1燐酸ナトリツム、硼酸、塩酸、硫酸、硝酸などの
無機酸、例えばこはく酸、蓚酸、くえん酸、マレイン酸
、乳酸、1]−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸などの有PIi酸が使用でき、これらは単独または2
以上組合わせて使用される。これらの中でも特に燐酸お
よびこはく酸は平版印刷版の非画像部を不感脂化する作
用を有しているので好ましい、P&の使用量は、不感脂
化処理液のpn?)を酸性域となる様な量で使用するこ
とが好ましい。より好ましいのは9Hが約1〜5の範囲
になる様な量で使用することである。
Further, an acid can be contained in the desensitizing treatment liquid. Examples of the acids to be contained include inorganic acids such as phosphoric acid, pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid, monosodium phosphate, boric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid, such as succinic acid, oxalic acid, citric acid, maleic acid, lactic acid, and 1]-toluene. PIi acids such as sulfonic acid and benzenesulfonic acid can be used, and these may be used alone or in combination.
The above are used in combination. Among these, phosphoric acid and succinic acid are particularly preferred because they have the effect of desensitizing the non-image areas of the lithographic printing plate.The amount of P& used is determined by the pn? ) is preferably used in an amount that is in the acidic range. More preferably, it is used in an amount such that 9H is in the range of about 1 to 5.

また、上記の燐酸またはこはく酸の不感脂化作用を活用
したい場合には、不感脂化、処理液の統重量に対して約
0.1〜約10重量%の範囲で使用することが好ましい
Further, when it is desired to take advantage of the desensitizing effect of the above-mentioned phosphoric acid or succinic acid, it is preferable to use it in an amount of about 0.1 to about 10% by weight based on the total weight of the desensitizing and processing solution.

また、不感脂化処理液には、界面活性剤を含有させるこ
とができる。界面活性剤には種々のものを使用すること
ができ、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類
、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポ
リオキシエチレン脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エス
テル類、グリセリン脂肪酸エステル類などの非イオン界
面活性剤、例えば脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステル塩
類、アルキルベンゼンスルホン酸[1[、アルキルナフ
タレンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホこはく酸エス
テル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ナフタレンスル
ホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキル
硫酸エステル塩類などのアニオン界面活性剤、例えばア
ルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類、ポリオキ
シエチレンアルキルアミン塩類などのカチオン界面活性
剤、および例えばアルキルベタインなどのベタイン系界
面活性剤に代表される両性界面活性剤を例示することが
できる。界面活性剤は不感脂化処理の統重量に対して約
o、oi〜約5重量%の範囲で使用することが好ましい
Further, the desensitizing treatment liquid can contain a surfactant. Various surfactants can be used, such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters. , nonionic surfactants such as glycerin fatty acid esters, such as fatty acid salts, alkyl sulfate ester salts, alkylbenzenesulfonic acid [1], alkylnaphthalene sulfonates, dialkyl sulfosuccinate ester salts, alkyl phosphate ester salts, naphthalene sulfonic acid Formalin condensates, anionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl sulfate salts, cationic surfactants such as alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and betaines such as alkylbetaines. Examples include amphoteric surfactants typified by surfactants. The surfactant is preferably used in an amount of about 0.0 to about 5% by weight based on the total weight of the desensitizing treatment.

また不感脂化処理液には湿潤剤を含有させることができ
る。これにより不感脂化処理液が平版印刷版の版面へ適
度に拡がる特性を付与できる。かかる湿潤剤の好ましい
ものは多価アルコールであり、好ましい具体例としては
、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、プロピレングリコール、ブチレング
リコール、ベンタンノオール、ヘキシレングリフール、
テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、
ノブロピレングリコール、トリプロピレングリコール、
グリセリン、ゾルビトール、ペンタエリスリトールなど
が挙げられる。湿潤剤は不感脂化処理液の統重量に対し
て約0.1〜約5重量%の範囲で使用することが好まし
い。
Further, the desensitizing treatment liquid can contain a wetting agent. This allows the desensitizing treatment liquid to be imparted with the property of spreading appropriately over the plate surface of the lithographic printing plate. Preferred such wetting agents are polyhydric alcohols, and preferred specific examples include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, bentanol, hexylene glycol,
Tetraethylene glycol, polyethylene glycol,
nopropylene glycol, tripropylene glycol,
Examples include glycerin, sorbitol, and pentaerythritol. The wetting agent is preferably used in an amount of about 0.1 to about 5% by weight based on the total weight of the desensitizing solution.

また不感脂化処理液には、水溶性塩を含有させておくこ
とができる。好ましい水溶性塩にはアルカリ金属塩およ
びアンモニウム塩が含まれ、特に好ましいものは酢酸、
モリブデン酸、硼酸、硝酸、硫酸、燐酸、およびポリ燐
酸のような酸の水溶性アルカリ金属塩およびアンモニウ
ム塩が含まれる。
Further, the desensitization treatment liquid may contain a water-soluble salt. Preferred water-soluble salts include alkali metal salts and ammonium salts, particularly preferred are acetic acid,
Included are water-soluble alkali metal and ammonium salts of acids such as molybdic acid, boric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and polyphosphoric acid.

具体的には酢酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウム、モリブデン酸ナトリウム、モリブテン酸カリウ
ム、硼酸ナトリウム、硼酸アンモニウム、硝酸リチウム
、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、第二燐酸すFリウム
、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸カリウム、第三燐酸カ
リウム、第三燐酸アンモニウム、ポリ燐酸ナトリトウム
などが挙げられる。かかる水溶性塩は、単独または2以
上組合わせて使用することができ、不感脂化処理液の総
重量に対して約0.01〜約5%の範囲で使用すること
が好ましい。
Specifically, ammonium acetate, sodium acetate, potassium acetate, sodium molybdate, potassium molybutate, sodium borate, ammonium borate, lithium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, dibasic F phosphate, tribasic sodium phosphate, dibasic phosphate. Examples include potassium, potassium triphosphate, ammonium triphosphate, and sodium polyphosphate. Such water-soluble salts can be used alone or in combination of two or more, and are preferably used in an amount of about 0.01 to about 5% based on the total weight of the desensitizing treatment liquid.

本発明の不感脂化処理方法においては、現像処理により
得られた平版印刷版に対して水洗工程を経ずに、ネガ用
およびポジ用、それぞれ専用の不感脂化処理液を同一の
不感脂化処理槽を使用して循環再使用しながら共給する
In the desensitization treatment method of the present invention, the lithographic printing plate obtained by development treatment is desensitized using the same desensitization treatment solution for negative and positive use, without going through a water washing process. It is co-supplied while being recycled and reused using a treatment tank.

上記の具体的方法には、例えば次のような方法が早げら
れ。ネガ用不感脂化処理液およびポジ用不感脂化処理液
を各々専用の不感脂化処理液貯蔵槽に貯蔵し、不感脂化
処理する平版印刷版がネガ型の場合には、共通の不感脂
処理槽へ、ネγ用不患脂化処理液を共給し、不感脂化処
理する平版印刷版がボッ型の場合には共通の不感脂化処
理槽ヘポノ用不感脂化処理液を共給する。さらに、これ
らネガ用およびポジ用不感脂化処理液は弁などで、循環
路を切り換えることにより、同一不感脂化処理槽を用い
て、各々、循環再使用する。
Examples of the above-mentioned specific methods include the following methods. The negative desensitizing liquid and the positive desensitizing liquid are stored in dedicated desensitizing liquid storage tanks, and if the lithographic printing plate to be desensitized is a negative type, a common desensitizing liquid is used. Co-supply the anti-lipidizing treatment liquid for Negamma to the processing tank, and if the lithographic printing plate to be desensitized is a flat type, supply the desensitizing processing liquid for Hepono to the common desensitizing treatment tank. do. Further, these negative and positive desensitization processing solutions can be circulated and reused using the same desensitization tank by switching the circulation paths using a valve or the like.

平版印刷版上に、不感脂化処理液を共給する方法には例
えばノズルやシャワーパイプなどから不感脂化処理液を
噴射する方法、不感脂化処理液が湿潤されたスポンジな
どで平版印刷版の版面を拭う方法、平版印刷版の版面に
不感脂化処理液をローラーなどで塗布する方法などが早
げられる。
Examples of methods for supplying the desensitizing liquid onto the planographic printing plate include spraying the desensitizing liquid from a nozzle or shower pipe, and applying the desensitizing liquid to the planographic printing plate using a sponge moistened with the desensitizing liquid. Methods such as wiping the plate surface of a lithographic printing plate, and applying a desensitizing treatment liquid to the plate surface of a lithographic printing plate using a roller or the like can be used to speed up the process.

また前記不感脂化処理液の共給方法は1つの方法のみを
用いてもよいし、2つ以上の方法を組み合わせて用いて
もよい。このようにして平版印刷版の版面に不感脂化処
理を共給した後あるいは共給しながら平版印刷版の版面
をブラシなどの擦り部材で軽く擦ることもできる。また
これらの擦り部材と前記の不感脂化処理液貯蔵槽段とは
一体化されでいてもよい。
Further, as the method for co-supplying the desensitizing treatment liquid, only one method may be used, or two or more methods may be used in combination. After or while co-applying the desensitizing treatment to the surface of the lithographic printing plate in this manner, the surface of the lithographic printing plate can be lightly rubbed with a rubbing member such as a brush. Further, these rubbing members and the desensitizing liquid storage tank stage may be integrated.

本発明に使用されるネガ型PS版用及びポジ型23版用
の不感脂化液はPS版の性質により、同一組成のもので
あっても、別個の専用組成のものであってもよい。但し
同一組成のものを用いる場合においてもネガ型18版に
使用される液とボン型25版に使用される液は、前記の
通り別個の貯M′M4に貯蔵し、特定の型のPS版に対
してのみ循環使用する。
The desensitizing liquid for the negative PS plate and the positive 23rd plate used in the present invention may have the same composition or may have a separate dedicated composition depending on the properties of the PS plate. However, even when using the same composition, the liquid used for the negative type 18th plate and the liquid used for the Bonn type 25th plate are stored in separate storage M'M4 as described above, and the liquid used for the PS plate of a specific type is stored in separate storage M'M4. Use cyclically only for

ネガ型ポジ型それぞれのPS版に対する最良の不感脂化
液組成が異なる場合には各専用の液を調製して使用すれ
ばよい。
If the best desensitizing liquid composition for each negative or positive PS plate is different, a dedicated liquid may be prepared and used for each.

また不感脂化処理した後に、平版印刷版の版面に塗布さ
れている不感脂化処理液の塗布量は乾燥塗布重量で0.
1g/+品2〜1.5g/m”が好ましい。
Further, after the desensitization treatment, the coating amount of the desensitization treatment liquid applied to the plate surface of the lithographic printing plate is 0.00% by dry coating weight.
1 g/+ product 2 to 1.5 g/m'' is preferred.

また、不感脂化処理液の疲労および/あるいは持ち出し
による量の減少に応じて不感脂化処理液の補充液を補充
することができる。
Furthermore, a replenisher for the desensitizing solution can be replenished in response to a decrease in the amount of the desensitizing solution due to fatigue and/or carry-out.

以下、実施例で本発明を更に具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例 す7トキノン1.2−:/アットー5−スルホニルクロ
ライドとレゾルシン−ベンズアルデヒド樹脂とのエステ
ル化物(特開昭56−1044号公報の実施例−1に記
載のもの)3重量部、クレゾール7ボラツクリI脂、9
重量部およびビクトリア・ピュア・ブルー・Boll(
保土谷化学工業株式会社製染料)0.12重量部をメチ
ルセロソルブ100重量部に溶解し感光液を調製した。
Example 7 3 parts by weight of esterified product of toquinone 1.2-:/atto-5-sulfonyl chloride and resorcinol-benzaldehyde resin (as described in Example 1 of JP-A-56-1044), cresol 7 Boratsukuri I fat, 9
Weight parts and Victoria Pure Blue Boll (
A photosensitive solution was prepared by dissolving 0.12 parts by weight of dye (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.) in 100 parts by weight of methyl cellosolve.

厚さ0.3111他の砂目立てしたアルミニウム板を硫
酸中で陽極酸化し、約2.5g/+n2の酸化皮膜をつ
くり、よく洗浄した後乾燥し、その上に上記感光液を塗
布乾燥し約2.5g/l112の感光層を有するポジ型
28版を得た。
A grained aluminum plate with a thickness of 0.3111 mm was anodized in sulfuric acid to form an oxide film of about 2.5 g/+n2, washed thoroughly and dried, and the above photosensitive solution was applied on it and dried. A positive type 28 plate having a photosensitive layer of 2.5 g/l112 was obtained.

またパラヒドロキシ7ニニルメタクリルアミド、アクリ
ロニトリル、エチルアクリレート、及びメタアクリル酸
の共重合体(モル比は上記の順に、8.5:24:60
.5ニア)           5.0重量部P−ジ
アゾジン7よニルアミンとバラホルムフルテ゛ヒト縮合
物のへキサフルオロリン酸塩 0.5重量部 ビアトリアビニアープルーBoil(保土ケ谷化学工業
(株)製)0.1重量部 をメチルセロソルブ100重量部に溶解調製した感光液
を用意した。次に厚さ0.24I6IIlの砂目立てし
たアルミニウム板を硫酸中で陽極酸化し、約2g/m2
酸化皮膜をつくり、よく洗浄した後、珪酸す) +7ウ
ム水溶液に浸漬し、充分水洗後、乾燥することにより得
られた、支持体上に上記組成の感光液を塗布乾燥し、約
1.8g/@2の感光層を有するネガ型PS版を得た。
Also, a copolymer of parahydroxy 7-ninyl methacrylamide, acrylonitrile, ethyl acrylate, and methacrylic acid (molar ratio is 8.5:24:60 in the above order).
.. 5.0 parts by weight Hexafluorophosphate of a condensate of P-diazodine 7-yonylamine and paraform fluorite 0.5 parts by weight Biatoria vinyl blue boil (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0 A photosensitive liquid was prepared by dissolving .1 part by weight in 100 parts by weight of methyl cellosolve. Next, a grained aluminum plate with a thickness of 0.24I6IIl was anodized in sulfuric acid, and approximately 2g/m2
After forming an oxide film and washing thoroughly, the photosensitive solution having the above composition was applied onto the support obtained by immersing it in a +7um aqueous solution, thoroughly washing with water, and drying it, and dried it to give about 1.8 g. A negative PS plate having a photosensitive layer of /@2 was obtained.

このようにして得られたボン型およびネガ型ps版を1
003X 800ml11の大きさに裁断したものを多
数枚用意した。
The Bonn type and negative type PS plates obtained in this way were
A large number of sheets cut to a size of 003X 800ml11 were prepared.

次にポジ型18版を透明陽画を通して80c論の距離か
ら2kHのメタルハライドランプを用いて60秒間露光
した。また、ネガ型23版には、透明陰画を通して同じ
条件で30秒間露光した。
The positive type 18 plate was then exposed through a transparency for 60 seconds from a distance of 80 cm using a 2 kHz metal halide lamp. In addition, the negative type 23 plate was exposed for 30 seconds under the same conditions through a transparent negative.

一方、ボッ型PS版用現像液および現像補充液としてケ
イ素カリウム水溶液(SiO=含量26重量%、K20
含量13重量%)、水酸化カリウム水溶@(48重量%
水溶液)および純水を用いてSiO□とに、Oとのモル
比率((Si02)/(K2O))が1.78でに20
のモル濃度が3.90モル/Qの現像液およびケイ酸分
とカリウムのモル比率(5i027に20 )が0.8
8、K、0のモル濃度が7.78モル/Qの現像補充液
をil!i!Iした。
On the other hand, a potassium silicon aqueous solution (SiO = content 26% by weight, K20
Content: 13% by weight), potassium hydroxide aqueous solution@(48% by weight)
Aqueous solution) and pure water were used to prepare SiO□ with a molar ratio of O ((Si02)/(K2O)) of 1.78 and 20
A developing solution with a molar concentration of 3.90 mol/Q and a molar ratio of silicic acid to potassium (20 to 5i027) of 0.8
A developer replenisher with a molar concentration of 8, K, 0 of 7.78 mol/Q is used as il! i! I did it.

さらにネガ型PS版用現像液として以下の組成のものを
用意した。
Furthermore, a developer having the following composition was prepared as a developer for a negative PS plate.

エチレングリコールモノフェニルエーテル40重量部 ジェタノールアミン       10重量部11−ブ
チルナフタレンスルホン酸ナトリウム12重量部 消泡剤(SN−5512東レシリコーン(株)社N)0
.05重量部 水                 937重量部ま
た、さらに第1図に示す自動現像機を用意した第1図に
おいて1は現像処理槽、2は搬送ローラ、3は絞りロー
ラ、4は受ローラ、5はブラシローラ、6はポジ用現像
液貯蔵槽、6′はボッ用現像補充液用貯蔵槽、7はポジ
用シャワーパイプ、8はポジ現像液用ポンプ、8′はポ
ジ用現像補充゛液用ポンプ、9はネガ用現像液貯蔵槽、
10はネガ用シャワーパイプ、11はネガ現像液用ポン
プ、12は流路切換弁である。13は不感脂化処理槽、
14はボッ用不感脂化処理液用ポンプ、15はボッ用不
感脂化処理貯蔵槽、16はネガ用不感脂化処理液用ポン
プ、17はネガ用不感脂化処理液貯蔵槽である。18は
処理するPS版の品種を識別する光反射センサーであす
、19はその品種情報によりポンプの作動お上り流路切
換弁の制御をする制御装置である。
Ethylene glycol monophenyl ether 40 parts by weight Jetanolamine 10 parts by weight Sodium 11-butylnaphthalenesulfonate 12 parts by weight Antifoaming agent (SN-5512 Toray Silicone Co., Ltd. N) 0
.. 05 parts by weight Water 937 parts by weight Furthermore, in FIG. 1, the automatic developing machine shown in FIG. , 6 is a positive developer storage tank, 6' is a bottom developer replenisher storage tank, 7 is a positive shower pipe, 8 is a positive developer pump, 8' is a positive developer replenisher pump, 9 is a negative developer storage tank,
10 is a negative shower pipe, 11 is a negative developer pump, and 12 is a flow path switching valve. 13 is a desensitization treatment tank;
Reference numeral 14 denotes a pump for desensitizing treatment liquid for hair, 15 denotes a storage tank for desensitizing treatment for hair, 16 denotes a pump for desensitizing treatment liquid for negatives, and 17 denotes a storage tank for desensitizing treatment liquid for negatives. Reference numeral 18 is a light reflection sensor for identifying the type of PS plate to be processed. Reference numeral 19 is a control device for controlling the operating flow path switching valve of the pump based on the type information.

実施例1 前記ネガ用現像液およびボン用現像液を前記自動現像機
の対応する現像液貯aMIにそれぞれ40Qづつ仕込み
、また前記現像補充液を現像補充液貯蔵槽に30Q仕込
んだ。また下記組成の不感脂化処理液(^)を不感脂処
理液貯蔵槽15に15Q仕込んだ。
Example 1 40Q each of the negative developing solution and BON developing solution were charged into the corresponding developer storage aMI of the automatic processor, and 30Q of the developer replenisher was charged into the developer replenishing solution storage tank. Further, 15Q of a desensitizing liquid (^) having the following composition was charged into the desensitizing liquid storage tank 15.

不感脂化液(^) 7ラビ7〃ム          4重量部デキストリ
ン           16〃85%リン酸    
        0.3〃クエン酸         
    2 〃96%水酸化ナトリウム      0
.1#水                     
  100〃ノラウリルスルホこはく酸ナトリウム 2 〃 7K 172 *ジエチレンノニル7ヱこルエーテル1
 〃 ソルビタン脂肪酸エステル   1 〃ジオクチルアゼ
レート      2 〃オレイン酸        
    1 〃まな、さらに下記組成の不感脂化処理液
(B)を不感脂化処理液貯蔵槽17に15Q仕込んだ。
Desensitizing liquid (^) 7 Labyrinth 7〃mu 4 parts by weight Dextrin 16〃85% phosphoric acid
0.3 Citric acid
2 〃96% Sodium Hydroxide 0
.. 1# water
100 Sodium nolauryl sulfosuccinate 2 7K 172 *Diethylene nonyl 7 alcohol ether 1
〃 Sorbitan fatty acid ester 1 〃Dioctyl azelate 2 〃Oleic acid
1. Furthermore, 15Q of the desensitizing liquid (B) having the following composition was charged into the desensitizing liquid storage tank 17.

不感脂化液(B) デキストリン           200重量部メチ
ルセルロース        5 〃イソプロピルナフ
タレンスルホン酸ソーグ6 〃 アラビアガム          1 〃リン酸   
           0.6〃水         
               784〃また現像液の
温度はネガ用およびポジ用共に25℃に保ち、現像時間
は40秒になるようにした。
Desensitizing liquid (B) Dextrin 200 parts by weight Methyl cellulose 5 Isopropylnaphthalene sulfonic acid Sorg 6 Gum arabic 1 Phosphoric acid
0.6 water
784 In addition, the temperature of the developer was kept at 25° C. for both negative and positive samples, and the development time was set to 40 seconds.

またポジ用現像補充液は1服の現像処理の度毎に21m
(l補充し、現像処理とは無関係に1時間につき35m
Qの割合で補充するようにした。
In addition, 21 m of positive developer replenisher is used for each development process.
(1 replenishment, 35m per hour regardless of development process)
It is now replenished at the rate of Q.

不感脂化処理液(^)はポジ型平版印刷版の不感脂肪化
処理に用い、不感脂化処理液([1)はネガ型平版印刷
版の不感脂化処理に用いた。これらのネガ用あるいはポ
ジ用の現像液不感脂化処理液(^)あるいは(B)の選
択は、光反射センサー18の品種情報をもとに制御装置
19で行うようにした。さらに制御装置19で現像液共
給ポンプ8,11.不感脂化処理共給ポンプ14.16
、現像補充液用ポンプ8′の作動の制御および切換弁1
2の切換えの制御を行うようにした。
The desensitizing treatment liquid (^) was used to desensitize positive-working lithographic printing plates, and the desensitizing liquid ([1]) was used to desensitize negative-working lithographic printing plates. The selection of the developer desensitizing solution (^) or (B) for negative or positive use is performed by the control device 19 based on the product type information from the light reflection sensor 18. Further, the control device 19 controls the developer co-supply pumps 8, 11. Desensitized common feed pump 14.16
, control of the operation of the developer replenisher pump 8' and the switching valve 1
2 switching is controlled.

このようにして前記露光済みのネガ型18版およびポジ
版PS版を順不同で125版づつ合計250版処理しa
、但し50.too、150,200,250版目版目
ボy型ps版を処理し、49,99,149,199,
249.板目にはネガ型18版を処理するようにした。
In this way, the exposed negative 18 plates and positive PS plates were processed in random order for a total of 250 plates, 125 plates each.
, but 50. Too, 150, 200, 250th edition Boy type PS version processed, 49, 99, 149, 199,
249. The grain of the board was processed using a negative 18th plate.

これらの50版0ごとに処理したネガ型平版印刷版およ
びポジ型平版印刷版合計10版を印刷機にかけて印刷し
たところ、画像部のインキ着肉性はよ<10版ともすべ
て15枚以内で完全にインキが紙に転写された。また非
画像部の不感脂化作用を損うことがなく、地汚れは全く
生じず、優れた印刷物を得ることができた。
When a total of 10 negative planographic printing plates and positive planographic printing plates treated in each of these 50 plates were printed on a printing machine, the ink receptivity in the image area was good. The ink was transferred to the paper. Furthermore, the desensitizing effect of the non-image area was not impaired, and no scumming occurred at all, making it possible to obtain excellent printed matter.

実施例2 不感脂化処理!(B)のみを用いて実施例1と同様に処
理した。すなわち、不感脂化処理液貯蔵槽15およ11
7両方に不感脂化処理液(B)を仕込み、処理する28
版がポジ型の場合は貯蔵槽15に仕込んだ不感脂化処理
(B)を循環再使用し、ネガ型の場合は貯蔵槽17に仕
込んだ不感脂化処II液(B)を循環再使用して、版面
を不感脂化処理するようにした。不感脂化処理液(B)
を貯蔵槽15および17に各々15党づつ仕込んで実施
例1と同様にネガ型18版およびポジ型p’4を順不同
で125版づつ合計250版処理したところ、実施例1
と同様の結果が得られた。
Example 2 Desensitization treatment! The same treatment as in Example 1 was carried out using only (B). That is, the desensitization treatment liquid storage tanks 15 and 11
7. Fill both with desensitizing treatment liquid (B) and process 28.
If the plate is a positive type, the desensitization treatment (B) charged in the storage tank 15 is recycled and reused, and if the plate is a negative type, the desensitization treatment II solution (B) charged in the storage tank 17 is recycled and reused. Then, the plate surface was desensitized. Desensitizing treatment liquid (B)
15 plates each were placed in storage tanks 15 and 17, and 18 negative plates and 125 positive plates (P'4) were processed in random order in the same manner as in Example 1, for a total of 250 plates.
Similar results were obtained.

比較例 不感脂化処理液貯蔵[5に仕込んだ、不感脂化処理液(
B)のみを用いて実施例2と同様に処理した。
Comparative Example Desensitizing treatment liquid storage [5]
The same procedure as in Example 2 was carried out using only B).

すなわち、処理する28版がネガ型あるいはポジ型であ
るにかかわらず不感脂化処理液貯蔵槽15に仕込んだ不
感脂化処理1(B)を循環再使用して、版面な不感脂化
処理するようにした。不感脂化処理液(B)を貯蔵槽1
5に30Q仕込み、実施例2と同様にネガ型18版およ
びポジ型PS版を順不同で100版づつ合計200版処
理した。その後、200版目版目理したボッ型平版印刷
版を印刷機にかけて印刷したところ非画像部に地汚れを
生じ実用に耐乏ないものとなった。
That is, irrespective of whether the 28 plates to be treated are negative type or positive type, the desensitizing treatment 1 (B) charged in the desensitizing treatment liquid storage tank 15 is circulated and reused to desensitize the plate surface. I did it like that. Store the desensitizing solution (B) in tank 1.
Similarly to Example 2, 18 negative plates and 100 positive PS plates were processed in random order for a total of 200 plates. Thereafter, when the 200th edition grained round lithographic printing plate was printed on a printing machine, scumming occurred in the non-image area, making it unusable for practical use.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明により同一の自動現像機を用いてネガ、ポジ両タ
イプの28版を任意に混合して処理し、水洗廃水を生ず
ることなく、画像部のインキ着肉が良く非画像部の不感
脂性の良好な平版印刷版を得ることが可能となった。
According to the present invention, 28 plates of both negative and positive types are arbitrarily mixed and processed using the same automatic developing machine, and the ink adhesion in the image area is good and the non-image area is insensitive and non-greasy, without producing washing waste water. It became possible to obtain a good lithographic printing plate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は前記実施例に用いた、本発明の方法に適した自
動現像機の概要図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of an automatic processor suitable for the method of the present invention, which was used in the above embodiments.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 自動現像機を用いてネガ型感光性平版印刷版及び/また
はポジ型の感光性平版印刷版を自動的に搬送し、該自動
現像機の現像ゾーンにおいて、処理される感光性平版印
刷版の型に応じて、それぞれ別個の現像液貯蔵槽に貯え
らえ循環使用されるネガ型、又はポジ型感光性平版印刷
版用専用現像液を感光性平版印刷版面に供給して現像処
理し、次いで該版面に、感光性平版印刷版の型に応じて
それぞれ専用の不感脂化処理液を循環供給し、前記自動
現像機の同一の不感脂化処理槽において不感脂化処理を
行うことを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。
A negative-working photosensitive lithographic printing plate and/or a positive-working photosensitive lithographic printing plate are automatically conveyed using an automatic developing machine, and in the development zone of the automatic developing machine, the pattern of the photosensitive lithographic printing plate to be processed is A special developer for negative or positive photosensitive lithographic printing plates, which is stored in separate developer storage tanks and used for circulation, is supplied to the photosensitive lithographic printing plate surface for development processing, and then The plate surface is characterized by circulating and supplying a desensitizing treatment liquid dedicated to each type of photosensitive lithographic printing plate, and performing the desensitization treatment in the same desensitization treatment tank of the automatic developing machine. Method of processing photosensitive lithographic printing plates.
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