JPS62211392A - Method for removing internal gas from aluminum material - Google Patents
Method for removing internal gas from aluminum materialInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、アルミニウム材の脱ガス方法、特にアルミ
ニウム材の内部ガスを除去する方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a method for degassing aluminum materials, and more particularly to a method for removing internal gases from aluminum materials.
この明細書において「アルミニウム」という語は純アル
ミニウムのほかにすべてのアルミニウム合金を含む意味
で用いられる。また、「不活性ガス」という語は、周期
表のアルゴンガス、ヘリウムガス、クリプトンガス、キ
セノンガスの他にアルミニウムに対して不活性なチッ素
ガス等も含む意味で用いられる。In this specification, the term "aluminum" is used to include all aluminum alloys in addition to pure aluminum. Furthermore, the term "inert gas" is used to include argon gas, helium gas, krypton gas, xenon gas in the periodic table, as well as nitrogen gas that is inert to aluminum.
アルミニウム材は、内部ガスおよび表面に吸着したガス
を含んでいるとともに、その表面にはアルミニウムと反
応してガスを発生する水等の物質が吸着せしめられてい
る。これらのガスは、主としてＨ２ガスであり、その他
にもきわめて微量のガスが存在する。アルミニウム材の
用途によっては、上記ガスはきわめて有害となるためこ
れらの量を微量にする必要があり、表面に吸着したガス
および表面に吸着した物質とアルミニウムとの反応によ
り生じるガス（以下両者を総称して表面ガスという）の
脱ガスについてはその成果はある程度上っている。とこ
ろが、内部ガスについては未だ不十分である。アルミニ
ウム材の内部ガス間、とくにＨ２ガスの量が多いと次の
ような問題がある。すなわち、アルミニウム材を超高真
空用アルミニウム材、たとえばシンクロトロンなどの加
速器に使用される粒子加速用パイプ（ビーム・ライン）
に使用した場合、パイプ内部の圧力が非常に高くなると
いう問題がある。これはビームから放たれるシンクロト
ロン放射光がパイプ内面に入射し、アルミニウム材の内
部ガスをたたき出す結果である。また、アルミニウム材
をイオンポンプの電極や核融合装置の真空機器に使用し
た場合にも上記と同様の問題がある。さらに、アルミニ
ウム材を蒸着基板に使用する場合には、基板表面にＳｅ
、ａ−３ｉ等を蒸着するさいに「ふくれ」、「割れ」、
「ピンホール」等の表面欠陥が生じるが、これも内部ガ
スの放出の影響によるものだということがわかっている
。したがって、内部ガスｍのきわめて微量なアルミニウ
ム材の開発が要、望されている。The aluminum material contains internal gas and gas adsorbed on the surface, and the surface also adsorbs substances such as water that react with aluminum to generate gas. These gases are mainly H2 gas, with very small amounts of other gases also present. Depending on the use of the aluminum material, the above gases can be extremely harmful, so it is necessary to reduce the amount of these gases to a very small amount. There has been some success in degassing surface gas (also called surface gas). However, internal gas is still insufficient. When the amount of gas inside the aluminum material, especially H2 gas, is large, the following problems occur. In other words, aluminum material is used for ultra-high vacuum applications, such as particle acceleration pipes (beam lines) used in accelerators such as synchrotrons.
When used in pipes, there is a problem in that the pressure inside the pipe becomes extremely high. This is the result of the synchrotron radiation emitted from the beam entering the inner surface of the pipe and knocking out the gas inside the aluminum material. Furthermore, the same problem as above occurs when aluminum material is used for the electrodes of ion pumps and the vacuum equipment of nuclear fusion devices. Furthermore, when using an aluminum material as a vapor deposition substrate, Se
When depositing , a-3i, etc., "blisters", "cracks", etc.
Surface defects such as "pinholes" occur, and it is known that this is also due to the effect of internal gas release. Therefore, it is necessary and desired to develop an aluminum material with an extremely small amount of internal gas m.
従来、アルミニウム材の内部ガス量を少なくするために
、溶融状態にあるときに、その中に不活性ガスや塩県ガ
ス等の処理ガスを吹込み、この処理ガスにより溶融アル
ミニウム中の溶存ガスを除去することによって、この溶
融アルミニウムから形成されるアルミニウム材の内部ガ
スを脱ガスしていた。しかしながら、従来の方法によれ
ば、溶湯の状態では溶存ガスを少なくすることができた
としても、鋳造時、または鋳造されたスラブ、インゴッ
ト、ビレット等からの高温加熱を伴う＠造工程中に、雰
囲気中のガス、特にアルミニウムと水分との反応により
生成する水素ガスが形成されるアルミニウム材の内部に
侵入するおそれがあり、出来上ったアルミニウム材の内
部ガスを極めて微量にはできないという問題があった。Conventionally, in order to reduce the amount of internal gas in aluminum materials, a processing gas such as an inert gas or salt gas was blown into the aluminum material when it was in a molten state, and this processing gas was used to remove the dissolved gas in the molten aluminum. By removing the molten aluminum, the internal gas of the aluminum material formed from this molten aluminum was degassed. However, according to the conventional method, even if it is possible to reduce the amount of dissolved gas in the molten metal state, during casting or during the @-molding process that involves high-temperature heating of cast slabs, ingots, billets, etc. There is a risk that gases in the atmosphere, especially hydrogen gas generated by the reaction between aluminum and moisture, may enter the interior of the aluminum material where it is formed, and there is a problem that it is impossible to reduce the internal gas of the finished aluminum material to an extremely small amount. there were.
この発明の目的は、上記問題を解決したアルミニウム材
の内部ガスの脱ガス処理方法を提供することにある。An object of the present invention is to provide a method for degassing the internal gas of an aluminum material, which solves the above-mentioned problems.
問題点を解決するための手段
この発明によるアルミニウム材の内部ガスの脱ガス処理
方法は、アルミニウム材の表面にドライエツチングを施
した後、このアルミニウム材を真空雰囲気中または不活
性ガス雰囲気中で加熱することを特徴とするものである
。Means for Solving the Problems The method of degassing the internal gas of an aluminum material according to the present invention involves dry etching the surface of the aluminum material and then heating the aluminum material in a vacuum atmosphere or an inert gas atmosphere. It is characterized by:
上記において、ドライエツチングおよび真空雰囲気中ま
たは不活性ガス雰囲気中の加熱を施すべきアルミニウム
材は、真空用アルミニウム製品を成形するためのスラブ
、ビレット等であってもよいし、あるいは成形された真
空用アルミニウム製品でもよいが、後者のほうが好まし
い。また、このアルミニウム材を形成する溶融アルミニ
ウムも公知の方法で脱ガス処理を施しておくことが好ま
しい。In the above, the aluminum material to be subjected to dry etching and heating in a vacuum atmosphere or inert gas atmosphere may be a slab, billet, etc. for forming a vacuum aluminum product, or a formed vacuum aluminum product. Aluminum products may also be used, but the latter is preferred. Further, it is preferable that the molten aluminum forming this aluminum material is also subjected to a degassing treatment by a known method.
また、上記において、ドライエツチングの具体例として
は、たとえば放電洗浄、イオン・ビーム・エツチング、
レーザビーム・エツチングなどをあげることができるが
、この中では、放電洗浄によることが特に好ましい。表
面積の大きなサンプル茎たは形状の複雑なサンプルの表
面ガスを簡単に除去することができるからである。ドラ
イエツチングに使用するガスとしては、基本的にはどん
なガスでもよいが、使用したガスがアルミニウム材の内
部に注入されることがあるため、通常アルミニウム材中
に存在することがなく、かつアルミニウムに対して不活
性なガスを使用することが好ましい。すなわち、不活性
ガスを用いることが好ましい。この場合、キセノンのよ
うな質量数の大きなガスを用いれば、表面ガス除去に要
する時間を大幅に短縮することができる。また、ドライ
エツチングを施すための真空槽、およびドライエツチン
グのさいに用いるガスを、ボンベから真空槽に送り込む
ためのパイプを加熱し、これらの内面に加熱脱ガス処理
を施しておくことが好ましい。さらに、上記パイプの途
中に、上記ガスよりも融点の低い物質の液体を入れたト
ラップを設けておき、上記ガスを真空槽に送り込む前に
上記液体中に通して、ガス中に含まれる不純物を除去す
ることか好ましい。たとえば上記ガスがＨｅガスの場合
、トラップ内に液体チッ素を入れておくのがよい。Further, in the above, specific examples of dry etching include discharge cleaning, ion beam etching,
Examples include laser beam etching, among which discharge cleaning is particularly preferred. This is because surface gas from sample stems with a large surface area or samples with complex shapes can be easily removed. Basically, any gas can be used for dry etching, but since the gas used is sometimes injected into the aluminum material, it does not normally exist in aluminum materials and is It is preferable to use an inert gas. That is, it is preferable to use an inert gas. In this case, if a gas with a large mass number such as xenon is used, the time required to remove the surface gas can be significantly shortened. Further, it is preferable to heat a vacuum chamber for performing dry etching and a pipe for sending gas used in dry etching from a cylinder to the vacuum chamber, and to perform a heating degassing treatment on the inner surfaces thereof. Furthermore, a trap containing a liquid of a substance with a lower melting point than the gas is installed in the middle of the pipe, and the gas is passed through the liquid before being sent to the vacuum chamber to remove impurities contained in the gas. It is preferable to remove it. For example, when the gas is He gas, liquid nitrogen is preferably placed in the trap.
また、ドライエツチング後の加熱を行なう真空雰囲気の
真空度は１０ ’Ｔｏｒｒ以下、好ましくは１０ ’Ｔ
ｏｒｒ以下とするのがよい。また、真空雰囲気中には少
量の不活性ガスが含まれていてもよい。また、加熱温度
は３００℃以上、好ましくは４５０〜６００℃とするの
がよい。加熱時間は、アルミニウム材の大きさ、形状等
により異なるが長いほどよく、小さいもので少なくとも
１０分間程度であることが好ましい。ドライエツチング
および真空雰囲気中または不活性ガス雰囲気中での加熱
は、同一処理室内で、アルミニウム材にドライエツチン
グを施した後ドライエツチング用ガスを排気し、ついで
真空処理室内を真空雰囲気または不活性ガス雰囲気とし
、この状態でアルミニウム材を加熱するのがよい。しか
しながら、これに限定されるものではない。また、アル
ミニウム材を所定の加熱温度まで昇温させるさいの昇温
速度は１５０〜ｂが長くなる。したがって、ドライエツ
チングを開始するのとほぼ同時に昇温を開始しておくこ
とが好ましい。ドライエツチングは通常１時間程度施さ
れるので、この間にアルミニウム材をかなり昇温させる
ことができ、脱ガス処理時間を短縮することができる。In addition, the vacuum degree of the vacuum atmosphere in which heating is performed after dry etching is 10' Torr or less, preferably 10' Torr.
It is preferable to set it to orr or less. Further, a small amount of inert gas may be included in the vacuum atmosphere. Further, the heating temperature is preferably 300°C or higher, preferably 450 to 600°C. The heating time varies depending on the size, shape, etc. of the aluminum material, but the longer the better, and it is preferably at least about 10 minutes. Dry etching and heating in a vacuum atmosphere or inert gas atmosphere are performed by dry etching the aluminum material in the same processing chamber, exhausting the dry etching gas, and then heating the vacuum processing chamber in a vacuum atmosphere or inert gas atmosphere. It is preferable to set the atmosphere and heat the aluminum material in this state. However, it is not limited to this. Moreover, the temperature increase rate when raising the temperature of the aluminum material to a predetermined heating temperature is longer at 150 to b. Therefore, it is preferable to start raising the temperature almost simultaneously with starting dry etching. Since dry etching is normally performed for about one hour, the temperature of the aluminum material can be considerably increased during this time, and the degassing treatment time can be shortened.
しかしながら、これに限定されるものではない。However, it is not limited to this.
さらに、ドライエツチング後の真空雰囲気中または不活
性ガス雰囲気中での加熱は、均熱処理や、溶体化処理や
、熱間圧延、押出成形等の熱間加工のための加工温度ま
での加熱や、最終焼鈍のための加熱などを兼ねる。Furthermore, heating in a vacuum atmosphere or inert gas atmosphere after dry etching may include soaking treatment, solution treatment, heating to a processing temperature for hot processing such as hot rolling, extrusion molding, etc. Also serves as heating for final annealing.
実 施 例
まず、この発明の方法の実施に使用する装置の１つの具
体例について、図面を参照しながら説明する。この装置
は、粒子加速用ビームチャンバを押出成形するのに用い
るＡ６０６３合金製ビレットに内部ガスの脱ガス処理を
施す装置であり、ドライエツチングとしてはアルゴン・
ガスを用いた放電洗浄を行なう。EXAMPLE First, one specific example of an apparatus used to implement the method of the present invention will be described with reference to the drawings. This device performs degassing treatment on the A6063 alloy billet used for extrusion molding of particle acceleration beam chambers, and performs dry etching using argon.
Perform discharge cleaning using gas.
図面において、Ａ６０６３合金製ビレット（Ｂ）に内部
ガス処理を施す装置は、真空室（１）と、真空室（１）
内に配置されたビレット載置装置（２）とよりなる。真
空室（１）は、放電洗浄前後の高真空状態の真空室（１
）内の真空度を計るベイアート・アルパート電離真空計
（３）と、放電洗浄時のアルゴン・ガスはを計るピラニ
真空計（４）と、真空排気装置（５）と、放電洗浄用ア
ルゴン・ガス供給装置（６）とを備えている。真空排気
装置（５）は、真空室（１）に設けられた排気管（７）
と、排気管（７）に下記順序で室（１）側から直列状に
設けられたしバルブ（８）、ターボ分子ポンプ（９）お
よびロータリ・ポンプ（１０）とよりなる。放電洗浄用
アルゴン・ガス供給装置１（６）は、供給管（１１）を
介して真空室（１）に接続されたアルゴン・ガス・ボン
ベ（１２）と、供給管（１１）の途上に設けられた可変
式リーク・バルブ（１３）とよりなる。ビレット載置装
置（２）は、アルミナ製絶縁性載置台（１４）と、載置
台（１４）を支持する支持脚（１５）と、載置台（１４
）の上面を覆う導電性被覆１ｍ（１ら）とよりなる。載
置台（１４）にはビレット加熱用ヒータ（１７）が埋設
されている。ヒータ（１７）の両端は真空室（１）の壁
に設けられた電流導入端子（１８）に接続されている。In the drawing, the apparatus for performing internal gas treatment on the A6063 alloy billet (B) is a vacuum chamber (1) and a vacuum chamber (1).
It consists of a billet mounting device (2) placed inside. The vacuum chamber (1) is a vacuum chamber (1) in a high vacuum state before and after discharge cleaning.
), a Beyert-Alpert ionization vacuum gauge (3) that measures the degree of vacuum inside the chamber, a Pirani vacuum gauge (4) that measures argon gas during discharge cleaning, a vacuum exhaust device (5), and argon gas for discharge cleaning. A supply device (6) is provided. The vacuum exhaust device (5) is an exhaust pipe (7) provided in the vacuum chamber (1).
The exhaust pipe (7) is provided with a valve (8), a turbo molecular pump (9), and a rotary pump (10) in series from the chamber (1) side in the following order. The argon gas supply device 1 (6) for discharge cleaning is provided between an argon gas cylinder (12) connected to the vacuum chamber (1) via a supply pipe (11), and part way through the supply pipe (11). It consists of a variable leak valve (13). The billet mounting device (2) includes an insulating alumina mounting table (14), support legs (15) that support the mounting table (14), and a mounting table (14).
) and a conductive coating 1m (1 et al.) covering the upper surface of the conductive coating. A billet heating heater (17) is embedded in the mounting table (14). Both ends of the heater (17) are connected to current introduction terminals (18) provided on the wall of the vacuum chamber (1).
この電流導入端子（１８）はビレット加熱用電源に接続
されている。導電性被覆層（１６）は、導線により真空
室（１）の壁に設けられた電流導入端子（１９）に接続
されている。この電流導入端子（１９）は、放電洗浄用
電源に接続されている。ビレット（Ｂ）は、放電洗浄時
に陰極される。This current introduction terminal (18) is connected to a billet heating power source. The conductive coating layer (16) is connected by a conductive wire to a current introduction terminal (19) provided on the wall of the vacuum chamber (1). This current introduction terminal (19) is connected to a discharge cleaning power source. The billet (B) is used as a cathode during discharge cleaning.
上記装置を用いて、この発明の方法を実施した結果につ
いて以下に述べる。The results of implementing the method of the present invention using the above apparatus will be described below.
まず、真空室（１）内の載置台（１４）上に直径８イン
チのＡ６０６３合金製ビレット（Ｂ）を載せておく。つ
いで、真空排気装置（５）により真空排気して真空室（
１）内の圧力を１０ ’Ｔｏｒｒとした。また、真空排
気を開始するのとほぼ同時に、ヒータ（１７）に通電し
てビレット（Ｂ）の加熱昇温を開始した。その後、アル
ゴン・ガス・ボンベ（１２）からアルゴン・ガスを真空
室（１）内に１１゜「「まで導入した。そして、ビレッ
ト（Ｂ）を陰極として、真空室（１）を陽極として電圧
５００Ｖで、ビレット（８）に１時間放電洗浄を施した
。First, an A6063 alloy billet (B) having a diameter of 8 inches is placed on a mounting table (14) in a vacuum chamber (1). Next, the vacuum chamber (
1) The internal pressure was 10'Torr. Also, almost at the same time as evacuation was started, the heater (17) was energized to start heating and increasing the temperature of the billet (B). After that, argon gas was introduced from the argon gas cylinder (12) into the vacuum chamber (1) up to 11 degrees.Then, with the billet (B) as the cathode and the vacuum chamber (1) as the anode, a voltage of 50V was applied. Then, the billet (8) was subjected to discharge cleaning for 1 hour.
放電洗浄時のドーズ聞はＩ Ｘ ２０１ｏｎｓ／ｃＩｉ
であった。放電洗浄後直ちに真空排気＠ １（５）によ
って真空排気し、真空室（１）内の圧力を１０〜５Ｔｏ
ｒｒまで下げた。ビレット（Ｂ）の温度を５６０℃まで
昇温した後、この真空雰囲気において、ビレットＣＢ）
を５６０℃で１０時間加熱し、内部ガスの脱ガス処理を
施した。該加熱によりビレットＣＢ）は均質化処理も施
される。The dose during discharge cleaning is I x 201 ons/cIi
Met. Immediately after discharge cleaning, the chamber is evacuated using vacuum evacuation@1 (5), and the pressure inside the vacuum chamber (1) is reduced to 10 to 5 To.
I lowered it to rr. After raising the temperature of billet (B) to 560°C, in this vacuum atmosphere, billet CB)
was heated at 560° C. for 10 hours to degas the internal gas. By this heating, the billet CB) is also subjected to a homogenization treatment.
評価試験
ついで、上述のように内部ガスの脱ガス処理を施された
ビレット（Ｂ）の性能を評価するために次の試験を行な
った。すなわち、ビレット（Ｂ）を使用して内径２００
＋１１１１．肉厚６１１１１１１のパイプを押出成形
した。そして、真空溶解法により溶融させ、内部ガスを
抽出し、定量した。その結果、抽出された内部水素ガス
量は０．０５ＣＣ／１００ｇφ Ａ／であった。Evaluation Test Subsequently, the following test was conducted to evaluate the performance of the billet (B) which had been subjected to the degassing treatment for internal gas as described above. That is, using billet (B), the inner diameter is 200
+1111. A pipe with a wall thickness of 6111111 mm was extruded. Then, it was melted by a vacuum melting method, and the internal gas was extracted and quantified. As a result, the amount of internal hydrogen gas extracted was 0.05 CC/100 gφ A/.
さらに、上記ビレット（Ｂ）から押出成形された内径２
００■、肉厚６１１Ｉｌｌのパイプの両端を閉鎖すると
ともに、閉鎖部に真空計、電子銃および排気管をセット
した。そして、真空ポンプにより排気管を通して排気し
、パイプ内圧力を１Ｑ ” Ｔｏｒｒとした。ついで、
このパイプを１５０℃で２４時間加熱し、加熱脱ガス処
理を施し、再びパイプ内圧力を１０ ” ＴＯｒｒとし
た。その後、パイプ内周面に電子銃により電子線を照射
し、照射後のパイプ内圧力を測定した。その結果１０−
９Ｔｏｒｒであった。Furthermore, the inner diameter 2 extruded from the billet (B)
Both ends of a pipe with a thickness of 611 Ill and a thickness of 611 mm were closed, and a vacuum gauge, an electron gun, and an exhaust pipe were set in the closed portion. Then, the air was evacuated through the exhaust pipe using a vacuum pump, and the pressure inside the pipe was set to 1Q'' Torr.Then,
This pipe was heated at 150°C for 24 hours, subjected to heat degassing treatment, and the pressure inside the pipe was set to 10” TOrr again.Then, the inner peripheral surface of the pipe was irradiated with an electron beam using an electron gun, and the inside of the pipe after irradiation was The pressure was measured.The result was 10-
It was 9 Torr.
比較のために、放電洗浄を施さずに真空雰囲気中での加
熱処理だけを施したＡ６０６３合金製ビレットを使用し
てパイプを押出成形し、上記と同様にしてこのパイプの
内部水素ガス量を定量するとともに上記と同様にしてパ
イプ内面に電子線を照射した後の内圧を測定した。内部
水素ガス量は０．２２ｃｃ／ １００ｇ・ ＡＩ、電子
線照射後の内圧はｉ Ｑ−６Ｔｏｒｒであった。For comparison, a pipe was extruded using an A6063 alloy billet that had been heat-treated in a vacuum atmosphere without discharge cleaning, and the amount of hydrogen gas inside this pipe was determined in the same manner as above. At the same time, the internal pressure after irradiating the inner surface of the pipe with an electron beam was measured in the same manner as above. The internal hydrogen gas amount was 0.22 cc/100 g·AI, and the internal pressure after electron beam irradiation was iQ-6 Torr.
上記評価試験結果から明らかなように、この発明の方法
で内部ガスの脱ガス処理が施されたビレットを用いて押
出成形されたパイプは、比較例のビレットを用いて押出
成形されたパイプに比べて、内部ガス量が少なく、かつ
内部を高真空状態にして電子線を照射したさいの内圧上
昇も少ない。As is clear from the above evaluation test results, the pipe extruded using the billet that was subjected to internal gas degassing treatment by the method of the present invention is more effective than the pipe extruded using the billet of the comparative example. Therefore, the amount of internal gas is small, and when the inside is kept in a high vacuum state and irradiated with an electron beam, the internal pressure rise is also small.
発明の効果
この発明の方法は、上述のように構成されているので、
ドライエツチングによりアルミニウム材の表面酸化皮膜
を除去した状態で、真空雰囲気中または不活性ガス雰囲
気中の加熱により新たな酸化皮膜を発生させずに内部ガ
スの脱ガスを行なうことができ、内部ガスの脱ガス効率
が向上する。したがって、このアルミニウム材またはこ
のアルミニウム材を用いてつくったものを超高真空装置
や蒸着基板に用いた場合、上述したような問題の発生が
、従来の方法で内部ガスの脱ガスが施されたアルミニウ
ム材を用いてつくった場合よりも少なくなる。Effects of the Invention Since the method of this invention is configured as described above,
After the surface oxide film of the aluminum material has been removed by dry etching, internal gas can be degassed without generating a new oxide film by heating in a vacuum atmosphere or inert gas atmosphere. Improves degassing efficiency. Therefore, when this aluminum material or a product made using this aluminum material is used in ultra-high vacuum equipment or vapor deposition substrates, the above-mentioned problems may occur. This will be less than if it were made using aluminum material.
また、ドライエツチング後の加熱が、アルミニウム材の
熱処理またはアルミニウム材に熱間加工を施すさいの熱
間加工温度までの加熱等を兼ねるので、真空用アルミニ
ウム材の製造工程を簡略化することが可能となる。In addition, the heating after dry etching also serves as heating to the hot processing temperature when heat treating the aluminum material or hot working the aluminum material, so it is possible to simplify the manufacturing process of aluminum materials for vacuum use. becomes.
さらに、固体のアルミニウム材に、内部ガスの脱ガスを
施して内部ガスを除去するのであるから、溶湯状態で脱
ガス処理を施した場合のように、再度水素ガス等が内部
に侵入することはない。Furthermore, since the internal gas is removed by degassing the solid aluminum material, hydrogen gas etc. will not enter the interior again, unlike when degassing is performed in the molten state. do not have.
図面は、この発明の方法の実施に使用する装置の一興体
例を示す構成図である。
（Ｂ）・・・Ａ６０６３合金製ビレット（アルミニウム
材）。
以上The drawing is a block diagram showing an example of an apparatus used to carry out the method of the present invention. (B)...A6063 alloy billet (aluminum material). that's all
Claims (1)
、このアルミニウム材を真空雰囲気中または不活性ガス
雰囲気中で加熱することを特徴とするアルミニウム材の
内部ガスの脱ガス処理方法。A method for degassing the internal gas of an aluminum material, which comprises performing dry etching on the surface of the aluminum material and then heating the aluminum material in a vacuum atmosphere or an inert gas atmosphere.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5413586A JPS62211392A (en) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | Method for removing internal gas from aluminum material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5413586A JPS62211392A (en) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | Method for removing internal gas from aluminum material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62211392A true JPS62211392A (en) | 1987-09-17 |
Family
ID=12962133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5413586A Pending JPS62211392A (en) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | Method for removing internal gas from aluminum material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62211392A (en) |
-
1986
- 1986-03-11 JP JP5413586A patent/JPS62211392A/en active Pending
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