JPS62203099A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPS62203099A JPS62203099A JP4696886A JP4696886A JPS62203099A JP S62203099 A JPS62203099 A JP S62203099A JP 4696886 A JP4696886 A JP 4696886A JP 4696886 A JP4696886 A JP 4696886A JP S62203099 A JPS62203099 A JP S62203099A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- electron beam
- current
- tube
- coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 22
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 10
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は電子線照射装置に関する。
（従来の技術）
周知のように電子線照射装置においては、加速管によっ
て加速された電子線は、走査管によって走査されながら
被照射物に照射されるようになっている。通常走査管に
よる走査は電磁装置によって行われるのが普通で、具体
的には走査管の基部に走査コイルが設置されてあり、こ
れに第４図に示すような三角波形の電流を供給し、これ
によって発生する磁界により電子線を一定の範囲内で往
復動させるようにして走査する。走査された電子線は走
査管の端部に設けられである走査窓の箔を通って外部に
放射される。
て加速された電子線は、走査管によって走査されながら
被照射物に照射されるようになっている。通常走査管に
よる走査は電磁装置によって行われるのが普通で、具体
的には走査管の基部に走査コイルが設置されてあり、こ
れに第４図に示すような三角波形の電流を供給し、これ
によって発生する磁界により電子線を一定の範囲内で往
復動させるようにして走査する。走査された電子線は走
査管の端部に設けられである走査窓の箔を通って外部に
放射される。
ところでこの種走査管における走査コイルは、内部を真
空とした走査管の外側に設置されてあり。
空とした走査管の外側に設置されてあり。
走査コイルが三角波形の電流によって励磁されたときに
発生する磁束は、走査管の壁部を貫通して内部に到達す
る。一方走査領域の端部において電子線が折り返すとき
に走査コイルには三角波形の頂点の電流が流れている。
発生する磁束は、走査管の壁部を貫通して内部に到達す
る。一方走査領域の端部において電子線が折り返すとき
に走査コイルには三角波形の頂点の電流が流れている。
このときの電流は電子線が走査領域の中間を通過してい
るときに流れる電流よりも時間的にみて大きく変化する
。
るときに流れる電流よりも時間的にみて大きく変化する
。
そのためこのときの電流によって発生した磁束も同じよ
うに大きく変化するので、その磁束によって走査管の壁
部に大きな渦電流が発生する。この渦電流のために前記
磁束はその変化を阻害され、その俊鋭度が低下してなま
るようになる。その結果、走査領域の折り返し部分での
照射窓の箔の端部において、電子線が磁界のなまった時
間だけ長く滞留するようになるため、電子線の密度が高
くなる。
うに大きく変化するので、その磁束によって走査管の壁
部に大きな渦電流が発生する。この渦電流のために前記
磁束はその変化を阻害され、その俊鋭度が低下してなま
るようになる。その結果、走査領域の折り返し部分での
照射窓の箔の端部において、電子線が磁界のなまった時
間だけ長く滞留するようになるため、電子線の密度が高
くなる。
このように電子線の密度が照射窓の箔の端部において高
くなると、その箔の部分が他の部分よりも熱が集中して
傷みやすくなり、寿命が短くなってしまう。またこのた
めに電子線の被照射物に対する分布にも悪影響がでてく
る。
くなると、その箔の部分が他の部分よりも熱が集中して
傷みやすくなり、寿命が短くなってしまう。またこのた
めに電子線の被照射物に対する分布にも悪影響がでてく
る。
（発明が解決しようとする問題点）
この発明は電子線照射装置において、電磁的に電子線を
走査するときに、その走査の折り返し点で照射窓の箔に
熱が集中するを防止することによってその箔の寿命の低
下を回避するとともに、電子線の照射分布を均一化する
ことを目的とする。
走査するときに、その走査の折り返し点で照射窓の箔に
熱が集中するを防止することによってその箔の寿命の低
下を回避するとともに、電子線の照射分布を均一化する
ことを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
この発明は走査コイルに与える三角波形の電流の折り返
し頂点で、三角波形の折り返し変化よりも急峻に変化す
る電流を重畳し、その重畳された走査電流として使用す
るようにしたことを特徴とする。
し頂点で、三角波形の折り返し変化よりも急峻に変化す
る電流を重畳し、その重畳された走査電流として使用す
るようにしたことを特徴とする。
（作用）
三角波形の電流にその折り返し頂点での変化よりも急峻
に変化する電流を重畳しておくと、走査領域の端部にお
いて走査コイルによって発生する磁束は、重畳しない電
流を使用する場合よりも更に急峻に変化する。そのため
走査管の壁部にはそれまでよりも大きな渦電流が発生す
るようになり、この渦電流によってそのときの磁束はな
まるようになる。このなまりによって急峻な変化を起し
た磁束が通常の三角波形のように均されるようになる。
に変化する電流を重畳しておくと、走査領域の端部にお
いて走査コイルによって発生する磁束は、重畳しない電
流を使用する場合よりも更に急峻に変化する。そのため
走査管の壁部にはそれまでよりも大きな渦電流が発生す
るようになり、この渦電流によってそのときの磁束はな
まるようになる。このなまりによって急峻な変化を起し
た磁束が通常の三角波形のように均されるようになる。
以上°の結果走査領域の端部での電子線の集中が回避さ
れることになる。
れることになる。
（実施例）
この発明を第１図および第２図によって説明する。１は
電子線照射装置本体で、加速管２、走査管３などによっ
て構成されてあり、４は走査管３の基部の外側に配置さ
れた走査コイルである。これらの構成は通常のこの種装
置と特に相違するところはない。
電子線照射装置本体で、加速管２、走査管３などによっ
て構成されてあり、４は走査管３の基部の外側に配置さ
れた走査コイルである。これらの構成は通常のこの種装
置と特に相違するところはない。
５は方形波出力Ａを発振する発振回路、６はこの方形波
出力Ａを入力として三角波出力Ｂを出力する三角波発生
回路、７は同じく方形波出力Ａを入力としてその立ち上
がり及び立ち下がりを微分して微分出力Ｃを出す微分回
路、８は前記微分出力Ｃを入力としてこれを遅延及び反
転させて出力りを出す遅延・反転回路、９は三角波発生
回路６、微分回路７及び遅延・反転回路８からの各出力
Ｂ。
出力Ａを入力として三角波出力Ｂを出力する三角波発生
回路、７は同じく方形波出力Ａを入力としてその立ち上
がり及び立ち下がりを微分して微分出力Ｃを出す微分回
路、８は前記微分出力Ｃを入力としてこれを遅延及び反
転させて出力りを出す遅延・反転回路、９は三角波発生
回路６、微分回路７及び遅延・反転回路８からの各出力
Ｂ。
Ｃ，Ｄを重畳してその重畳出力Ｅを出力する重畳回路、
１０は重畳出力Ｅを入力としてこれを増幅する増幅回路
で、この増幅出力に基づく電流によって走査コイル４が
励磁される。
１０は重畳出力Ｅを入力としてこれを増幅する増幅回路
で、この増幅出力に基づく電流によって走査コイル４が
励磁される。
第２図に示す各回路の出力の波形から理解されるように
、重畳回路９からの重畳出力Ｅは、三角波発生回路６か
らの三角波出力Ｂの各頂点に急峻な立ち上がり部及び立
ち下がり部Ｐを持つ波形となる。すなわちほぼ三角波形
とされている重畳出力Ｅの折り返し頂点は、三角波Ｂの
頂点の変化よりも急峻に変化するようになるのである。
、重畳回路９からの重畳出力Ｅは、三角波発生回路６か
らの三角波出力Ｂの各頂点に急峻な立ち上がり部及び立
ち下がり部Ｐを持つ波形となる。すなわちほぼ三角波形
とされている重畳出力Ｅの折り返し頂点は、三角波Ｂの
頂点の変化よりも急峻に変化するようになるのである。
このような波形の重畳出力Ｅに基づいて走査コイル４が
励磁されると、走査管３による走査領域の端部において
走査コイル４によって発生する磁束は、単なる三角波出
力Ｂを使用する場合よりも更に急峻に変化する。そのた
め走査管３の壁部にはそれまでよりも大きな渦電流が発
生するようになり、この渦電流によってそのときの磁束
はなまるようになる。このなまりによって急峻な変化を
起した磁束が通常の三角波形のごとくになる。
励磁されると、走査管３による走査領域の端部において
走査コイル４によって発生する磁束は、単なる三角波出
力Ｂを使用する場合よりも更に急峻に変化する。そのた
め走査管３の壁部にはそれまでよりも大きな渦電流が発
生するようになり、この渦電流によってそのときの磁束
はなまるようになる。このなまりによって急峻な変化を
起した磁束が通常の三角波形のごとくになる。
以上の結果走査領域の端部での電子線の集中が回避され
、その端部での電子線の密度が高くなるようなことはな
く、したがって走査領域の端部に相当する部分の照射窓
箔の損傷は確実に防止されるようになる。
、その端部での電子線の密度が高くなるようなことはな
く、したがって走査領域の端部に相当する部分の照射窓
箔の損傷は確実に防止されるようになる。
三角波出力の各折り返し頂点を急峻とするための回路構
成は、第１図に示すような回路構成に限られるものでは
なく、他の任意の回路構成を適宜利用することができる
。またその急峻な波形としても重畳出力Ｅに示すよ゛う
な波形のものに限られず、たとえば第３図に示すような
波形であってもよい。
成は、第１図に示すような回路構成に限られるものでは
なく、他の任意の回路構成を適宜利用することができる
。またその急峻な波形としても重畳出力Ｅに示すよ゛う
な波形のものに限られず、たとえば第３図に示すような
波形であってもよい。
Claims (1)
- 走査管内の電子線を往復して走査する走査コイルを、前
記走査管の基部外側に設けてなる電子線照射装置におい
て、前記走査コイルに、三角波形の電流と、その折り返
し頂点で、三角波形の折り返し変化よりも急峻に変化す
る電流とを重畳した重畳電流を励磁電流として供給して
なる電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4696886A JPS62203099A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4696886A JPS62203099A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62203099A true JPS62203099A (ja) | 1987-09-07 |
Family
ID=12762062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4696886A Pending JPS62203099A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62203099A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1183706A1 (en) * | 2000-04-13 | 2002-03-06 | Ebara Corporation | Method and apparatus for electron beam irradiation |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5083698A (ja) * | 1973-11-29 | 1975-07-07 | ||
| JPS51116497A (en) * | 1975-04-04 | 1976-10-13 | Mitsubishi Electric Corp | Electron beam irradiating device |
-
1986
- 1986-03-03 JP JP4696886A patent/JPS62203099A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5083698A (ja) * | 1973-11-29 | 1975-07-07 | ||
| JPS51116497A (en) * | 1975-04-04 | 1976-10-13 | Mitsubishi Electric Corp | Electron beam irradiating device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1183706A1 (en) * | 2000-04-13 | 2002-03-06 | Ebara Corporation | Method and apparatus for electron beam irradiation |
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