JPS62198824A - 光変調器 - Google Patents

光変調器

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JPS62198824A
JPS62198824A JP3920286A JP3920286A JPS62198824A JP S62198824 A JPS62198824 A JP S62198824A JP 3920286 A JP3920286 A JP 3920286A JP 3920286 A JP3920286 A JP 3920286A JP S62198824 A JPS62198824 A JP S62198824A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
crystal
ions
voltage
optical modulator
Prior art date
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Pending
Application number
JP3920286A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuyuki Nagatsuma
一之 長妻
Takaro Kuroda
崇郎 黒田
Hiroyoshi Matsumura
宏善 松村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、光変調器に係り、特に低電圧で駆動できる光
変調器に関する。
〔発明の背景〕
従来から用いられている光変調器の1つに、第5図に示
すような、電気光学効果を利用した。いわゆるバルク型
光変調器がある(ジエー・オプティカル・ソサイエテイ
・アメリカ第51巻(1961)第76頁(J 、of
 the 0ptical 5ociety ofAm
erica、 Vol 51 (1961) P、76
)参照)。
このタイプの変調器では、光学結晶中を通過する光の位
相差は、電極間電圧に比例し、電極間隔に反比例する。
したがって、低電圧で駆動するためには、電匝間隔、す
なわち、電圧印加方向の結晶厚みを小さくする必要があ
る。しかしながら、結晶を薄くしていくと1割れ易くな
り、取扱いが難しくなる。
電気光学結晶の場合、薄くできる厚みの限界は。
100μm程度であり、それ以下の厚みとして使用する
のは実用的ではなく、低電圧駆動が困難となる問題をか
かえていた。
又、従来から用いられている変調器の他のタイプの1つ
は、第26図に示すような、ジエー・アップライド・フ
ィジックス第51巻(1980年)第90頁(J 、A
ppl、 Phys、旦よ、 90 (1980) )
に報告されているごとき、表面駆動型光変調器である。
このタイプでは、電極間隔は第5図のタイプに比べ小さ
くできる利点はあるが、電界分布が一様ではなく、表面
近傍に集中しやすいため、印加電圧を前のタイプに比べ
、ずっと高くしなければならない欠点がある。
第3のタイプとして第7図に示すような、アプライド・
フィジックス・レター第26巻(1975年)゛第29
8頁(Appl、  Phys、  Lett 26 
、298(1975) )に報告されているごときリッ
ジ型光変調器がある。これは、バルク結晶の表面にリッ
ジ部を残すような加工を施し、横方向から電圧を印加す
るものである。前2者に比べ、効率よく動作させること
ができるが、リッジ加工および電極形成が難しく、作製
工程が繁雑である欠点がある。
以上のごとく、従来技術は低電圧駆動あるいは作製の容
易さという問題を有していた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、低電圧で光変調が可能で、かつ、結晶
に凹凸加工を施すなどの繁雑な加工作業を施さずに済む
、電気光学効率を利用した光変調器を提供することにあ
る。
〔発明の概要〕
上記目的を実現するために、811者らは、第1図のタ
イプの変形として、第1図のように、電気光学結晶内に
内部電極を設け、外部電極との間に電圧を印加する光変
調器を考案した。結晶に凹凸加工を施すことなく、結晶
内に内部電極を設置するには、金属イオンを高エネルギ
ーで結晶中へイオン注入する手法を採用した。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の詳細な説明する。
実施例1 第2図を用いて説明するm 5 X 5 X 5 mm
3のL i N b Oδ単結晶のy4Q11方向表面
より、高エネルギーイオン打込装置を用いて、Afiイ
オンを深さ約5μmの位置に打込み、内部電極2を形成
した。
次に、Z軸方向の2面を光学研磨し接続用AQ電t43
を真空蒸着で形成した。再に、イオン注入を行なったy
方向結晶表面に外部AQ電極4を、真空蒸着により形成
した。接続用AQ電極3および外部AQ*極4間に、電
圧源を接続し、波長Q、633 pmのHe−Noレー
ザを2軸方向に伝搬させて、そのレーザ光を100%位
相変位相るための電圧、すなわち半波長電圧を求めたと
ころ、約10Vであった。この値は、従来の、第5図の
タイプに比べ約2桁小さく、第6図のタイプに比べ約1
桁小さく、第3図のタイプと同一水平である。
実施例2 第3図を用いて説明する。
まず、実施例1と同様に、5X5X5mm’のL i 
N b Os単結晶のy軸方向表面より、高エネルギー
イオン打込み装置を用いて、AMイオンを深さ約5μm
の位置に打込み、内部電極2を形成した。次に、Tiイ
オンを深さ約2.5μmの位置に半径が約1.5μmの
円柱状になるように打込み、光導波路5を形成した。再
に前述の実施例1と全く同様にして、接続用AQ1’f
t極3.外部AQtl!tii14を形成し、He−N
eレーザ光を伝搬させた。その結果、光を導波路にとじ
込めて伝搬できることが確認した。また、半波長電圧は
約7vと、実施例1に比べ更に低減でき、有効性を確認
することができた。
実施例3 第4図を用いて説明する。
5X5X5mm3のLiNb0a単結晶のX軸方向表面
より、高エネルギーイオン装置で、打込みエネルギーを
徐々に変えて、表面から約5μmの深さまで、A0イオ
ンを幅1μmで、間隔を5μmとして打込み、2個の内
部電極2を作製した。つぎに、Tiイオンを、上記、内
部電極間の中央に、約1μm幅で深さ5μmまで、同様
に打込みエネルギーを徐々に変えて打込み光導波路を形
成した。
再に、実施例1,2と同様に、接続用AQ電極3を形成
し、内部電極間に電圧をして、He −N eレーザ光
を変調した。その結果、実施例2とほぼ同程度の電圧で
100%変調が可能であった。
以上の実施例では、L L N b O3Jr−結晶、
AQイオン打込みによる内部電極を用いたが、Linb
oa単結晶の代わりに、LiTaO3,KL)P、SB
Hなどの強誘電性電気光学結晶、あるいは、GaAs。
GaP、ZnTaなどの高抵抗半導電性電気光学結晶を
用いても同様の結果が得られることは容易に推測できる
。また、AQイオンの代わりに、他の金属性イオンを用
いても同様の効果が期待できることは明らかである。
〔発明の効果〕
以上述べたように1本発明によれば、結晶に凹凸加工を
施こさずに、低電圧で効率良く光の位相変調を行なえる
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の内部電極を用いた光変調器を示す説
明図、第2図は、本発明の実施例1を示す(a)側面図
、(b)正面図、第3図は、本発明の実施例2を示す(
a)側面図、(b)正面図、第4図は、本発明の実施例
3を示す(a)上面図。 (b)正面図、第5図は、従来のバルク型光変調器を示
す説明図、第6図は、従来の表面駆動型光変調器を示す
説明図、第7図は、従来のリッジ型光変調器を示す説明
図である。 1・・・LiNb0δ単結晶、2・・・内部電極、3・
・・接続用A2電極、4・・・外部電極、5・・・光導
波路。   、(−X−1,・

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、電気光学結晶内部に、高エネルギーイオン打込みに
    より、導電性内部電極を形成し、該電気光学結晶表面に
    配置した外部電極との間に電圧を印加して、両電極間を
    通過する光の位相を変化させることを特徴とする光変調
    器。 2、上記内部電極と外部電極間に、上記イオンとは別種
    のイオンを打込んで屈折率が高い光導波器を形成し、こ
    の光導波路に光をとじ込めて伝搬させ、該内部−外部電
    極間に電圧を印加して、光の位相を変化させることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の光変調器。 3、上記導電性内部電極を複数にして形成し、該導電性
    内部電極相互間に電圧を印加し、両電極間を通過する光
    の位相を変化させることを特徴とする特許請求の範囲第
    1もしくは第2項記載の光変調器。
JP3920286A 1986-02-26 1986-02-26 光変調器 Pending JPS62198824A (ja)

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