JPS62185807A - 金属偏平状粉の製造方法 - Google Patents
金属偏平状粉の製造方法Info
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- JPS62185807A JPS62185807A JP2634786A JP2634786A JPS62185807A JP S62185807 A JPS62185807 A JP S62185807A JP 2634786 A JP2634786 A JP 2634786A JP 2634786 A JP2634786 A JP 2634786A JP S62185807 A JPS62185807 A JP S62185807A
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- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 claims description 9
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 4
- -1 metallic compd. Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- 235000017166 Bambusa arundinacea Nutrition 0.000 description 1
- 235000017491 Bambusa tulda Nutrition 0.000 description 1
- 241001330002 Bambuseae Species 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 235000015334 Phyllostachys viridis Nutrition 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011425 bamboo Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- VNTLIPZTSJSULJ-UHFFFAOYSA-N chromium molybdenum Chemical compound [Cr].[Mo] VNTLIPZTSJSULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、金、銀その他の金属を材料とする偏平状粉の
製造方法に関し、特に、薄い偏平状粉をその表面の性状
を制御しながら安価に製造することができるような金属
偏平状粉の製造方法に関する。
製造方法に関し、特に、薄い偏平状粉をその表面の性状
を制御しながら安価に製造することができるような金属
偏平状粉の製造方法に関する。
［従来の技術］
金属薄片や金属粉は装飾用に、あるいは、磁性材料や導
電性材料の原料として広く使用されており、このような
目的に使用されるために、できるだけ薄く偏平比の大き
い粉体とすることが望ましい。例えば、金や銀などの貴
金属はその展延性を利用して金ばく、銀ばくを製造する
方法が伝統的に行われており、金づちなどで小片を叩く
ことにより、表面の光沢の豊かな、０．１μ程度の厚さ
の薄膜を得ており、それを種々の方法で破砕して偏平状
の粉体を得ている。このような伝統的な方法に代わる方
法としては、機械的な粉砕による方法、アトマイズ法、
電解法あるいは化学的還元法などがあげられる。
電性材料の原料として広く使用されており、このような
目的に使用されるために、できるだけ薄く偏平比の大き
い粉体とすることが望ましい。例えば、金や銀などの貴
金属はその展延性を利用して金ばく、銀ばくを製造する
方法が伝統的に行われており、金づちなどで小片を叩く
ことにより、表面の光沢の豊かな、０．１μ程度の厚さ
の薄膜を得ており、それを種々の方法で破砕して偏平状
の粉体を得ている。このような伝統的な方法に代わる方
法としては、機械的な粉砕による方法、アトマイズ法、
電解法あるいは化学的還元法などがあげられる。
［発明が解決しようとする問題点コ
しかしながら、上記のような従来の技術においては、そ
れぞれ次のような問題点があった。
れぞれ次のような問題点があった。
まず、金属の小片を叩いて加工する方法は、生産性が低
く、熟練を要する技術であるので人的コストが高く、硬
度の大きい金属や展延性の小さい金属については適用で
きず、また、量産することも難しい。次に、機械的な粉
砕、アトマイズ法、電解法、化学的還元法などにおいて
は、いずれも０．１μ以下の厚さの薄片を得ることは困
難であり、また、表面の光沢をコントロールすることも
困難である。
く、熟練を要する技術であるので人的コストが高く、硬
度の大きい金属や展延性の小さい金属については適用で
きず、また、量産することも難しい。次に、機械的な粉
砕、アトマイズ法、電解法、化学的還元法などにおいて
は、いずれも０．１μ以下の厚さの薄片を得ることは困
難であり、また、表面の光沢をコントロールすることも
困難である。
［問題点を解決するための手段］
本発明は、上記のような問題点を解決するために、金属
蒸発源を備えた蕉若室内に回転ドラムを設置し、この回
転ドラムの外面に金属、金属化合物または合金を蒸着さ
せて薄膜を形成し、上記回転ドラムの外面に接して設け
た破砕装置により上記薄膜を破砕するようにしたもので
ある。
蒸発源を備えた蕉若室内に回転ドラムを設置し、この回
転ドラムの外面に金属、金属化合物または合金を蒸着さ
せて薄膜を形成し、上記回転ドラムの外面に接して設け
た破砕装置により上記薄膜を破砕するようにしたもので
ある。
［作用］
このような方法においては、金属蒸発源からの金属蒸気
が回転ドラムに付着して薄膜が形成され、この薄膜が破
砕装置により破砕されて偏平状粉が製造される。金属の
蒸発量及び回転ドラムの回転速度を変えることにより、
偏平状粉の厚さがコントロールされ、回転ドラムの表面
性状を変えることにより偏平状粉の表面の光沢がコント
ロールされる。装置はスペースを取らずに設置でき、回
転ドラムを駆動することにより連続的に稼動される。
が回転ドラムに付着して薄膜が形成され、この薄膜が破
砕装置により破砕されて偏平状粉が製造される。金属の
蒸発量及び回転ドラムの回転速度を変えることにより、
偏平状粉の厚さがコントロールされ、回転ドラムの表面
性状を変えることにより偏平状粉の表面の光沢がコント
ロールされる。装置はスペースを取らずに設置でき、回
転ドラムを駆動することにより連続的に稼動される。
［実施例コ
以下、本発明の実施例を添付の図面を参照して説明する
。
。
この図において、１は蒸η室であり、その排気口２には
図示しない排気ポンプが接続されており、蒸着室１の内
部の気圧を金属の蒸着に適した真空あるいはそれに近い
状態に保つようになっている。
図示しない排気ポンプが接続されており、蒸着室１の内
部の気圧を金属の蒸着に適した真空あるいはそれに近い
状態に保つようになっている。
３は金属蒸発源であり、その加熱手段としては、抵抗加
熱、高周波加熱、電子ビーム照射などがあり、適宜の方
法が採用される。
熱、高周波加熱、電子ビーム照射などがあり、適宜の方
法が採用される。
４は回転ドラムであり、図示しない駆動源により矢印Ａ
方向に回転駆動され、その回転速度は可変になっている
。この回転ドラム４の材質としては、蒸着及び薄膜の剥
離を繰り返しても表面性状が荒れたりすることがないよ
うに高温時における硬度が大で耐摩耗性の優れたもの、
例えばステンレス鋼、クロム・モリブデン鋼、あるいは
表面にクロムその他の鍍金を施したものなどが採用され
る。その表面は、通常、製品の偏平状粉の表面に光沢を
与えるために鏡面状に仕上げられているが、偏平状扮の
表面を艶消しにするために粗仕上げとしてもよく、その
他の表面形状を付与するためにエンボス加工するなどし
てもよい。このような回転ドラム４の表面性状を一定に
保ち、また、偏平状粉の剥離性をよくするために回転ド
ラム４を内部冷却するようにしてもよい。
方向に回転駆動され、その回転速度は可変になっている
。この回転ドラム４の材質としては、蒸着及び薄膜の剥
離を繰り返しても表面性状が荒れたりすることがないよ
うに高温時における硬度が大で耐摩耗性の優れたもの、
例えばステンレス鋼、クロム・モリブデン鋼、あるいは
表面にクロムその他の鍍金を施したものなどが採用され
る。その表面は、通常、製品の偏平状粉の表面に光沢を
与えるために鏡面状に仕上げられているが、偏平状扮の
表面を艶消しにするために粗仕上げとしてもよく、その
他の表面形状を付与するためにエンボス加工するなどし
てもよい。このような回転ドラム４の表面性状を一定に
保ち、また、偏平状粉の剥離性をよくするために回転ド
ラム４を内部冷却するようにしてもよい。
５は、回転ドラム４の頂部より回転方向に沿ってやや下
がった位置において、回転ドラム４に押圧された状態で
回転する剥離ロールで、回転ドラム４の回転軸と平行な
軸５ａと、ゴムなどの弾性材料からなるロール５ｂと、
軸５ａをバックアップして加圧力を調整する調整部材５
ｃから構成されている。この剥離ロール５の下側には、
回転ドラム４の外周面を覆うように回収チャンバ−６が
設けられ、その上部カバー６ａ及び下部カバー６ｂはそ
れぞれ回転ドラム４の外面に適当な隙間を持った状態で
取り付けられ、回収チャンバー６の下部は取り外し可能
な貯留槽６ｃとなっている。この回収チャンバ−６の内
部には、上記剥離ロール５により回転ドラム４の外周面
から浮いた状態で運ばれてくる薄膜を破砕して上記貯留
槽６ｃへ掻き落とすための回転ブラシ（破砕装置）７．
７が上下に一対設けられている。この回転ブラシ７．７
は、それぞれ、上記回転ドラム４の回転軸と平行な回転
軸７ ａ、 ７ ａとこの回転軸７ａに植設されたプラ
ンワイヤ７ｂ及び回転軸７ａの駆動装置（図示路）とか
らなり、このブラシワイヤ７ｂの材質は、金属、植物あ
るいはプラスチックなどが用いられ、その太さ、長さ、
植設間隔などは適宜設定される。なお、この回転ブラシ
７の回転方向は、通常、ブラシワイヤ７ｂの先端が薄膜
の走行方向と逆になるように、図において矢印Ｂの方向
に設定しているが、一方または双方とも逆転するように
してもよい。
がった位置において、回転ドラム４に押圧された状態で
回転する剥離ロールで、回転ドラム４の回転軸と平行な
軸５ａと、ゴムなどの弾性材料からなるロール５ｂと、
軸５ａをバックアップして加圧力を調整する調整部材５
ｃから構成されている。この剥離ロール５の下側には、
回転ドラム４の外周面を覆うように回収チャンバ−６が
設けられ、その上部カバー６ａ及び下部カバー６ｂはそ
れぞれ回転ドラム４の外面に適当な隙間を持った状態で
取り付けられ、回収チャンバー６の下部は取り外し可能
な貯留槽６ｃとなっている。この回収チャンバ−６の内
部には、上記剥離ロール５により回転ドラム４の外周面
から浮いた状態で運ばれてくる薄膜を破砕して上記貯留
槽６ｃへ掻き落とすための回転ブラシ（破砕装置）７．
７が上下に一対設けられている。この回転ブラシ７．７
は、それぞれ、上記回転ドラム４の回転軸と平行な回転
軸７ ａ、 ７ ａとこの回転軸７ａに植設されたプラ
ンワイヤ７ｂ及び回転軸７ａの駆動装置（図示路）とか
らなり、このブラシワイヤ７ｂの材質は、金属、植物あ
るいはプラスチックなどが用いられ、その太さ、長さ、
植設間隔などは適宜設定される。なお、この回転ブラシ
７の回転方向は、通常、ブラシワイヤ７ｂの先端が薄膜
の走行方向と逆になるように、図において矢印Ｂの方向
に設定しているが、一方または双方とも逆転するように
してもよい。
この装置においては、回転ブラシ７を一対設けているが
、必要に応じて１本あるいは３本以上設けてもよい。
、必要に応じて１本あるいは３本以上設けてもよい。
この装置により偏平状粉を製造する過程について述べる
と、蒸着室ｌ内の気圧をｌＸｌ０−’〜１０−５７゜ｒ
ｒに下げ、金属蒸発源３を適当な温度まで昇温さ仕ると
回転ドラム４の外周面には蒸着金属の薄膜が形成される
。回転ドラム４を適当な回転速度で回転させ、剥離ロー
ル５の調整部材５Ｃの押圧力を適当に設定すると、この
薄膜はロール５ｂとの間に働く摩擦力によりドラム４の
表面に対してずれを生じ、ドラム４の表面から浮いた状
態で回収チャンバー６に運ばれる。ここで薄膜は高速で
回転するブラシワイヤ７ｂにより鞭打され、偏平状粉と
なって貯留博６ ｃに貯留される。この過程において、
偏平状粉の厚さをコントロールするには、金属蒸発源３
の金属の蒸発量を制御する、あるいは回転ドラム４の回
転速度を変化させるなどの方法が採られ、また、偏平状
粉の大きさをコントロールするには回転ブラシ７の回転
速度を変化させる、あるいはブラシワイヤ７ｂの太さ、
硬さ、材質、植設密度などを変えればよい。
と、蒸着室ｌ内の気圧をｌＸｌ０−’〜１０−５７゜ｒ
ｒに下げ、金属蒸発源３を適当な温度まで昇温さ仕ると
回転ドラム４の外周面には蒸着金属の薄膜が形成される
。回転ドラム４を適当な回転速度で回転させ、剥離ロー
ル５の調整部材５Ｃの押圧力を適当に設定すると、この
薄膜はロール５ｂとの間に働く摩擦力によりドラム４の
表面に対してずれを生じ、ドラム４の表面から浮いた状
態で回収チャンバー６に運ばれる。ここで薄膜は高速で
回転するブラシワイヤ７ｂにより鞭打され、偏平状粉と
なって貯留博６ ｃに貯留される。この過程において、
偏平状粉の厚さをコントロールするには、金属蒸発源３
の金属の蒸発量を制御する、あるいは回転ドラム４の回
転速度を変化させるなどの方法が採られ、また、偏平状
粉の大きさをコントロールするには回転ブラシ７の回転
速度を変化させる、あるいはブラシワイヤ７ｂの太さ、
硬さ、材質、植設密度などを変えればよい。
（実施例１）
蒸発金属として銀を用い、回転ドラム４の材質に硬度Ｉ
Ｈのステンレス鋼（ＳＵＳ４０３）を用いてその表面を
鏡面状に仕上げ、回転ドラム４の周速を２５ｍ／ｍｉｎ
、回転ブラシ５の周速をｌＱｍ／ｍｉｎとし、ロール５
ｂの材質は硬度４０のゴムを、ブランワイヤ７ｂとして
真鍮の針金を用いた。この条件の操業で得た崎平状粉を
振盪騰により分級して、厚さ０．１μ、大きさ２５μの
光沢の豊かな偏平状扮を得た。
Ｈのステンレス鋼（ＳＵＳ４０３）を用いてその表面を
鏡面状に仕上げ、回転ドラム４の周速を２５ｍ／ｍｉｎ
、回転ブラシ５の周速をｌＱｍ／ｍｉｎとし、ロール５
ｂの材質は硬度４０のゴムを、ブランワイヤ７ｂとして
真鍮の針金を用いた。この条件の操業で得た崎平状粉を
振盪騰により分級して、厚さ０．１μ、大きさ２５μの
光沢の豊かな偏平状扮を得た。
（実施例２）
蒸発金属として銅を用い、回転ドラム４の材質に硬度１
／２Ｈ（１） ７． テ：／ Ｌ／ ス１４ （ＳｔＬ
Ｓ３０４）を用イテソの表面を粗仕上げとし、回転ドラ
ム４の周速２５ｍ／Ｎｎｓ回転ブラシ５の周速を１０ｗ
７ｍ１ｎ１０−ル５ｂの材質として硬度５０のゴムを、
ブラシワイヤ７ｂとして真鍮の針金を用いた。この条件
の操業で得た偏平状粉を振盪機により分級して、厚さＱ
、１μ、大きさ２５μの艶のない偏平状粉を得た。
／２Ｈ（１） ７． テ：／ Ｌ／ ス１４ （ＳｔＬ
Ｓ３０４）を用イテソの表面を粗仕上げとし、回転ドラ
ム４の周速２５ｍ／Ｎｎｓ回転ブラシ５の周速を１０ｗ
７ｍ１ｎ１０−ル５ｂの材質として硬度５０のゴムを、
ブラシワイヤ７ｂとして真鍮の針金を用いた。この条件
の操業で得た偏平状粉を振盪機により分級して、厚さＱ
、１μ、大きさ２５μの艶のない偏平状粉を得た。
（実施例３）
上記実施例２で得た偏平状粉を超音速ジェットミルによ
り破砕して、厚さ０．１μ、平均粒径２．８μの偏平状
粉を得た。この偏平状粉を導電性塗料の導電材として用
いたところ、同一の電導度を得るのに、従来法（機械的
粉砕法）により製造された平均粒径３．５μの微粉に比
べて添加量が半分で済んだ。
り破砕して、厚さ０．１μ、平均粒径２．８μの偏平状
粉を得た。この偏平状粉を導電性塗料の導電材として用
いたところ、同一の電導度を得るのに、従来法（機械的
粉砕法）により製造された平均粒径３．５μの微粉に比
べて添加量が半分で済んだ。
（実施例４）
蒸発金属として銀９０ｗｔ％、銅１０ｗｔ％の合金を用
い、フラッシュ法にて真空蒸着を行い、その他の条件は
実施例１と同じくして、厚さ０．１μ、大きさ２５μの
光沢豊かな偏平状粉を得た。この合金粉の成分を発光分
析装置ＩＣＡＰ−５７５ｔ［により測定したところ、銀
９２．５ｗｔ％、銅？、５ｗｔ％であった。
い、フラッシュ法にて真空蒸着を行い、その他の条件は
実施例１と同じくして、厚さ０．１μ、大きさ２５μの
光沢豊かな偏平状粉を得た。この合金粉の成分を発光分
析装置ＩＣＡＰ−５７５ｔ［により測定したところ、銀
９２．５ｗｔ％、銅？、５ｗｔ％であった。
［発明の効果］
以上詳述したように、本発明の方法は、金属蒸発源を備
えた蒸着室内に回転ドラムを設置し、この回転ドラムの
外面に金属、金属化合物または合金を蒸着させて薄膜を
形成し、上記回転ドラムの外面に接して設けた破砕装置
により上記薄膜を破砕するものであり、比較的簡単な装
置により、金属の種類を問わず純度の高い、かつ薄い偏
平状粉を連続的に製造できる。そして表面の性状や厚さ
、大きさ、金属組成などを容易にコントロールすること
ができるので、装飾や導電性素材など使用目的に応じた
優れた性質の偏平状粉を安価に製造することができる。
えた蒸着室内に回転ドラムを設置し、この回転ドラムの
外面に金属、金属化合物または合金を蒸着させて薄膜を
形成し、上記回転ドラムの外面に接して設けた破砕装置
により上記薄膜を破砕するものであり、比較的簡単な装
置により、金属の種類を問わず純度の高い、かつ薄い偏
平状粉を連続的に製造できる。そして表面の性状や厚さ
、大きさ、金属組成などを容易にコントロールすること
ができるので、装飾や導電性素材など使用目的に応じた
優れた性質の偏平状粉を安価に製造することができる。
図面は本発明の方法の実施において使用される装置の一
例の構成の概略を示すものである。 ！・・・・・・蒸着室、３・・・・・・金属蒸発源、４
・・・・・・回転ドラム、７・・・・・・回転ブラシ。
例の構成の概略を示すものである。 ！・・・・・・蒸着室、３・・・・・・金属蒸発源、４
・・・・・・回転ドラム、７・・・・・・回転ブラシ。
Claims (1)
- 金属蒸発源を備えた蒸着室内に回転ドラムを設置し、こ
の回転ドラムの外面に金属、金属化合物または合金を蒸
着させて薄膜を形成し、上記回転ドラムの外面に接して
設けられた破砕装置により上記薄膜を破砕することを特
徴とする金属偏平状粉の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2634786A JPS62185807A (ja) | 1986-02-08 | 1986-02-08 | 金属偏平状粉の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2634786A JPS62185807A (ja) | 1986-02-08 | 1986-02-08 | 金属偏平状粉の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62185807A true JPS62185807A (ja) | 1987-08-14 |
Family
ID=12190917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2634786A Pending JPS62185807A (ja) | 1986-02-08 | 1986-02-08 | 金属偏平状粉の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62185807A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002085384A2 (en) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Nucryst Pharmaceuticals Corp. | Lubricious coatings for substrates |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5879542A (ja) * | 1981-11-05 | 1983-05-13 | Daido Steel Co Ltd | 微粉末製造装置 |
-
1986
- 1986-02-08 JP JP2634786A patent/JPS62185807A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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