JPS62182292A - Hciの隔膜電解法 - Google Patents

Hciの隔膜電解法

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JPS62182292A
JPS62182292A JP62015317A JP1531787A JPS62182292A JP S62182292 A JPS62182292 A JP S62182292A JP 62015317 A JP62015317 A JP 62015317A JP 1531787 A JP1531787 A JP 1531787A JP S62182292 A JPS62182292 A JP S62182292A
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JP
Japan
Prior art keywords
stream
hcl
hydrochloric acid
chamber
circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP62015317A
Other languages
English (en)
Inventor
フランツ−ルドルフ・ミンツ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bayer AG
Original Assignee
Bayer AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Bayer AG filed Critical Bayer AG
Publication of JPS62182292A publication Critical patent/JPS62182292A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • C25B1/01Products
    • C25B1/24Halogens or compounds thereof
    • C25B1/26Chlorine; Compounds thereof

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はllClの隔膜電解法を実施する改良法に関す
る。
゛1′I業界の技術の現状においては11C! は塩化
水素酸の水浴液をや数の個々の電解槽に供給することに
よI)電へイされる。この電解槽は夫/l隔膜tこより
2個の部屋に′J1劃され、このような個々の装置が:
(0〜45個−結にされて電解装置と呼ばれる積層物に
されている、この電解装置の個々の電解槽において、陽
極液の酸はPべての陽極室を11シ列に通って流れ、ま
た陰(執゛〕;<の酸はrべての112樟室を並列に通
って流れるように、陰1に液入ブ陽撓液の循環系に連結
されている。両刀の循環系に30%の塩化水素酸をrJ
(給し、薄い酸濃度を20〜24%に増加させる1 市
ンイナッケル・キュヒラ−(Winnncker Ku
eel+1er)、ヘミフシx Nテクノロギー(CH
emische ’rcc1団oloH1e)152巻
、第4版、1982年、443頁以降参照1゜ 隔膜法の欠点は隔膜を辿る時に陽極液及び陰(執1(f
fiが互いに混合し、隔膜が電解液に灯して透過性をも
っているためにこの混合を!/′1一部から抑制できな
い点である。その結果陽mlの酸の中に溶解した塩素は
陰極n側に透過した後一部は遊離し、水素をilJ染1
−るIにζ因になる。1(ILの1゛1b分のJ11^
素は陰極的iこ還元され、11−酸物/エネルギー収率
の1氏1・゛を招く。電解1″、稈で11゛、成された
ガス状の塩、にと水素とのン昆含も1イ・A(1豪中で
起ることができ乙。
このJ、つな欠点は隔膜の代りにイオン交換膜を便用r
ることにより除去する、:とができる。即ちドイツ特I
i/[公開明細書第2,844,499弓には両側を′
屈11イ触媒で被覆されrこイオン交換膜を使用し、給
電用尺1/’集主用の電極により電jズこを供給しIL
つ集めることが記載されている。この方法は固体1T1
合体電解質(Slll’:)系と呼ばれ、電解質回路を
一つしか必要としないという利、1.Lをもっている。
何故ならば陰極側で放’、it シたプロトンは陰極側
から膜中へ移動し、従ってJ!l!論的にはp2律液中
ではイオンに関する枯7〜が起らないからである。しか
し実際には水和した水が陰(叡側へ移動するので、これ
を除去しなければならない。
しかしこの方法の欠点の−っは給電/集電用の電極から
1作用電極−1への1u流の移動が電解質内部で行われ
、従って一定の電流の移動を調節することが困難であり
、外部から制御できないという点である。
ドイツ特許公開明細りI−第2,844,499号の池
の欠点は給Xii /集電用の電極として提案されてい
る金に1スクリーンが王!的な用途において陽極側では
非常に短時間しか安定でなく、113極側ではlpR極
に保護を施した場合のみ安定であることである。腐食耐
性をもったグラファイトがらっ(られたスクリーンは非
常に高価であり、工業的な電解装置rtの大きさでは(
代械的に非常に安定というわけにはゆかない。
電解触媒としては、け金属から成る群がら選ぼJtた還
丸酸化物が使用され、多少ともグラファイトと?Jt介
されるでいる。しかしこれらの系は抛作条f(・↑゛に
おいてグラファイトよりも安定性が溝かに少ない。しか
し耐久性の理由で11q上の電解触媒/f4及び給電/
集電用の7を体としてグラファイトを使用しなければな
らない場合には、従来法の固体グラ7アイ)Stf4歳
は−1−記のような欠点は示さない、特に電解触媒を膜
tこ接消する際常1こ起る問題が避けられる。
しかし?l!極が膜から分離されると、電ン℃伝導性の
電解質が陰極側に必要である。塩化水素酸水溶液の最大
の伝導度は良く知られているようにHCl17〜22重
量%の濃度において得られる。陰極領域のHCI溶液の
濃度は膜を通して水和水が移動する結果減少するので、
11C1溶液を取換えなければならない。
本発明の1−1的は−I−記H法の欠点をもたない11
C1電解法を提供rることである。このJj法によれば
唯一の電解質回路をもったSPE電解槽の利点を、有限
の電極/膜間隙を有する電解槽の利j、’j、と組み合
わせることができるであろう。
この[1的は++2 +&室を離れる少なくとも一部の
電解質を陽1執室の供給液として+((接f5(給する
)IC1隔膜電角イ法によって簡単な方法で達成される
111解すべき濃塩酸を先ず電解槽の陰(叡室に供給す
る。この−[解槽は陽イオン交換膜により陰極室と陽(
執室とに分割されている。陽極室から陰(叡室へと輸送
されるプロトンの水和水によって稀釈された酸を浴流さ
せ、次に電解(台の陽極室に導入rる。電解に便用され
て稀釈されjこ酸を陽(叡室から取り出し、残った堪あ
を除去しtこ後〃ス状の11C1で飽和させる二とがで
きる。本発明方法におり1ては陽極側から膜を透過する
水和水を>tfい外側のフィードバンク経路(こよって
フィードバンクさせる。フィードバンクの割合により、
IIcI  を吸収させて濃くシなければならない稀釈
された酸の流れの容積を減少させることができる。
本発明の特別な利点は、夫々の電解質の1Tls PA
を出た電解質の−flkを、同じ′LIi解貿の部屋に
フィードバックするようにして本発明が行なわれること
によって得られる。
第1 telは本発明り法を明らかにするためのもので
ある。^(第1図)で供給される濃塩酸の蹴は対応する
頃の使用済みIIcIが出目B″C取り出されるように
調節される。八における濃度が:)0%、]3における
濃度が18%の場合、電流密度3に静m2において陰極
室の平均濃度は約24%である。
第2図は個々の′電解槽の多数、例えば30〜45個の
個々の一且IIギ槽から1友る′直角IC装置(こ大−
t する1111gな〜つのiAこれ図で9p)ろ。
1’記の実Mlj例により本発明を例小rる。これらの
実施例は?I1.に例、jりのためのものであり、本発
明を限定するらのではない。
実施例 第1図には本発明の?[CM槽1を示す。イオン父換膜
1米国プラウエア州つィルミントン(WilmiBto
n)のデュポン(Du I’onV)社製すフイオン(
Nati。
n )NX4:JOJにより電解槽は陰極室2と陽(執
室:(とに分割されている。、1五八において0.21
2 /時間の割合で30%の塩酸を電解槽の陰極液回路
5に供給し、この混合物を底から電解槽に入れる。適当
蛾の21%11C1を陽極側からバイブロを通して潅流
させ、陽極液回路7に供給する。最後に使JtJ済みの
酸は約18%の濃度で電解槽を離れる。点Bにおいて対
応する量のIIcI を陽(叡液回路から取り出し、そ
の結果として容積を一定に保つ。電流密度:(OA7d
m2、電解′gl温度約80″Cにおいて、+17. 
+@間隙に依存し1.9〜2.1ボルトの電解摺電圧が
得られる。電解生成物の塩素及び水素は電解質と共に電
解槽を離れ、ガスの上杵効果のために電解質は濃度を」
〕記範囲に保つために供給しなければならない新しい酸
の量よりも多量に電解槽を出る。この過剰の量は直もに
適切な回路のパイプ5及び7を通じ電解槽の入口にフィ
ードバックされる。電解質からの生成物の塩素と水素と
の分離は点C及びDにおいていわゆる「〃ス分離器」に
よって行われる。
以」二本明細書において本発明を限定することのない具
体化例によって本発明を説明した。本発明の精神及び範
囲を逸脱することなく種々の変形を行い得ることは明ら
かである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法を示す模式図であり、第2図は多数
の電解槽を示す回路図である。 特許出願人バイエル・アクチェンデゼルシャフト第1図 HCl +18%) 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、イオン交換膜によって分離された陰極室及び陽極室
    から成る電解槽においてHClを電解してH_2及びC
    l_2を製造する方法において、塩酸の第1の流れを陰
    極室の入口に供給し、塩酸の第2の流れを陰極室の出口
    から取り出し、塩酸の第3の流れを陽極室の出口から取
    り出し、塩酸の第4の流れを陽極室の入口に供給し、第
    2の流れの少なくとも一部を陽極室に供給することを特
    徴とする方法。 2、さらに第2の流れの一部を陰極室の入口に供給する
    特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、さらに第3の流れの一部を陽極室の入口に供給する
    特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、第2の流れの一部のHCl濃度は21%である特許
    請求の範囲第1項記載の方法。 5、第2の流れの一部のHCl濃度は21%である特許
    請求の範囲第2項記載の方法。 6、第3の流れの一部のHCl濃度は21%である特許
    請求の範囲第3項記載の方法。 7、第1の流れのHCl濃度は24%である特許請求の
    範囲第1項記載の方法。 8、陰極液回路は第1の流れと第2の流れとを連結して
    いる特許請求の範囲第1項記載の方法。 9、陰極液回路のHCl濃度は21%である特許請求の
    範囲第8項記載の方法。 10、陽極液回路は第3の流れと第4の流れとを連結し
    ている特許請求の範囲第1項記載の方法。 11、陽極液回路のHCl濃度は21%である特許請求
    の範囲第10項記載の方法。 12、30%HClを含む流れが陰極液回路に入る特許
    請求の範囲第8項記載の方法。 13、30%HClを含む流れが陽極液回路に入る特許
    請求の範囲第8項記載の方法。
JP62015317A 1986-01-30 1987-01-27 Hciの隔膜電解法 Pending JPS62182292A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

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DE3602683.2 1986-01-30
DE19863602683 DE3602683A1 (de) 1986-01-30 1986-01-30 Verfahren zur durchfuehrung der hcl-membranelektrolyse

Publications (1)

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JPS62182292A true JPS62182292A (ja) 1987-08-10

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EP (1) EP0234256B1 (ja)
JP (1) JPS62182292A (ja)
DE (2) DE3602683A1 (ja)

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US4725341A (en) 1988-02-16
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