JPS62176767A - 研磨機 - Google Patents
研磨機Info
- Publication number
- JPS62176767A JPS62176767A JP1868086A JP1868086A JPS62176767A JP S62176767 A JPS62176767 A JP S62176767A JP 1868086 A JP1868086 A JP 1868086A JP 1868086 A JP1868086 A JP 1868086A JP S62176767 A JPS62176767 A JP S62176767A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polishing liquid
- temperature
- speed
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 58
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 2
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 230000000391 smoking effect Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、研磨機に関する。
本発明は、研磨機において、研磨液の流路に温度コント
ロール付きのヒーターを設けたことにより、研磨剤と温
度設定した水(以降湯と称す)とがL〈なじみ、研磨ス
ピードが速くなり、しかも品質向上させる研磨機全提供
するものである0〔従来の技術〕 従来の研磨機は、タンクに研磨剤と水道水をまぜ合わせ
た研磨成金ポンプですい上げ送り出し研磨するような構
造で6つ九〇 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、従来の研磨機では、研磨液に研磨剤と水道水t
−1ぜ合わせ使用してい友為、水が低温であり研磨剤と
のなじみが悪く、また研磨スピードが遅く、かつ水温、
室温に工って研磨スピードが変わり、研磨量のコントロ
ールがむずかしいそのうえ品質においても、カケ、キズ
が多く発生していたという問題上πしていた。
ロール付きのヒーターを設けたことにより、研磨剤と温
度設定した水(以降湯と称す)とがL〈なじみ、研磨ス
ピードが速くなり、しかも品質向上させる研磨機全提供
するものである0〔従来の技術〕 従来の研磨機は、タンクに研磨剤と水道水をまぜ合わせ
た研磨成金ポンプですい上げ送り出し研磨するような構
造で6つ九〇 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、従来の研磨機では、研磨液に研磨剤と水道水t
−1ぜ合わせ使用してい友為、水が低温であり研磨剤と
のなじみが悪く、また研磨スピードが遅く、かつ水温、
室温に工って研磨スピードが変わり、研磨量のコントロ
ールがむずかしいそのうえ品質においても、カケ、キズ
が多く発生していたという問題上πしていた。
研磨スピードが変わり研磨量のコントロールがむずかし
い例として、矩形状AT水晶発振片を例に説明すると、
16MH2の発振片を一定時間研磨した後の各々の振動
周波数のバラツキが15000PPM以上もあり、後で
固々に周波数分at−し。
い例として、矩形状AT水晶発振片を例に説明すると、
16MH2の発振片を一定時間研磨した後の各々の振動
周波数のバラツキが15000PPM以上もあり、後で
固々に周波数分at−し。
修正する必要があった。
そこで1本発明は、従来のこの工うな問題点を解決する
もので、その目的とするところは、研磨剤と湯がよ、(
なじみ、研寄スピードが速くなり。
もので、その目的とするところは、研磨剤と湯がよ、(
なじみ、研寄スピードが速くなり。
かつ、そめスピードが安定し、研磨量のコントロールが
〃)んたんになり、しかもカケ、キズを無くし1品質向
上させる研磨機に堤供するものである0〔問題を解決す
るための手段〕 本発明の研磨機は、研磨液の流路に温度コントロール付
きのヒーターを設けたことを特徴とする0〔作用〕 本発明の研磨機によれば研磨液の流路に温度コントロー
ル付きのヒーターを設は友ことにエリ研磨液の温度が一
定の為研磨剤とよくなじむことに=す、研磨スピードが
速くなり、カケ、キズが無くなり品質向上になったもの
である0 〔実薙倒〕 不発明の研磨;喫の実桶例?l−41図に示す01は本
体であり、モーター等2にエリ回転する下定盤5、別の
モーター等4により回転する上定盤5が固足されている
。下定盤6.上定盤5の間に、被研磨品6を入れて、ノ
ズル7から研磨剤とlJhを混ぜ合わせ7?[層液8を
タンク9からポンプ10に工り、吹きかけて研磨する。
〃)んたんになり、しかもカケ、キズを無くし1品質向
上させる研磨機に堤供するものである0〔問題を解決す
るための手段〕 本発明の研磨機は、研磨液の流路に温度コントロール付
きのヒーターを設けたことを特徴とする0〔作用〕 本発明の研磨機によれば研磨液の流路に温度コントロー
ル付きのヒーターを設は友ことにエリ研磨液の温度が一
定の為研磨剤とよくなじむことに=す、研磨スピードが
速くなり、カケ、キズが無くなり品質向上になったもの
である0 〔実薙倒〕 不発明の研磨;喫の実桶例?l−41図に示す01は本
体であり、モーター等2にエリ回転する下定盤5、別の
モーター等4により回転する上定盤5が固足されている
。下定盤6.上定盤5の間に、被研磨品6を入れて、ノ
ズル7から研磨剤とlJhを混ぜ合わせ7?[層液8を
タンク9からポンプ10に工り、吹きかけて研磨する。
タンク9には、その内部もしくは、外部に研磨剤が一定
の温度で供給さ2する機器としてヒーター11がもうけ
られており一タンク9にもうけられtc、温度センサー
12にエリ研磨液8が一定の温度に、温度コントロール
さnる。その結果研磨液の温度は、いつも一定である。
の温度で供給さ2する機器としてヒーター11がもうけ
られており一タンク9にもうけられtc、温度センサー
12にエリ研磨液8が一定の温度に、温度コントロール
さnる。その結果研磨液の温度は、いつも一定である。
本実薙倒の効果として、矩形状AT水晶発振片を例に示
した場合、16MHzの発振片七一定時間研磨し友後の
各々振動周波数のバラツキが3000 PPM以下とな
つ九。従って1−正加工の必要がなくなつ7t。
した場合、16MHzの発振片七一定時間研磨し友後の
各々振動周波数のバラツキが3000 PPM以下とな
つ九。従って1−正加工の必要がなくなつ7t。
尚、研磨液の温度は30゛C〜100″Gであり。
望ましくは一40’U〜60゛Cである。
さらに、央捲例ではヒーターをタンクの内部もしくは、
外部に設はン【が、研磨液の姫路であればどこでも良い
。
外部に設はン【が、研磨液の姫路であればどこでも良い
。
さらに、研磨作業は、研磨液が、設定温度になってから
開始するのが望ましい。
開始するのが望ましい。
以上述べた工うに本発明の研磨機によれば、研磨液の流
路に温度コントロール付きのヒーターを設けたことによ
り、研磨剤と湯がよくなじみ、研磨スピードが速くなり
、かつそのスピードが安定し、研11のコントロールが
、かんたんになりしかも−カケ・キズをなくし1品質向
上させたものである。
路に温度コントロール付きのヒーターを設けたことによ
り、研磨剤と湯がよくなじみ、研磨スピードが速くなり
、かつそのスピードが安定し、研11のコントロールが
、かんたんになりしかも−カケ・キズをなくし1品質向
上させたものである。
第1図は1本発明の研磨機の構造を示す図3・・・下定
盤 5・・・上定盤 7・・・ノズル 8・・・研磨液 矢印は研磨液の流れを示す 9・・・タンク 10・・・ポンプ 11・・・ヒーター 以上
盤 5・・・上定盤 7・・・ノズル 8・・・研磨液 矢印は研磨液の流れを示す 9・・・タンク 10・・・ポンプ 11・・・ヒーター 以上
Claims (1)
- 研磨液の流路に温度コントロール付きのヒーターを設け
たことを特徴とする研磨機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1868086A JPS62176767A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | 研磨機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1868086A JPS62176767A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | 研磨機 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62176767A true JPS62176767A (ja) | 1987-08-03 |
Family
ID=11978319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1868086A Pending JPS62176767A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | 研磨機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62176767A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02218557A (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体ウェーハの研削装置 |
JPH10110183A (ja) * | 1996-10-04 | 1998-04-28 | Kyoeisha Chem Co Ltd | 研削剤 |
JP2011005636A (ja) * | 2010-10-12 | 2011-01-13 | Sumco Techxiv株式会社 | ラップ盤 |
CN107900833A (zh) * | 2017-11-22 | 2018-04-13 | 韩元元 | 一种圆形金属板材边缘的打磨装置 |
-
1986
- 1986-01-30 JP JP1868086A patent/JPS62176767A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02218557A (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体ウェーハの研削装置 |
JPH10110183A (ja) * | 1996-10-04 | 1998-04-28 | Kyoeisha Chem Co Ltd | 研削剤 |
JP2011005636A (ja) * | 2010-10-12 | 2011-01-13 | Sumco Techxiv株式会社 | ラップ盤 |
CN107900833A (zh) * | 2017-11-22 | 2018-04-13 | 韩元元 | 一种圆形金属板材边缘的打磨装置 |
CN107900833B (zh) * | 2017-11-22 | 2019-05-24 | 南京同旺铝业有限公司 | 一种圆形金属板材边缘的打磨装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4475981A (en) | Metal polishing composition and process | |
US6126531A (en) | Slurry recycling system of CMP apparatus and method of same | |
US6152805A (en) | Polishing machine | |
JP3701126B2 (ja) | 基板の洗浄方法及び研磨装置 | |
US2434679A (en) | Method and apparatus for grinding | |
KR970008391A (ko) | 폴리싱포의 드레싱방법 및 장치 | |
CN105382678A (zh) | 一种蓝宝石晶片的抛光装置及其抛光方法 | |
JP2002367937A (ja) | 研磨装置 | |
JPH1187284A (ja) | 半導体ウェハ研磨装置及び研磨方法 | |
PH12017000001A1 (en) | Surface treatment method for metal parts | |
CN102034697A (zh) | 用于半导体晶片抛光的方法 | |
JPS62176767A (ja) | 研磨機 | |
TWI255752B (en) | Method and apparatus for polishing a substrate | |
JPS563174A (en) | Water grinding process and device therefor | |
US3638366A (en) | Lapping method for metallic workpieces | |
US6481449B1 (en) | Ultrasonic metal finishing | |
WO2016169101A1 (zh) | 无缝隙流动式光饰机 | |
US20020072238A1 (en) | Chemical mechanical polishing method for slurry free fixed abrasive pads | |
US6053802A (en) | Stabilization of slurry used in chemical mechanical polishing of semiconductor wafers by megasonic pulse | |
JPH11199275A (ja) | 円筒状ガラス内壁エッチング装置 | |
JP2002254295A (ja) | 化学機械研磨装置の研磨パッドの前処理方法 | |
JPH07164286A (ja) | 研削加工方法及びその装置 | |
JPH07290349A (ja) | ガラスの研磨加工装置 | |
JPH03231427A (ja) | 板状体の洗浄方法 | |
SU1303391A1 (ru) | Способ подготовки массы дл абразивного инструмента |