JPS62169651A - オフセツト輪転機のインキ供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はオフセット輪転機のインキ供給装置に関するも
ので、キーレスインキングシステムの６輪転機等に適用
しうる。

〔従来の技術〕

オフセット輪転機の従来例として第６図機構図にその概
要を示す。インキタンク１α中のインキαはポンプ２で
吸引されインキα中の紙粉や異物を除去するためのフィ
ルタ３を通りインキ吐出ノズル４により、インキ元ロー
ラ５αに供給される。

インキ元ローラ５αに供給されたインキａはインキ供給
ブレード６αで一定の膜厚にされて、異周速で高速側の
受渡しローラ７に転移され、ドクターローラ８、インキ
着ローラ９α、９ｂを経由して版１０へ供給され、さら
にブラケット１１を介して印刷紙１２に転写される。一
方湿し水タンク１ｂ中の湿し水すは水元ローラ５ｂに付
着し、ブラシローラ１３の回転で飛散されて水往復ロー
ラ１４に付着しインキ着ローラ９ａ、９ｂの前に位置す
る水着ローラ９Ｃを経由して版１０に転移され、版１０
の非画線部表面に水膜を形成させ、非画線部にインキα
が転移せぬようしている。

以上の湿し水供給方式（ＡＤ方式）以外に、図示はして
いないがインキαと一緒に版１０へ供給する方式（ＩＴ
Ｄ方式）もある。

前記版１０における湿し水すを含む余剰インキαは版１
０から、インキ着ローラ９α、９ｂを介してｒフタ−ロ
ーラ８へ転移され、インキ掻き取りブレード６ｈによっ
て掻き取られてインキタンク１α中に回収、循環され再
度ポンプ２により吸引、再利用される構成になっている
。

又各四−ラは図示しない駆動機構で矢印の方向に回転す
る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来の前記オフセット輪転機（第４図）においては、版
における余剰インキを湿し水と共にインキ掻き取りブレ
ードで掻き取り、インキタンク中に回収循環させて再利
用する構造上、印刷時間の経過によりインキタンク中の
インキ水分量が除々に増加し、高周速側の受渡しローラ
と低周速側のインキ元口−２の接点Ｓ１で高剪断を受け
、インキ中の水分が分離しＳ１間に不安定で不均一なイ
ンキ膜を形成させる。

又インキタンク中のインキをポンプで循環させている事
から、運転時間の経過と共にインキ温度も上昇し、イン
キ粘度の低下と共に接点Ｓ１のインキ通過量が変化し印
刷濃度が変化するなどの障害が発生する。この様に８１
のインキ膜厚が不均一であると８１の摩擦抵抗が変化し
それによりローラの振動を発生させる。又ロー２の変形
等によりインキ供給膜厚が変化しローラの振動を発生さ
せる。この様にローラが振動するとインキの転移ムラが
生じ印刷濃度ムラ等を発生させ印刷品質を低下させる問
題がある。

〔問題点を解決するための手段〕

インキ元ローラの表面にアニロックス加工し、その表面
の粗さを２０〜８０μとし、インキ元ローラと受渡しロ
ーラの接点８２部に強制的にセル容量のインキを介在さ
せる、また受渡しローラにライダーローラを相い接して
設けることにより、受渡しｐ−ラ上のインキ膜厚の不均
一を無くし、ローラの振動を防止する。

〔作用〕

従来のインキ元ローラ５ａの表面粗さは１０μ以下であ
ったが、このインキ元ローラ表面にアニロックス加工を
し表面粗さをあらくシ、そのセル中にインキを介在させ
ることにより受渡しローラ、インキ元ローラの接点８２
部に安定したインキ膜が確保される。

従って、従来のインキ元ローラにおいて発生するような
摩擦抵抗変化によるローラ振動を防止できる。

又受渡しローラ７に相い接してライダーローラ７αを設
けた事により受渡しローラ上のインキ膜のならし効果を
与えると共にローラの振動に対して減衰効果も与え受渡
しローラ振動を防止できる。

これらの事から振動によるロー２のインキ供給ムラによ
る印刷障害がなくなり安定した印刷品質が得られる。

〔実施例〕

本発明の実施例を図面によって説明すると、第１図は本
発明のインキ供給装置を具えたオフセット輪転機のロー
ラ配置図、第２図及び第３図は共にアニロックス加工し
たインキ元ローラの表面拡大図、第４図及び第５図は実
施前と実施後の各ローラの振動比較である。

第１図を構成する部材は、インキ元ローラ５α′及びラ
イダーローラ７αを除き、第６図の同一符号の部材と同
一である。

第１図に於て、ライダーローラ７αは受渡しローラ７に
相い接し受渡しローラ７とのニップで矢印の方向につれ
廻りする。ライダーローラ７ａの設置位置はインキ元ロ
ーラ５　ａ　／から受渡しローラ７へインキαが転移し
た後である。

第２図及び第３図は共にアニロツクのセル形状を示し、
第２図は格子型、第３図はピラミッド屋の例である。又
αは表面、ｂは断面の拡大図、ｄはセルの深さを表わす
。実験ではアニロックスのセル形状は第２図の格子型、
ｄ＝５０μのインキ元ローラを使用した。

第４図及び第５図は従来のインキ元ローラとアニロック
ス加工のインキ元ローラとを用いて同一μ／Ｃ条件で印
刷運転したとき、インキ元ローラと受渡しローラの振動
に関する実験データであり、第４図は従来方式の実験デ
ータ、第５図は改善後の実験データである。

第４図においては、受渡しローラ上等個展厚が１５部以
上であれば受渡しローラ、インキ元ローラの振動は弱く
なる傾向にある。１５μ以下では振動が大きく運転不能
である。これはインキ元ローラ５αと受渡しローラ７と
のニップ部に過剰のインキ供給によるＳ１部の摩擦抵抗
低下によるものである。しかしながら１５部以上供給す
る事はインキ元ローラと受渡しローラ間に周速差をもた
して印刷濃度を制御する。印刷ユニットに於いては、版
１０へのインキ供給量が過剰になり、印刷濃度の制御が
出来なくなる。よって印刷品質上過剰供給は不可能であ
る。（最適等側腹厚５〜１０μ）。これに対し本発明で
は第５図−に示すように、インキ元ローラ表面にアニロ
ックス加工する事によりセル中にインキが介在しそれに
より８２部の潤滑状態が安定し、受渡しローラ上等側腹
厚が１０μ以下でも、インキ元ローラ５α′及び受渡し
ロー２７共に振動は約”／１０以下と弱くなりローラ振
動に対し非常に効果が有ると判断される。

これらの実験データーはライダーローラ７αの設置及び
インキ元ローラ５ａ′表面のアニロックス加工によりロ
ーラ振動に対して効果が有ることを示している。インキ
元ローラの表面粗度をあらくする方法として、アニロッ
クス加工を用いセル形状を格子型として実験したが、セ
ル形状はピラミッド型でもよく、又アニロックス加工以
外の方法でも可能である。ライダーローラの材質はゴム
、金属、プラスチック等を用いることができる。

〔発明の効果〕

（１）インキ元ローラにアニロックス加工しセル中にイ
ンキを介在させることによりインキ元ローラと受渡しロ
ーラの接点８２部の潤滑状態が安定する。

（２）受渡しローラに相い接してライダーローラを設け
ることにより、インキのならし効果と受渡しローラに生
ずる振動に対する減衰効果とが生ずる。

（３）上記（１）（２）により、インキ元ローラ及び受
渡しローラの振動が防止でき、ローラのインキ供給膜厚
が安定し、印刷品質が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明インキ供給装置を具えたオフセット輪転
機のローラ配置図、第２図及び第３図はそれぞれインキ
元ローラ表面のアニロックス加工の形状を示すもので、
（ｃＬ）は平面図、（ｈ）は側断面図である。第４図（
α）及び（ｂ）は従来装置の受渡しローラ及びインキ元
ローラにおける振動実験データであり、第５図（α）及
び（ｂ）は本発明装置の受渡しローラ及びインキ元ロー
ラにおける振動実験データである。第６図は従来装置の
ローラ配置図である。 １α・・・インキタンク、１ｂ・・・湿し水タンク４・
・・インキ吐出ノズル、５α′・・・インキ元ローラ、
５ｂ・・・水元ローラ、６α・・・インキ供給ブレード
、６ｂ・・・インキ掻取プレート９．７・・・受渡しロ
ーラ、７α・・・ライダローラ、８・・・ドクタローラ
、９α、９ｂ・・・インキ着ローラ、９Ｃ・・・水着ロ
ーラ、１０・・・版（版胴）、１１・・・ブランケット
（ブランケット胴）、１２・・・印刷紙 復代理人　弁理士開本重文 外２名 寸 塚 寸　　　　ｃＱ　　　　　〜　　　　−狭

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 紙幅方向のインキ供給量を調整しないで一様なインキ膜
   厚で版に供給後、余剰のインキを掻き取り、タンクに回
   収して再利用するオフセット輪転機において、インキ元
   ローラの表面粗さを２０〜８０μに形成し、インキ元ロ
   ーラとドクターローラの間の受渡しローラに当接させて
   ライダーローラを設置したことを特徴とするオフセット
   輪転機のインキ供給装置。