JPS62169437A - Holder of semiconductor wafer - Google Patents

Holder of semiconductor wafer

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Publication number
JPS62169437A
JPS62169437A JP1008486A JP1008486A JPS62169437A JP S62169437 A JPS62169437 A JP S62169437A JP 1008486 A JP1008486 A JP 1008486A JP 1008486 A JP1008486 A JP 1008486A JP S62169437 A JPS62169437 A JP S62169437A
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JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
holding part
parts
holder
positioning
Prior art date
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Pending
Application number
JP1008486A
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Japanese (ja)
Inventor
Hisao Nakajima
中嶋 寿生
Yutaka Ohashi
豊 大橋
Koichi Saito
貢一 斉藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To steadily hold semiconductor wafers by forming a holding part into arc and making contact planes of the holding part with semiconductor wafers flat and forming plural air inlets and further providing step-form positioning parts in predetermine intervals from the air inlets. CONSTITUTION:The whole shape of a holding part 13 is almost arc and attraction parts 14 are flat. Furthermore, plural air inlets 15 are formed in predetermined intervals along the arc. In the holding parts 13, positioning parts 16 comprising steps are formed into one body with the attraction parts 14. At operation, the positioning parts 16 are brought in contact with a circumferential part 22 of a semiconductor wafer 21 without operating a control button 17. Under these conditions, if the control button 17 is pressed down, the air is introduced from the air inlets 15 simultaneously to attract the semiconductor wafers 21 by the attraction parts 14 in the circumferential part.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体ウェーハの如き板状体を保持する際に
用いて好適な保持具に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a holder suitable for use in holding a plate-like object such as a semiconductor wafer.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体ウェーハは、半導体集積回路(以下においてIC
ともいう)の基板となるものであり、薄い円板状の形状
になされている。そして半導体ウェハの歩留り向上を図
るため、その直径は76φ(mm )から150φへと
大になる傾向にあり、メモリIC等は125φが主流と
なっている。
A semiconductor wafer is a semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as an IC).
It is a thin disk-shaped substrate. In order to improve the yield of semiconductor wafers, the diameter tends to increase from 76 φ (mm 2 ) to 150 φ, and 125 φ is the mainstream for memory ICs and the like.

一方、半導体集積回路の製造は複雑な作業工程を必要と
し、半導体ウェーハの一枚毎に必要な処理を行う。この
時第1の工程から第2の工程に移行する場合に、半導体
ウェーハを1枚毎に移し替えることがある。このような
場合、実公昭53−48591号公報に示す如きビンセ
ットが使用されることがあった。
On the other hand, manufacturing semiconductor integrated circuits requires complicated work processes, and necessary processing is performed for each semiconductor wafer. At this time, when moving from the first step to the second step, the semiconductor wafers may be transferred one by one. In such cases, a bottle set as shown in Japanese Utility Model Publication No. 53-48591 has been used.

しかし、ピンセットは半導体ウェーハの表面に傷をつけ
やすく、これは製品不良の一因となる。
However, tweezers tend to scratch the surface of semiconductor wafers, which contributes to product defects.

そこで本発明者等は、第6図及び第7図に示すような真
空ピンセットを検討した。
Therefore, the present inventors investigated vacuum tweezers as shown in FIGS. 6 and 7.

すなわち、真空ピンセラ)1の保持部2の側面3には、
空気吸入孔4が形成されていて、コンプレッサー(図示
せず)により空気を吸入し得るようになされている。
That is, on the side surface 3 of the holding part 2 of the vacuum pincer) 1,
An air suction hole 4 is formed so that air can be sucked in by a compressor (not shown).

そして側面3を仮想線で示す半導体ウェーハ5に接触す
ると、半導体ウェーハ5が側面3、換言丁れば保持部1
に吸着し、この状態で半導体ウェーハ5を保持・し、移
し替え作業を行うことができる。
Then, when the semiconductor wafer 5 comes into contact with the side surface 3 shown by the imaginary line, the semiconductor wafer 5 touches the side surface 3, in other words, the holding portion 1
In this state, the semiconductor wafer 5 can be held and transferred, and the transfer operation can be performed.

しかし、上記真空ピンセット1は、下記のような問題点
を有していることが本発明者等の検討により明らかにさ
れた。
However, studies by the inventors have revealed that the vacuum tweezers 1 have the following problems.

〔発明が解決しようとする問題点〕 上記ピンセット及び真空ピンセット1には、側面3が半
導体ウェーハ5に接触する位置を決定するための位置決
め構成がない。従って、真空ビンセット1を例に述べる
と、両者の接触位置が第6図に点線で示すように移動し
、半導体ウェーハ5の中心部等で吸着することがある。
[Problems to be Solved by the Invention] The above tweezers and vacuum tweezers 1 do not have a positioning structure for determining the position where the side surface 3 contacts the semiconductor wafer 5. Therefore, taking the vacuum bottle set 1 as an example, the contact position between the two may move as shown by the dotted line in FIG. 6, and the semiconductor wafer 5 may be attracted to the center of the wafer 5 or the like.

半導体ウェーハ5に形成される回路はほぼ4角形状であ
り、半導体ウェーハ5の外縁部には不用部分が生じる。
The circuit formed on the semiconductor wafer 5 has a substantially rectangular shape, and an unnecessary portion is created at the outer edge of the semiconductor wafer 5.

上記構造では、不用部分を利用して確実に保持すること
ができず、上記保持作業を行う際に最とも重要な中心部
にややもすると傷をつけてしまうことがあった。
With the above structure, it is not possible to use unnecessary parts to securely hold the device, and when performing the above-mentioned holding operation, the most important central portion may be damaged.

一方、上記のように半導体ウェーハ5は次第に径太にな
る傾向にあり、これKともなって重量も増大する。
On the other hand, as described above, the semiconductor wafer 5 tends to gradually become thicker in diameter, and as a result, the weight also increases.

しかし、ピンセット及び真空ピンセラ)1は何れも一点
による吸着であるから、吸着力が弱く、移し替え作業中
に半導体ウェーハ5が滑り落ちる、といった不測の事故
も発生しゃ丁い。
However, since the tweezers and the vacuum tweezers 1 are both capable of suction at a single point, the suction force is weak, and unforeseen accidents such as the semiconductor wafer 5 slipping down during the transfer operation are unlikely to occur.

上記の如き半導体ウェーハ5の傷の発生、落下による割
れや欠けは、半導体ウェーハの歩留り低下になり、製品
コストナ不所望に高めるので、早急の改善が望まれてい
たものである。
The occurrence of scratches on the semiconductor wafer 5 as described above, as well as cracking and chipping due to dropping, lowers the yield of semiconductor wafers and undesirably increases product costs, so an immediate improvement has been desired.

本発明の目的は、半導体ウェーハ等の板状体を傷付ける
ことな(、確実に保持することのできる半導体ウェーハ
の保持具を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor wafer holder that can securely hold a plate-shaped object such as a semiconductor wafer without damaging it.

本発明の上記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明のうちの代表的なものの概
要を簡単に述べれば、下記の通りである。
A brief summary of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、保持部を半導体ウェーハの外周部に沿5よう
にほぼ円弧状に形成し、上記保持部の半導体ウェーハと
の接触面を平面構造にするとともに、複数の空気吸入孔
を形成し、更に上記空気吸入孔から所定間隔をおいて段
差状の位置決め部を設けたものである。
That is, the holding part is formed in a substantially arc shape along the outer periphery of the semiconductor wafer, the contact surface of the holding part with the semiconductor wafer is made into a flat structure, and a plurality of air suction holes are formed. A step-shaped positioning portion is provided at a predetermined distance from the air intake hole.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、はぼ円弧状の保持部に円弧状の
位置決め部が形成されているので、半導体ウェーハと空
気吸入孔との位置ぎめがなされ、しかも複数の空気吸入
孔が形成されているので吸着力が増大するので、半導体
ウェーハな傷つけることなく確実に保持する、という本
発明の目的を達成するものである。
According to the above-mentioned means, since the arc-shaped positioning part is formed on the semicircular-arc-shaped holding part, the semiconductor wafer and the air suction hole can be positioned, and moreover, a plurality of air suction holes are formed. As a result, the adsorption force is increased, thereby achieving the object of the present invention, which is to securely hold the semiconductor wafer without damaging it.

〔実施例1〕 以下、第1図〜第3図を参照して本発明を適用した半導
体ウェーハの保持具の第1実施例を説明する。なお、第
1図及び第2図は上記保持具の構造を示すものであり、
第3図は使用状況を示すものである。
[Embodiment 1] Hereinafter, a first embodiment of a semiconductor wafer holder to which the present invention is applied will be described with reference to FIGS. 1 to 3. In addition, FIG. 1 and FIG. 2 show the structure of the above-mentioned holder,
FIG. 3 shows the usage situation.

本実施例の特徴は、保持部の構造を半導体ウェーハの形
状に合わせて確実に保持し得るように構成したことにあ
る。
The feature of this embodiment is that the structure of the holding portion is configured to match the shape of the semiconductor wafer and to reliably hold the semiconductor wafer.

保持具の説明にあたっては、第1図及び第2図を同時に
参照して説明するものとする。
The holder will be explained with reference to FIGS. 1 and 2 at the same time.

保持具11は、把手12と保持部13とによって構成さ
れている。
The holder 11 includes a handle 12 and a holder 13.

保持部13の全体形状は図示のようにほぼ円弧状である
。吸着部14は平板状に形成され、更に複数の空気吸入
孔15が所定間隔で円弧状に形成されている。
The overall shape of the holding portion 13 is approximately arc-shaped as shown in the figure. The suction portion 14 is formed in a flat plate shape, and further has a plurality of air suction holes 15 formed in an arc shape at predetermined intervals.

また、保持部13には、吸着部14に対し段差を有する
位置決め部15が一体に形成されている。
Further, a positioning part 15 having a step with respect to the suction part 14 is integrally formed in the holding part 13 .

上記各空気吸入孔15は、把手】2に連結し、更に第3
図に示すようにパイプ17を介してエアーコンプレッサ
(図示せず)に接続されている。
Each of the air suction holes 15 is connected to the handle 2, and is further connected to a third
As shown in the figure, it is connected to an air compressor (not shown) via a pipe 17.

従ってエアーコンプレッサが駆動中で把手11に設けら
れた制御ボタン】7が押圧されたときは、空気の吸入路
が開状態になり、上記複数の空気吸入孔15から同時に
空気の吸入が行われる。
Therefore, when the air compressor is in operation and the control button 7 provided on the handle 11 is pressed, the air suction path is opened and air is suctioned from the plurality of air suction holes 15 at the same time.

上記保持具11の使用に際しては、制御ボタン17を操
作することなく半導体ウェーハ21の外縁部22に位置
決め部16を接触せしめる。
When using the holder 11, the positioning part 16 is brought into contact with the outer edge 22 of the semiconductor wafer 21 without operating the control button 17.

ここで注目すべきは、この状態で吸着部14が半導体ウ
ェーハ21の裏面の外周部に位置決めされることである
。この時点で吸着部14と半導体ウェーハ21との間に
隙間があってもよい。
What should be noted here is that in this state, the adsorption section 14 is positioned on the outer periphery of the back surface of the semiconductor wafer 21. At this point, there may be a gap between the adsorption section 14 and the semiconductor wafer 21.

半導体ウェーハ21において実際に製品として利用され
るのは、第1図に2点鎖線で示した部分であり、外周部
は利用されない。そして上記位置決めがなされることに
より、吸着部14は上記外周部に相当てる位置に配され
る。
The part of the semiconductor wafer 21 that is actually used as a product is the part shown by the two-dot chain line in FIG. 1, and the outer peripheral part is not used. By performing the above positioning, the suction portion 14 is placed at a position corresponding to the outer circumferential portion.

この状態で上記制御ボタン17を押圧すると、各空気吸
入孔15かも一斉に空気の吸入が行われる。従って、半
導体ウェーハ21は外周部において吸着部14に吸着さ
れる。この際、空気吸入孔15は多数であるから、吸着
力も大になる。
When the control button 17 is pressed in this state, air is sucked into each air suction hole 15 at the same time. Therefore, the semiconductor wafer 21 is attracted to the attraction section 14 at the outer peripheral portion. At this time, since the number of air suction holes 15 is large, the suction force is also large.

そして第3図に示すように、テフロンにて構成されたウ
ェハカー) IJッジ23か51枚ずつ半導体ウェーハ
21を取りだし、或いは差し込みすることができる。
As shown in FIG. 3, 51 semiconductor wafers 21 can be taken out or inserted into the wafer car (IJ) 23 made of Teflon.

この作業が行われる間、制御ボタン17を解除しない限
り、上記複数の空気吸入孔15による強力な吸着が継続
される。
While this work is being performed, the strong suction by the plurality of air suction holes 15 continues unless the control button 17 is released.

(1)半導体ウェーハと接触する吸着部に複数の空気吸
入孔を設けることにより、吸着力が°増大するという作
用で、半導体ウェーハ21の落下を低減する、という効
果が得られる。
(1) By providing a plurality of air suction holes in the suction portion that comes into contact with the semiconductor wafer, the suction force is increased, thereby reducing the fall of the semiconductor wafer 21.

(2)位置決め部を設けて半導体ウェーハの外縁部に接
触せしめることにより、半導体ウェーハと上記吸着部と
の位置決めが成されるという作用で、半導体ウェーハの
製品として利用される区分の傷付けが低減される、とい
う効果が得られる。
(2) By providing a positioning part and bringing it into contact with the outer edge of the semiconductor wafer, the semiconductor wafer and the suction part are positioned, which reduces damage to the semiconductor wafers used as products. This has the effect of

(3)上記(1)(2)により、製品の歩留りが向上す
る、という効果が得られる。
(3) The above (1) and (2) provide the effect of improving the yield of products.

(4)保持具の位置決めは、上記位置決め部を半導体ウ
ェーハの外縁部に当て付けることによりて行われるので
、位置決め作業が容易になり、作業効率が著しく向上す
る、という効果が得られる。
(4) Since the positioning of the holder is performed by abutting the positioning portion against the outer edge of the semiconductor wafer, the positioning work is facilitated and work efficiency is significantly improved.

〔実施例2〕 次に、本発明の第2実施例を第4図及び第5図を参照し
て説明する。
[Embodiment 2] Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

なお、上記第1実施例と同一の部分には同一の符号を付
し、説明の重複を避けるものとする。
Note that the same parts as in the first embodiment are given the same reference numerals to avoid duplication of explanation.

本実施例の特徴は、位置決め部18の長さを小とな丁と
ともに、吸着部14の曲がりを大となし、半導体ウェー
ハ21の径の大小に関わらず上記同様に使用し得るよう
に構成したことにある。
The feature of this embodiment is that the length of the positioning part 18 is small and the bend of the suction part 14 is large, so that it can be used in the same manner as described above regardless of the diameter of the semiconductor wafer 21. There is a particular thing.

丁なわち、半導体ウェーハ21の大きさは、第4図に示
しかつ上記のように多種にわたるものである。このよう
な背景を考慮すると、上記保持具11も半導体ウェーハ
21の大小にかかわらず使用できればより便利である。
In other words, the sizes of the semiconductor wafers 21 vary widely as shown in FIG. 4 and as described above. Considering this background, it would be more convenient if the holder 11 could also be used regardless of the size of the semiconductor wafer 21.

上記観点から、位置決め部18の長さは小に形成され、
半導体ウェーハ21の外周部22との接触は殆ど点接触
と言えるほど小面積においてなされる。
From the above viewpoint, the length of the positioning part 18 is formed small,
The contact with the outer circumferential portion 22 of the semiconductor wafer 21 is made in such a small area that it can almost be called a point contact.

しかし、位置決め部18が外周部22に当接された時点
で、吸着部14の位置決めがなされるので、位置決めと
しての目的は達成される。
However, since the suction part 14 is positioned at the time when the positioning part 18 comes into contact with the outer peripheral part 22, the purpose of positioning is achieved.

また吸着部14もほぼ外周部にとどまるような形状に形
成されているので、半導体ウェーハ21の大小にかかわ
りなく、利用区分との接触面積を小にすることができる
。そして上記同様に複数の空気吸入孔15が形成されて
いることから、半導体ウェーハ21の吸着力も低減する
ことがない。
Furthermore, since the suction portion 14 is formed in a shape that remains approximately on the outer periphery, the contact area with the usage section can be made small regardless of the size of the semiconductor wafer 21. Since a plurality of air suction holes 15 are formed in the same manner as described above, the suction force for the semiconductor wafer 21 is not reduced.

この結果、本実施例に示す保持具11の構造であっても
、上記第1実施例同様の効果が得られるうえに、半導体
ウェーハ21の大小に関りなく使用し得る、という効果
が得られる。
As a result, even with the structure of the holder 11 shown in this embodiment, it is possible to obtain the same effects as in the first embodiment, and also to be able to use it regardless of the size of the semiconductor wafer 21. .

以上に、本発明者によってなされた発明を実施例にもと
づき具体的に説明したが、不発明は上記実施例に限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変
形可能であることはいうまでもない。
Above, the invention made by the present inventor has been specifically explained based on examples, but the invention is not limited to the above examples, and it is understood that various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say.

例えば、位置決め部16.18は、第2図及び第5図に
仮想線で示すように溝状に形成してもよい。
For example, the positioning portions 16.18 may be formed in the form of grooves, as shown in phantom in FIGS. 2 and 5.

更に空気吸入孔150個数は、自在に加減することがで
きる。
Furthermore, the number of air suction holes (150) can be adjusted freely.

以上の説明では、主として本発明者等によってなされた
発明をその背景となった利用分野である半導体ウェーハ
の保持具に適用した場合について説明したが、それに限
定されるものではなく、例えばレコード盤やフロッピィ
ディスクの取り扱い用として利用することができる。
In the above explanation, the invention made by the present inventors was mainly applied to a semiconductor wafer holder, which is the background field of application, but the invention is not limited to this, and for example, It can be used to handle floppy disks.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうちの代表的なものによ
って得られる効果を簡単に述べれば、下記の通りである
A brief description of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、半導体ウェーハの如き平板状の物体を傷付け
る事なく、保持することができる。
That is, it is possible to hold flat objects such as semiconductor wafers without damaging them.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明を適用した保持具の第、1実施例を示す
説明図、 第2図は上記第1図のA−A’線断面図、第3図は上記
保持具の使用状況な示す斜視図、第4図は不発明の第2
実施例を示す保持具の説明図、 第5図は上記第4図のB−B’i断面図、第6図は本発
明に先ユって検討された真空ビンセットの正面図、 第7図は上記真空ビンセットの一側面図を示すものであ
る。 11・・・保持具、13・・・保持部、14・・・吸着
部、15・・・空気吸入孔、16.18・・・位置決め
部、21・・・半導体ウェーハ、22・・・外縁部。 代理人 弁理士  小 川 勝 男 ど第  1  図 A−]
Fig. 1 is an explanatory diagram showing the first embodiment of the holder to which the present invention is applied, Fig. 2 is a sectional view taken along the line A-A' in Fig. 1, and Fig. 3 shows the usage status of the holder. The perspective view shown in Fig. 4 is the second uninvented
An explanatory diagram of a holder showing an embodiment; FIG. 5 is a sectional view taken along the line B-B'i in FIG. 4; FIG. 6 is a front view of a vacuum bottle set studied prior to the present invention; The figure shows a side view of the vacuum bottle set. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... Holder, 13... Holding part, 14... Adsorption part, 15... Air suction hole, 16.18... Positioning part, 21... Semiconductor wafer, 22... Outer edge Department. Agent: Patent Attorney Katsuo Ogawa Figure 1 A-]

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(1)全体形状がほぼ円弧状に形成された保持部と
、 (2)上記保持部の一側面で半導体ウェーハの一側面と
の接触面が平板状に形成された吸 着部と、 (3)上記吸着部に形成され、上記半導体ウェーハを空
気吸入により上記吸着部に吸着せ しめる複数の空気吸入孔と、 (4)上記空気吸入孔の形成位置に対し所定間隔をもっ
て上記保持部の外周部に段差状に 形成され、上記半導体ウェーハの外周縁に 当接して、上記半導体ウェーハと上記保持 部との位置ぎめを行う位置決め部と、 をそれぞれ設け、上記位置決め部により上記半導体ウェ
ーハ吸着時の位置決めを行うとともに、上記複数の空気
吸入孔により吸着力を増大せしめることを特徴とする半
導体ウェーハの保持具。
[Claims] 1. (1) A holding part whose overall shape is approximately arcuate; (2) A contact surface between one side of the holding part and one side of the semiconductor wafer is formed into a flat plate. (3) a plurality of air suction holes formed in the suction portion for sucking the semiconductor wafer to the suction portion by sucking air; a positioning part formed in a stepped shape on the outer peripheral part of the holding part and abutting against the outer peripheral edge of the semiconductor wafer to position the semiconductor wafer and the holding part; A semiconductor wafer holder characterized by positioning the semiconductor wafer during suction and increasing suction force by the plurality of air suction holes.
JP1008486A 1986-01-22 1986-01-22 Holder of semiconductor wafer Pending JPS62169437A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015230917A (en) * 2014-06-03 2015-12-21 三菱電機株式会社 Wafer handling device and tweezers for wafer

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