JPS62161969A - エツチング方法 - Google Patents
エツチング方法Info
- Publication number
- JPS62161969A JPS62161969A JP172786A JP172786A JPS62161969A JP S62161969 A JPS62161969 A JP S62161969A JP 172786 A JP172786 A JP 172786A JP 172786 A JP172786 A JP 172786A JP S62161969 A JPS62161969 A JP S62161969A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- rate
- etching rate
- carried out
- dimensional accuracy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、金属板の面の所定部分のみに耐食膜を施し、
選択的に化学エツチングして所定の加工品を得る方法に
関する。
選択的に化学エツチングして所定の加工品を得る方法に
関する。
従来の技術
従来鉄含有合金のエツチング液として塩化第２鉄溶液を
使用することは既に公知である。
使用することは既に公知である。
しかしながら公知のように、鉄合金を塩化第２鉄でエツ
チングする場合、エツチングの進行にともない塩化第２
鉄は逐次消費され、酸化能力のない塩化第１鉄に還元さ
れ、また溶解された鉄。
チングする場合、エツチングの進行にともない塩化第２
鉄は逐次消費され、酸化能力のない塩化第１鉄に還元さ
れ、また溶解された鉄。
ニッケル、コバルト等合金成分は塩化物としてエツチン
グ液中に蓄積し、エツチング液の比重が増大してくる。
グ液中に蓄積し、エツチング液の比重が増大してくる。
これらのことからエツチング液の噴霧条件の変化とエツ
チングレートの低下がおこり半導体装用リードフレーム
等高度の寸法精度が要求される分野では問題となる。
チングレートの低下がおこり半導体装用リードフレーム
等高度の寸法精度が要求される分野では問題となる。
これらの問題を解決する方法として、特公昭５５−３４
８６５号公報にあるようなエツチング液組成を検討する
ことによって一定エッチングレートを得る方法、さらに
は特公昭５７−４４７５０号公報にあるようにエッチレ
ートを感知し、エツチング用スプレーのポンプ圧を調整
することによる定エッチレート化をする等エツチングレ
ートの低下を防止し、一定エツチレートを維持すること
でエツチング不足、あるいは過剰のアンダーカットを調
整する方法がとられているのが現状である。
８６５号公報にあるようなエツチング液組成を検討する
ことによって一定エッチングレートを得る方法、さらに
は特公昭５７−４４７５０号公報にあるようにエッチレ
ートを感知し、エツチング用スプレーのポンプ圧を調整
することによる定エッチレート化をする等エツチングレ
ートの低下を防止し、一定エツチレートを維持すること
でエツチング不足、あるいは過剰のアンダーカットを調
整する方法がとられているのが現状である。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、これら従来の対策法のみでは寸法が±１
０〜３０μｍといった精密エツチング加工は困難である
。
０〜３０μｍといった精密エツチング加工は困難である
。
本発明は、上述の従来法の欠点を改善する目的でなされ
たものである。
たものである。
問題点を解決するための手段
本発明は上記問題点を解決するため、エツチング進行に
ともないエツチングレートを段階的、あるいは連続的に
低下させることによって所望の寸法精度を達成する方法
である。
ともないエツチングレートを段階的、あるいは連続的に
低下させることによって所望の寸法精度を達成する方法
である。
実 施 例
エツチング室を多段に設け、エツチング開始〜初期を第
１段のエツチング室で行う。ここで使用するエツチング
液等、エツチング条件は高エツチング速度を有し所望の
エツチング量の約１／２を喰刻する。
１段のエツチング室で行う。ここで使用するエツチング
液等、エツチング条件は高エツチング速度を有し所望の
エツチング量の約１／２を喰刻する。
次にエツチング中期を第２段のエツチング室で行い、こ
こでは第１段目より低いエツチングレートでエツチング
を実施し全エツチング量の約３／４を喰刻する。エツチ
ングの最終仕上げを第３段エツチング室で実施しここで
のエツチングレートは第２段目に較べさらに低速でエツ
チングしエツチングを終了する。
こでは第１段目より低いエツチングレートでエツチング
を実施し全エツチング量の約３／４を喰刻する。エツチ
ングの最終仕上げを第３段エツチング室で実施しここで
のエツチングレートは第２段目に較べさらに低速でエツ
チングしエツチングを終了する。
この段数は、精度、経済性の観点から自由に選定できる
ものである。各エツチング段階でエツチングレートをか
える方法としては、 （ｉ） エツチング液の活性度調整による方法（ｉｉ
） エツチング温度調整による方法（ｉｉ） エツ
チングスプレー圧調整による方法を単独であるいは複合
して使用することが可能である。
ものである。各エツチング段階でエツチングレートをか
える方法としては、 （ｉ） エツチング液の活性度調整による方法（ｉｉ
） エツチング温度調整による方法（ｉｉ） エツ
チングスプレー圧調整による方法を単独であるいは複合
して使用することが可能である。
実施例−１
同一の活性度を有する４５Ｂ、’（ボーメ度）塩化第２
鉄溶液新液を用い、第１槽の温度を６５℃。
鉄溶液新液を用い、第１槽の温度を６５℃。
第２槽の温度を５０℃、第３槽の温度を３５℃に設定し
、各槽は同一の撹拌条件で撹拌した。あらかじめ１００
０１１１Ｘ５０１１１１１ＸＯ，２５１＋１１の４２ア
ロイよりなる板に所定パターンを常法により作成した被
エツチング物を第１槽から順に所定時間浸漬し試料を得
た。試料の断面測定によりエツチングファクターを算出
した。
、各槽は同一の撹拌条件で撹拌した。あらかじめ１００
０１１１Ｘ５０１１１１１ＸＯ，２５１＋１１の４２ア
ロイよりなる板に所定パターンを常法により作成した被
エツチング物を第１槽から順に所定時間浸漬し試料を得
た。試料の断面測定によりエツチングファクターを算出
した。
実施例−１の第１槽（６５℃）のみを用い、全エツチン
グ量が同一になるまでエツチングした比較サンプルを作
成し、エツチングファクターを算出比較した。
グ量が同一になるまでエツチングした比較サンプルを作
成し、エツチングファクターを算出比較した。
以上の結果を第１表に示す。
実施例−２
塩化第２鉄４５ Ｂｅ ’新液にＮ ｉ Ｃｅ ２を添
加し、活性度を調整したエツチング液を調製する。
加し、活性度を調整したエツチング液を調製する。
第１槽はＮ１ＣＱ２無添加、第２槽にはＦｅ／Ｎ１＝５
８／２１になるように、第３槽はＦｅ／Ｎ１＝５８／４
２になるように調製し各槽の温度を６５℃に設定した。
８／２１になるように、第３槽はＦｅ／Ｎ１＝５８／４
２になるように調製し各槽の温度を６５℃に設定した。
実施例＝１で用いたのと同一の被エツチング物を第１槽
から順に所定時間浸漬し試料を得、常法によりエツチン
グファクターを算出した。結果を第２表に示す。
から順に所定時間浸漬し試料を得、常法によりエツチン
グファクターを算出した。結果を第２表に示す。
第２表
発明の効果
以上のように本発明のエツチング方法は、エツチングの
進行度にしたがいエツチング速度が低下するように調整
したものであるため、極めて精度の良いエツチング加工
をすることができる。
進行度にしたがいエツチング速度が低下するように調整
したものであるため、極めて精度の良いエツチング加工
をすることができる。
卿ヰ図は本発明のエツチング方法及び従来のエツチング
方法のエツチング時間とエツチングレートの関係を示す
グラフである。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか１名エンチシプ
゛ｆｒ月ｎ
方法のエツチング時間とエツチングレートの関係を示す
グラフである。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか１名エンチシプ
゛ｆｒ月ｎ
Claims (1)
- 第１のエッチング速度でエッチングした後、前記第１の
エッチング速度より遅い第２のエッチング速度でエッチ
ングしたことを特徴とするエッチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP172786A JPS62161969A (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | エツチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP172786A JPS62161969A (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | エツチング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62161969A true JPS62161969A (ja) | 1987-07-17 |
Family
ID=11509594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP172786A Pending JPS62161969A (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | エツチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62161969A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111607794A (zh) * | 2020-06-17 | 2020-09-01 | 宁波福至新材料有限公司 | 一种提高金属产品蚀刻质量的方法 |
-
1986
- 1986-01-08 JP JP172786A patent/JPS62161969A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111607794A (zh) * | 2020-06-17 | 2020-09-01 | 宁波福至新材料有限公司 | 一种提高金属产品蚀刻质量的方法 |
| CN111607794B (zh) * | 2020-06-17 | 2022-05-27 | 宁波福至新材料有限公司 | 一种提高金属产品蚀刻质量的方法 |
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