JPS62161790A - セフエム化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規なセフェム化合物の製造法に関するもの
であり、さらに詳細には、抗菌剤として有用な７−置換
−３−セフェム−４−カルボン酸およびその塩の製造法
に関するものである。

この発明によって提供きれるセフェム化合物の製造法は
下記反応式によって表わきれる。

［式中、Ｒ１はアミノまたは保護されたアミン、Ｒはカ
ルボキシまたはその誘導体、Ａ１はオキソ置換低級アル
キレン、Ａ２は■Ｎ−０Ｒ３（基中、Ｒ３は水素、低級
アルキル、低級アルケニル、低級アルキニルまたはシク
ロ（低級）アルキルを意味する） で示きれる基で置換された低級アルキレンをそれぞれ意
味する］ この明細書で述べられる用語および定義は下記の通りで
ある。

２−アミンまたは２−保護アミノチアゾリル基は、２−
イミノまたは２−保護イミノチアゾリニル基と互変異性
の関係にある。前記チアゾリル基とチアゾリニル基の互
変異性は下記平衡式で示すことができる。

（式中Ｒ１はアミノまたは保護されたアミノ、Ｒ１’は
イミノまたは保護されたイミノを意味する） したがって、前記式で示される２つの基は本質的に同一
であり、そのような基を含む異性体は同一化合物とみな
される。それ故、分子中にそのような基を有する化合物
の各互変異性体は両方共この発明の範囲に含まれる。こ
の明細書では、便宜上「２−アミノ（または保護アミノ
）チアゾリル、という表現と、 （式中Ｒ１は前と同じ意味） をもって包括的に表現することとする。

Ａ１で示される１オキソ置換低級アルキレン。

の具体例としてはオキソメチレン、オキソエチレン、１
−オキソトリメチレン、２−オキソトリメチレン、２−
オキソテトラメチレン、３−オキソペンタメチレン等が
例示きれ、好ましくは炭素数１〜４の基である。

Ａ２で示される基の「低級アルキ９２１部分は直鎖状ま
たは分枝状の２価の炭化水素残基で、例えばメチレン、
エチレン、トリメチレン、プロピレン、エチルエチレン
、テトラメチレン、ペンタメチレン、１−メチルペンタ
メチレン、２−メチルペンタメチレン、３−メチルペン
タメチレン、ヘキサメチレン等が例示され、これらのう
ち好ましいのは、炭素数１〜４のアルキレンである。

Ｒ１で示される１保護されたアミン」における「保護基
」は一般的なＮ−保護基であって、例えば置換または非
置換アリール（低級）アルキル（例えばベンジル、ベン
ズヒドリル、トリチル、４−メトキシベンジル、３．４
−ジメトキシベンジル等）、ハロ（低級）アルキル（例
えばトリクロロメチル、トリクロロエチル、トリフルオ
ロメチル等）、テトラヒドロピラニル、置換フェニルチ
オ、置換アルキリデン、置換アルキリデン、置換シクロ
アルキリデン、アシル等が例示される。

該保護基における「アシル」としては、置換または非置
換低級アルカノイル（例えばホルミル、アセチル、クロ
ロアセチル、トリフルオロアセチル等）、置換または非
置換アリール（低級）アルカノイル（例エハフエニフレ
アセチル、フェニルプロピオニル等）、置換または非置
換低級アルコキシカルボニル キシカルボニル、プロポキシカルボニル、１−シクロプ
ロピルエトキシ力ルポニル、インプロポキシカルボニル
、ブトキシカルボニル、第３級ブトキシカルボニル、ペ
ンチルオキシカルボニル、第３、扱ペンチルオキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル −ビリンルメトキシ力ルボニル等）、置換または非＃換
アリール（低級）アルコキシカルボニル（例えばベンジ
ルオキシカルボニル、ペンスヒドリルオキジ力ルボニル
、４−ニトロベンジルオキシカルボニル等）、低級シク
ロアルフキジカルボニル（例えばシクロペンチルオキシ
カルボニル、シクロへキンルオキシ力ルボニル等）、８
−キノリルオキシカルボニル、サクシニル、フタロイル
等が例示される。

さらに、この保護基には硼素化合物、珪素化合物、アル
ミニウム化合物または燐化合物とアミノ基との反応生成
物も含まれ、そのような化合物としては、トリメチルシ
リルクロライド、トリメトキシシリルクロライド、ポロ
ントリクロライド、ブトキシボロンジクロライド、アル
ミニウムトリクロライド、ジェトキシアルミニウムクロ
ライド、二臭化燐、二臭化フェニル燐等が挙げられる。

Ｒ２で示浮れる１カルボキシの誘導体」としてはエステ
ル、アミド等が例示きれる。

このエステルの好ましい例としては、アルキルエステル
（例えはメチルエステル、エチルエステル、プロピルエ
ステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソ
ブチルエステル、第３級ブチルエステル、ペンチルエス
テル、第３級ペンチルエステル、ヘキシルエステル、ヘ
プチルエステル、オクチルエステル、１−シクロプロピ
ルエチルエステル等）、アルケニルエステル（例えハビ
ニルエステル、アリルエステル等）、アルキニルエステ
ル（１列えばエチニルエステル、プロピニルエステル等
）、アルコキシアルキルエステル（例えばメトキシメチ
ルエステル、エトキシメチルエステル、インプロポキシ
メチルエステル、１−メトキシエチルエステル、１−エ
トキシエチルエステル等）、アルキルチオアルキルエス
テル（例えばメチルチオメチルエステル、エチルチオメ
チルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプロピ
ルチオメチルエステル等）、ハロアルキルエステル（例
えば２−ヨードエチルエステル、２，２。

２−トリクロロエチルエステル等）、アルカノイルオキ
シアルキルエステル（例えばアセトキシメチルエステル
、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシ
メチルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバ
ロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチ
ルエステル、２−アセトキシエチルエステル、２−プロ
とオニルオキシエチルエステル、バルミトイルオキシメ
チルエステル等）、アルカンスルホニルアルキルニスデ
ル（例えばメシルメチルエステル、２−メシルエテルエ
ステル等）、置換または非置換アラルキルエステル（例
えばベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステル
、４−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル、
トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビス（メ
トキシフェニル）メチルエステル、３．４−ジメトキシ
ベンノルエステル、４−ヒドロキシ−３．５−シ第３級
ブチルベンジルエステル等）、置換または非置換アリー
ルエステル（例えばフェニルエステル、トリルエステル
、第３級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、
メシチルエステル、クメニルエステル、サリチルエステ
ル等）ｔ　シＩＪル化合物（例えばトリアルキルシリル
化合物、ジアルキルアルコキシシリル化合物またはトリ
アルコキシシリル化合物）とのエステノ呟例えばトリア
ルキルシリルエステル（例えばトリメチルシリルエステ
ル、トリエチルシリルエステル等）、ジアルキルアルコ
キシシリルエステル（例えばジメチルメトキシシリルエ
ステル、ジメチルエトキシシリルエステル、ジエチルメ
トキシシリルエステル等）、トリアルコキシシリルエス
テル（例えばトリメトキシシリルエステル、トリエトキ
シシリルエステル停）等が例示される。

Ｒ３における１低級アルキル、とじては例えば、メチル
、エチル、プロピル、ブチル等が挙げられる。

Ｒ３における「低級アルケニル、としては例えば、ビニ
ル、アリル、プロペニル、ブテニル停が挙げられる。

Ｒ３における「低級アルキニル」としては例えは、エチ
ニル、プロビニＪ呟　ブチニル等が挙げられる。

Ｒ３における「シクロ（低級）アルキル」としては例え
ば、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等
が挙げられる。

この発明の製造法を以下に説明する。

目的化合物（１）およびその塩は、化合物（Ｉ［）また
はその塩に、化合物（ＩＩＩ）またはその塩を反応させ
ることによって得られる。

原料化合物（ＩＩ）は新規化合物であり、下記方法によ
って製造きれる。

（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＡ１は前と同じ意味）化合物
（１）の例としては、ヒドロキシルアミン、低級アルフ
キシアミン（例えばメトキシアミン、エトキシアミン、
プロポキシアミン、ブトキシアミン等）、低級アルケニ
ルオキシアミン（例えばビニルオキシアミン、アリルオ
キシアミン、プロペニルオキシアミン、ブテニルオキシ
アミン等）、低級アルキニルオキシアミン（例えばエチ
ニルオキシアミン、プロピニルオキシアミン、ブチニル
オキシアミン等）またはシクロ（低級）アルフキシアミ
ン（例えばシクロブトキシアミン、シクロペンチルオキ
シアミン、シクロへキシルオキシアミン等）が例示され
る。

化合物（ＩＩＩ）の塩としては、塩酸塩、臭化水素酸塩
、硫酸塩等が含まれる。

反応は、通常、水、アルコール等の他、この反応に悪影
響を与えない溶媒等の溶媒中で行なわれ、反応温度は冷
却ないし加熱の範囲から適宜選択される。

化合物（Ｉ［［）の塩を使用する場合は、例えば水酸化
アルカリ金属（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等）、水酸化アルカリ土類金属（例えば、水酸化マ
グネシウム、水酸化カルシウム等）、炭酸アルカリ金属
（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、炭酸ア
ルカリ土類金属（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カル
シウム等）　炭酸水素アルカリ金属（例えば、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、燐酸アルカリ土類
金属（例えば、燐酸マグネシウム、燐酸カルシウム等）
、燐酸水素アルカリ金属（゛例えば、燐厳水素２ナトリ
ウム塩、燐酸水素２カリウム塩等）等の無機塩基、酢酸
アルカリ金属（例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
等）、トリアルキルアミン（例えば、トリメチルアミン
、トリエチルアミン等）、ピッリン、Ｎ−メチルピロリ
ジン、Ｎ−メチルモルホリン、１．５−ジアザビシクロ
［４，３，０］−５−ノネン、１．４−ジアザビシクロ
［２，２，２］オクタン、１．５−ジアザビシクロ［５
，４，０］−７−ウンデセンなどの有機塩基のような塩
基の存在下に行なわれる。

化合物（Ｉ）のＡ２において、基−Ｎ−ＯＲ３（基中、
Ｒ３は前と同じ意味）で示される部分構造は、下記２つ
の幾何異性体を意味するものである。

Ｎ−０−Ｒ３Ｒ３−０−Ａ ［Ｓ］　　　　　　　　　　　　　　　　［Ａ１式［Ｓ
］で示される幾何異性体はシン異性体であり、他の式［
Ａ］で示されるのはアンチ異性体である。構造活性相関
という視点からすれば、化合物（Ｉ＞のシン異性体は対
応するアンチ異性体よりも高い抗菌活性を有する傾向に
ある。したがって、化合物（Ｉ）のシン異性体は、予防
的、治療的意味において対応するアンチ異性体よりも良
好な抗菌剤と言える。

次に本発明の実施例を述べる。

料化合　（Ｉ［＞の製造 製造例 （１）７−アミノ−３−セフェム−４−カルボン酸の４
−二トロベンジルエステルの塩酸塩（９ｇ）、トリメチ
ルシリルアセトアミド（２４，８１ｇ）およびビス（ト
リメチルシリル）アセトアミド（９ｍＱ）を乾燥酢酸エ
チル（１００ｍＡ　）に加え、４５°Ｃで１時間攪拌し
た。

他方塩化ホスホリル（８，４ｍ１）を、ジメチルホルム
アミド（４，ｏｍｕ）と乾燥酢酸エチル（１６，０ｍＱ
　）の水冷下撹拌混液中に滴下し、しばらく攪拌を続け
た。この溶液に、酢酸エチル（２４０ｍＱ　）と２−（
２−ホルムアミド−４−チアゾリル）グリオキシル酸（
５，３５ｇ）を−３”Ｃで徐々に加え、得られた混合物
を同温度で１５分間攪拌した。この溶液を、前記で得た
セファロスポリン化合物含有溶液中に一１５℃で滴下し
、更に３０分同温度で攪拌した。水（５０＋１１１１　
）を更に加え、析出物を濾取水洗後、減圧下に５酸化燐
で乾燥すると、７−［２−（２−ホルムアミド−４−チ
アゾリル）グリオキシロイルアミノコ−３−セフェム−
４−カルボン酸４−ニトロベンジルエステル（７，１２
４ｇ　’）が得うれた。酢酸エチル層を分離し、塩化ナ
トリウム飽和水溶液で洗浄した後硫酸マグネシウムで乾
燥した。これを減圧下に濃縮すると上記と同じ目的物質
（１，０３ｇ）が回収きれた。総収量８．１５４　ｇｌ
、Ｒ，ジアジ”　　：　　１７７５．　１７２５．　１
６５０　　ａｍ−１ａｘ Ｎ、Ｍ、Ｒ，Ｓ　（ＤＭＳＯ−ｄｅ、ｐｐｍ）　：　３
．６６　（２Ｈ，ｍ）、　５．１７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５
．２Ｈｚ）、　　５．４２　（２Ｂ、ｓ）、　　５．９
０（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．２Ｈｚ、　　７．８Ｈｚ）、
　　６．６６　（ＩＨ，ｔ。

Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　　７．６７　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９
Ｈｚ＞、　　８．２２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、　　
８．３９　（ＩＨ，ｓ）、　　８．５５（ＩＨ，ｓ）、
　　９．８７　　（ＬＨ，ｄ、Ｊニア、８Ｈｚ＞（２）
７−［２−（２−ホルムアミド−４−チアゾリル）グリ
オキシロイルアミノコ−３−セフェム−４−カルボン酸
４−ニトロベンジルエステル（３．０ｇ）、メタノール
（６０鵬）およびテトラヒドロフラン（　８０＋１１１
１　）の混合物を、１０％パラジウム−炭素（１５ｇ）
、酢酸（　ｔｏｍＱ）およびメタノール（１０ｍＦ）の
混合物中に窒素ガス雰囲気中で加え、常圧且つ室温下に
４時間接触還元を行なった。生成した混合物を濾過し、
濾液を減圧下に濃縮した。析出物を濾取し、ジイソプロ
ピルエーテル（　５０ｍｌｌ　）で洗浄した後乾燥する
と、粉末（１．３４ｇ）が得られた。水（　１００ｍＱ
　）と酢酸エチル（１００ｍＱ　）の混合物をこの粉末
に加え次酸水素ナトリウムでｐＨ６．　０に調整した後
水着を分離し酢酸エチルおよびジエチルエーテルで洗浄
した。残ったエーテルは、窒素ガスを吹き込むことによ
って留去し、１０％塩酸で水溶液をｐＨ２．　０に調整
した，得られた結晶を濾取し５酸化燐で乾燥すると、７
−［２−（２−ホルムアミド−４−チアゾリル）グリオ
キシロイルアミノコ−３−セフェム−４−カルボン酸（
０．４７ｇ）が得られた。一方濾液の方は減圧下に濃縮
し、残渣にジエチルエーテルと石油エーテルの混液を加
えて結晶化させた。これを濾取しジエチルエーテルと石
油エーテルで洗浄し減圧下に乾燥すると上記と同じ目的
物質（１．１ｇ）が得られた。総収量１．５７ｇ １、　Ｒ．ν””　：　１７８０．　１６７０　ｃｍ″
″１ａｘ Ｎ．　Ｍ．　Ｒ．　Ｓ　（　ＤＭＳＯ−ｄｅ．ｐｐｍ）
コ３．６３　（２Ｈ，ｍ，Ｊ＝４）１ｚ）。

５、１７　（１８，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、　５．８７
　＜ＬＨ．ｄｄ。

Ｊ＝５．２Ｈｚ．　８．２Ｈｚ）、　６．５３　（Ｌ）
ｌ，ｔ．Ｊ＝４Ｈｚ）。

８、４２　（１８，ｓ）、　８．５９　＜ＩＨ．ｓ）、
　９．８３　（ＩＨ。

ｄＪ＝８．　２Ｈｚ） （３）７−［２−（２−ホルムアミド−４−チアゾリル
）グリオキシロイルアミノコ−３−セフェム−４−カル
ボン酸（２，４４ｇ）のメタノール（４０ｍＱ　）溶液
に、水冷下、濃塩酸（２，４４ｇ）とメタノール（ｔｏ
ｍｃ　）の混合物を加え２０〜２２℃で５時間攪拌した
後濾過した。濾液を減圧下に濃縮し、残渣に水（１００
ｍＱ　）を加え、攪拌下に炭酸水素ナトリウムを加えて
ｐＨ６，５としてから濾過した。濾液を酢酸エチルで洗
浄し、１０％塩酸を加えてｐＨ３，５とした。生成した
沈殿物を濾取し、水洗後渡圧下に５酸化燐で乾燥すると
、７−［２−（２−アミノ−４−チアゾリル）グリオキ
シロイルアミノコ−３−セフェム−４−カルボン酸（０
，４９２ｇ　）が得られた。濾液と洗液を、多孔質非イ
オン性吸着樹脂「ダイアイオン）ＩＰ−２０Ｊ（商標、
三菱化成工業株式会社製）のカラムクロマトグラフに展
開し、１５％インプロパツールで溶出した。イソプロパ
ツールを減圧下に留去し、残留液を凍結乾燥すると上記
と同一の目的物質（１，５６１ｇ　）が得られた。総収
量２．０５３　ｇ １Ｈ０シｍ８ｘ、１７８０．１６６８ｃｍ−１スジター
ル　。

Ｎ、Ｍ、Ｒ，Ｓ　（Ｄ２０．ｐｐｍ＞　’　３．５７　
（２Ｈ９ｍ）、５．１７　（ＬＨｌｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ
）、　　５．７８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）。

６．３３　　（ＩＨ，ｍ＞、　　８．２６　　（ＬＨ，
ｓ）実施例１ ７−［２−（２−アミノ−４−チアゾリル）グリオキシ
ロイルアミノコ−３−セフェム−４−カルボン酸塩酸塩
（１，７８ｇ、Ｍ）水（ｔｏｏｍｕ　）溶液に、水冷攪
拌下戻酸水素ナトリウムを加えてｐＨ６，０に調整した
。酢酸ナトリウム（０，３８ｇ）とメトキシルアミン塩
酸塩（１，３７ｇ）をこの溶液に加え、炭酸水素ナトリ
ウムでｐＨ７，０に調整した後、４８°Ｃで１時間攪拌
した。この液を酢酸エチル（２００ｆｆｌｕ　）とジエ
チルエーテル（１００ｍ１ｌ　）で順次洗浄し、この混
液に窒素ガスを吹き込んでジエチルエーテルを留去した
。水溶液に水冷攪拌下１０％塩酸を加えることによって
ｐＨ３，５とした。析出物を濾取し水洗後渡圧下に５酸
化燐で乾燥すると、７−［２−（、，２−アミノ−４−
チアゾリル）−２−メトキシイミノアセトアミドコ−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体、１２０ｍｇ
）が得られた。母液を、多孔質非イオン性吸着樹脂「ダ
イアイオンＨＰ−２０Ｊ（商標、三菱化成工業株式会社
製）のカラムクロマトグラフに展開し、４０％水性アセ
トンで溶出した。抽出液を減圧下に濃縮し凍結乾燥し、
更に５酸化燐で乾燥きせると、同一の目的物質（９５０
ｍｇ　）が得られた。全収量１０７０ｍｇ。

ＩＲ１ν”＝’　：　３４６０．３２９０．３１５０．
１７８０゜ａｘ １６５５、１６２３　ｃｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，Ｅ　（ＤＭＳＯ−九、ｐｐｍ＞　’　
３．６０　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓ）。

３．８４　（３Ｈ，ｓ）、　５．１２　（ＩＨ，ｄ、、
Ｃ３Ｈｚ）。

５．８４　（ＬＨ，ｄ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ＞、
　６．５２　（ＩＨ。

ｔ）、　６．７６　（ＩＨ，ｓ）、　７．２６　（２Ｈ
，ｂｒｏａｄ　ｓ）。

９．６５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） 実施例２ 実施例１の方法に準じ、下記の化合物を得た。

（１）？−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−セフェム
−４−カルボン酸（シン異性体）１、Ｒ１ν”＝”　Ｆ
　３３５０−３２００．１７７０．１６７０゜ａＸ １６３０　ａｍ’ Ｎ、Ｍ、Ｒ，８（ＤＭＳＯ−ｄ６．ｐｐｍ）　：　３．
６０　（２８，ｂｒｏａｄ　ｓ）。

５．１０　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　　５．８３　
（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ、　　８Ｈｚ＞、　　６、ａ７　（ＩＨ，ｔ
、、Ｊ＝４Ｈｚ）。

６．６７　（ＩＨ，ｓ）、　　９．４７　（ＬＨ，ｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ）（２）７−［２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２−エトキシイミノアセトアミド］−３
−セフェム−４−カルボン酸（シンＡ性体）１、　Ｒ，
ν””　：　３５００．３３００．３２００．１７８５
゜ｆｌａｘ １６２５、１６００　ａｍ−１ Ｎ、Ｍ、Ｒ，８（ＤＭＳＯ−ｄ６．ｐｐｍ）　：　１．
２０　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ＞。

３．５７　（２Ｈ，ｍ）、　４．０８　（２Ｈ，ｑ、Ｊ
＝７Ｈｚ＞。

５．０８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．８３　（
ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　６．４７　（ＩＨ，ｍ）、
　６．７３　（ＩＨ。

ｓ）、　７．２０　（２Ｈ，ｍ）、　９．５８　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（３）７−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−プロポキシイミノアセトアミ
ドコ−３−セフェム−４−カルボン酸（シンＪｕ性体）
■・、Ｒ６ν”＝’　：　３２５０．１７７０．１６５
０．１６６０゜ａｘ １６２０　ｃｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，８（ＤＭＳＯ−ｄａ、ｐｐｍ）　’　
０．９３　（３Ｈ１ｔ、Ｊ＝７）！ｚ）。

１．６７　（２Ｈ，５ｅｘｔｅｔ、Ｊ−７Ｈｚ＞、　　
３．６０　（’２Ｈ。

ｍ）、　　４．０３　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　　
５．１３　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ＞、　　５．８３　（ＩＨ，ｄｄＪ＝５Ｈｚ
、　　８Ｈｚ）。

６．４８　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝４Ｈｚ）、　　６．７０　
（ＬＨ，ｓ）。

７．１８　（２Ｈ，ｍ）、　　９．５３　（ＬＨ，ｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ）（４）７−［２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２−ブトキシイミノアセトアミトコ−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）Ｉ　、　Ｒ
，、Ｘ　’；　＊−Ａ：　３３２０．１７７５．１６６
０　ａｍ″′ＩＩＩａｘ Ｎ　、　Ｍ、　Ｒ−８（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ｐｐｍ）コ０
．８８　（３Ｈ，ｔ、ＪニアＨｚ＞。

１．１−１９　（４Ｈ，ｍ）、　３．５８　（２Ｈ，ｂ
ｒｏａｄ　ｓ）。

４．０５　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　５．０８　（
ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．８０　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
、　８Ｈｚ）。

６．４４　（ＬＨ，ｂｒｏａｄ　ｓ）、　７．１８　（
２Ｈ，ｓ）。

９．５１　（ＩＨ，ｄＪ＝８）１ｚ） （５）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ベンチルオキシイミノアセトアミトコ−３−セフ
ェム−４−カルボン酸（シン異性体）１、Ｒ，ｖ”−’
　：　３３００．１７７５．１６５０．１５４０　ｃｍ
−１ａｘ Ｎ、　Ｍ−Ｒ，８（ＤｆｌＳＯ−ｄａ、ｐｐｍ）　’　
０．６−２．０　＜　９８１ｍ）。

３．５６　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２Ｈ２）、　　４．０３　
（２Ｈ，ｔ。

に６Ｈｚ）、　　５．０８　（ＬＨ，ｄ、Ｊ：５Ｈｚ）
、　　５．８１（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　　８Ｈｚ
）、　　６．４６　（ＬＨ，ｔ。

Ｊ＝４Ｈｚン、　　ａ、ａ９　　（ＬＨ，ｓン、　　乙
２０　　（２Ｈ，Ｓ＞。

９．１５　　（ＩＨ，ｄ、、Ｃ３Ｈｚ）（６）７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヘキシル
オキシイミノアセトアミド］−３〜セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）１、Ｒ，Ｖ”’　：　３２５０．
　１７６０．　１６４０．　１６００　ｃ＋ｎ−’ａｘ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，δ（ＤＭＳＯ−ｄａ、ｐｐｍ）　：　
１．８８　＜３Ｌｍ）、　１．１−１．９　（８Ｈ，ｎ
）、　３．６０　（２Ｈ，ｍ）、　４．０６　（２Ｂ。

ｔ、に６Ｈｚ）、　５．１０　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ
）、　５．８２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：５）１ｚ、　８Ｈｚ
）、　６．４６　（ＩＨ，ｍ＞。

６．７０　　（ＩＨ，ｓ）、　　７．２６　　（２Ｈ，
ｍ＞、　　９．５６（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈ２） （７）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−アリルオキシイミノアセトアミトコ−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）１、Ｒ９ν””　：
　３３００．１７８０．１６６０．１６３０　ｃ＋ｎ−
１ａｘ Ｎ、Ｍ、Ｒ，８（ＤＭＳＯ−ｄａ、ｐｐｍ＞　’　３．
６７　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）。

４．６７　　（２Ｈ，ｍ）、　　５．１７　　（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞。

５．２５　（ＬＨ，ｍ）、　　５．５０　（１８，ｍ）
、　　５．９０（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ：５Ｈｚ、　　８Ｈｚ
＞、　　６．０３　（ＩＨ，ｍ＞。

６．５５　（ＬＨ，ｍ）、　　６．８０　（ＬＨ，ｓ＞
、　　７．５０（２Ｈ，ｍ）、　　９．６８　　（ＬＨ
，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（８）７−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−プロパルギルオキシイミノア
セトアミド］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体） １、Ｒ，ｖ”−’　：　３５００．３３００．　１７８
０．　１７２０゜ａｘ １６６０、１６３０　ａｍ’ Ｎ、Ｍ、Ｒ，ｌ；　（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ｐｐｍ）　’　
３．４８　（ＬＨ，ｍ）、３．６７＜２Ｈ，ｍ）、　４
．８０　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ＞、　５．１７（ＬＨ
，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．８８　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−
５Ｈｚ。

８Ｈｚ）、　６．５５　（ＬＨ，ｍ＞、　６．８５　（
ＬＨ，ｓ）。

７．３３　　（２Ｈ，ｍ）、　　９．７３　　＜ＬＨ，
ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（９）７−［２−（２−アミノチアソ
ール−４−イル）−２−シクロヘキシルオキシイミノア
セトアミド］−３−セフェム−４−カルボン酸くシン異
性体） ■、Ｒ０し８′４′″’　：　３３５０．　１７７５．
　１６６５．１６２０゜ａＸ １５４０　ｃｍ−１ Ｎ、Ｍ、Ｒ２δ（ＤＭＳＯ−ｄａ、ｐｐｍ＞　：　０．
８−２．２　（ＩＯＨ，ｍ＞。

３．６０　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓ）、　４．０４　（
ＩＨ，ｍ）。

５．０９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．８３　（
ＬＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ、　９Ｈｚ）、　６．４５　（ＬＨ，ｔ、Ｊ
＝４Ｈｚ＞。

６．６７　（ＬＨ，ｓ）、　７．１９　（２）１．ｓ）
、　９．４８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ　）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアミノまたは保護されたアミノ、Ｒ＾
   ２はカルボキシまたはその誘導体、Ａ＾１はオキソ置換
   低級アルキレンをそれぞれ意味する）で示される化合物
   またはその塩に、 一般式 Ｒ＾３−ＯＮＨ＿２ （式中、Ｒ＾３は水素、低級アルキル、低級アルケニル
   、低級アルキニルまたはシクロ（低級）アルキルを意味
   する） で示される化合物またはその塩を反応させ、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１およびＲ＾２はそれぞれ前と同じ意味で
   あり、Ａ＾２は＝Ｎ−ＯＲ＾３（基中、Ｒ＾３は前と同
   じ意味）で示される基で置換された低級アルキレンを意
   味する］ で示されるセフエム化合物またはその塩を得ることを特
   徴とするセフエム化合物またはその塩の製造法。