JPS62160783A - 高出力ｃｏ↓２レーザの波長選択的内部変調及び光パルス発生のための装置 - Google Patents
高出力ｃｏ↓２レーザの波長選択的内部変調及び光パルス発生のための装置Info
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005372 isotope separation Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/1062—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using a controlled passive interferometer, e.g. a Fabry-Perot etalon
-
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- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/105—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
-
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/11—Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
- H01S3/1123—Q-switching
-
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
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-
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- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は高出力ＣＯ□レーザの波長選択的内部変調及び
光パルス発生のための装置にして、好ましくは金属の切
断、溶接及び硬化、電子又はマイクロ電子工学工業、木
材加工工業、ガラス及び印刷工業の近代工学の領域にお
ける表面加工、除去加工及び刻印等への使用のため並び
に例えばレーザによるアイソトープ分離又は遠赤外用レ
ーザの光学的ボンピングのような光パラメータにおける
特殊な要求をもった課題の解決のための使用に供される
高出力ＣＯ，レーザの波長選択的内部変調及び光パルス
発生のための装置に関する。
光パルス発生のための装置にして、好ましくは金属の切
断、溶接及び硬化、電子又はマイクロ電子工学工業、木
材加工工業、ガラス及び印刷工業の近代工学の領域にお
ける表面加工、除去加工及び刻印等への使用のため並び
に例えばレーザによるアイソトープ分離又は遠赤外用レ
ーザの光学的ボンピングのような光パラメータにおける
特殊な要求をもった課題の解決のための使用に供される
高出力ＣＯ，レーザの波長選択的内部変調及び光パルス
発生のための装置に関する。
（従来の技術）
高出力Ｃｏｔレーザのレーザ発信器中で直接行われる内
部の強度変調及び光パルス発生はレーザ技術の利用可能
域の拡大、特に前記の使用目的の領域では無条件に必要
である。特に、そのような変調及び光パルス発生のため
に、自由に選択可能なパラメータ殊にパルス尖頭出力又
はパルス継続時間及び非周期的パルス列までのパルス列
周波数の外部制御の可能性が要求され、その際多数の使
用例において、同時の波長選択が望まれ又は無条件に必
要とされる。
部の強度変調及び光パルス発生はレーザ技術の利用可能
域の拡大、特に前記の使用目的の領域では無条件に必要
である。特に、そのような変調及び光パルス発生のため
に、自由に選択可能なパラメータ殊にパルス尖頭出力又
はパルス継続時間及び非周期的パルス列までのパルス列
周波数の外部制御の可能性が要求され、その際多数の使
用例において、同時の波長選択が望まれ又は無条件に必
要とされる。
気体レーザ光パルスの゛発生のための可能性はレーザ気
体の高圧力のために極端に高いパルス尖頭出力が生ずる
横モードの高圧力気体レーザ（Ｔｌｌ！Ａ−レーザ）を
提供する。勿論この原理では、高いパルス連続周波数の
発生には問題があり、従って数百ヘルツの周波数は異常
な技術的コストを必要とする。
体の高圧力のために極端に高いパルス尖頭出力が生ずる
横モードの高圧力気体レーザ（Ｔｌｌ！Ａ−レーザ）を
提供する。勿論この原理では、高いパルス連続周波数の
発生には問題があり、従って数百ヘルツの周波数は異常
な技術的コストを必要とする。
レーザ共振器のＱスイッチの相異なる方法は連続運転中
の出力に対するパルス尖頭出力の大きい勾配に通じる。
の出力に対するパルス尖頭出力の大きい勾配に通じる。
しかし、従来の全ての実現された変形は説明された使用
範囲におけるレーザ応用を考慮すると本質的な欠点を有
する。
範囲におけるレーザ応用を考慮すると本質的な欠点を有
する。
フラビン等（ＩＥＥＩＥ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕ
ａｎｔｕｓ＋ Ｂｌｅｋｔｒｏｎｉｃｓ ＱＥ−２，
３７８頁（１９６６年）〕で説明された気体レーザパル
ス発生の方法、回転ミラーによる積極的Ｑスイッチは特
に材料加工に好適である。
ａｎｔｕｓ＋ Ｂｌｅｋｔｒｏｎｉｃｓ ＱＥ−２，
３７８頁（１９６６年）〕で説明された気体レーザパル
ス発生の方法、回転ミラーによる積極的Ｑスイッチは特
に材料加工に好適である。
そのわけはこれらの方法はレザ一対レザーの好ましくな
い時比率従って平均の放射出力のかなりの損失が生ずる
からである。更に周期的パルス列しか得られない。
い時比率従って平均の放射出力のかなりの損失が生ずる
からである。更に周期的パルス列しか得られない。
Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ １
１の８８頁（１９６７年）には、共振器中に配設された
特殊の吸収性の気体によるＣＯ２レーザの受動的Ｑスイ
ッチの方法が示されている。欠点は各気体混合物に依存
した気体利用によって、数ｋＨｚの特定のパルス連続周
波数が予め設定され、かつ他方ではスイッチ可能な平均
のレーザ出力が制限される。
１の８８頁（１９６７年）には、共振器中に配設された
特殊の吸収性の気体によるＣＯ２レーザの受動的Ｑスイ
ッチの方法が示されている。欠点は各気体混合物に依存
した気体利用によって、数ｋＨｚの特定のパルス連続周
波数が予め設定され、かつ他方ではスイッチ可能な平均
のレーザ出力が制限される。
結晶中の電気光学的効果による変調の可視光スペクトル
範囲で非常に効果的な方法は平均１０μｍの波長の赤外
範囲において、高い費用でのみ実現可能である、そのわ
けはその方法はこの範囲において大きい結晶長さを有し
、これは一方では比較的高い吸収損失と他方では高いコ
ストと結びつきかつ充分な変調度のためには高い制御電
圧を要求するからである（例えば、（ＩＩ！ＥＥＪｏｕ
ｒｎａｌ ｏｆＱｕａｎｔｕａ＋ Ｅｌｅｋｔｒｏｎ
ｉｃｓ ＱＥ−２，３７８頁（１９６６年）〕で説明さ
れた記載参照〕。
範囲で非常に効果的な方法は平均１０μｍの波長の赤外
範囲において、高い費用でのみ実現可能である、そのわ
けはその方法はこの範囲において大きい結晶長さを有し
、これは一方では比較的高い吸収損失と他方では高いコ
ストと結びつきかつ充分な変調度のためには高い制御電
圧を要求するからである（例えば、（ＩＩ！ＥＥＪｏｕ
ｒｎａｌ ｏｆＱｕａｎｔｕａ＋ Ｅｌｅｋｔｒｏｎ
ｉｃｓ ＱＥ−２，３７８頁（１９６６年）〕で説明さ
れた記載参照〕。
レーザの強度は部分透過的アウトプットミラーの個所に
、特定の透過率の干渉計が使用されることによって制御
される。そのような配列は西独国特許公開公報第２２２
３９４５号並びに西独国特許公開公報第２０４４２８０
号に記載されている。両公報には干渉計の特定のための
電気光学的又は磁気光学的効果が提案されている。画構
成は第１に可視スペクトル範囲に対してそして第２に比
較的低い平均出力ＣＯ１レーザに対して代表的なもので
ある。その高出力ＣＯ□レーザへの通用は波長選択的強
度変調及び光パルス発生の所望の効果を可能にしない。
、特定の透過率の干渉計が使用されることによって制御
される。そのような配列は西独国特許公開公報第２２２
３９４５号並びに西独国特許公開公報第２０４４２８０
号に記載されている。両公報には干渉計の特定のための
電気光学的又は磁気光学的効果が提案されている。画構
成は第１に可視スペクトル範囲に対してそして第２に比
較的低い平均出力ＣＯ１レーザに対して代表的なもので
ある。その高出力ＣＯ□レーザへの通用は波長選択的強
度変調及び光パルス発生の所望の効果を可能にしない。
他の方法、音響光学的に発生する位相格子でのブラッグ
回折は限られた回折効率に止まり、ブララグ回折はＣＯ
ｔレーザ材料加工には適さない比較的僅かな変調度に繋
がる。
回折は限られた回折効率に止まり、ブララグ回折はＣＯ
ｔレーザ材料加工には適さない比較的僅かな変調度に繋
がる。
レーザ気体放電の放電電流を変調する可能性が技術的に
優先して利用される。しかし、この機構は原理的に、充
分な変調による要求が充足された場合に最大達成可能な
変調周波数を制限する。この制限周波数はＣＯ２気体レ
ーザでは２．５ｋＨｚであり、その際はぼ１ｋ）ｌｚま
での周波数の増大によりレーザ出力の損失増大が生ずる
。更にに気体放電の電気的パルスの機構はパルス尖頭出
力の達成可能な勾配をほぼ１０倍に制限する、そのわけ
は気体放電の反転分布を構成するプロセスとレーザのし
きい値による遷移プロセスとが時間的に重なるからであ
る。
優先して利用される。しかし、この機構は原理的に、充
分な変調による要求が充足された場合に最大達成可能な
変調周波数を制限する。この制限周波数はＣＯ２気体レ
ーザでは２．５ｋＨｚであり、その際はぼ１ｋ）ｌｚま
での周波数の増大によりレーザ出力の損失増大が生ずる
。更にに気体放電の電気的パルスの機構はパルス尖頭出
力の達成可能な勾配をほぼ１０倍に制限する、そのわけ
は気体放電の反転分布を構成するプロセスとレーザのし
きい値による遷移プロセスとが時間的に重なるからであ
る。
限界周波数を高めるための研究を西独国特許公開公！１
２８１６６５９に提案された構成が示し、その際気体レ
ーザは並列に接続された少なくとも２つの気体放電管を
有し、気体放電管は特定の時間差を隔てて相応した電流
パルスによってボンピングされることができる。それに
よって気体レーザのポンピング機構により生ずる限界周
波数を高めることが可能にされ、その際勿論周波数増大
に相応して個々の光パルスのエネルギーが低下する。更
に装置コストが嵩む。
２８１６６５９に提案された構成が示し、その際気体レ
ーザは並列に接続された少なくとも２つの気体放電管を
有し、気体放電管は特定の時間差を隔てて相応した電流
パルスによってボンピングされることができる。それに
よって気体レーザのポンピング機構により生ずる限界周
波数を高めることが可能にされ、その際勿論周波数増大
に相応して個々の光パルスのエネルギーが低下する。更
に装置コストが嵩む。
（発明の目的）
本発明の目的は高出力ＣＯ２レーザの波長選択的内部変
調及び光パルス発生のための装置の創造にあり、これは
電子工学若しくはマイクロ電子工学又は書込シテムまた
は高反射率の材料の切断（アルミニウム）、または材料
の特定の硬度を高い加工品質に仕上げることのような表
面加工、除去加工又は刻印のような材料加工または高い
反射材料（アルミニウム）の切断、又は金属の特定の硬
度を最高の加工品質（例えば輪郭のシャープさ）が、各
作業条件に最適に適合される特定の光パラメータ及び加
工プロセスの正確な案内並びに高い加工能率によって可
能にされるように実施することができることを図る。
調及び光パルス発生のための装置の創造にあり、これは
電子工学若しくはマイクロ電子工学又は書込シテムまた
は高反射率の材料の切断（アルミニウム）、または材料
の特定の硬度を高い加工品質に仕上げることのような表
面加工、除去加工又は刻印のような材料加工または高い
反射材料（アルミニウム）の切断、又は金属の特定の硬
度を最高の加工品質（例えば輪郭のシャープさ）が、各
作業条件に最適に適合される特定の光パラメータ及び加
工プロセスの正確な案内並びに高い加工能率によって可
能にされるように実施することができることを図る。
（発明の具体的課題）
本発明は外部制御部を有する、高出力ＣＱｔ レーザの
波長選択的内部変調・及び光パルス発生のための装置の
創造にあり、装置は従来優先して利用されたレーザ気体
放電の電気的変調またはパルス発生がパラメータにおい
て明確に統合され、その際利用される平均のレーザ出力
の光学的変換の他に解決されるべき課題への放射パラメ
ータの極端なフレキシブルな適用も、本発明による構成
がパルス発生の非常に過大になった場合に特定のパルス
列発生及び好ましくは高精度及び再生可能性を有する赤
外範囲において必要な波長を同時に選択して高いｋＨｚ
までの高いパルス列周波数の発生が得られることが保証
されることになる。
波長選択的内部変調・及び光パルス発生のための装置の
創造にあり、装置は従来優先して利用されたレーザ気体
放電の電気的変調またはパルス発生がパラメータにおい
て明確に統合され、その際利用される平均のレーザ出力
の光学的変換の他に解決されるべき課題への放射パラメ
ータの極端なフレキシブルな適用も、本発明による構成
がパルス発生の非常に過大になった場合に特定のパルス
列発生及び好ましくは高精度及び再生可能性を有する赤
外範囲において必要な波長を同時に選択して高いｋＨｚ
までの高いパルス列周波数の発生が得られることが保証
されることになる。
（解決手段）
この過大の解決は高出力ｃｏ２ レーザの迅速なＱスイ
ッチのための新規な構成に基づく。
ッチのための新規な構成に基づく。
（発明の効果）
そのようなレーザが第１に共振器内に配設された周波数
選択要素によって自由に選択可能でしかし一定の波長で
作動するように操作され、第２に経済特許０１Ｓ／１９
９９７６号による特殊な気体放電管の使用によって、レ
ーザが相応した共振器の特徴で、特に固定の反射率Ｒ８
の共振ミラーの曲率半径の相応した選択によりＴＥＭ
００−運転装置で作動されがつ管壁での反射の振動が回
避されることが達成される場合に、レーザ出力に実際上
偏平な、単色の波長域が使用される。この特性は本発明
によれば、従来のＱスイッチの方法の欠点、特に、平均
のレーザ出力でのかなりの損失を有していた積極的なス
イッチの際の共振器構造の時間的調整及び受動的なスイ
ッチの際の共振器への吸収が回避されるように変調する
ために゛利用される。
選択要素によって自由に選択可能でしかし一定の波長で
作動するように操作され、第２に経済特許０１Ｓ／１９
９９７６号による特殊な気体放電管の使用によって、レ
ーザが相応した共振器の特徴で、特に固定の反射率Ｒ８
の共振ミラーの曲率半径の相応した選択によりＴＥＭ
００−運転装置で作動されがつ管壁での反射の振動が回
避されることが達成される場合に、レーザ出力に実際上
偏平な、単色の波長域が使用される。この特性は本発明
によれば、従来のＱスイッチの方法の欠点、特に、平均
のレーザ出力でのかなりの損失を有していた積極的なス
イッチの際の共振器構造の時間的調整及び受動的なスイ
ッチの際の共振器への吸収が回避されるように変調する
ために゛利用される。
第２の共振ミラーはそれ自体公知のファブリペロ−の干
渉計として形成されており、この干渉計は好ましくは２
つの透明な材料、特にＧｅ、 ＧａＡｓ、又はＺｎ５ｅ
からなる板から形成されている。これらの板は相互に向
かい合い平行且つ平滑になった所望の寸法のレーザ波長
用の面で反射され、一方向かい合った側は反射しない。
渉計として形成されており、この干渉計は好ましくは２
つの透明な材料、特にＧｅ、 ＧａＡｓ、又はＺｎ５ｅ
からなる板から形成されている。これらの板は相互に向
かい合い平行且つ平滑になった所望の寸法のレーザ波長
用の面で反射され、一方向かい合った側は反射しない。
両干渉面間の光路長ｎ−ｄ（ｄは両干渉面間の距離、ｎ
は面間の媒質の屈折率）は比較的小さく、最小はぼレー
ザ波長のオーダ、最大はぼ１１である。周波数選択的要
素及び角度選択的気体放電管によって生じた偏平、単色
の波長域の著しい干渉性能は光路長ｎ −ｄの変化によ
ってこの干渉計の有効な反射率Ｒ２がＲｍｉｎ・Ｏと両
干渉面の反射率によって与えられる最大値Ｒｍａｘとの
間の広い範囲に渡って変えることを可能にする、このこ
とは小さい吸収率の場合、システムの透過率がＴｍａｘ
＝ １ とＴｍ１ｎ＝ １− Ｒｍａｘとの間で変えら
れることを意味する。
は面間の媒質の屈折率）は比較的小さく、最小はぼレー
ザ波長のオーダ、最大はぼ１１である。周波数選択的要
素及び角度選択的気体放電管によって生じた偏平、単色
の波長域の著しい干渉性能は光路長ｎ −ｄの変化によ
ってこの干渉計の有効な反射率Ｒ２がＲｍｉｎ・Ｏと両
干渉面の反射率によって与えられる最大値Ｒｍａｘとの
間の広い範囲に渡って変えることを可能にする、このこ
とは小さい吸収率の場合、システムの透過率がＴｍａｘ
＝ １ とＴｍ１ｎ＝ １− Ｒｍａｘとの間で変えら
れることを意味する。
本発明によれば、この特別な構成要素は相応した制御信
号によって出来る限り高い限界周波数（多くのｋＨｚ）
を有する干渉計板の間の光路長が変調されることができ
るように構成されている。その際Ｒ２は特定の広い範囲
で変わると、共振器全損失従って発生するレーザ光線の
強度は大きい変調度でかつ高速度で変調されるように影
響される。レーザが作業しきい値の下にある（この状態
は一般に比較的小さいＲ，に相当する）状態から完全な
レースザ機能の状態（この状態は一般に比較的大きいＲ
２に相応する）への共振器総損失の充分迅速な変化の際
、本発明の方法によって著しい出力上昇を有する光パル
スが得られる。
号によって出来る限り高い限界周波数（多くのｋＨｚ）
を有する干渉計板の間の光路長が変調されることができ
るように構成されている。その際Ｒ２は特定の広い範囲
で変わると、共振器全損失従って発生するレーザ光線の
強度は大きい変調度でかつ高速度で変調されるように影
響される。レーザが作業しきい値の下にある（この状態
は一般に比較的小さいＲ，に相当する）状態から完全な
レースザ機能の状態（この状態は一般に比較的大きいＲ
２に相応する）への共振器総損失の充分迅速な変化の際
、本発明の方法によって著しい出力上昇を有する光パル
スが得られる。
高出力ＣＯ，レーザの波長選択的内部変調及び光パルス
発生のための装置はこれがｃｗ運転で作動される場合に
レーザ出力の迅速な安定性の新しい方法を可能にする。
発生のための装置はこれがｃｗ運転で作動される場合に
レーザ出力の迅速な安定性の新しい方法を可能にする。
このためには光線分割器を介して、作業光線の部分が迅
速な光線検出器に供給され、その測定信号が電子装置で
増幅され、かつ目標値と比較される。目標値と実際値と
の間の差から合成された調整値は本発明によれば、特別
な干渉計構造の可変の反射率Ｒ２をレーザ出力の所定の
目標値が保証されるように調整するために利用される。
速な光線検出器に供給され、その測定信号が電子装置で
増幅され、かつ目標値と比較される。目標値と実際値と
の間の差から合成された調整値は本発明によれば、特別
な干渉計構造の可変の反射率Ｒ２をレーザ出力の所定の
目標値が保証されるように調整するために利用される。
その際レーザの出力は共振器総損失の関数、従ってＲ２
の函数でもある。この法則の時定数は検出器、電子調整
器、及び干渉計の時定数によって決定され、たやすくて
＝１００μｓとなる。これは気体放電電流の変化に基づ
く通常の調整を広くカバーする。
の函数でもある。この法則の時定数は検出器、電子調整
器、及び干渉計の時定数によって決定され、たやすくて
＝１００μｓとなる。これは気体放電電流の変化に基づ
く通常の調整を広くカバーする。
（実施例）
本発明の詳細な説明する。
第１図は高出力ＣＯ２レーザの波長選択的内部変調及び
光パルス発生のための装置を示す。経済特許０１Ｓ／１
９９９７６による特殊な気体放電管１２及び振動選択要
素２はレーザが相応した共振器、特に相応した気体放電
管１の内径と固定の反射率Ｒ６を有する共振ミラーの相
応した特定の場合に、ＴＥＭ００運転中で作業される。
光パルス発生のための装置を示す。経済特許０１Ｓ／１
９９９７６による特殊な気体放電管１２及び振動選択要
素２はレーザが相応した共振器、特に相応した気体放電
管１の内径と固定の反射率Ｒ６を有する共振ミラーの相
応した特定の場合に、ＴＥＭ００運転中で作業される。
それから特殊の干渉針の代わりに必要なか平面かつ単色
の波長域が使用される。
の波長域が使用される。
特殊な干渉計は経済特許０１Ｓ／２６４００５６による
変調器によって形成される。レーザ光線出力の変調は図
示の方法で給電装置５調整される電気信号による変調器
の反射率Ｒｔの変化に渡って行われる。気体放電の電流
供給は電流供給装置６を介して行われる。ｃｗ運転で作
動する高出力ＣＯ□レーザのレーザ出力の迅速な安定化
の目的で光線分割器７特に経済特許０１Ｓ／２０４９２
０によるプリズムレンズを介して、作業光線の部分が迅
速光線検出器１０に供給される。測定信号は電子装置１
１で処理され、かつ目標値−実際値比較から得られた調
整値１２は特殊干渉計４の給電装置５を介して可変の反
射率Ｒ２がし一ザ出力の値られた目標値が保証されるよ
うに調整するために利用される。
変調器によって形成される。レーザ光線出力の変調は図
示の方法で給電装置５調整される電気信号による変調器
の反射率Ｒｔの変化に渡って行われる。気体放電の電流
供給は電流供給装置６を介して行われる。ｃｗ運転で作
動する高出力ＣＯ□レーザのレーザ出力の迅速な安定化
の目的で光線分割器７特に経済特許０１Ｓ／２０４９２
０によるプリズムレンズを介して、作業光線の部分が迅
速光線検出器１０に供給される。測定信号は電子装置１
１で処理され、かつ目標値−実際値比較から得られた調
整値１２は特殊干渉計４の給電装置５を介して可変の反
射率Ｒ２がし一ザ出力の値られた目標値が保証されるよ
うに調整するために利用される。
第１図は材料加工のための、高出力ＣＯ２ レーザの波
長選択的内部変調及び光パルス発生のための装置を示す
。 図中符号 １ ・・特殊気体放電管 ２ ・・周波数選択要素 ３ ・・共振ミラー ４ ・・ファブリペロ−干渉計
長選択的内部変調及び光パルス発生のための装置を示す
。 図中符号 １ ・・特殊気体放電管 ２ ・・周波数選択要素 ３ ・・共振ミラー ４ ・・ファブリペロ−干渉計
Claims (2)
- （１）高出力ＣＯ２レーザの波長選択的内部強度変調及
び光パルス発生のための装置において、所属のレーザ共
振器は、確定された反射率Ｒ＿１を有する第１の共振ミ
ラー（３）と、周波数選択的要素（２）と、東独国経済
特許Ｈ０１Ｓ／１９９９７６号による著しく角度選択的
特殊放電管（１）、好ましくは気体放電管と、レーザ光
線を透過する材料であって、可変の反射率Ｒ＿２を有す
る第２の共振ミラーとして機能しかつ高い限界周波数を
有する変調器によって形成された特殊構成要素とから成
り、変調器は迅速に変化可能な光路長を有するファブリ
ペロー干渉計（４）によって構成されており、その際光
路長は相応した制御信号によって反射率Ｒ＿２がゼロと
最大値との間で変えられることができ、その際Ｒ＿２の
各値はレーザ波長の函数であり、その結果、高出力ＣＯ
＿２レーザは周波数及び角度選択的要素によって予め設
定された波長で作動するようにされ、その際ファブリー
ペロー干渉計（４）による共振器総損失はＣＯ＿２レー
ザの連続的出力が選択された波長で最大であるように一
定に調整されるか、又は発生したレーザ光線の強度が大
きい変調度かつ高速度で変調されるような広い範囲でか
つ迅速に変えられるか、或いはレーザがその作業しきい
値以下の状態から完全なレーザ機能を有する状態への共
振器総損失の充分迅速な変化の際、著しい出力勾配を有
する光パルスが発生されることを特徴とする高出力ＣＯ
＿２レーザの波長選択的内部変調及び光パルス発生のた
めの装置。 - （２）光線分割器（７）を介して、作業光線の一部分（
８）が迅速な光線検出器（１０）に供給され、電子装置
（１１）中でその測定信号は目標値−実際値比較から生
ずる調整値が特別の干渉計の電気的給電装置（５）を介
して可変の反射率Ｒ＿２が予め設定されたレーザ出力の
目標値が保証されるように調整されるために利用される
ように処理される、特許請求の範囲第１項記載の高出力
ＣＯ＿２レーザの波長選択的内部変調及び光パルス発生
のための装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD01S/286072-5 | 1986-01-09 | ||
| DD86286072A DD256440A3 (de) | 1986-01-09 | 1986-01-09 | Anordnung zur wellenlaengenselektion und internen leistungsmodulation der strahlung von hochleistungs-co tief 2-lasern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62160783A true JPS62160783A (ja) | 1987-07-16 |
Family
ID=5575789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62000624A Pending JPS62160783A (ja) | 1986-01-09 | 1987-01-07 | 高出力ｃｏ↓２レーザの波長選択的内部変調及び光パルス発生のための装置 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4845716A (ja) |
| EP (1) | EP0229284B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62160783A (ja) |
| AT (1) | ATE141719T1 (ja) |
| CS (1) | CS929086A1 (ja) |
| DD (1) | DD256440A3 (ja) |
| DE (1) | DE3650557D1 (ja) |
| IN (1) | IN167152B (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6421365B1 (en) | 1999-11-18 | 2002-07-16 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
| US6522681B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-02-18 | Lambda Physik Ag | Laser for the generation of narrow band radiation |
| US6560254B2 (en) | 1999-06-23 | 2003-05-06 | Lambda Physik Ag | Line-narrowing module for high power laser |
| US6577665B2 (en) | 1999-04-07 | 2003-06-10 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
| US6603788B1 (en) | 1999-11-23 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Resonator for single line selection |
| US6795473B1 (en) | 1999-06-23 | 2004-09-21 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3889831T2 (de) * | 1987-09-28 | 1994-09-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Laser-Apparat. |
| US4939739A (en) * | 1989-04-24 | 1990-07-03 | Coherent, Inc. | Laser alignment servo method and apparatus |
| DE4016579C2 (de) * | 1990-05-23 | 1994-12-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Laser mit Schwingspiegel zur Leistungsmodulation |
| WO2004066460A1 (de) * | 2003-01-23 | 2004-08-05 | Nlg - New Laser Generation Gmbh | Laserresonator und frequenzkonvertierter laser |
| US20090303555A1 (en) * | 2008-06-04 | 2009-12-10 | Lockheed Martin Corporation | Camera platen |
| ES2544269T3 (es) * | 2011-09-05 | 2015-08-28 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Aparato de marcado con una pluralidad de láseres de gas con tubos de resonancia y medios de deflexión ajustables individualmente |
| DK2565996T3 (da) | 2011-09-05 | 2014-01-13 | Alltec Angewandte Laserlicht Technologie Gmbh | Laserindretning med en laserenhed og en fluidbeholder til en køleindretning af laserenheden |
| ES2544034T3 (es) | 2011-09-05 | 2015-08-27 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Aparato de marcado con al menos un láser de gas y un termodisipador |
| EP2564972B1 (en) * | 2011-09-05 | 2015-08-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of lasers, deflection means and telescopic means for each laser beam |
| EP2565673B1 (en) | 2011-09-05 | 2013-11-13 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Device and method for marking of an object by means of a laser beam |
| ES2530070T3 (es) * | 2011-09-05 | 2015-02-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Aparato de marcado con una pluralidad de láseres y conjuntos ajustables individualmente de medios de desviación |
| EP2564973B1 (en) * | 2011-09-05 | 2014-12-10 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of lasers and a combining deflection device |
| EP2565994B1 (en) | 2011-09-05 | 2014-02-12 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Laser device and method for marking an object |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1248405A (en) * | 1968-11-04 | 1971-10-06 | Sec Dep For Defence Formerly M | Q-switched lasers |
| DE2044280A1 (de) * | 1970-09-07 | 1972-03-09 | Siemens Ag | Modulierbarer Gaslaser |
| NL172502A (ja) * | 1971-04-30 | |||
| CH544426A (de) * | 1972-04-28 | 1973-11-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Laser-Oszillator mit Auskopplungsmodulator |
| CH564262A5 (ja) * | 1973-04-10 | 1975-07-15 | Lasag Sa | |
| IT1096353B (it) * | 1977-04-19 | 1985-08-26 | Magneti Marelli Spa | Procedimento per aumentare la frequenza di ripetizione degli impulsi di un laser |
| DD134415A1 (de) * | 1977-07-11 | 1979-02-21 | Manfred Poehler | Gasentladungsroehre fuer stimulierbare medien,vorzugsweise fuer optische sender oder verstaerker |
| DD143383A3 (de) * | 1978-04-20 | 1980-08-20 | Manfred Poehler | Anordnung zur stabilisierung einer laserstrahlung |
| US4461005A (en) * | 1980-10-27 | 1984-07-17 | Ward Ernest M | High peak power, high PRF laser system |
| DD234208A3 (de) * | 1984-06-08 | 1986-03-26 | Halle Feinmech Werke Veb | Anordnung zur externen modulation von ir-laser-strahlung hoher leistung |
-
1986
- 1986-01-09 DD DD86286072A patent/DD256440A3/de not_active IP Right Cessation
- 1986-11-26 US US06/935,452 patent/US4845716A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-12-01 EP EP86116660A patent/EP0229284B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-01 DE DE3650557T patent/DE3650557D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-12-01 AT AT86116660T patent/ATE141719T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-12-15 CS CS869290A patent/CS929086A1/cs unknown
-
1987
- 1987-01-07 JP JP62000624A patent/JPS62160783A/ja active Pending
- 1987-03-02 IN IN157/CAL/87A patent/IN167152B/en unknown
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| US6577665B2 (en) | 1999-04-07 | 2003-06-10 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
| US6522681B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-02-18 | Lambda Physik Ag | Laser for the generation of narrow band radiation |
| US6560254B2 (en) | 1999-06-23 | 2003-05-06 | Lambda Physik Ag | Line-narrowing module for high power laser |
| US6795473B1 (en) | 1999-06-23 | 2004-09-21 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element |
| US6421365B1 (en) | 1999-11-18 | 2002-07-16 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
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| US6603788B1 (en) | 1999-11-23 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Resonator for single line selection |
| US6678291B2 (en) | 1999-12-15 | 2004-01-13 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DD256440A3 (de) | 1988-05-11 |
| EP0229284A2 (de) | 1987-07-22 |
| ATE141719T1 (de) | 1996-09-15 |
| EP0229284B1 (de) | 1996-08-21 |
| US4845716A (en) | 1989-07-04 |
| EP0229284A3 (en) | 1989-04-26 |
| IN167152B (ja) | 1990-09-08 |
| DE3650557D1 (de) | 1996-09-26 |
| CS929086A1 (en) | 1988-06-15 |
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