JPS62158133A - Production of silica glass - Google Patents

Production of silica glass

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JPS62158133A
JPS62158133A JP112786A JP112786A JPS62158133A JP S62158133 A JPS62158133 A JP S62158133A JP 112786 A JP112786 A JP 112786A JP 112786 A JP112786 A JP 112786A JP S62158133 A JPS62158133 A JP S62158133A
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JP
Japan
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gel
formamide
dried
silica glass
drying
Prior art date
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Pending
Application number
JP112786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihito Iwai
明仁 岩井
Fusaji Hayashi
林 房司
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent the cracking and crazing of a gel during the drying stage and to obtain a monolithic and large-sized dry gel by immersing a gel before drying in an aq. soln. of formamide, taking out the gel, and drying the gel. CONSTITUTION:Silicon alkoxide shown by the formula (where R is alkyl) and/or its polycondensation product are hydrolyzed to obtain a silica sol. The silica sol is allowed to stand and gelated, and the gel is dried and sintered to produce the silica glass. The gel before drying is immersed in an aq. soln. of formamide, taken out, and then dried. The aq. soln. of formamide contg. the water-soluble salt of an alkali metal and/or an alkaline earth metal is used as the aq. soln. of formamide.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光学用、半導体工業用、電子工業用。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) The present invention is applicable to optics, semiconductor industry, and electronic industry.

理化学用等に使用されるシリカガラスの製造法に関する
This article relates to a method for producing silica glass used for physical and chemical purposes.

(従来の技術) シリカガラスは耐熱性、耐薬品性及びその優れた光学的
性質などから、最近、特に半導体工業において有用性が
認められている。そのシリカガラスの新たな製造法とし
て最近注目をあびているのが、ゾルゲル法である。
(Prior Art) Silica glass has recently been recognized as useful, particularly in the semiconductor industry, due to its heat resistance, chemical resistance, and excellent optical properties. The sol-gel method has recently been attracting attention as a new method for producing silica glass.

ゾルゲル法によるシリカガラスの製造法、の例を説明す
ると次の通りである。
An example of a method for producing silica glass using the sol-gel method is as follows.

一般式Si(OR)4(但しRはアルキル基)で示され
るシリコンアルコキシドおよび/またはその重縮金物2
例えば(RO)3 Si ・(O8i(0几)2)n・
O8i (OR)!+  (n=0〜8. Rはフルキ
ル基)に水(アルカリまたは酸でpHq整してもよい)
を加え、加水分解し、シリカヒドロシルとする。この時
、シリコンアルコキシドと水が均一な系になる様に溶媒
として適当なアルコールを加えてもよい。
Silicon alkoxide represented by the general formula Si(OR)4 (where R is an alkyl group) and/or its polycondensate 2
For example, (RO)3Si ・(O8i(0几)2)n・
O8i (OR)! + (n = 0 to 8. R is a furkyl group) and water (pH may be adjusted with an alkali or acid)
is added and hydrolyzed to produce silica hydrosil. At this time, an appropriate alcohol may be added as a solvent so that the silicon alkoxide and water form a homogeneous system.

さらに、シリカの超微粒子などを加えてもよい。Furthermore, ultrafine particles of silica or the like may be added.

このシリカヒドロシルを静置、昇温あるいはゲル化剤添
加などくよシゲル化させる。さらにゲルを蒸発乾燥する
ことにより、シリカ乾燥ゲルとする。
This silica hydrosil is allowed to stand still, heated, or added with a gelling agent to form a gel. Further, the gel is evaporated and dried to obtain a dry silica gel.

この乾燥ゲルを適当な雰囲気中で焼結することによりシ
リカガラスを得る。
Silica glass is obtained by sintering this dried gel in a suitable atmosphere.

このゾルゲル法には以下の特長がある。This sol-gel method has the following features.

fil  S i Claなどを原料として酸水素炎で
ガラススートを堆積してい〈従来からのシリカガラス製
造法よシも低温で製造できるため、省エネルギーで低コ
ストである。
Glass soot is deposited using an oxyhydrogen flame using fil S i Cla as a raw material (compared to the conventional silica glass manufacturing method), which can be manufactured at low temperatures, resulting in energy savings and low cost.

(2)原料が液体であるため、精製が容易であり。(2) Since the raw material is liquid, it is easy to purify.

高純度な製品が得られる。High purity products can be obtained.

(3)室温で、液相で混合することができるため。(3) Because they can be mixed in a liquid phase at room temperature.

AI!zOs+ Zr0z、 Ti0zt BzCht
 PzOs、 Nb2O3などを均一にドーグしたシリ
カガラスが得られる。
AI! zOs+ Zr0z, Ti0zt BzCht
Silica glass uniformly doped with PzOs, Nb2O3, etc. can be obtained.

これらの大変有用な特長があるために、これまでにも多
くの研究がなされてきた。
Due to these very useful features, much research has been conducted to date.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、ゾルゲル法には、ゲルを乾燥する過程で
ゲルにクラックや割れが発生し易く、モノリシックな大
形の乾燥ゲルを歩留シよく製造することが難しいという
問題があり、ゲルの入った容器の蓋にピンホールをあけ
て水やアルコールの蒸発速度を制御する方法がとられて
いるが、不十分である。
(Problems to be solved by the invention) However, in the sol-gel method, cracks and cracks tend to occur in the gel during the gel drying process, making it difficult to produce monolithic large-sized dried gels with a good yield. This problem exists, and methods have been used to control the evaporation rate of water and alcohol by making pinholes in the lid of the container containing the gel, but this method is insufficient.

本発明は、上記した問題を解消するシリカガラスの製造
法を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing silica glass that solves the above-mentioned problems.

(問題点を解決するだめの手段う 発明者等は、シリコンアルコキシドの加水分解で生成す
るアルコール、又は溶媒として加えるアルコールの蒸発
速度が大きいので、ゲルの乾燥収縮についていけずにク
ラックや割れの一因になるものと考え、このアルコール
溶Wをホルムアミド水溶液に浸漬して置換すれば蒸発速
度を制御することができ、前記目的を達成し得ることを
見出し本発明を完成するに至った。
(To solve the problem, the inventors discovered that because the evaporation rate of the alcohol produced by hydrolysis of silicon alkoxide or the alcohol added as a solvent is high, it cannot keep up with the drying shrinkage of the gel, resulting in cracks and cracks.) Considering that this may be a contributing factor, the inventors have found that the evaporation rate can be controlled by substituting the alcohol solution W by immersing it in an aqueous formamide solution, and the above object can be achieved, leading to the completion of the present invention.

本発明は、一般式Si’(O8)4 (但しRはアルキ
ル基)で示されるシリコンアルコキシド及び/又はその
重縮合物を加水分解してシリカゾルとし。
In the present invention, a silicon alkoxide represented by the general formula Si'(O8)4 (where R is an alkyl group) and/or a polycondensate thereof is hydrolyzed to obtain a silica sol.

次いで放置してゲル化し乾燥及び焼結するシリカガラス
の製造法において、前記乾燥前のゲルをホルムアミド水
溶液に浸漬後取出し、乾燥するシリカガラスの製造法に
関する。
The present invention relates to a method for producing silica glass in which the gel is then left to gel, dried, and sintered, and the gel before drying is immersed in an aqueous formamide solution, taken out, and dried.

本発明において用いるシリコンアルコキシド及び/又は
その重縮合物のアルキル基はメチル基又はエチル基が経
済的である上ホルムアミド水溶液との置換が容易であシ
好ましい。シリコンアルコキシドの重縮金物としては9
例えば(CHsO)a Si・(O8i (OCH3)
2 )n ・O8i (OCHa)sをあげることがで
きる。加水分解のために加える水はあらかじめ酸又はア
ルカリでpHを調整しておくことが好ましい。シリコン
アルコキシド及び/又はその重縮合物と水とは生成する
シリカゾルをできるだけ均一なものとするために、スタ
ーラー等を用いてよく混合する。生成したシリカゾルは
手早く容器に移してゲル化させる。ゲル化時には生成し
たゲルからのアルコールの蒸発を防ぐために容器を密封
することが好ましく、またゲル化時の温度は室温〜80
℃が好ましい。次にこのゲルを容器から取出しホルムア
ミド水溶液中に浸漬して、ゲル中のアルコール溶液(ア
ルコールと水とのi液1ホルムアミド水溶液で置換する
。前記ゲルを容器から取出す作業はゲルからのアルコー
ルの蒸発を防ぐだめに、水槽中塘たけホルムアミド水溶
液中で行なうのが好ましい。ホルムアミド水溶液はホル
ムアミドをxovo1%以上含むものが好ましい。
The alkyl group of the silicon alkoxide and/or its polycondensate used in the present invention is preferably a methyl group or an ethyl group because it is economical and easy to replace with an aqueous formamide solution. 9 as a polycondensed metal of silicon alkoxide
For example, (CHsO)a Si・(O8i (OCH3)
2) n ・O8i (OCHa)s can be raised. It is preferable that the pH of water added for hydrolysis is adjusted in advance with an acid or alkali. The silicon alkoxide and/or its polycondensate and water are thoroughly mixed using a stirrer or the like in order to make the produced silica sol as uniform as possible. The generated silica sol is quickly transferred to a container and allowed to gel. During gelation, it is preferable to seal the container to prevent evaporation of alcohol from the gel formed, and the temperature during gelation is room temperature to 80℃.
°C is preferred. Next, this gel is taken out from the container and immersed in a formamide aqueous solution, and the alcohol solution in the gel (i-liquid of alcohol and water) is replaced with a formamide aqueous solution. In order to prevent this, it is preferable to conduct the reaction in an aqueous formamide solution in an aquarium.The formamide aqueous solution preferably contains formamide in an amount of xovo 1% or more.

10 vol 1未満では置換の円滑な進行が不十分で
ある。水溶性の塩類を含むホルムアミド水溶液を使用す
る場合はホルムアミドの含有量の上限を50容i%とす
ることが好ましい。
If it is less than 10 vol 1, smooth progress of substitution is insufficient. When using a formamide aqueous solution containing water-soluble salts, the upper limit of the formamide content is preferably 50% by volume.

置換の終ったゲルはホルムアミド水液中から取出し2表
面の滑らかな皿等の上に載せ空気中で乾燥し収縮固化さ
せて乾燥ゲルとする。乾燥時の温度は、室温〜60℃が
適温である。
After the substitution, the gel is taken out of the formamide aqueous solution, placed on a plate with a smooth surface, dried in air, and solidified by shrinkage to form a dry gel. The appropriate temperature for drying is room temperature to 60°C.

本発明はシリカ単味のガラスと微量のアルカリ金属及び
/又はアルカリ土類金属(通常酸化物として存在する)
を含有するシリカガラスを得るために適用される。後者
のシリカガラスを得るには前記乾燥前のゲルをホルムア
ミド水溶液に浸漬する場合に、該ホルムアミド水溶液に
前記金属の水溶液の塩を少なくとも1種含有させること
が好ましい。水溶液の塩としては例えばLi、 Na+
 KpRb、  Cs、 Mg、 Ca、 Sr、  
Baの硝酸塩、塩酸塩。
The present invention consists of a single silica glass and trace amounts of alkali metals and/or alkaline earth metals (usually present as oxides).
applied to obtain silica glass containing. In order to obtain the latter silica glass, when the gel before drying is immersed in an aqueous formamide solution, it is preferable that the aqueous formamide solution contains at least one salt of the aqueous solution of the metal. Examples of salts in aqueous solutions include Li, Na+
KpRb, Cs, Mg, Ca, Sr,
Nitrate and hydrochloride of Ba.

酢酸塩、硫酸塩をあげることができ、その組成は最終的
にガラス化するように選定する。
Examples include acetate and sulfate, and their composition is selected so that they will eventually vitrify.

(作用) シリカヒドロシルの硬化したゲルをホルムアミド水溶液
中に浸漬すると、ゲル中に含まれる蒸発速度の大きいメ
タノールのようなアルコールは。
(Function) When a hardened gel of silica hydrosil is immersed in an aqueous formamide solution, alcohols such as methanol contained in the gel have a high evaporation rate.

アルコールよシ蒸発速度の小さいホルムアミド水溶液と
置換されるので乾燥ゲルとなる過程でのクラックや割れ
を防止できる。またゲルの乾燥においては蒸発速度が小
さくなるから従来のように容器の中に入れてふたをする
必要もなく、むき出しのまま乾燥しても不具合は生じな
い。
Since the alcohol is replaced with a formamide aqueous solution that has a low evaporation rate, cracks and cracks can be prevented during the process of forming a dry gel. In addition, when drying gel, the evaporation rate is low, so there is no need to put it in a container and cover it with a lid, as in the conventional case, and there is no problem even if it is dried in an exposed state.

(実施例) 本発明を実施例により説明する。(Example) The present invention will be explained by examples.

実施例1 シリコンテトラメトキシドSi (OCH3)4  に
希塩酸(0,1mol / l )を容積比で2=1の
割合で加えマグネチツクスターラーで攪拌し不混和の2
液かう、均一なシリカヒドロシルを得た。ゾルを直径9
0[[ll[+のテフロンでコーティングしたガラスシ
ャーレに入れて密封し、60℃に保ってゲル化した。
Example 1 Dilute hydrochloric acid (0.1 mol/l) was added to silicon tetramethoxide Si (OCH3)4 at a volume ratio of 2=1 and stirred with a magnetic stirrer to form immiscible 2.
A liquid, homogeneous silica hydrosil was obtained. The diameter of the sol is 9
The mixture was placed in a glass Petri dish coated with Teflon (0[[ll[+]), sealed, and kept at 60°C to gel.

ゲルが容器から離れたら、水槽中で開封してゲルを取出
した。取出したゲルを50 vo1%のホルムアミド水
溶液に1晩浸漬した。ゲルを取出しテフロンでコーティ
ングしたなめらかな表面の皿上において、空気中40°
Cで乾燥させ、乾燥ゲルを得た。得られた乾燥ゲルには
割れ、クラック等が全くなかった。
Once the gel was separated from the container, it was opened in a water bath and the gel was taken out. The removed gel was immersed in a 50 vol. 1% formamide aqueous solution overnight. Remove the gel and place it on a Teflon-coated plate with a smooth surface in air at 40°.
It was dried at C to obtain a dry gel. The dried gel obtained had no cracks or cracks.

実施例2 シリコンテトラメトキシドSi (OCH3)4に希硝
酸(0,2mol / l )を容積比で2:1の割合
で加え攪拌した以外は実施例1と同様な操作を行なって
乾燥ゲルを得た。得られた乾燥ゲルには割れ。
Example 2 A dry gel was obtained by carrying out the same operation as in Example 1, except that dilute nitric acid (0.2 mol/l) was added to silicon tetramethoxide Si (OCH3)4 at a volume ratio of 2:1 and stirring. Obtained. The resulting dried gel has cracks.

クラックなどが全くなかった。There were no cracks at all.

実施例3 シリコンテトラエトキシドS i (OC2H5)4に
希塩酸(0,1mol/l )を容積比で2:1の割合
で混合し攪拌した他は、実施例1と同様な操作を行なっ
て乾燥ゲルを得た。得られた乾燥ゲルには2割れ、クラ
ックなどは全くなかった。
Example 3 The same operation as in Example 1 was performed except that dilute hydrochloric acid (0.1 mol/l) was mixed with silicon tetraethoxide S i (OC2H5)4 at a volume ratio of 2:1 and stirred. Got the gel. The dried gel obtained did not have any splits or cracks.

実施例4 シリコンテト・ラメトキシドS i (OCH3)4 
に希塩酸(0,1mol / l )を容積比で2:1
の割合で混合し攪拌したところ、不混和な溶液から均一
なシリカヒドロシルを得た。ゾルを直径90−のテフロ
ンでコーティングしたガラスシャーレに入れて密封し、
60℃に保ってゲル化した。ゲルが容器から離れたら、
水槽中で開封して取出した。取出したゲルを10 vo
l %のホルムアミド水溶液に1晩浸漬した。ゲルを取
出しテフロンでコーティングしたなめらかな表面の皿上
において、空気中で室温で乾燥させて乾燥ゲルを得た。
Example 4 Silicon tetramethoxide S i (OCH3)4
and dilute hydrochloric acid (0.1 mol/l) in a volume ratio of 2:1.
When mixed and stirred at a ratio of 100 to 100%, a homogeneous silica hydrosil was obtained from an immiscible solution. Place the sol in a Teflon-coated glass petri dish with a diameter of 90 mm and seal it.
It was kept at 60°C to form a gel. Once the gel separates from the container,
It was opened and taken out in an aquarium. The removed gel was washed with 10 vo
1% formamide aqueous solution overnight. The gel was removed and dried on a Teflon-coated smooth surface dish in air at room temperature to obtain a dry gel.

得られた乾燥ゲルには割れ、クラック等は全くなかった
The dried gel obtained had no cracks or cracks.

実施例5 シリコンテトラメトキシドの重縮合物(CHs O)3
Si ・(O8i (OCH3)2 )、 @ 08i
 (OCH3)!、 (n=3に中心をもつもの)を原
料に用いた以外は実施例1と同じ方法で乾燥ゲルを製造
した。得られた乾燥ゲルには2割れ、クラックなどは全
くなかった。
Example 5 Polycondensate of silicon tetramethoxide (CHsO)3
Si ・(O8i (OCH3)2 ), @08i
(OCH3)! , (centered at n=3) was used as the raw material, but a dry gel was produced in the same manner as in Example 1. The dried gel obtained did not have any splits or cracks.

実施例6 シリコンテトラメトキシド(Si (OCHり4 )に
希塩酸(0,1mol/! )を容積比で2:1の割合
で加え、攪拌したところ発熱し、不混和の2液から均一
なシリカゾルを得た。ゾルを直径90ffIuIのテフ
ロンでコーティングしたガラスシャーレに入れ密封し、
50℃に保ってゲル化した。ゲルが容器から離れたら水
槽中で開封してゲルを取出した。
Example 6 When dilute hydrochloric acid (0.1 mol/!) was added to silicon tetramethoxide (Si (OCHri4) at a volume ratio of 2:1 and stirred, heat was generated, and a homogeneous silica sol was formed from the two immiscible liquids. The sol was placed in a Teflon-coated glass Petri dish with a diameter of 90ff IuI and sealed.
It was kept at 50°C to form a gel. Once the gel was separated from the container, it was opened in a water tank and the gel was taken out.

取出したゲルを5wt%の硝酸ナトリウムを含む50 
vol %ホルムアミド水溶液に1晩浸漬した。
The removed gel was heated to 50% by weight containing 5 wt% sodium nitrate.
It was immersed in a vol% formamide aqueous solution overnight.

ゲルを取出しテフロンでコーティングしたなめらかな表
面の皿上において空気中、50℃で乾燥して乾燥ゲルを
得た。乾燥ゲルには割れ、クラックは全くなかった。
The gel was removed and dried on a Teflon-coated smooth surface dish in air at 50°C to obtain a dry gel. There were no breaks or cracks in the dried gel.

実施例7 シリコンテトラメトキシドの重縮合体(CH30)3S
r・(O8i(OCH3)z )、−osi(OCHa
)s、(n=3を中心にもつもの)を原料に用いた以外
は実施例1と同じ方法で製造した。得られた乾燥ゲルに
は割れ、クラックは全くなかった。
Example 7 Silicon tetramethoxide polycondensate (CH30)3S
r・(O8i(OCH3)z ), -osi(OCHa
)s, (with n=3 as the center) was used as the raw material, but was produced in the same manner as in Example 1. There were no breaks or cracks in the dried gel obtained.

(発明の効果) 本発明によれば、ゲルの乾燥過程でクラックや割れの発
生が防止でき、モノリシックな大形の乾燥ゲルが得られ
る。またゲルをむき出しのまま乾燥できるので作業が容
易になる利点がある。
(Effects of the Invention) According to the present invention, cracks and cracks can be prevented from occurring during the gel drying process, and a monolithic large-sized dried gel can be obtained. Furthermore, since the gel can be dried while being exposed, the work is easier.

代理人 弁理士 若 林 邦 彦・;゛手続補正書(自
発) 昭和61年 2 月2513
Agent Patent Attorney Kunihiko Wakabayashi; Procedural Amendment (Voluntary) February 2513, 1985

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式Si(OR)_4(但しRはアルキル基)で
示されるシリコンアルコキシド及び/又はその重縮合物
を加水分解してシリカゾルとし、次いで放置してゲル化
し乾燥及び焼結するシリカガラスの製造法において、前
記乾燥前のゲルをホルムアミド水溶液に浸漬後取出し、
乾燥することを特徴とするシリカガラスの製造法。 2 ホルムアミド水溶液がアルカリ金属及び/又はアル
カリ土類金属の水溶性の塩を含むホルムアミド水溶液で
ある特許請求の範囲第1項記載のシリカガラスの製造法
[Claims] 1. A silicon alkoxide represented by the general formula Si(OR)_4 (where R is an alkyl group) and/or a polycondensate thereof is hydrolyzed to form a silica sol, then left to gel, dried and In the method for producing sintered silica glass, the gel before drying is immersed in an aqueous formamide solution and then taken out;
A method for producing silica glass characterized by drying. 2. The method for producing silica glass according to claim 1, wherein the formamide aqueous solution contains a water-soluble salt of an alkali metal and/or an alkaline earth metal.
JP112786A 1986-01-07 1986-01-07 Production of silica glass Pending JPS62158133A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100417682B1 (en) * 1999-12-24 2004-02-11 재단법인 포항산업과학연구원 A composition for molding silica sleeve and a method of preparing silica sleeve therefrom

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