JPS62153105A - イオウ酸化物を含有する高温のガスを強硫酸により冷却および乾燥させる方法 - Google Patents
イオウ酸化物を含有する高温のガスを強硫酸により冷却および乾燥させる方法Info
- Publication number
- JPS62153105A JPS62153105A JP61262590A JP26259086A JPS62153105A JP S62153105 A JPS62153105 A JP S62153105A JP 61262590 A JP61262590 A JP 61262590A JP 26259086 A JP26259086 A JP 26259086A JP S62153105 A JPS62153105 A JP S62153105A
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- gas
- contactor
- cooling
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/48—Sulfur dioxide; Sulfurous acid
- C01B17/50—Preparation of sulfur dioxide
- C01B17/56—Separation; Purification
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Drying Of Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はイオウ酸化物を含有する高温のガスを強[1に
より冷却および乾燥する方法に関する。
より冷却および乾燥する方法に関する。
冷却および乾燥されたガスはカプロラクタム法における
中間体ジスルホン酸ヒドロキシルアミンを製造するため
に使用できる。二酸化イオウは亜硝酸−/炭酸−/炭酸
水素アンモニウム溶液に吸収される。
中間体ジスルホン酸ヒドロキシルアミンを製造するため
に使用できる。二酸化イオウは亜硝酸−/炭酸−/炭酸
水素アンモニウム溶液に吸収される。
ジスルホネート製造用の供給ガスを製造するための先行
技術では弱酸(約20%)を用いてイオウ酸化物ガスを
冷却していた0弱硫酸はきわめて腐食性であり、エキシ
ティック(exotic)合金製の装置が腐食され、寿
命が短縮された。冷却の主要部分はイオウ酸化物の吸湿
により行われ、これにより下流での冷却、ユーティリテ
ィおよびプロセス負荷が増大した。
技術では弱酸(約20%)を用いてイオウ酸化物ガスを
冷却していた0弱硫酸はきわめて腐食性であり、エキシ
ティック(exotic)合金製の装置が腐食され、寿
命が短縮された。冷却の主要部分はイオウ酸化物の吸湿
により行われ、これにより下流での冷却、ユーティリテ
ィおよびプロセス負荷が増大した。
本発明はイオウ酸化物を含有する高温のガスを冷却およ
び乾燥する方法である。この方法は一段階接触装置中で
、ガスを70重量%以上に濃縮された冷却器からの液状
Tf1酸と接触させ、ガスを酸との接触状態から除き、
酸を冷却器を通して接触装置に返送して再循環させ、再
循環する酸から希釈された酸の一部を除去し、再循環す
る酸に補給酸を添加することよりなる。この方法はガス
がガスのNn3当たり29■以下の水分(二乾燥するよ
うに操作され、ガスの温度はガス流速約3〜10m/秒
において0.5秒以下のガス接触時間および1秒以下の
酸接触時間で200’C以上低下し、接触装置に添加さ
れる再循環酸の濃度は実質的に一定に保たれる。接触装
置に添加される好ましい酸濃度は約93%以上である。
び乾燥する方法である。この方法は一段階接触装置中で
、ガスを70重量%以上に濃縮された冷却器からの液状
Tf1酸と接触させ、ガスを酸との接触状態から除き、
酸を冷却器を通して接触装置に返送して再循環させ、再
循環する酸から希釈された酸の一部を除去し、再循環す
る酸に補給酸を添加することよりなる。この方法はガス
がガスのNn3当たり29■以下の水分(二乾燥するよ
うに操作され、ガスの温度はガス流速約3〜10m/秒
において0.5秒以下のガス接触時間および1秒以下の
酸接触時間で200’C以上低下し、接触装置に添加さ
れる再循環酸の濃度は実質的に一定に保たれる。接触装
置に添加される好ましい酸濃度は約93%以上である。
好ましい補給酸濃度は約98%の酸ないし約28%のオ
レウムである。接触装置に導入されるガスは260℃以
上の温度であり、約60″C以下の温度で接触装置から
出る。接触装置は、酸をガスに吹込む手段を備えた冷却
塔であることが好ましい。再循環酸が冷却塔に新たな表
面積約0.5〜2.5x106rd/時間の割合で添加
されることも好ましい。さらに好ましくは再循環ガスは
新たな表面積約1,0〜2.0X106rIf/時間の
割合で添加される。
レウムである。接触装置に導入されるガスは260℃以
上の温度であり、約60″C以下の温度で接触装置から
出る。接触装置は、酸をガスに吹込む手段を備えた冷却
塔であることが好ましい。再循環酸が冷却塔に新たな表
面積約0.5〜2.5x106rd/時間の割合で添加
されることも好ましい。さらに好ましくは再循環ガスは
新たな表面積約1,0〜2.0X106rIf/時間の
割合で添加される。
本発明は多数の利点を与える。
1.70重量%以上、好ましくは93]量%以上の強硫
酸は装置の腐食を減少させ、装置をよりエキシティック
性の低い材料で製造することを可能にする。
酸は装置の腐食を減少させ、装置をよりエキシティック
性の低い材料で製造することを可能にする。
2、イオウ酸化物は脱水され、下流の処理装置における
ユーティリティ負荷、特に冷却における負荷が減少する
。
ユーティリティ負荷、特に冷却における負荷が減少する
。
3、本方法ではイオウの酸化に際して生成した三酸化イ
オウが[vとして回収され、これを再処理して目的とす
るいかなる濃度にすることもできる。さらに、三酸化イ
オウの回収によりカプロラクタム法における副生物硫酸
アンモニウムの生成が減少するであろう。
オウが[vとして回収され、これを再処理して目的とす
るいかなる濃度にすることもできる。さらに、三酸化イ
オウの回収によりカプロラクタム法における副生物硫酸
アンモニウムの生成が減少するであろう。
4、イオウ酸化物ガスの脱水により、副生物硫酸アンモ
ニウム溶液中に達する水の量が減少するであろう。これ
により硫酸アンモニウム処理工程におけるエネルギーが
節約されるであろう。
ニウム溶液中に達する水の量が減少するであろう。これ
により硫酸アンモニウム処理工程におけるエネルギーが
節約されるであろう。
5、イオウ酸化物の脱水により得られた冷却負荷の減少
によって、処理温度を低下させ、従ってジスルホネート
の製造において収率を高めることができる。収率が高く
なると、ジスルホネートからのカプロラクタムの製造に
際してアンモニアおよびイオウの使用量が減少するであ
ろう。
によって、処理温度を低下させ、従ってジスルホネート
の製造において収率を高めることができる。収率が高く
なると、ジスルホネートからのカプロラクタムの製造に
際してアンモニアおよびイオウの使用量が減少するであ
ろう。
添付の図面について簡単に説明する。
第1図は本発明方法を実施するための装置を概略的に示
す。
す。
第2図はカプロラクタムの製造における中間体ジスルホ
ン酸ヒドロキシルアミンを製造するための全体的処理に
際し酸冷却塔または接触装置Aを用いる装置を概略的に
示す。
ン酸ヒドロキシルアミンを製造するための全体的処理に
際し酸冷却塔または接触装置Aを用いる装置を概略的に
示す。
第1図には、強酸のm細な液滴を高温のイオウ酸化物含
有ガスの流れに与えるための噴霧装置を価えた、線で囲
まれた酸冷却塔の形をとりうる接触装置Aを示す。この
噴霧装置は先行技術において周知である。50212〜
17重量%、1.5%までの水分、および約1%のSO
3を含有する500〜550下(260〜288℃)の
高温ガスはイオウ燃焼装置からの管路1に入り、管路1
を通って接触装置Aへ流入する。強硫酸(93〜95重
量%)が管路3により接触袋2Aに入り、高温ガスの通
路に多数の地点で強酸を噴霧することにより、接触装置
A内を流れる高温のガスと接触する。乾燥および冷却さ
れたガスは110下(44℃)において、わずか約12
〜28■/1la3の水分、ごく少量のS03および1
2〜17%のS O2と共に、管路2から接触装置Aを
出る0強硫酸は管路6を通って接触装置Aの底から約1
20下(49℃)において取出され、わずかな部分が強
酸プラント(図示されていない)に用いるために管′#
t7を通って排出される0強酸の大部分は管路5を通っ
て冷却器Bへ流入する。
有ガスの流れに与えるための噴霧装置を価えた、線で囲
まれた酸冷却塔の形をとりうる接触装置Aを示す。この
噴霧装置は先行技術において周知である。50212〜
17重量%、1.5%までの水分、および約1%のSO
3を含有する500〜550下(260〜288℃)の
高温ガスはイオウ燃焼装置からの管路1に入り、管路1
を通って接触装置Aへ流入する。強硫酸(93〜95重
量%)が管路3により接触袋2Aに入り、高温ガスの通
路に多数の地点で強酸を噴霧することにより、接触装置
A内を流れる高温のガスと接触する。乾燥および冷却さ
れたガスは110下(44℃)において、わずか約12
〜28■/1la3の水分、ごく少量のS03および1
2〜17%のS O2と共に、管路2から接触装置Aを
出る0強硫酸は管路6を通って接触装置Aの底から約1
20下(49℃)において取出され、わずかな部分が強
酸プラント(図示されていない)に用いるために管′#
t7を通って排出される0強酸の大部分は管路5を通っ
て冷却器Bへ流入する。
これは一般的に熱交換器でよく、ここで強酸は100下
(38℃)に冷却され、管路4を経て排出され、管路3
を通って接触装置Aへ返送循環される。
(38℃)に冷却され、管路4を経て排出され、管路3
を通って接触装置Aへ返送循環される。
98%の酸ないし28%オレウムの補給酸が管路8を通
って添加され、管路3を通って接触装置Aに添加される
酸を約95重量%の酸に維持する。
って添加され、管路3を通って接触装置Aに添加される
酸を約95重量%の酸に維持する。
第2図は接触装置A(ここでは酸冷却塔Aと表示される
)への上流供給、およびここから出るS02含有ガスの
利用につき示す。図面に示すように1.イオウおよび空
気を燃焼させてイオウ酸化物および水分を含む1300
℃の気体を生成させ、この流出物が一般的な廃熱ボイラ
ーにより550°F(288℃)に冷却され、水蒸気を
与える。酸冷却塔Aによりさらに高温ガスが120下(
49℃)以下にまで冷却される。次いでこのS02含有
ガスが亜硝酸−/炭酸−/炭酸水素アンモニウム溶液に
吸収されてジスルホン酸ヒドロキシルアミンを生成し、
これがカプロラクタムの製造に用いられる。
)への上流供給、およびここから出るS02含有ガスの
利用につき示す。図面に示すように1.イオウおよび空
気を燃焼させてイオウ酸化物および水分を含む1300
℃の気体を生成させ、この流出物が一般的な廃熱ボイラ
ーにより550°F(288℃)に冷却され、水蒸気を
与える。酸冷却塔Aによりさらに高温ガスが120下(
49℃)以下にまで冷却される。次いでこのS02含有
ガスが亜硝酸−/炭酸−/炭酸水素アンモニウム溶液に
吸収されてジスルホン酸ヒドロキシルアミンを生成し、
これがカプロラクタムの製造に用いられる。
゛ 塔Aの−6
温度、℃
酸入口 35−40
散出口 49−57
ガス入口 260−288ガス出口
40−49ガス流速、m7秒
4.3−7.9酸濃度、重量% 9
3−95新たな表面積の酸の導入量、 rr?/時間 1−2 X 106
液滴寸法、ミクロン 700接触時間、秒 酸 0.35−0.47ガス
0.13−0.28 ガスの水分 流入、重量% 1.5 排出、■/N113 12−28
40−49ガス流速、m7秒
4.3−7.9酸濃度、重量% 9
3−95新たな表面積の酸の導入量、 rr?/時間 1−2 X 106
液滴寸法、ミクロン 700接触時間、秒 酸 0.35−0.47ガス
0.13−0.28 ガスの水分 流入、重量% 1.5 排出、■/N113 12−28
第1図は本発明方法を実施するための装置を概略的に示
す。 第2図はカプロラクタムの製造における中間体ジスルホ
ン酸ヒドロキシルアミンを製造するための全体的処理に
際し酸冷却塔または接触装置Aを用いる装置を概略的に
示す。 (外5名)
す。 第2図はカプロラクタムの製造における中間体ジスルホ
ン酸ヒドロキシルアミンを製造するための全体的処理に
際し酸冷却塔または接触装置Aを用いる装置を概略的に
示す。 (外5名)
Claims (7)
- (1)イオウ酸化物を含有する高温のガスを一段階接触
装置中で、70重量%以上に濃縮された冷却器からの液
状硫酸と接触させ、 ガスを酸との接触状態から除き、 酸を冷却器を通して接触装置に返送して 再循環させ、 再循環する酸から希釈された酸の一部を除去し、そして 再循環する酸に補給酸を添加し、 これによりガスのNm^3当たり29mg以下の水分に
乾燥され、ガスの温度はガス流速約3〜10m/秒にお
いて0.5秒以下のガス接触時間および1秒以下の酸接
触時間で200℃以下低下し、接触装置に添加される再
循環酸の濃度は実質的に一定に保たれる ことよりなる、イオウ酸化物を含有する高温のガスを冷
却および乾燥させる方法。 - (2)酸濃度が約93%以上である、特許請求の範囲第
1項に記載の方法。 - (3)補給酸の濃度が約98%の酸ないし約28%のオ
レウムである、特許請求の範囲第2項に記載の方法。 - (4)ガスが接触装置に約260℃以上の温度で導入さ
れ、接触装置から約60℃以下の温度で排出される、特
許請求の範囲第2項に記載の方法。 - (5)接触装置が酸をガスに吹込むための手段をもつ冷
却塔である、特許請求の範囲第4項に記載の方法。 - (6)再循環酸が冷却塔に新たな表面積約0.5〜2.
5×10^6m^2/時間の割合で添加される、特許請
求の範囲第5項に記載の方法。 - (7)再循環酸が新たな表面積約1.0〜2×10^6
/時間の割合で添加される、特許請求の範囲第6項に記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US79436785A | 1985-11-04 | 1985-11-04 | |
US794367 | 1985-11-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62153105A true JPS62153105A (ja) | 1987-07-08 |
Family
ID=25162447
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61262590A Pending JPS62153105A (ja) | 1985-11-04 | 1986-11-04 | イオウ酸化物を含有する高温のガスを強硫酸により冷却および乾燥させる方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0221446A3 (ja) |
JP (1) | JPS62153105A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE202013011836U1 (de) | 2013-08-01 | 2014-08-08 | Gewie Automotive Gmbh | Anordnung zur lösbaren fluiddichten Verbindung wenigstens eines Wellrohrs mit einer Hülse |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1180057A (en) * | 1967-09-20 | 1970-02-04 | Imp Smelting Corp Ltd | Improved Sulphur Dioxide Drying. |
US4023938A (en) * | 1973-10-17 | 1977-05-17 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for dehydrating gas with sulfuric acid |
DE3303287A1 (de) * | 1983-02-01 | 1984-08-02 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von schwefelsaeure |
-
1986
- 1986-10-22 EP EP86114629A patent/EP0221446A3/en not_active Withdrawn
- 1986-11-04 JP JP61262590A patent/JPS62153105A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0221446A2 (en) | 1987-05-13 |
EP0221446A3 (en) | 1988-08-24 |
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